JP2022089661A - 接合レンズ、およびそれを備えた光学系、および光学機器、および接合レンズの製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
以下、本発明の一実施形態について、図1から図6を用いて説明する。
図1は、本実施形態の接合レンズ50の断面図である。接合レンズ50は、レンズ、プリズム(色分解プリズム、色合成プリズム等)、偏光ビームスプリッター(PBS)、カットフィルタ(赤外線用、紫外線用等)などの撮像光学系、投影光学系等の種々の光学系を構成する種々の光学素子に適用することができ、光学素子の種類に限定があるものではない。
第1の光学素子10は、基材11と、第1の遮光膜12とを備える。なお、第1の光学素子10は、これ以外の層を具備していてもよい。
基材11は、ガラス製であってもよいし、プラスチック製であってもよく、光学材料を用いて形成されたものであればその材質に特に限定はない。基材11には、凹メニスカスレンズを採用することができるが、これに限らない。
第1の遮光膜12は、基材11の非光学有効領域11cに形成されている。第1の遮光膜12は、入射光に対して不透明な層である。第1の遮光膜12は、入射光に対して不透明な膜とすることができれば、どのような構成であってもよいが、例えば、入射光を吸収してエネルギーに変換する物質(以下、光吸収物質)を含む吸光膜とすることができる。光吸収物質として、具体的には、接合レンズ50が使用する光の波長域が400nm~800nm程度の可視光域~近赤外域である場合、カーボン、黒色顔料、黒色染料などの可視光域及び近赤外域の波長の光の吸収率が高い物質を用いることができる。これらの光吸収物質をエポキシ樹脂等のバインダ成分(樹脂成分)と共に溶剤に溶解または分散させた塗布液を調製し、この塗布液を非光学有効領域11cの表面に塗布して塗膜を形成し、その後、乾燥等の工程を経ることにより第1の遮光膜12を形成することができる。また、レンズやレンズ鏡筒内に、いわゆる墨塗りを施す際に用いる市販の内面反射防止塗料を塗布液として用いることができ、その塗膜を第1の遮光膜12とすることも可能である。
第2の光学素子20は、基材21と、第2の遮光膜22とを備える。
基材21は、ガラス製であってもよいし、プラスチック製であってもよく、光学材料を用いて形成されたものであればその材質に特に限定はない。基材21には、両凸レンズを採用することができるが、これに限らない。
第2の遮光膜22は、基材21の非光学有効領域21cに形成されている。第2の遮光膜22は、第1の遮光膜12と同じ構成であってもよいし、あるいは、上述した第1の遮光膜12に適用可能な膜の材料の中で、第1の遮光膜12と異なる材料からなる遮光膜であってもよい。
接着層30は、第1の光学素子10の光学有効領域11bと、第2の光学素子20の光学有効領域21aとを貼り合せて接合するために用いる接合接着剤から形成される。接着層30は、第1の遮光膜12と第2の遮光膜22との間から露呈している。換言すれば、接着層30は、第1の光学素子10および第2の光学素子20の何れにも接していない端面を有する。すなわち、この端面は、第1の遮光膜12および第2の遮光膜22の何れによっても覆われておらず、その他の遮光膜にも覆われていない。接着層30は、第1の光学素子10と第2の光学素子20とによって挟圧されて延展されていることで、第1の遮光膜12と第2の遮光膜22との間から露呈している。より詳細には、図4に示すように、接着層30は、第1の遮光膜12の表面12a上と、第2の遮光膜22の表面22a上とに露呈している。
次に、本実施形態の接合レンズを具備する光学系の一態様であるズームレンズについて、図5を用いて説明する。図5は、ズームレンズ500の断面図である。
次に、本実施形態の接合レンズ50を具備するズームレンズ500を、光学機器の一形態である撮像装置に適用した例を示す。図6は、本実施形態のズームレンズ500を備えた撮像装置600の一例を示す図である。
本実施形態の接合レンズ50によれば、遮光膜に起因する接合レンズの光学的な不良の発生を防止した接合レンズを実現できる。
上述の実施形態では、接着層30が、第1の遮光膜12の表面12a上と、第2の遮光膜22の表面22a上とに露呈している(図4)。しかしながら、これに限らず、接着層30が第1の遮光膜12と第2の遮光膜22との間から露呈していればよい。例えば、図7に示す変形例の構成であってもよい。
本発明の他の実施形態について、以下に説明する。なお、説明の便宜上、上記実施形態にて説明した部材と同じ機能を有する部材については、同じ符号を付記し、その説明を繰り返さない。
図8は、本実施形態の接合レンズ50Aの断面図である。接合レンズ50Aは、第1の光学素子10Aおよび第2の光学素子20Aの各基材11,21に積層されている層構成が、上述の実施形態1の接合レンズ50の各基材11,21に積層されている層構成と異なっている点において、相違している。更に、本実施形態の接合レンズ50Aは、低屈折率層40によって覆われている点において、上述の実施形態1の接合レンズ50と相違している。
図9は、第1の光学素子10Aの断面図である。本実施形態の第1の光学素子10Aは、基材11の光学有効領域11aに下地層13aが形成されている点において、実施形態1の第1の光学素子10と相違する。なお、上述の実施形態1の第1の光学素子10の基材11の光学有効領域11aに反射防止膜が形成されている場合には、本実施形態の第1の光学素子10Aでは、この反射防止膜に代えて、下地層13aが形成されている。
下地層13aは、反射防止膜として機能する。以下、下地層13aの層構成と、材料について説明する。
下地層13aは、それぞれ屈折率が1.35~2.5の透明材料から成る薄膜(以下、サブ層)を1層以上積層した単層膜又は多層膜であってもよい。ここで、サブ層とは、下地層13aを構成する物理的な一層の薄膜を指す。例えば、下地層13aを少なくとも1層以上のサブ層を積層した構成とし、各々のサブ層をそれぞれ光学干渉層として機能させることにより、当該反射防止膜の反射率を極めて低くすることができる。
下地層13aの各サブ層を構成する上記透明材料は、屈折率が1.35~2.5の透明無機材料、オルガノシラン及び有機樹脂のうちいずれか一種以上とすることができる。
より広帯域、且つ、より低反射の反射防止膜を得るには、各サブ層の光学膜厚を150nm以下とすることが好ましい。各サブ層の光学膜厚が150nmを超える場合、必要のないリップルの多い設計となり当該反射防止膜の平均反射率を低く保つことができないため、好ましくない。
下地層13a(各サブ層)を成膜する際には、真空成膜法あるいは湿式成膜法を採用することが好ましい。真空成膜法として、物理蒸着法及び化学蒸着法のいずれも好適に用いることができる。物理蒸着法としては、真空蒸着法、スパッタ法、イオンプレーティング法、イオンビーム蒸着法を挙げることができる。また、化学蒸着法としては、CVD法(プラズマCVD法を含む)、原子層堆積法(ALD法)を挙げることができる。これらの中でも、特に、真空蒸着法、スパッタ法、CVD法を好適に採用することができる。湿式成膜法としては、例えば、ディップコート法、スピンコート法、スプレーコート法、ロールコーティング法、スクリーン印刷法等がある。これらの方法を採用することにより、1nm以上150nm以下の範囲の物理膜厚の下地層13a(若しくはサブ層)を精度よく成膜することができる。
第1の遮光膜12は、実施形態1の第1の遮光膜12と同じく、基材11の非光学有効領域11cに形成されている。なお、本実施形態では、基材11の光学有効領域11bに形成された上述の下地層13bが、非光学有効領域11cにも僅かに形成されている(図9)。そのため、第1の遮光膜12は、基材11の非光学有効領域11cにおいて、その僅かに形成された下地層13bの表面上と、基材11の表面とに設けられている。また、遮光膜12は、下地層13aの表面上に僅かに形成されていても良い。
図10は、第2の光学素子20Aの断面図である。本実施形態の第2の光学素子20Aは、基材21の光学有効領域21bに下地層23bが形成されている点において、実施形態1の第2の光学素子20と相違する。なお、上述の実施形態1の第2の光学素子20の基材21の光学有効領域21bに反射防止膜が形成されている場合には、本実施形態の第2の光学素子20Aでは、この反射防止膜に代えて、下地層23bが形成されている。
下地層23bは、下地層13aと同じく反射防止膜として機能する。下地層23bの詳細は、上述にした下地層13aの詳細と同じである。なお、下地層23bは、下地層13aと同一材料から構成してもよいし、異なる材料から構成してもよい。
第2の遮光膜22は、実施形態1の第2の遮光膜22と同じく、基材21の非光学有効領域21cに形成されている。また、遮光膜22は、下地層23aと、下地層23bの表面上に僅かに形成されていても良い。
図8に示すように、本実施形態の接合レンズ50は、上述の第1の光学素子10Aと第2の光学素子20Aとが、接着層30を介して貼り合せることによって接合されている。本実施形態においても、実施形態1と同じく、接着層30は、第1の遮光膜12と、第2の遮光膜22との間から露呈している。
低屈折率層40は、上述の第1の光学素子10Aと第2の光学素子20Aとが接着層30によって接合した構造の表面全体を覆う。すなわち、低屈折率層40は、図8に示すように、下地層13aの表面と、第1の遮光膜12の表面と、接着層30の露呈している表面と、第2の遮光膜22の表面と、下地層23bの表面とを覆う。
まず、中空シリカ粒子401について説明する。本件発明において、中空シリカ粒子401とは、シリカから成る外殻内に中空部を備えたコアシェル構造(バルーン構造)を有するシリカの一次粒子を指す。また、一次粒子とはこのシリカの粒子が他の粒子と凝集していない状態にあるものを指す。具体的には、図11に模式的に示すように、シリカから成る外殻部401aと、この外殻部401aに周囲が完全に囲まれた中空部401bとから構成されたシリカ粒子を指す。低屈折率層40の層構成材料として、このコアシェル構造を有する中空シリカ粒子401を主たる材料として採用することにより、低屈折率層40の屈折率をシリカ自体の屈折率(1.48)よりも低減することができる。また、シリカ粒子内に細孔を多数有する上記多孔質シリカの集合体から構成された多孔質シリカ層等と比較した場合、本実施形態では、中空部401bが外殻部401aにより完全に包囲された中空シリカを用いるため、シリカ粒子自体の強度が高く、耐久性に優れた膜を得ることができる。更に、中空シリカ粒子401の内部に液体等が侵入しないため、湿式成膜法により成膜する場合であっても、シリカ内部の中空部401bが樹脂材料等により充填される恐れがなく、材料自体の空隙率を維持して、屈折率が増加するのを防止することができる。
次に、バインダ402について説明する。図11に示すように、低屈折率層40は、中空シリカ粒子401がバインダ402により互いに結着されて層を成している。この際、中空シリカ粒子401の外表面がバインダ402により被覆されると共に、この中空シリカ粒子401の外表面を被覆したバインダ402により中空シリカ粒子401が互いに結着されていることが好ましい。
本実施形態において、低屈折率層40内には図11に示すように互いに結着されたシリカ粒子401間に空隙部403が設けられることが好ましい。低屈折率層40内に、中空シリカ粒子401の内部に存在する中空部401bと共に、当該中空シリカ粒子401間に、バインダ402により囲まれた空隙部403を設けることにより、低屈折率層40内の空隙率を増加させ、当該低屈折率層40の屈折率をシリカ自体の屈折率よりも更に低くすることができ、反射防止性能のより高い層とすることができる。また、本実施形態のように、空隙部403をバインダ等により充填しなくとも、当該中空シリカ粒子401の外表面を被覆するバインダ402を介して中空シリカ粒子401同士を結着させることにより、中空シリカ粒子401同士の密着性を向上することができ、且つ、個々の中空シリカ粒子401と、低屈折率層40を積層する層(下地層13a、第1の遮光膜12、第2の遮光膜22、接着層30、下地層23b)との密着性を向上することができる。また、中空シリカ粒子401自体はシリカからなる外殻部401aにより囲まれているため、低屈折率層40の外表面を樹脂等により被覆しなくとも、耐擦傷性や耐久性に優れた層とすることができる。
ここで、低屈折率層40において中空シリカ粒子401及びバインダ402が層内に占める体積は、30体積%以上99体積%以下であることが好ましい。ここでいう中空シリカ粒子401が占める体積とは、低屈折率層40において、中空シリカ粒子401の外殻部401aと、この中空部401bに囲まれる中空部401bとを含む中空シリカ球の全体積を意味する。低屈折率層40において中空シリカ粒子401およびバインダ402が占める体積が30体積%未満である場合、低屈折率層40の耐久性や耐擦傷性が低下するため好ましくない。一方、低屈折率層40において中空シリカ粒子401が占める体積が99体積%を超える場合、低屈折率層中の前述した空隙部403の体積が小さくなり低屈折率層40の屈折率が所望の特性に及ばなくなるという観点から、低屈折率層40において中空シリカ粒子401が占める体積は90体積%以下であることがより好ましい。
低屈折率層40の屈折率は、上述したとおり1.15以上1.35以下であることが求められる。低屈折率層40の屈折率が1.15未満の場合、中空シリカ層から成る低屈折率層40の場合、層内の空隙率が高くなり過ぎ、低屈折率層40の耐久性等が低下するため、好ましくない。当該観点から、低屈折率層40の屈折率は1.17以上であることがより好ましい。一方、低屈折率層40の屈折率が1.35を超える場合は、設計中心波長における反射率が高くなるため好ましくない。従って、当該観点から、低屈折率層40の屈折率は上記範囲内において低い方が好ましく、1.32以下であることがより好ましく、1.30以下であることがさらに好ましい。
低屈折率層40の物理膜厚は、80nm以上240nm以下の範囲内であることが好ましい。低屈折率層40の物理膜厚が80nm未満である場合や240nmを超える場合、可視光域および近赤外域の波長の光に対して位相変化を適切な値とすることが困難になり、低屈折率層40の反射防止性能が低下する恐れがあるため、好ましくない。
本実施形態の構成によれば、上述の実施形態1の構成が奏する作用効果に加えて、接着層30上に低屈折率層40を形成することで、接着層30における、第1の遮光膜12と第2の遮光膜22との間から露呈している表面に入射した光の反射を低減させることができる。この反射の低減に関し、図12を用いて説明する。
前記の課題を解決するために、本発明の一態様に係る接合レンズ50、50´、50Aは、基材11の非光学有効領域11cに第1の遮光膜12が形成された第1の光学素子10と、基材12の非光学有効領域12cに第2の遮光膜22が形成された第2の光学素子20と、前記第1の光学素子10および前記第2の光学素子20の光学有効領域同士を貼り合せる接着層30と、を備えた接合レンズ50、50´、50Aであって、前記接着層30は、前記第1の遮光膜と前記第2の遮光膜との間から露呈している。
本発明の一実施例について以下に説明する。
図8に示す接合レンズ50Aを作製した。基材11として、d線(波長587.56nm)での屈折率(以下ndと表記する)が1.613の株式会社オハラ製S-NBM51を用いた。基材21として、ndが1.497の株式会社オハラ製S-FPL51を用いた。
比較例として、図13に示す接合レンズ1000を作製した。接合レンズ1000は、基材1011,1021のそれぞれに遮光膜を形成しない一方で、反射防止膜(不図示)を基材1011,1012の光学有効領域1011a,1011b、1021bに形成した後、接着層1030を介して基材1011,1021を接合した。接着層1030には、ポリエン・ポリチオール系接着剤OP-1080L(デンカ株式会社製)を使用した。OP-1080LのUV硬化後の屈折率、すなわち接着層1030の屈折率は、1.52である。接着層1030の厚さは約10μmとした。
1.評価方法
作製した接合レンズを、下記の方法に従って評価した。
実施例および比較例で作製した接合レンズを、それぞれ、80℃の恒温槽に240h投入した後、目視で遮光膜の墨含有成分の接着層30(1030)への浸潤の発生状況を観察した。以下の基準で評価した。
○ : 接着層に変色が確認されなかった。
× : 接着層に変色(黄色)が確認された。
実施例1の接合レンズ50と、比較例の接合レンズ1000に対して、拭き試験を行った。
○ : 拭き後、ワイパーに変色が観察されなかった。
× : 拭き後、ワイパーが黒色あるいは黄色に変色した。
実施例および比較例で作製した接合レンズをそれぞれ、60℃、90RH%の恒温恒湿槽に240h投入した後、23℃、50RH%の環境に取り出し、取り出し後に目視で接合レンズの外周部における白化の発生状況を観察した。以下の基準で評価した。
○ : 接合レンズの外周部に白化が確認されなかった。
× : 接合レンズの外周部に白化が確認された。
11、21 基材
11a,11b 光学有効領域
11c,21c 非光学有効領域
12 第1の遮光膜
12a、22a 表面
13a,13b,23a,23b 下地層
20、20A 第2の光学素子
22 第2の遮光膜
30 接着層
40 低屈折率層
50、50´、50A 接合レンズ
401 中空シリカ粒子
401a 外殻部
401b 中空部
402 バインダ
403 空隙部
500 ズームレンズ(光学系)
600 撮像装置(光学機器)
603 固体撮像素子(受光素子)
Claims (11)
- 基材の非光学有効領域に第1の遮光膜が形成された第1の光学素子と、
基材の非光学有効領域に第2の遮光膜が形成された第2の光学素子と、
前記第1の光学素子および前記第2の光学素子の光学有効領域同士を貼り合せる接着層と、を備えた接合レンズであって、
前記接着層は、前記第1の遮光膜と前記第2の遮光膜との間から露呈している、
接合レンズ。 - 前記第1の光学素子の前記非光学有効領域に形成された前記第1の遮光膜の表面上と、前記第2の光学素子の前記非光学有効領域に形成された前記第2の遮光膜の表面上とに、前記接着層が露呈している、
請求項1に記載の接合レンズ。 - (i)前記接合レンズの光学有効領域、(ii)前記第1の遮光膜と前記第2の遮光膜、および、(iii)前記接着層の前記露呈している部分、からなる群より選ばれる少なくとも1つは、屈折率が1.15~1.35の低屈折率層により覆われている、
請求項1または2に記載の接合レンズ。 - 前記低屈折率層が、SiO2、MgF2、および、Al2O3からなる群から選ばれる、
請求項3に記載の接合レンズ。 - 前記低屈折率層は、シリカから成る外殻部と、当該外殻部に囲まれた中空部とを備えたバルーン構造を有する中空シリカ粒子がバインダにより結着されると共に、当該中空シリカ粒子の中空部以外の空隙部が存在する層であり、
前記中空シリカ粒子の平均粒径は、5nm以上100nm以下である、
請求項3または4に記載の接合レンズ。 - 前記低屈折率層は、前記中空シリカ粒子と、前記バインダの成分として樹脂材料または金属アルコキシドとを用いて形成された層である、
請求項5に記載の接合レンズ。 - 前記接合レンズの光学有効領域に、屈折率が1.35~2.5の透明材料から成る薄膜を一層以上積層した下地層を備えており、
前記下地層上に、前記低屈折率層が積層されている、
請求項3から6の何れか1項に記載の接合レンズ。 - 前記下地層は、真空蒸着法、スパッタ法、または、ALD法により作製された膜である、
請求項7に記載の接合レンズ。 - 請求項1から8の何れか1項に記載の接合レンズを備えた、
光学系。 - 請求項1から8の何れか1項に記載の接合レンズと、
前記接合レンズによって集光された光を受光する受光素子と、
を備えた、
光学機器。 - 基材の非光学有効領域に第1の遮光膜が形成された第1の光学素子と、基材の非光学有効領域に第2の遮光膜が形成された第2の光学素子との光学有効領域同士を、接着層を介して貼り合せる貼り合せ工程を含む、
接合レンズの製造方法。
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