JP2022098456A - 共役系化合物、これを用いた電子供与性有機材料、光起電力素子用材料および光起電力素子 - Google Patents

共役系化合物、これを用いた電子供与性有機材料、光起電力素子用材料および光起電力素子 Download PDF

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Abstract

Figure 2022098456000001
【課題】光電変換効率が高い光起電力素子を提供する。
【解決手段】一般式(1)で表される構造を有する共役系化合物、それを含む光起電力素子用材料。
Figure 2022098456000019

(上記一般式(1)中、RおよびRは同じでも異なっていてもよく、置換されていてもよいアリール基またはヘテロアリール基を表す。R~Rは同じでも異なっていてもよく、水素、ハロゲン、置換されていてもよいアルキル基またはアルコキシ基を表す。RおよびRは同じでも異なっていてもよく、置換されていてもよいアリール基またはヘテロアリール基を表す。xおよびyは同じでも異なっていてもよく、0以上3以下の整数を表す。nは重合度を示し、2以上1,000以下の範囲を表す。)
【選択図】図1

Description

本発明は、共役系化合物、これを用いた電子供与性有機材料、光起電力素子用材料および光起電力素子に関する。
太陽電池は、現在深刻さを増すエネルギー問題に対して有力な環境に優しいエネルギー源として注目されている。現在、太陽電池の光起電力素子の半導体材料としては、単結晶シリコン、多結晶シリコン、アモルファスシリコン、化合物半導体などの無機物が使用されている。しかし、無機半導体を用いて製造される太陽電池は、火力発電などの発電方式と比べてコストが高いために、一般家庭に広く普及するには至っていない。コスト高の要因は、主として真空かつ高温下で半導体薄膜を形成するプロセスにある。そこで、製造プロセスの簡略化が期待される半導体材料として、共役系高分子や有機結晶などの有機半導体や有機色素を用いた有機太陽電池が検討されている。このような有機太陽電池においては、半導体材料層を塗布法で作製することが可能なため、製造プロセスを大幅に簡略化することができる。
しかし、共役系高分子などを用いた有機光起電力素子(有機太陽電池)は、従来の無機半導体を用いた太陽電池と比べて光電変換効率が低いために、まだ実用化には至っていない。有機太陽電池の実用化のためには、さらなる光電変換効率の向上が必須である。
光電変換効率を向上させる一つの方法として、電子供与性有機材料(p型有機半導体)と電子受容性有機材料(n型有機半導体)を混合し、光電変換に寄与する接合面をバルクヘテロ接合型とした発電層が報告されている(例えば、非特許文献1参照)。
また、光電変換効率を向上させるためには、太陽光スペクトルの放射エネルギーを効率良く吸収し、電荷輸送能(キャリア移動性)が高い電子供与性有機材料が有用である。このような電子供与性有機材料の例として、キノキサリン骨格とチエノ[3,4-b]チオフェン骨格で構成される共役系化合物(キノキサリン-ベンゾジチオフェン系共役系化合物)(例えば、特許文献1参照)が提案されている。また、キノキサリン骨格のπ共役系を拡張し、平面性を高めたジチエノキノキサリン構造を有する共役系化合物を用いた電子供与性有機材料が報告されている(例えば、特許文献2~3参照)。
特開2013-102148号公報 国際公開公報第2011/156478号 国際公開公報第2019/023025号
「ケミカルレビューズ(Chemical Reviews)」、2015年、115巻、12666-12731頁
特許文献記載1に記載の特定の構造を有するキノキサリン骨格とベンゾジチオフェン骨格で構成される共役系化合物を用いた電子供与性有機材料は、高いキャリア移動度と有機溶媒に対する溶解性およびフラーレン誘導体に代表される電子受容性有機材料との相溶性を両立することができるため、光電変換効率を高めることができる。しかしながら、近年の有機太陽電池の用途展開に伴い、より高い光電変換効率が求められている。
特許文献2および3に記載されたジチエノキノキサリン構造を有する共役系化合物を用いた電子供与性有機材料もまた、近年求められる高い光電変換効率に対しては、なお不十分であった。
本発明は、上記課題に鑑み、高い光電変換効率を与える共役系化合物を提供することを目的とする。
本発明は、下記一般式(1)で表される構造を有する共役系化合物である。
Figure 2022098456000002
上記一般式(1)中、RおよびRは同じでも異なっていてもよく、置換されていてもよいアリール基またはヘテロアリール基を表す。R~Rは同じでも異なっていてもよく、水素、ハロゲン、置換されていてもよいアルキル基またはアルコキシ基を表す。RおよびRは同じでも異なっていてもよく、置換されていてもよいアリール基またはヘテロアリール基を表す。xおよびyは同じでも異なっていてもよく、0以上3以下の整数を表す。nは重合度を示し、2以上1,000以下の範囲を表す。
本発明の共役系化合物により、光電変換効率に優れた光起電力素子を提供することができる。
本発明の光起電力素子の一態様を示す模式図である。
本発明の共役系化合物は、下記一般式(1)で表される構造を有する。キノキサリン骨格とベンゾジチオフェン骨格を有する共役系化合物は、主鎖や側鎖、置換基の構造などによって、光電変換効率が大きく変化することが知られている。本発明者らは、電子受容性有機材料と共連続キャリアパスを形成し、電荷分離および電荷輸送に適した発電層の構造を自発的に形成できる共役系化合物によって光電変換効率を向上させることができると考え、かかる共役系化合物の化学構造を検討した結果、本発明に到達した。一般式(1)中において、キノキサリン骨格に比べて平面性が高く、パッキング性(結晶性)に優れるジチエノキノキサリン骨格を選択することにより、共役系化合物のキャリア移動度を高めることができる。また、ジチエノキノキサリン骨格と電子供与性に優れたベンゾジチオフェン骨格を組み合わせることにより、共役化合物の対称性を適度に低くすることができるため、共役系化合物の高い平面性を保ちながら、有機溶媒に対する溶解性を向上させることができる。さらに、一般式(1)で表されるジチエノキノキサリン-ベンゾジチオフェン系の共役系化合物は、共役系化合物のパッキング層とパッキング層の間に電子供与性有機材料がパッキング層を形成しやすく、電子供与性有機材料と電子受容性有機材料が共連続した電荷分離および電荷輸送に適したバルクヘテロ接合型の発電層を容易に形成することができる。これらのことから、下記一般式(1)で表される構造を有する共役系化合物は、光電変換効率を向上させることができる。
Figure 2022098456000003
上記一般式(1)中、RおよびRは同じでも異なっていてもよく、置換されていてもよいアリール基またはヘテロアリール基を表す。キノキサリンジチオフェン骨格にアリール基またはヘテロアリール基を有することによって、共役系化合物の平面性を芳香環のねじれによって部分的に低くすることができるため、共役系化合物の高いパッキング性を保ったまま、有機溶媒に対する溶解性を向上させることができる。その結果、光電変換効率を向上させることができる。なお、n個の繰り返し単位間において、n個のRおよびn個のRは同じでも異なっていてもよい。
ここで、本発明におけるアリール基とは、例えば、フェニル基、ナフチル基、ビフェニル基、フェナントリル基、アントリル基、ターフェニル基などの1価の芳香族炭化水素基を示し、これは無置換でも置換されていてもかまわない。置換される場合の置換基の例としては、例えば、後述するアルキル基、アルコキシ基、ヘテロアリール基、ハロゲンなどが挙げられる。共役系化合物の溶解性と結晶性をより向上させる観点から、アリール基の炭素数は、6以上12以下が好ましい。なお、本発明において、各基の「炭素数」には、置換基に含まれる炭素の数は含めないものとする。
本発明におけるヘテロアリール基とは、例えば、チエニル基、フリル基、ピロリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、オキサゾリル基、ピリジル基、ピラジル基、ピリミジル基、チエノチエニル基などの炭素以外の原子を有する1価の複素芳香環基を示し、無置換でも置換されていてもよい。置換される場合の置換基の例は、後述するアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン、前述のアリール基などが挙げられる。共役系化合物の溶解性と結晶性をより向上させる観点から、ヘテロアリール基の炭素数は、4以上6以下が好ましい。
これらの中でも、共役系化合物の溶解性と結晶性をより向上させる観点から、アリール基が好ましく、フェニル基がより好ましく、RおよびRが共にフェニル基であることがさらに好ましい。
上記一般式(1)中、R~Rは同じでも異なっていてもよく、水素、ハロゲン、アルキル基またはアルコキシ基を表す。xおよびyはチオフェン環の数を示し、同じでも異なっていてもよく、0以上3以下の整数を表す。共役系化合物の平面性を高めてキャリアの移動度をより向上させ、光電変換効率をより向上させる観点から、xおよびyがいずれも1または2であることが好ましく、1であることがより好ましい。
ここで、本発明におけるハロゲンとは、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素のいずれかである。
本発明におけるアルキル基とは、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基などの1価の飽和脂肪族炭化水素基であり、直鎖状であっても分岐状であっても環状であってもよく、無置換でも置換されていてもよい。置換される場合の置換基の例としては、後述するアルコキシ基、前述のアリール基、ヘテロアリール基、ハロゲンなどが挙げられる。アルキル基の炭素数は、共役系化合物の有機溶媒に対する溶解性をより向上させる観点から、4以上が好ましく、8以上がより好ましく、10以上がさらに好ましい。共役系化合物の有機溶媒に対する溶解性を向上させることにより、スピンコートやスリットコートなどのウエットプロセスに好適に適用することができる。一方、共役系化合物のキャリア移動度をより向上させ、光電変換効率をより向上させる観点から、アルキル基の炭素数は、16以下が好ましく、12以下がより好ましく、10以下がさらに好ましい。
本発明におけるアルコキシ基とは、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基などのエーテル結合を介した1価の脂肪族炭化水素基を示し、脂肪族炭化水素基は無置換でも置換されていてもよい。置換される場合の置換基の例としては、前述のアリール基、ヘテロアリール基、ハロゲンなどが挙げられる。アルコキシ基の好ましい炭素数の範囲は、上述のアルキル基の場合と同じである。
xおよび/またはyが1以上の場合、RおよびRは、主鎖骨格のねじれを抑制する観点から、体積の小さな基が好ましく、水素またはフッ素が好ましく、水素がより好ましい。RおよびRは、共役系化合物の有機溶媒に対する溶解性を向上させる観点から、アルキル基が好ましい。
上記一般式(1)中、RよびRは、同じでも異なっていてもよく、置換されていてもよいアリール基またはヘテロアリール基を表す。ベンゾジチオフェンの4,8位に芳香環を配置することにより、共役系化合物の平面性を高め、パッキング性を向上させることができる。これにより、光電変換効率をより向上させることができる。ベンゾジチオフェン骨格とのねじれを抑制してパッキング性をより向上させる観点から、RおよびRは体積の小さな基が好ましく、5員環構造であるチエニル基またはフリル基が好ましい。置換される場合の置換基としては、共役系化合物の有機溶媒に対する溶解性とキャリア移動度をより向上させる観点から、炭素数6以上10以下のアルキル基が好ましい。また、共役系化合物のHOMO準位を深めて光電変換効率をより向上させる観点から、ハロゲンが好ましく、共役系化合物のパッキング性をより向上させる観点から、原子半径の小さなフッ素がより好ましい。
上記一般式(1)中、nは、重合度を示し、2以上1,000以下の範囲を表す。共役系化合物のキャリア移動度をより向上させ、また、前述のバルクヘテロ接合型の発電層において効果的なキャリアパスをより容易に形成させ、光電変換効率をより向上させる観点から、nは5以上が好ましい。一方、合成上の容易さから、nは200未満が好ましい。ここで、重合度nは、重量平均分子量から求めることができる。重量平均分子量は、GPC(ゲルパーミエーションクロマトグラフィー)を用いて測定し、ポリスチレンの標準試料に換算して求めることができる。
上記一般式(1)で表される構造を有する共役系化合物としては、例えば、下記のような構造を有する化合物が挙げられる。ただし、nは2以上1,000以下の範囲を表す。
Figure 2022098456000004
Figure 2022098456000005
Figure 2022098456000006
Figure 2022098456000007
Figure 2022098456000008
本発明の共役系化合物は、前記一般式(1)で表される構造を2種類以上有してもよいし、前記一般式(1)で表される構造に加えて、他の構造を有してもよい。他の構造としては、溶解性に優れることから、2-ブチルオクチル基や2-エチルヘキシル基等のアルキル側鎖を有するチオフェンユニットなどが好ましい。これらの構造のランダム共重合体がより好ましく、高い光電変換効率を保ったまま、共役系化合物の溶解性を高めることができる。他の構造を有する場合、その比率は、光電変換効率をより向上させる観点から、一般式(1)で表される構造1に対して、0.2以下が好ましく、0.15以下がより好ましい。
上記一般式(1)で表される構造に加えて、他の構造を有する共役系化合物としては、例えば、下記のような構造を有する化合物が挙げられる。ただし、lおよびmは各ユニットの構成比率を表す。
Figure 2022098456000009
なお、一般式(1)で表される構造を有する共役系化合物は、対応するモノマーから、Stilleカップリング等の重合反応によって合成することができ、例えば、前記特許文献2に記載されている方法に類似した手法により合成することができる。
本発明の電子供与性有機材料は、前記一般式(1)で表される構造を有する共役系化合物を含む。前記一般式(1)で表される構造を有する本発明の共役系化合物を用いた電子供与性有機材料は、p型半導体特性を示す。かかる電子供与性有機材料とともに、その他の電子供与性有機材料を含んでいてもよい。
本発明の電子供与性有機材料は、高いキャリア移動度を活かして、有機トランジスタへの応用が可能である。また、光電変換機能、光整流機能などを利用した種々の光電変換デバイスへの応用が可能である。例えば、光起電力素子(太陽電池)、電子素子(イメージセンサー、光センサー、光スイッチ)、光記録材(光メモリなど)、撮像素子などに有用であり、光起電力素子用材料として特に好適に用いることができる。
本発明の光起電力素子用材料は、前述の本発明の電子供与性有機材料と、電子受容性有機材料を含む。電子受容性有機材料は、n型有機半導体特性を示すことが好ましい。
n型半導体特性を示す電子受容性有機材料としては、例えば、フラーレン化合物(C60、C70を始めとする無置換のものと、[6,6]-フェニル C61 ブチリックアシッドメチルエステル(PC60BM)やフェニル C71 ブチリックアシッドメチルエステル(PC70BM)を例とするフラーレン誘導体)、カーボンナノチューブ(CNT)、ポリ-p-フェニレンビニレン系重合体にシアノ基を導入した誘導体(CN-PPV)などが挙げられる。これらを2種以上用いてもよい。
本発明の電子供与性有機材料は、バンドギャップが1.2eVから1.7eVである非フラーレン型の電子受容性有機材料と組み合わせることが好ましく、幅広い波長領域の太陽光エネルギーを吸収することができ、光電変換効率をより向上させることができる。このようなバンドギャップを有する非フラーレン型の電子受容性有機材料としては、例えば、2,2’-((2Z,2’Z)-((12,130ビス(エチルヘキシル)-3,9-ジウンデシル-12,13-ジヒドロ[1,2,5]チアヂアゾロ[3,4-e]チエノ[2”,3”:4’,5’]チエノ[2’,3’:4,5]ピロロ[3,2-g]チエノ[2’,3’:4,5]チエノ[3,2-b]インドール-2,10-ジイル)ビス(メタニリジイン))ビス(5,6-ジフルオロ-3-オキソ-ジヒドロ-1H-インデン-2,1-ジイリデン))ジマロノニトリル(Y6アクセプター)、2,2’-((2Z,2’Z)-((12,130ビス(エチルヘキシル)-3,9-ジウンデシル-12,13-ジヒドロ[1,2,5]チアヂアゾロ[3,4-e]チエノ[2”,3”:4’,5’]チエノ[2’,3’:4,5]ピロロ[3,2-g]チエノ[2’,3’:4,5]チエノ[3,2-b]インドール-2,10-ジイル)ビス(メタニリジイン))ビス(3-オキソ-2,3-ジヒドロ-1H-インデン-2,1-ジイリデン))ジマロノニトリル(Y5アクセプター)、3,9-ビス(2-メチレン-(3-(1,1-ジシアノメチレン)-インダノン))-5,5,11,11-テトラキス(4-ヘキシルフェニル)-ジチエノ[2,3-d:2’,3’-d’]-s-インダセノ[1,2-b:5,6-b’]ジチオフェン(ITICアクセプター)などが挙げられる。これらを2種以上用いてもよいし、他の電子受容性有機材料と組み合わせて用いてもよい。これらの非フラーレン型の電子受容性有機材料を2種以上組み合わせることによって、電子供与性有機材料とのエネルギー差が広がり、光起電力素子の開放電圧および光電変換効率をさらに向上させることができる。非フラーレン型の電子受容性有機材料の組み合わせとしては、上記Y6アクセプターとY5アクセプターの組み合わせが好ましい。Y6アクセプターとY5アクセプターを組み合わせる場合、その含有比率(Y6アクセプター:Y5アクセプター(重量比))は60:40~90:10の範囲が好ましく、70:30~80:20の範囲がより好ましい。
本発明の光起電力素子用材料において、電子供与性有機材料と電子受容性有機材料の含有比率(ドナーアクセプター比)は、1:99~99:1の範囲が好ましく、20:80~60:40の範囲がより好ましい。
光電変換効率をより向上させるためには、キャリアのトラップとなるような不純物は極力除去することが好ましい。本発明において、電子供与性有機材料や電子受容性有機材料の不純物を除去する方法としては、例えば、カラムクロマトグラフィー法、再結晶法、昇華法、再沈殿法、ソックスレー抽出法、GPCによる分子量分画法、濾過法、イオン交換法、キレート法等が挙げられる。これらの方法を2種以上組み合わせてもよい。
次に、本発明の光起電力素子について説明する。本発明の光起電力素子は、少なくとも陽極と陰極を有し、これらの間に本発明の光起電力素子用材料を含む有機半導体層を有する。有機半導体層と陽極の間に正孔輸送層を有してもよいし、有機半導体層と陰極の間に電子輸送層を有してもよい。図1に本発明の光起電力素子の一例を示す。基板1上に、陽極2、本発明の光起電力素子用材料を含む有機半導体層3、陰極4をこの順に有する。また、図1とは逆に、基板上に、陰極/本発明の光起電力素子用材料を含む有機半導体層/陽極をこの順に有してもよい。
次に、各層について説明する。
有機半導体層は、本発明の光起電力素子用材料を含む。すなわち、一般式(1)で表される構造を有する共役系化合物を用いた電子供与性有機材料と、電子受容性有機材料とを含む。これらの材料は混合されていても積層されていてもよいが、混合されていることが好ましい。電子供与性有機材料と電子受容性有機材料を混合することにより、光電変換に寄与する電子供与性有機材料と電子受容性有機材料の接合面を増加させるバルクヘテロ接合型の有機半導体層は、電荷分離能および電荷輸送能により優れるため好ましい。バルクヘテロ接合型の有機発電層である有機半導体層においては、電子供与性有機材料と電子受容性有機材料がナノメートルのサイズで相分離しており、かつ共連続して電極までのキャリアパスが形成されていることが好ましい。この相分離構造のドメインサイズは特に限定されるものではないが、通常1nm以上50nm以下である。
本発明の光起電力素子においては、陽極または陰が光透過性を有すること、すなわち、透明または半透明であることが好ましい。電極の光透過性は、有機半導体層に入射光が到達して起電力が発生する程度であれば、特に限定されるものではない。ここで、本発明における光透過性は、[透過光強度(W/m)/入射光強度(W/m)]×100(%)で求められる値である。電極の厚さは光透過性と導電性とを有する範囲であればよく、電極素材によって異なるが、20nm~300nmが好ましい。なお、もう一方の電極は、導電性を有していれば必ずしも光透過性は必要ではなく、厚さも特に限定されない。
電極を形成する導電性素材としては、例えば、金、白金、銀、銅、鉄、亜鉛、錫、アルミニウム、インジウム、クロム、ニッケル、コバルト、スカンジウム、バナジウム、イットリウム、インジウム、セリウム、サマリウム、ユーロピウム、テルビウム、イッテルビウムなどの金属やこれらの合金;インジウム、スズ、モリブデン、ニッケルなどの金属酸化物;インジウム錫酸化物(ITO)、インジウム亜鉛酸化物(IZO)、アルミニウム亜鉛酸化物(AZO)、ガリウム亜鉛酸化物(GZO)などの複合金属酸化物;リチウム、マグネシウム、ナトリウム、カリウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウムなどのアルカリ金属またはアルカリ土類金属;グラファイト、グラファイト層間化合物、カーボンナノチューブ、グラフェンなどの炭素を含むもの;ポリアニリン及びその誘導体、ポリチオフェン及びその誘導体などの有機化合物などが挙げられる。これらを2種以上用いてもよく、これらの積層体からなる電極も好ましく用いられる。
ここで、陽極に用いられる導電性素材は、有機半導体層とオーミック接合するものであることが好ましい。さらに、正孔輸送層を用いた場合においては、陽極に用いられる導電性素材は、正孔輸送層とオーミック接合するものであることが好ましい。また、陰極に用いられる導電性素材は、有機半導体層または電子輸送層とオーミック接合するものであることが好ましい。ここで、陰極に電子取り出し層を導入してもよく、陰極と有機半導体層または電子輸送層との接合を改善し、取り出し電流を増加させることができる。このため、光電変換効率をより向上させることができる。電子取り出し層を形成する材料としては、例えば、フッ化リチウム(LiF)やフッ化セシウムなどの金属フッ化物などが挙げられる。
基板は、光電変換材料の種類や用途に応じて、電極材料や有機半導体層が積層できる基板、例えば、無アルカリガラス、石英ガラス、アルミニウム、鉄、銅、ステンレスなどの合金等の無機材料;ポリエステル、ポリカーボネート、ポリオレフィン、ポリアミド、ポリイミド、ポリフェニレンスルフィド、ポリパラキシレンポリメチルメタクリレート、エポキシ樹脂、フッ素系樹脂等の有機材料などから任意の方法によって作製されたフイルムや板が挙げられる。基板側から光を入射して用いる場合は、基板は80%以上の光透過性を有することが好ましい。
正孔輸送層を形成する材料としては、例えば、ポリチオフェン系重合体、ポリ-p-フェニレンビニレン系重合体、ポリフルオレン系重合体、ポリピロール重合体、ポリアニリン重合体、ポリフラン重合体、ポリピリジン重合体、ポリカルバゾール重合体などの導電性高分子や、フタロシアニン誘導体(HPc、CuPc、ZnPcなど)、ポルフィリン誘導体、アセン系化合物(テトラセン、ペンタセンなど)などのp型半導体特性を示す低分子有機化合物、グラフェンや酸化グラフェンなどの炭素化合物、MoOなどの酸化モリブデン(MoO)、WOなどの酸化タングステン(WO)、NiOなどの酸化ニッケル(NiO)、Vなどの酸化バナジウム(VO)、ZrOなどの酸化ジルコニウム(ZrO)、CuOなどの酸化銅(CuO)、ヨウ化銅、RuOなどの酸化ルテニウム(RuOx)、Re7などの酸化レニウム(ReO)などの無機化合物などが挙げられる。これらを2種以上用いてもよく、これらを積層してもよい。これらの中でも、ポリチオフェン系重合体であるポリエチレンジオキシチオフェン(PEDOT)やPEDOTにポリスチレンスルホネート(PSS)が添加されたもの、酸化モリブデン、酸化バナジウム、酸化タングステンが好ましく用いられる。また、正孔輸送層の厚さは、10nm以上200nm以下が好ましい。
電子輸送材料としては、n型半導体特性を示す材料が好ましく、TiOなどの酸化チタン(TiO)や、ZnOなどの酸化亜鉛(ZnO)などの無機材料;PEI(Polyethylenimine)などの有機材料;PEI-Zn(Polyethyleneimine-Zn)などの有機無機ハイブリッド材料が好ましく用いられる。
次に、本発明の光起電力素子の製造方法について例を挙げて説明する。
基板上にITOなどの透明電極(この場合陽極に相当)をスパッタリング法などにより形成する。次に、一般式(1)で表される構造を有する共役系化合物を用いた電子供与性有機材料、および電子受容性有機材料を含む光起電力素子用材料を、有機溶媒に溶解させた溶液を、透明電極上に塗布し、有機半導体層を形成する。有機溶媒としては、電子供与性有機材料と電子受容性有機材料が適当に溶解または分散できるものであれば特に限定されないが、取り扱い性の観点から、沸点50℃以上の有機溶媒が好ましい。
有機半導体層の形成方法としては、例えば、スピンコート塗布、ブレードコート塗布、スリットダイコート塗布、スクリーン印刷塗布、バーコーター塗布、鋳型塗布、印刷転写法、浸漬引き上げ法、インクジェット法、スプレー法、真空蒸着法などの方法が挙げられる。膜厚制御や配向制御など、得ようとする有機半導体層の特性に応じて、形成方法を選択することが好ましい。
次に、有機半導体層上に、Alなどの金属電極(この場合陰極に相当)を、真空蒸着法やスパッタ法により形成する。電子輸送層に低分子有機材料を用いて真空蒸着した場合は、引き続き、真空を保持したまま金属電極を続けて形成することが好ましい。
陽極と有機半導体層の間に正孔輸送層を設ける場合には、所望のp型有機半導体材料(PEDOTなど)の溶液を陽極上に塗布した後、溶媒を除去し、正孔輸送層を形成する。塗布方法としては、例えば、スピンコート法、バーコーティング法、ブレードによるキャスト法等が挙げられる。溶媒除去方法としては、例えば、真空恒温槽やホットプレートなどを用いた加熱などが挙げられる。フタロシアニン誘導体やポルフィリン誘導体などの低分子有機材料を使用する場合には、真空蒸着機を用いた真空蒸着法を適用することも可能である。
有機半導体層と陰極の間に電子輸送層を設ける場合には、所望のn型有機半導体材料(フラーレン誘導体など)、n型無機半導体材料(酸化チタンゲルなど)の溶液を、有機半導体層上に塗布した後、溶媒を除去し、電子輸送層を形成する。塗布方法および溶媒除去方法としては、正孔輸送層の形成について例示した方法が挙げられる。フェナントロリン誘導体やC60などの低分子有機材料を使用する場合には、真空蒸着機を用いた真空蒸着法を適用することも可能である。
以下、本発明を実施例に基づいてさらに具体的に説明する。なお、本発明は下記実施例に限定されるものではない。また、実施例等で用いた化合物のうち、略語を使用しているものについて、以下に示す。
Jsc:短絡電流密度
Voc:開放電圧
FF:フィルファクター
PCE:光電変換効率
ITO:インジウム錫酸化物
Y6アクセプターおよびY5アクセプター:下記式で表される構造を有する化合物
Figure 2022098456000010
各実施例および比較例における評価方法について、以下に示す。
H-NMR測定:各実施例および比較例において作製した化合物の構造は、FT-NMR装置((株)日本電子製JEOL JNM-ECZ400R)を用いてH-NMR測定を行い、特定した。
平均分子量(数平均分子量、重量平均分子量)、重合度:各実施例および比較例において作製した共役系化合物について、東ソー(株)製高温GPC装置(HLC-8321GPC/HT)を用いて、溶媒:トリクロロベンゼン、温度:145℃の条件で、絶対検量線法によって数平均分子量および重量平均分子量を測定した。また、重合度nは、測定した重量平均分子量を用いて、以下の式から算出した。
重合度n=[(重量平均分子量)/(繰り返しユニットの分子量)]。
バンドギャップ(Eg):ガラス上に、各実施例および比較例において作製した共役系化合物をクロロホルムに溶解した溶液から、スピンコート法により膜厚約60nmの薄膜を形成した。得られた薄膜について、日立製作所(株)製U-3010型分光光度計を用いて、波長範囲:300~900nmの条件で紫外可視吸収スペクトルを測定し、光吸収波長端を算出した。得られた光吸収端波長を用いて、以下の式からバンドギャップ(Eg)を算出した。
Eg(eV)=1240/薄膜の光吸収端波長(nm)。
最高被占分子軌道(HOMO)準位:ITOガラス上に、各実施例および比較例において作製した共役系化合物をクロロホルムに溶解した溶液から、スピンコート法により膜厚約60nmの薄膜を形成した。得られた薄膜について、理研機器(株)製大気中紫外線光電子分光装置AC-2型を用いて、HOMO準位を測定した。
光電変換特性:各実施例において作製した光起電力素子の両電極をケースレー社製2400シリーズソースメータに接続し、大気中、分光計器(株)製の高近似ソーラシミュレータOTENTO-SUNIIIを用いて、スペクトル形状:AM1.5、強度:100mW/cmの条件で、ITO層側から擬似太陽光を照射し、印加電圧を-1Vから+2Vまで変化させたときの電流値を測定した。印加電圧が0Vのときの電流密度の値を短絡電流密度、電流密度が0になるときの印加電圧の値を開放電圧(Voc)とし、以下の式から光電変換効率(PCE)を算出した。
光電変換効率(%)=Jsc(mA/cm)×Voc(V)×FF/照射光強度(mW/cm)×100。
(実施例1)
[化合物A-1の合成]
化合物A-1を、スキーム1に示す方法により合成した。なお、スキーム1に記載の化合物(1-1)は「オーガニックレターズ(Organic Letters)」、2012年、14巻、6138-6141頁に記載されている方法を参考に、トリブチル(4-(2-エチルヘキシル)チオフェン-2-イル)スズは「マクロモレキュルズ(Macromolecules)」、2015年、48巻、4801-4812頁に記載されている方法を参考にして合成した。
Figure 2022098456000011
化合物(1-1)1.0g(4.5mmol)およびベンジル(東京化成工業(株)製)946mg(4.5mmol)のクロロホルム溶液150mlにパラトルエンスルホン酸(富士フイルム和光純薬(株)製)5mgを加え、8時間加熱還流した。反応混合物の溶媒を減圧留去した後、粗生成物をメタノールにより洗浄し、ついでクロロホルム-エタノールにより再結晶して、化合物(1-2)を薄ピンク固体(1.35g、収率76%)として得た。化合物(1-2)のH-NMRの測定結果を以下に示す。
H-NMR(400MHz,CDCl):8.38(d,J=5.2Hz,2H),7.66-7.64(m,4H),7.57(d,J=5.2Hz,2H),7.4-7.3(m,6H)ppm。
上記化合物(1-2)789mg(2.0mmol)のクロロホルム溶液300mlに臭素(富士フイルム和光純薬(株)製)960mg(6.0mmol)を加え、50℃で3時間撹拌した。反応混合物に飽和亜硫酸ナトリウム水溶液50mlを加え、室温で10分間撹拌した。有機層を水で2回洗浄した後、溶媒を減圧留去した。エタノール-クロロホルムにより再結晶し、化合物(1-3)を薄黄色固体(870mg、収率79%)として得た。化合物(1-3)のH-NMRの測定結果を以下に示す。
H-NMR(400MHz,CDCl):8.34(s,2H)、7.62(m,4H),7.38(m,6H)ppm。
上記化合物(1-3)(800mg、1.45mmol)およびトリブチル(4-(2-エチルヘキシル)チオフェン-2-イル)スズ(1.76g,3.63mmol)のトルエン50mlおよびDMF15mlの混合溶液に、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(東京化成工業(株)製)80mgを加え、窒素雰囲気下、100℃で12時間撹拌した。反応溶液に水50mlを加えて10分間撹拌した後、有機層を水で4回、飽和食塩水で1回洗浄した。溶媒を無水硫酸マグネシウムにより乾燥した後、減圧留去した。シリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液:ヘキサン/クロロホルム)により精製し、化合物(1-4)を橙色固体(690mg、収率61%)として得た。化合物(1-4)のH-NMRの測定結果を以下に示す。
H-NMR(400MHz,CDCl):8.34(s,2H),7.64(m,4H),7.38(m,6H),7.14(d,J=1.2Hz,2H),6.86(d,J=1.2Hz,2H),2.57(d,J=6.8Hz,4H),1.62(m,2H),1.4-1.3(m,16H),0.94-0.89(m,6H)ppm。
上記化合物(1-4)300mg(0.38mmol)のクロロホルム溶液30mlを室温で撹拌しているところに、N-ブロモスクシンイミド(東京化成工業(株)製)140mg(0.79mmol)を加え、室温で4時間撹拌した。飽和亜硫酸ナトリウム水溶液10mlを加え、室温で10分間撹拌した後、有機層を水で2回、飽和食塩水で1回洗浄した。溶媒を無水硫酸マグネシウムにより乾燥した後、減圧留去した。シリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液:ヘキサン/クロロホルム)により精製し、化合物(1-5)を橙色固体(304mg、収率85%)として得た。化合物(1-5)のH-NMRの測定結果を以下に示す。
H-NMR(400MHz,CDCl):8.31(s,2H),7.67-7.63(m,4H),7.41-7.38(m,6H),7.05(2H),2.53(d,J=6.8Hz,4H),1.68」(m,2H),1.39-1.34(m,16H),0.95-0.92(m,6H)ppm。
化合物(1-5)104mg(0.11mmol)、化合物(1-6)(Ossila社製)104mg(0.11mmol)、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(富士フイルム和光純薬(株)製)3mg(3μmol)およびトリス(2-メチルフェニル)ホスフィン(東京化成工業(株)製)10mg(33μmol)にトルエン3mlを加え、アルゴン下、110℃で8時間撹拌した。反応混合物をメタノールにより洗浄した後、粗生成物を円筒ろ紙に入れ、ソックスレー抽出器を用いて、塩化メチレンついでクロロホルムの順で抽出した。抽出後の残渣を減圧乾燥し、化合物(A-1)を濃赤褐色固体(123mg、収率80%)として得た。重量平均分子量(Mw)は83,000、多分散度は1.58であり、重量平均分子量から求めた重合度nは60であった。バンドギャップ(Eg)は2.01eVであり、最高被占分子軌道(HOMO)準位は5.15eVであった。
[光起電力素子の作製]
スパッタリング法により膜厚125nmのITO透明導電層が形成されたガラス基板を38mm×46mmに切断した後、ITO透明導電層を、フォトリソグラフィー法により38mm×13mmの長方形状にパターニングした。得られた基板をアルカリ洗浄液(フルウチ化学(株)製、“セミコクリーン”(登録商標)EL56)により10分間超音波洗浄した後、純水で超音波洗浄した。この基板を30分間UV/オゾン処理した。
この基板上に、酢酸亜鉛2水和物10mgと水5μL、エタノール0.5mL、3-アミノプロピルトリエトキシシラン(東京化成工業(株)製)2.5μLを、30分間超音波溶解させ、PTFEフィルターにて濾過した溶液を滴下し、3000rpmで30秒間スピンコートした後、ホットプレート上で100℃、30分間加熱することにより膜厚20nmの酸化亜鉛系電子取出し層を製膜した。
次に、化合物(A-1)0.9mg、Y6アクセプター(1-Materials社製)1.1mg、クロロホルム0.33mLを超音波洗浄機で30分間加熱照射した溶液を電子取り出し層上に滴下し、スピンコート法(600rpm)により塗布し、ホットプレート上で80℃、5分間加熱することにより膜厚約100nmの光電変換層を製膜した。
次に、光電変換層が形成された基板を真空蒸着装置内に設置して、装置内の真空度が1×10-3Pa以下になるまで再び排気し、抵抗加熱法によって、正孔輸送層となる酸化モリブデン層を10nmの厚さに蒸着した。
次に、全面に塗布された光電変換層の余分な部分を、レーザーにより除去した。
続いて、金属電極用蒸着マスクをセットした後、基板を蒸着機内へ移動させ、Ag(200nm)電極を蒸着した。以上のようにして、上下の電極から引き出し電極を取り出し、ITO層とAg電極が交差する部分の面積が2mm×2mmである光起電力素子を得た。
得られた光起電力素子をグローブボックス中へ移し、接着樹脂(ナガセケムテックス製XNR5570)にて20mm□の封止ガラスを基板中心に貼り合わせUV硬化させて封止した。
以上のように作製した光起電力素子について、前述の方法により光電変換特性を評価した結果、短絡電流密度は27.4mA/cm、開放電圧は0.77V、フィルファクター(FF)は0.73であり、これらの値から算出した光電変換効率は15.4%であった。
(実施例2)
化合物A-2をスキーム2に示す方法により合成した。なお、スキーム2に記載のトリブチル(4-(2-ブチルオクチル)チオフェン-2-イル)スズは「マクロモレキュルズ(Macromolecules)」、2015年、48巻、4801-4812頁に記載されている方法を参考にして合成した。
Figure 2022098456000012
上記化合物(1-3)800mg(1.45mmol)およびトリブチル(4-(2-ブチルオクチル)チオフェン-2-イル)スズ1.97g(3.63mmol)のトルエン50mlおよびDMF15mlの混合溶液に、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(東京化成工業(株)製)80mgを加え、窒素雰囲気下、100℃で12時間撹拌した。反応溶液に水50mlを加えて10分間撹拌した後、有機層を水で4回、飽和食塩水で1回洗浄した。溶媒を無水硫酸マグネシウムにより乾燥した後、減圧留去した。シリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液:ヘキサン/クロロホルム)により精製し、化合物(2-1)を橙色固体(910mg、収率70%)として得た。化合物(2-1)のH-NMRの測定結果を以下に示す。
H-NMR(400MHz,CDCl):8.22(s,2H),7.63(m,4H),7.38(m,6H),7.00(s,2H),2.51(d,J=6.8Hz,4H),1.71(m,2H),1.35-1.25(m,32H),0.9(m,6H)ppm。
上記化合物(2-1)850mg(0.95mmol)のクロロホルム溶液80mlを室温で撹拌しているところに、N-ブロモスクシンイミド(東京化成工業(株)製)347mg(1.95mmol)を加え、室温で4時間撹拌した。飽和亜硫酸ナトリウム水溶液10mlを加え、室温で10分間撹拌した後、有機層を水で2回、飽和食塩水で1回洗浄した。溶媒を無水硫酸マグネシウムにより乾燥した後、減圧留去した。シリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液:ヘキサン/クロロホルム)により精製し、化合物(2-2)を橙色固体(830mg、収率83%)として得た。化合物(2-2)のH-NMRの測定結果を以下に示す。
H-NMR(400MHz,CDCl):8.31(s,2H),7.67-7.63(m,4H),7.41-7.38(m,6H),7.05(2H),2.53(d,J=6.8Hz,4H),1.68」(m,2H),1.39-1.34(m,16H),0.95-0.92(m,6H)ppm。
化合物(2-2)105mg(0.1mmol)、化合物(1-6)(Ossila社製)94mg(0.1mmol)、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(富士フイルム和光純薬(株)製)3mg(3μmol)およびトリス(2-メチルフェニル)ホスフィン(東京化成工業(株)製)10mg(33μmol)にトルエン3mlを加え、アルゴン下、110℃で8時間撹拌した。反応混合物をメタノールで洗浄した後、粗生成物を円筒ろ紙に入れ、ソックスレー抽出器を用いて、塩化メチレンついでクロロホルムの順で抽出した。クロロホルム抽出液を減圧留去した後、クロロホルム-メタノールにより再沈殿し、ついで減圧乾燥し、化合物(A-2)を濃赤褐色固体(103mg、収率68%)として得た。重量平均分子量(Mw)は98,000、多分散度は1.69であり、重量平均分子量から求めた重合度nは65であった。バンドギャップ(Eg)は2.06eVであり、最高被占分子軌道(HOMO)準位は5.26eVであった。
化合物(A-2)0.67mg、Y6アクセプター(1-Materials社製)1.33mg、クロロホルム0.2mLを超音波洗浄機で30分間加熱照射した溶液を用いて、膜厚約100nmの光電変換層を形成した他は、実施例1と同様の方法で光起電力素子を作製し、その光電変換特性を評価した結果、短絡電流密度は26.6mA/cm、開放電圧は0.85V、フィルファクターは0.64であり、これらの値から算出した光電変換効率は14.5%であった。
(実施例3)
化合物(A-1)0.9mg、Y6アクセプター(1-Materials社製)0.8mgおよびY5アクセプター(1-Materials社製)0.3mg、クロロホルム0.33mLを超音波洗浄機で30分間加熱照射した溶液を用いて、膜厚約100nmの光電変換層を形成した他は、実施例1と同様の方法で光起電力素子を作製し、その光電変換特性を評価した結果、短絡電流密度は27.1mA/cm、開放電圧は0.82V、フィルファクターは0.71であり、これらの値から算出した光電変換効率は15.8%であった。
(実施例4)
化合物A-3をスキーム3に示す方法により合成した。なお、スキーム3に記載の化合物(3-1)は「ポリマー(Polymer)」、2012年、53巻、3835-3841頁に記載されている方法を参考にして合成した。
Figure 2022098456000013
化合物(1-5)94mg(0.10mmol)、化合物(1-6)(Ossila社製)104mg(0.11mmol)、化合物(3-1)4mg(0.01mmol)、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(富士フイルム和光純薬(株)製)3mg(3μmol)およびトリス(2-メチルフェニル)ホスフィン(東京化成工業(株)製)10mg(33μmol)にトルエン3mlを加え、アルゴン下、110℃で8時間撹拌した。反応混合物をメタノールにより洗浄した後、粗生成物を円筒ろ紙に入れ、ソックスレー抽出器を用いて、塩化メチレンついでクロロホルムの順で抽出した。クロロホルム抽出液の溶媒を減圧留去した後、クロロホルム-メタノールで再沈殿し、ついで減圧乾燥し、化合物(A-3)を濃赤褐色固体(106mg、収率72%)として得た。重量平均分子量(Mw)は77,000、多分散度は1.60であり、重量平均分子量から求めた重合度nは57であった。バンドギャップ(Eg)は2.04eVであり、最高被占分子軌道(HOMO)準位は5.18eVであった。
化合物(A-3)0.9mg、Y6アクセプター(1-Materials社製)1.1mg、クロロホルム0.33mLを50℃で10分間撹拌した溶液を用いて、膜厚約100nmの光電変換層を形成した他は、実施例1と同様の方法で光起電力素子を作製し、その光電変換特性を評価した結果、短絡電流密度は26.5mA/cm、開放電圧は0.82V、フィルファクターは0.68であり、これらの値から算出した光電変換効率は14.8%であった。
(比較例1)
化合物B-1をスキーム4に示す方法で合成した。なお、スキーム4に記載の5,10-ジエチルテトラデカン-7,8-ジオンは「オーガニックレターズ(Organic Letters)」、2008年、10巻、3513-3516頁に記載されている方法を参考にして合成した。
Figure 2022098456000014
化合物(1-1)660mg(3mmol)および5,10-ジエチルテトラデカン-7,8-ジオン850mg(3mmol)のクロロホルム溶液150mlにパラトルエンスルホン酸(富士フイルム和光純薬(株)製)5mgを加え、8時間加熱還流した。反応混合物の溶媒を減圧留去した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液:ヘキサン/クロロホルム)により精製し、化合物(4-1)を薄橙色固体(780mg、収率56%)として得た。化合物(4-1)のH-NMRの測定結果を以下に示す。
H-NMR(400MHz,CDCl):8.30(d,J=5.2Hz,2H),7.53(d,J=5.2Hz,2H),3.02(d,J=6.8Hz,4H,2.16(m,2H),1.45-1.25(m,16H),0.94(t,J=6.8Hz,6H),0.87(t,J=6.8Hz,6H)ppm。
上記化合物(4-1)700mg(1.5mmol)のクロロホルム溶液80mlにN-ブロモスクシンイミド(東京化成工業(株)製)560mg(3.2mmol)を加え、室温で16時間撹拌した。飽和亜硫酸ナトリウム水溶液10mlを加え、室温で10分間撹拌した後、有機層を水で2回、飽和食塩水で1回洗浄した。溶媒を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧留去した。シリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液:ヘキサン/クロロホルム)により精製し、化合物(4-2)を橙色固体(656mg、収率70%)として得た。化合物(4-2)のH-NMRの測定結果を以下に示す。
H-NMR(400MHz,CDCl):8.23(s,2H),2.98(d,J=6.8Hz,4H),2.13(m,2H),1.45-1.25(m,16H),0.93(t,J=6.8Hz,6H),0.88(t,J=6.8Hz,6H)ppm。
上記化合物(4-2)(625mg、1.0mmol)およびトリブチル(4-(2-エチルヘキシル)チオフェン-2-イル)スズ(1.21g,2.5mmol)のトルエン50mlおよびDMF15mlの混合溶液に、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(東京化成工業(株)製)50mgを加え、窒素雰囲気下、100℃で12時間撹拌した。反応溶液に水50mlを加えて10分間撹拌した後、有機層を水で4回、飽和食塩水で1回洗浄した。溶媒を無水硫酸マグネシウムにより乾燥した後、減圧留去した。シリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液:ヘキサン/クロロホルム)により精製し、化合物(4-3)を橙色オイル(642mg、収率75%)として得た。化合物(4-3)のH-NMRの測定結果を以下に示す。
H-NMR(400MHz,CDCl):8.26(s,2H),7.19(s,2H),6.90(s,2H),3.01(d,J=6.8Hz,4H),2.57(d,J=6.8Hz,4H),2.16(m,2H),1.61(m,2H),1.5-1.3(m,32H),1.0-0.9(m,24H)ppm。
上記化合物(4-3)427mg(0.5mmol)のクロロホルム溶液40mlを室温で撹拌しているところに、N-ブロモスクシンイミド(東京化成工業(株)製)178mg(1.05mmol)を加え、室温で4時間撹拌した。飽和亜硫酸ナトリウム水溶液10mlを加え、室温で10分間撹拌した後、有機層を水で2回、飽和食塩水で1回洗浄した。溶媒を無水硫酸マグネシウムにより乾燥した後、減圧留去した。シリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液:ヘキサン/クロロホルム)により精製し、化合物(4-4)を橙色オイル(425mg、収率84%)として得た。化合物(4-4)のH-NMRの測定結果を以下に示す。
H-NMR(400MHz,CDCl):8.20(s,2H),7.03(s,2H),3.01(d,J=6.8Hz,4H),2.54(d,J=6.8Hz,4H),2.15(m,2H),1.66(m,2H),1.5-1.3(m,32H),1.0-0.9(m,24H)ppm。
化合物(4-4)101mg(0.1mmol)、化合物(1-6)(Ossila社製)94mg(0.1mmol)、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(富士フイルム和光純薬(株)製)3mg(3μmol)およびトリス(2-メチルフェニル)ホスフィン(東京化成工業(株)製)10mg(33μmol)にトルエン3mlを加え、アルゴン下、110℃で8時間撹拌した。反応混合物をメタノールで洗浄した。粗生成物を円筒ろ紙に入れ、ソックスレー抽出器を用いて、塩化メチレンついでクロロホルムの順で抽出した。クロロホルム抽出液の溶媒を減圧留去した後、クロロホルム-メタノールで再沈殿し、ついで減圧乾燥し、化合物(B-1)を濃赤褐色固体(92mg、収率63%)として得た。重量平均分子量(Mw)は128,000、多分散度は2.34であり、重量平均分子量から求めた重合度nは87であった。バンドギャップ(Eg)2.05eVであり、最高被占分子軌道(HOMO)準位は5.09eVであった。
化合物(B-1)0.9mg、Y6アクセプター(1-Materials社製)1.1mg、クロロホルム0.2mLを超音波洗浄機で30分間加熱照射した溶液を用いて膜厚約100nmの光電変換層を形成した他は、実施例1と同様の方法で光起電力素子を作製し、その光電変換特性を評価した結果、短絡電流密度は13.5mA/cm、開放電圧は0.90V、フィルファクターは0.40であり、これらの値から算出した光電変換効率は4.9%であった。
(比較例2)
化合物B-2をスキーム5に示す方法で合成した。なお、スキーム4に記載の化合物(5-1)は特開2013-102148号公報に記載されている方法を参考にして合成した。
Figure 2022098456000015
化合物(5-1)83mg(0.1mmol)、化合物(1-6)(Ossila社製)94mg(0.1mmol)、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(富士フイルム和光純薬(株)製)3mg(3μmol)およびトリス(2-メチルフェニル)ホスフィン(東京化成工業(株)製)10mg(33μmol)にトルエン3mlを加え、アルゴン下、110度で8時間撹拌した。反応終了後、反応混合物をメタノールで洗浄した。粗生成物を円筒ろ紙に入れ、ソックスレー抽出器を用いて、塩化メチレンついでクロロホルムの順で抽出した。クロロホルム抽出液の溶媒を減圧留去した後、クロロホルム-メタノールで再沈殿し、ついで減圧乾燥し、化合物(B-2)を濃赤褐色固体(108mg、収率84%)として得た。重量平均分子量(Mw)は92,000、多分散度は1.85であり、重量平均分子量から求めた重合度nは72であった。バンドギャップ(Eg)1.82eVであり、最高被占分子軌道(HOMO)準位は5.25eVであった。
化合物(B-2)0.9mg、Y6アクセプター(1-Materials社製)1.1mg、クロロホルム0.2mLを超音波洗浄機で30分間加熱照射した溶液を用いて膜厚約100nmの光電変換層を形成した他は、実施例1と同様の方法で光起電力素子を作製し、その光電変換特性を評価した結果、短絡電流密度は25.7mA/cm、開放電圧は0.76V、フィルファクターは0.57であり、これらの値から算出した光電変換効率は11.1%であった。
(比較例3)
化合物B-3をスキーム6に示す方法で合成した。なお、スキーム6に記載の化合物(6-1)は特開2013-102148号公報に記載されている方法を参考にして合成した。
Figure 2022098456000016
化合物(5-1)83mg(0.1mmol)、化合物(6-1)91mg(0.1mmol)、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(富士フイルム和光純薬(株)製)3mg(3μmol)およびトリス(2-メチルフェニル)ホスフィン(東京化成工業(株)製)10mg(33μmol)にトルエン3mlを加え、アルゴン下、110℃で8時間撹拌した。反応終了後、反応混合物をメタノールで洗浄した。粗生成物を円筒ろ紙に入れ、ソックスレー抽出器を用いて、塩化メチレンついでクロロホルムの順で抽出した。クロロホルム抽出液の溶媒を減圧留去した後、クロロホルム-メタノールで再沈殿し、ついで減圧乾燥し、化合物(B-3)を濃赤褐色固体(101mg、収率81%)として得た。重量平均分子量(Mw)は93,000、多分散度は1.80であり、重量平均分子量から求めた重合度nは75であった。バンドギャップ(Eg)1.75eVであり、最高被占分子軌道(HOMO)準位は5.07eVであった。
化合物(B-3)0.9mg、Y6アクセプター(1-Materials社製)1.1mg、クロロホルム0.2mLを超音波洗浄機で30分間加熱照射した溶液を用いて膜厚約100nmの光電変換層を形成した他は、実施例1と同様の方法で光起電力素子を作製し、その光電変換特性を評価した結果、短絡電流密度は22.2mA/cm、開放電圧は0.66V、フィルファクターは0.61であり、これらの値から算出した光電変換効率は8.9%であった。
各実施例および比較例の光電変換特性の評価結果を表1に示す。
Figure 2022098456000017
1 基板
2 陽極
3 有機半導体層
4 陰極

Claims (7)

  1. 下記一般式(1)で表される構造を有する共役系化合物。
    Figure 2022098456000018
    (上記一般式(1)中、RおよびRは同じでも異なっていてもよく、置換されていてもよいアリール基またはヘテロアリール基を表す。R~Rは同じでも異なっていてもよく、水素、ハロゲン、置換されていてもよいアルキル基またはアルコキシ基を表す。RおよびRは同じでも異なっていてもよく、置換されていてもよいアリール基またはヘテロアリール基を表す。xおよびyは同じでも異なっていてもよく、0以上3以下の整数を表す。nは重合度を示し、2以上1,000以下の範囲を表す。)
  2. 前記一般式(1)中、RおよびRが共にフェニル基である請求項1に記載の共役系化合物。
  3. 前記一般式(1)中、xおよびyがいずれも1または2である請求項2に記載の共役系化合物
  4. 請求項1~3のいずれかに記載の共役系化合物を含む電子供与性有機材料。
  5. 請求項4に記載の電子供与性有機材料および電子受容性有機材料を含む光起電力素子用材料。
  6. 前記電子受容性有機材料が非フラーレン型の電子受容性有機材料を含む請求項5に記載の光起電力素子用材料。
  7. 少なくとも陽極と陰極を有する光起電力素子であって、陽極と陰極の間に請求項6に記載の光起電力素子用材料を含む有機発電層を有する光起電力素子。
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