JP2022087014A - 成膜装置及び足場ユニット - Google Patents

Abstract

【課題】メンテナンス時の作業効率を向上すること【解決手段】基板を搬送しながら基板に対して成膜を行うインライン式の成膜装置は、基板を搬送する搬送ユニットと、成膜源を含み、搬送ユニットの下方の第１位置と、第１位置に対して横方向に変位した第２位置とに移動可能な成膜源ユニットと、を備える。成膜装置は、成膜源ユニットが第１位置から第２位置へ移動するのに連動して、搬送ユニットの下方に足場を展開する足場ユニットを備える。【選択図】図６

Description

本発明は、成膜装置及び足場ユニットに関する。

従来、基板を搬送しながら基板に対して処理を行うインライン式の装置が知られている。特許文献１には、インライン式の基板処理装置において、複数の処理ユニットが上下方向に並んで配置されることが開示されている。

特開２０１８－９３０８７号公報

上記従来技術では、最下段の処理ユニット以外の処理ユニットのメンテナンスは、踏み台等を用意して行う必要がある。このため、踏み台の準備及び撤去に時間を要し、メンテナンス時の作業効率が低下することがある。

本発明は、メンテナンス時の作業効率を向上する技術を提供する。

本発明の一側面によれば、
基板を搬送する搬送ユニットと、
成膜源を含み、前記搬送ユニットの下方の第１位置と、前記第１位置に対して横方向に変位した第２位置とに移動可能な成膜源ユニットと、を備え、
基板を搬送しながら基板に対して成膜を行うインライン式の成膜装置であって、
前記成膜源ユニットが前記第１位置から前記第２位置へ移動するのに連動して、前記搬送ユニットの下方に足場を展開する足場ユニットを備える、
ことを特徴とする成膜装置が提供される。

本発明によれば、メンテナンス時の作業効率を向上することができる。

一実施形態に係る成膜装置を模式的に示す正面図。 図１の成膜装置の側面図。 図１の成膜装置の内部構造を模式的に示す図。 足場ユニットの構成を示す斜視図。 足場ユニットを成膜装置の正面から見た図。 蒸着源ユニットの移動及び足場ユニットの展開動作を説明する図。 （Ａ）は、展開動作前の足場ユニットを成膜装置の正面から見た図。（Ｂ）は、展開動作中の足場ユニットを成膜装置の正面から見た図。 搬送ユニット及び足場ユニットの位置関係を模式的に示す平面図。 足場ユニットを成膜装置の正面から見た図。 一実施形態に成膜装置の側面図。 一実施形態に係る成膜装置を模式的に示す正面図。 図１１の成膜装置の平面図。 一実施形態に係る成膜装置を模式的に示す正面図。 足場ユニットの概略を示す斜視図。 足場ユニットの構成を示す図であって、複数の載置部、昇降部及びそれらの周辺構成を示す図。 床板部材の構成を示す図であって、床板部材８１を裏側からみた斜視図。 レール部材の構成を示す斜視図。 、載置部からレール部材への床板部材の受け渡し動作を説明する動作説明図。

以下、添付図面を参照して実施形態を詳しく説明する。なお、以下の実施形態は特許請求の範囲に係る発明を限定するものではなく、また実施形態で説明されている特徴の組み合わせの全てが発明に必須のものとは限らない。実施形態で説明されている複数の特徴のうち二つ以上の特徴が任意に組み合わされてもよい。また、同一若しくは同様の構成には同一の参照番号を付し、重複した説明は省略する。

また、各図において、Ｘ方向は基板の搬送方向、Ｙ方向は基板の搬送方向に交差する幅方向、Ｚ方向は上下方向を示す。

＜第１実施形態＞
＜成膜装置の概要＞
図１は、一実施形態に係る成膜装置１を模式的に示す正面図である。図２は、図１の成膜装置１の側面図である。図３は、図１の成膜装置１の内部構造を模式的に示す図である。

成膜装置１は、基板を搬送しながら基板に対して成膜を行うインライン式の成膜装置である。成膜装置１は、例えばスマートフォン用の有機ＥＬ表示装置の表示パネルの製造に用いられ、複数台並んで配置されてその製造ラインを構成し得る。

本実施形態では、成膜装置１には基板保持トレイ１００に保持された基板が順次搬送され、成膜装置１は搬送されてきた基板に対して有機ＥＬの蒸着を行う。基板は、例えば成膜装置１に搬送されるよりも上流の工程でマスクと重ね合わされた状態で基板保持トレイ１００に保持されて成膜装置１に搬送される。したがって、成膜装置１ではマスクにより所定のパターンの蒸着物質の薄膜が基板上に形成される。成膜装置１で蒸着が行われる基板の材質としては、ガラス、樹脂、金属等を適宜選択可能であり、ガラス上にポリイミド等の樹脂層が形成されたものが好適に用いられる。蒸着物質としては、有機材料、無機材料（金属、金属酸化物など）などの物質である。成膜装置１は、例えば表示装置（フラットパネルディスプレイなど）や薄膜太陽電池、有機光電変換素子（有機薄膜撮像素子）等の電子デバイスや、光学部材等を製造する製造装置に適用可能であり、特に、有機ＥＬパネルを製造する製造装置に適用可能である。以下の説明においては成膜装置１が真空蒸着によって基板に成膜を行う例について説明するが、成膜方法の態様はこれに限定はされず、スパッタやＣＶＤ等の各種成膜方法を適用可能である。

成膜装置１は、搬送ユニット２と、蒸着源ユニット３と、防着板６と、移動ユニット７と、フレーム部１０１とを含む。

フレーム部１０１は、成膜装置１の搬送ユニット２等の構成要素を支持可能に設けられる。図１の例では、フレーム部１０１は、柱及び梁を含み、搬送ユニット２及び真空ポンプ１０２を支持している。また、フレーム部１０１には、作業用のクレーンや作業者がメンテナンスを行うための通路等が設けられてもよい。

搬送ユニット２は、基板を搬送する。本実施形態では、搬送ユニット２は、基板を保持した状態の基板保持トレイ１００を搬送することにより、基板の搬送を行う。搬送ユニット２は、搬送チャンバ２１と、搬送ローラ２２と、を含む。

搬送チャンバ２１は、内部を真空に保持可能な箱型のチャンバである。搬送チャンバ２１の内部空間２１０は、真空雰囲気か、窒素ガスなどの不活性ガス雰囲気に維持されている。本実施形態では、搬送チャンバ２１は真空ポンプ１０２に接続されている。なお、本明細書において「真空」とは、大気圧より低い圧力の気体で満たされた状態、換言すれば減圧状態をいう。

搬送チャンバ２１には、基板保持トレイ１００が搬入される搬入開口２１１及び基板保持トレイ１００が搬出される搬出開口２１２が形成されている。また、搬送チャンバ２１の下部には、内部空間２１０と蒸着源チャンバ３１の内部空間３１０とを連通するための連通開口２１３が形成されている。なお、搬入開口２１１及び搬出開口２１２には、内部空間２１０を真空に保持するために不図示のゲートバルブ等が設けられてもよい。

搬送ローラ２２は、基板を保持した基板保持トレイ１００を搬送する。搬送ローラ２２は、搬送チャンバ２１の内部空間２１０に設けられる。搬送ローラ２２は、例えば金属材料で形成された、回転可能に支持される円筒形状の部材である。搬送ローラ２２は、例えば搬送チャンバ２１の外部に設けられた不図示の電動モータにより駆動する。

また、本実施形態では、搬送ユニット２の下部には、補強用のリブ２３が設けられている。

蒸着源ユニット３は、基板に対して蒸着物質を放出する蒸着源３２（成膜源）を有するユニット（成膜源ユニット）である。本実施形態では、１つの搬送ユニット２に対して３つの蒸着源ユニット３が基板の搬送方向（Ｘ方向）に並んで配置されている。しかしながら、蒸着源ユニット３の数は適宜設定可能であり、２つ以下或いは４つ以上であってもよい。また、蒸着源ユニット３は、蒸着処理の実行時には搬送ユニット２の下方に位置し搬送ユニット２の下部に接続する。蒸着源ユニット３は、蒸着源チャンバ３１と、蒸着源３２と、を含む。

蒸着源チャンバ３１は、内部を真空に保持可能な箱型のチャンバである。蒸着源チャンバ３１の内部空間３１０は、搬送チャンバ２１の上部に設けられた連通開口３１１を介して搬送チャンバ２１の内部空間２１０と連通可能である。内部空間３１０は、稼働時には内部空間２１０と同様、真空雰囲気か、窒素ガスなどの不活性ガス雰囲気に維持されている。

蒸着源３２は、搬送ユニット２により搬送される基板に対する成膜のために蒸着物質を放出する。例えば、蒸着源３２はＹ方向に並んで配置された複数のノズル（不図示）を含み、それぞれのノズルから蒸着物質が放出される。また例えば、蒸着源３２は蒸着物質を貯留する貯留部及び貯留部に貯留された蒸着物質を加熱するヒータ（いずれも不図示）を含む。貯留部に貯留された蒸着物質がヒータによって加熱されて気化することにより、蒸着源３２から蒸着物質が放出される。

また、蒸着源ユニット３は、蒸着源３２の不使用時に蒸着源３２を遮蔽するシャッタ又は蒸着源３２による蒸着物質の蒸発量を監視する蒸発レートモニタ等（いずれも不図示）を含んでもよい。

防着板６は、蒸着源３２から放出された蒸着物質が蒸着源チャンバ３１又は搬送チャンバ２１の内壁等に付着することを防止する。例えば、防着板６は蒸着源チャンバ３１に支持される。本実施形態では、防着板６は、蒸着源３２を覆うように内部空間３１０から内部空間２１０に渡って位置するとともに、上部には開口が形成されている。このような構成により、蒸着物質の一部は開口を介して基板へと付着する一方、残りの蒸着物質は防着板６に付着する。このように、防着板６は、蒸着物質が基板に付着することを許容しつつ、蒸着物質が蒸着源チャンバ３１又は搬送チャンバ２１の内壁等に付着することを防止する。

なお、本実施形態では、防着板６は、蒸着源チャンバ３１に対して上下に相対移動可能に設けられる。より具体的には、防着板６は、上側部分６１と下側部分６２とを含み、上側部分６１が蒸着源チャンバ３１に対して上下に相対移動可能に設けられる。これにより、蒸着源ユニット３が移動ユニット７によって横方向に移動する際に搬送ユニット２と防着板６との干渉を回避するために必要な蒸着源ユニット３の下降量を低減することができる。

なお、搬送チャンバ２１又は蒸着源チャンバ３１には、防着板６以外にも防着板が設けられてもよい。例えば、搬送チャンバ２１の内部の天面又は側面等に防着板が設けられてもよい。

移動ユニット７は、蒸着源ユニット３を移動させるユニットである。本実施形態では、移動ユニット７は蒸着源ユニット３の下方に設けられ、蒸着源ユニット３を支持しつつ蒸着源ユニット３を上下方向（Z方向）又は横方向（Y方向）に移動させる。移動ユニット７は、横方向移動部７１と昇降部７２とを含む。

横方向移動部７１は、蒸着源ユニット３を横方向（Y方向）に移動させる。本実施形態では、横方向移動部７１は蒸着源ユニット３を基板の搬送方向（Ｘ方向）に交差する基板の幅方向（Ｙ方向）に移動させる。横方向移動部７１は、床面に設けられたガイド部７１１と、ガイド部７１１沿って蒸着源ユニット３を移動させるための駆動部７１２とを含む。駆動部７１２としては周知の技術を適宜採用可能であるが、例えば、ガイド部７１１としてのレール上を走行可能な駆動輪を、モータ等により回転させてもよい。

昇降部７２は、蒸着源ユニット３を昇降させる。本実施形態では、昇降部７２は、蒸着源ユニット３を上下方向（Ｚ方向）に昇降させる。昇降部７２は、蒸着源ユニット３を支持する蒸着源ユニット支持部７２１と、蒸着源ユニット支持部７２１を昇降させる駆動部７２２とを含む。駆動部７２２としては周知の技術を採用可能であるが、例えば電動シリンダ等により蒸着源ユニット支持部７２１を昇降させてもよい。

本実施形態では、搬送ユニット２のメンテナンスを行う場合に、移動ユニット７が蒸着源ユニット３を搬送ユニット２の下方の位置から横方向に移動させることにより、作業者が搬送チャンバ２１の下部から搬送チャンバ２１の内部にアクセスすることが可能となる。このとき、移動ユニット７は、昇降部７２により蒸着源ユニット３を下方に移動させてから横方向移動部７１により蒸着源ユニット３を横方向に移動させる。この動作については後述の足場ユニット４の動作説明とともに後述する（図６）。

なお、本実施形態では、移動ユニット７は、複数の蒸着源ユニット３に対してそれぞれ設けられる。したがって、本実施形態の成膜装置１は、複数の蒸着源ユニット３をそれぞれ独立に移動させることができる。なお、複数の移動ユニット７を同期させて、複数の蒸着源ユニット３をまとめて移動させてもよい。また、蒸着源ユニット３よりも少ない数の移動ユニット７が設けられ、１つの移動ユニット７で複数の蒸着源ユニット３を移動させてもよい。

なお、説明は省略するが、成膜装置１は、搬送ユニット２、蒸着源ユニット３又は移動ユニット７等の動作を制御する制御装置等を含みうる。

＜足場ユニットの構成＞
Ｐ図４は、足場ユニット４の構成を示す斜視図であり、足場４１が展開された状態を示している。また、図５は、足場ユニット４を成膜装置１の正面からみた図であり、足場４１が展開された状態を示している。足場ユニット４は、足場４１と、昇降部４２と、手すり部４３と、接続部４４と、固定部４５とを含む。なお、図５では、昇降部４２及び手すり部４３は省略されている。

足場４１は、搬送ユニット２のメンテナンス等に用いられ、踏み台或いはステップ等と呼ばれることもある。足場４１は、柱部４１１と、梁部４１２と、床板部４１３とを含む。

柱部４１１は、梁部４１２を支持する。１つの柱部４１１は、２本の柱部材４１１１と、２本の柱部材４１１１を回動可能に連結するとともに床面に接する連結部４１１２とを含む。本実施形態では、合計で４つの柱部４１１が設けられている。また、柱部材４１１１は、連結部４１１２と接続する端部と反対側の端部において、梁部４１２の梁部材４１２１又は梁部材４１２２と回動可能に接続する。

梁部４１２は床板部４１３を支持する。梁部４１２は、長さの異なる梁部材４１２１及び梁部材４１２２と、梁部材同士を接続する接続部材４１２３と、を含む。梁部４１２は、Ｘ方向に離間した２つの部分で構成され、各部分は、２本の梁部材４１２１と２本の梁部材４１２２と３つの接続部材４１２３とにより互いに接続してＹ方向に延びるように設けられている。また、接続部材４１２３は、梁部材４１２１、４１２２を回動可能に支持している。このように梁部４１２は複数の梁部材が回動可能に設けられるので、折りたたみ可能である。

床板部４１３は、搬送ユニット２のメンテナンス時等に、作業者が移動可能な領域を形成する。床板部４１３は、作業者の搬送ユニット２へのアクセスを容易にするために、成膜装置１が設置される平面から所定の高さに配置される。床板部４１３は、Ｙ方向に並んで設けられる複数の板状部材４１３１～４１３５を含む。板状部材４１３１～４１３５は、Ｘ方向の両端において、梁部材４１２１、梁部材４１２２、又は接続部材４１２３にそれぞれ支持される。そのため、床板部４１３は、梁部４１２が折りたたまれるのに伴って折りたたまれる。

昇降部４２は、展開された足場４１の床板部４１３へ作業者が昇降するためのものである。本実施形態では、昇降部４２は、梯子である。しかしながら、昇降部４２は階段、ステップ等であってもよい。また、昇降部４２は、例えば梁部４１２に回動可能に支持される。

手すり部４３は、展開された足場４１の床板部４１３に対して起立する複数の手すり４３１～４３３を含む。手すり４３１は板状部材４１３１に、手すり４３２は板状部材４１３３に、手すり４３３は板状部材４１３５に、それぞれ回動可能に設けられる。足場４１が折りたたまれる際には、手すり４３１～４３３は床板部４１３に倒された状態で床板部４１３とともに折りたたまれる。

本実施形態では、接続部４４は、梁部４１２と移動ユニット７とを接続することで、移動ユニット７を介して足場４１と蒸着源ユニット３と接続する。なお、接続部４４は、足場４１と蒸着源ユニット３とを直接的に接続してもよい。

固定部４５は、足場４１を所定の位置で固定的に支持する。本実施形態では、固定部４５は、Ｙ方向で蒸着源ユニット３に最も離れて設けられる梁部材４１２１の蒸着源ユニット３から遠い側の端部を支持する。固定部４５は、フレーム部１０１又は搬送ユニット２など、蒸着源ユニット３の移動に追従しない構成要素に支持され得る。なお、ここでは、固定部４５自体は固定的に設けられているが、固定部４５は、梁部材４１２１を回動、又はスライド可能に支持してもよい。

本実施形態では、足場ユニット４が、３つの蒸着源ユニット３に対してそれぞれ設けられる。つまり、成膜装置１は３つの足場ユニット４を含む。

ところで、本実施形態では、搬送ユニット２の搬送チャンバ２１内のメンテナンスを行う場合には、作業者は、蒸着源ユニット３を横方向に移動させ、露出した連通開口２１３を介して内部空間２１０にアクセスすることができる。他方、搬送ユニット２は蒸着源ユニット３の上方に設けられているため、作業者は床面に立った状態で搬送ユニット２のメンテナンスを行えない場合がある。このような場合に作業者が踏み台等の準備及び撤去に時間を要すると、メンテナンス時の作業効率が低下することがある。そこで、本実施形態では、以下で説明するように、蒸着源ユニット３が横方向に移動するのに連動して搬送ユニット２の下方に足場が展開される。

＜足場ユニットの動作説明＞
図６は、蒸着源ユニット３及び足場ユニット４の動作を説明する図である。また、図７（Ａ）は、展開動作前の足場ユニット４を成膜装置１の正面からみた図であり、図６の状態ＳＴ１及び状態ＳＴ２における足場ユニット４を示している。また、図７（Ｂ）は、展開動作中の足場ユニット４を成膜装置１の正面からみた図であり、図６の状態ＳＴ３における足場ユニット４を示している。なお、図７（Ａ）及び図７（Ｂ）では、昇降部４２及び手すり部４３は省略されている。

状態ＳＴ１は、蒸着源ユニット３が搬送ユニット２と接続する接続位置ＰＯＳ１に位置している状態である。状態ＳＴ１は成膜装置１が基板に対する蒸着を行う際の状態である。状態ＳＴ１では、蒸着源ユニット３が搬送ユニット２の下方に位置し、搬送ユニット２の下部と蒸着源ユニット３の上部とが接続している。

状態ＳＴ２は、蒸着源ユニット３が接続位置ＰＯＳ１からその下方の接続解除位置ＰＯＳ２に移動した状態である。蒸着源ユニット３は、移動ユニット７の昇降部７２により接続位置ＰＯＳ１から接続解除位置ＰＯＳ２にーZ方向に移動する。

なお、状態ＳＴ１又は状態ＳＴ２では、足場ユニット４は折りたたまれた状態である。これらの状態では、柱部材４１１１、梁部材４１２１及び梁部材４１２２がＺ方向に延び、接続部材４１２３がＹ方向に延びるように配置される。また、床板部４１３は、梁部４１２に沿って折りたたまれている。これにより、足場ユニット４は、全体としてＹ方向にコンパクトに構成される。

状態ＳＴ３は、蒸着源ユニット３のメンテナンス位置への移動途中の状態である。足場ユニット４の足場４１は、一方の端部が固定部４５に所定の位置で支持された状態で、接続部４４に接続する他方の端部が蒸着源ユニット３の移動に連動して横方向（図面右方向、－Y方向）に移動することで、折りたたまれた状態から展開されていく。

状態ＳＴ４は、蒸着源ユニット３の横方向への移動が完了した状態である。状態ＳＴ４において、蒸着源ユニット３は、搬送ユニット２又は蒸着源ユニット３のメンテンスが実行されるメンテナンス位置ＰＯＳ３に位置している。蒸着源ユニット３がメンテナンス位置ＰＯＳ３に位置した状態では、足場４１は搬送ユニット２の下方に展開された状態となる。

図８は、搬送ユニット２及び足場ユニット４の位置関係を模式的に示す平面図である。本実施形態では、蒸着源ユニット３がメンテナンス位置ＰＯＳ３に位置する場合（図８の中央の蒸着源ユニット３参照）、展開された足場４１が、搬送ユニット２の連通開口２１３の下方に位置するように展開される。換言すれば、展開された足場４１は、搬送ユニット２の下方において、連通開口２１３に対向するように配置される。さらに言えば、蒸着源ユニット３がメンテナンス位置ＰＯＳ３にある場合に、足場４１は、平面視で搬送ユニット２の連通開口２１３と上下方向（Ｚ方向）に重なるように配置されている。足場４１が連通開口２１３の下方に配置されることにより、作業者は、足場に乗った状態で内部空間２１０により容易にアクセスすることができる。また、蒸着源ユニット３がメンテナンス位置ＰＯＳ３に位置する場合に、連通開口２１３のＹ方向の全域に渡って、平面視で足場４１が連通開口２１３と重なるように配置されてもよい。これにより、作業者は、内部空間２１０の略全体により容易にアクセスすることができる。

以上説明したように、本実施形態によれば、足場ユニット４は、蒸着源ユニット３が接続解除位置ＰＯＳ２からメンテナンス位置ＰＯＳ３へと移動するのに連動して、搬送ユニット２の下方に足場４１を展開する。これにより、搬送ユニット２のメンテナンスを行う場合に搬送ユニット２へのアクセスが容易になるとともに、踏み台等の準備及び撤去が必要なくなるので、メンテナンス時の作業効率を向上することができる。

＜第２実施形態＞
図９は、第２実施形態に係る足場ユニット９を成膜装置１の正面からみた図であり、足場９１が展開された状態を示している。第２実施形態では、梁部及び床板部の態様が第１実施形態と異なる。以下、第１実施形態と同様の構成については同様の符号を付して説明を省略する場合がある。

本実施形態では、足場９１は、柱部４１１と梁部９１２と床板部９１３とを含む。床板部９１３を支持する梁部９１２は、梁部材９１２１、梁部材９１２２及び接続部材９１２３を含む。ここで、梁部材９１２１及び梁部材９１２２は、足場９１が展開された状態で、蒸着源ユニット３の移動方向であるＹ方向に対して斜めに設けられている。より具体的には、Ｘ方向から見て、梁部材９１２１及び梁部材９１２２が延びる方向は、Ｙ方向成分及びＺ方向成分を含む。

このような構成により、メンテナンス位置ＰＯＳ３において、蒸着源ユニット３の移動方向に対して梁部材９１２１及び梁部材９１２２の軸方向が斜めになるため、蒸着源ユニット３が横方向に移動した際に梁部材９１２１及び梁部材９１２２が回動しやすくなる。よって、本実施形態によれば、展開された足場９１を容易に折りたたむことができる。

また、本実施形態では、板状部材９１３１～９１３５は、床板部９１３の床面が略水平になるような形状を有している。さらに言えば、Ｙ方向に対して斜めに延びる梁部材９１２１又は梁部材９１２２に支持される板状部材９１３１、板状部材９１３３及び板状部材９１３５は、床板部９１３の床面を構成する面が水平面になるように形成される。それとともに、板状部材９１３１、板状部材９１３３及び板状部材９１３５は、梁部材９１２１又は梁部材９１２２に支持に支持される面が、梁部材９１２１又は梁部材９１２２の伸びる方向に対応した斜面となるように形成される。これにより、足場９１の床面を水平に維持しつつ、足場９１を容易に折りたたむことができる。

＜他の実施形態＞
第１実施形態では手すり部４３が足場ユニット４に設けられているが、搬送ユニット２の下部に手すりが設けられてもよい。図１０は、一実施形態に成膜装置１の側面図である。この例では、手すり９３１が搬送ユニット２のリブ２３から下方に延びるように設けられている。このような手すり９３１が、搬送ユニット２の下部にＹ方向に渡って設けられてもよい。

また、手すりが設置される位置や個数等は適宜変更可能である。例えば、図４の例では、手すり部４３は、床板部４１３に対してＸ方向の一方の側にのみ設けられているが、床板部４１３に対してＸ方向の両側に設けられてもよい。或いは、足場４１がＸ方向に複数並んで設けられる場合、Ｘ方向の両外側の足場４１の両外側の端部にのみ手すり部４３が設けられてもよい。

また、接続部４４は、足場４１と蒸着源ユニット３との接続を解除可能に設けられてもよい。これにより、足場４１が必要な場合のみ足場４１を展開することができる。

また、足場４１の構成は適宜変更である。上記実施形態では２本の柱部材４１１１が連結部４１１２により連結されていたが、柱部材４１１１がそれぞれ独立に床面に接地して梁部４１２を支持してもよい。

また、成膜装置１は、蒸着源ユニット３の傾きに関する値を検出するセンサを備えていてもよい。そして、成膜装置１は、このセンサにより検出された蒸着源ユニット３の傾きに関する値が所定条件を満たさない場合に蒸着源ユニット３の昇降動作、すなわち、接続位置ＰＯＳ１ー接続解除位置ＰＯＳ２間の移動動作を停止してもよい。

例えば、センサは、振り子式又はフロート式の傾斜センサのように蒸着源ユニット３の傾きを直接的に検出するものであってもよいし、加速度センサのように傾きを間接的に検出するものであってもよい。また例えば、センサは、両側の駆動部７２２の駆動負荷に関する値（例えば駆動電流値）又は両側の蒸着源ユニット支持部７２１にかかる蒸着源ユニット３の荷重等、蒸着源ユニット３に傾きが生じていることを把握することのできる値を検出するものであってもよい。

また例えば、成膜装置１は、センサにより検出した蒸着源ユニット３の傾きが閾値以上である場合に、蒸着源ユニット３の昇降動作を停止してもよい。或いは、成膜装置１は、両側の駆動部７２２の駆動電流値や、蒸着源ユニット支持部７２１にかかる蒸着源ユニット３の荷重の差が閾値以上である場合に、蒸着源ユニット３の昇降動作を停止してもよい。

＜第３実施形態＞
図１１は、第３実施形態に係る成膜装置１３を模式的に示す正面図である。また、図１２は、図１１の成膜装置１３の平面図であって、中央の蒸着源ユニット３がメンテナンス位置ＰＯＳ３に位置した状態を示している。本実施形態は、成膜装置１３が取り出しユニット５を含んでいる点で第１実施形態と異なる。以下、第１実施形態と同様の構成については同様の符号を付して説明を省略する場合がある。

取り出しユニット５は、メンテナンス位置ＰＯＳ３に位置する蒸着源ユニット３の上方から所定の部品を取り出す。所定の部品としては、例えば、蒸着源ユニット３の蒸着源チャンバ３１に収容されている蒸着源チャンバ３１及び防着板６等が挙げられる。取り出しユニット５は、蒸着源ユニット３の上方を移動可能なようにフレーム部１０１に支持される。取り出しユニット５は、保持部５１と、鉛直移動部５２と、水平移動部５３とを含む。

保持部５１は、所定の部品を保持する。例えば、保持部５１は、その先端部分が水平方向等の所定の方向に移動することで所定の部品を把持してもよい。或いは、保持部５１には、玉掛け用のワイヤを引っ掛けるためのフックが設けられており、所定の部品をワイヤで吊ることにより保持してもよい。なお、保持部５１については、大きさの異なるものに対応可能なように、折りたたみ可能に構成されてもよい。

鉛直移動部５２は、保持部５１を鉛直方向に移動する。鉛直移動部５２としては公知の技術を適宜採用可能であるが、例えば、ボールねじ機構を有する電動シリンダや空圧式のバランスシリンダ等が用いられてもよい。

水平移動部５３は、保持部５１を水平方向に移動する。詳細には、水平移動部５３は、鉛直移動部５２を水平方向に移動することにより、保持部５１を水平方向に移動する。例えば、水平移動部５３は、鉛直移動部５２をＸ方向に移動するＸ方向移動部５３１と、鉛直移動部５２をＹ方向に移動するＹ方向移動部５３２とを含む。本実施形態では、Ｙ方向移動部５３２が鉛直移動部５２をＹ方向に移動し、Ｘ方向移動部５３１がＹ方向移動部５３２をＸ方向に移動する。Ｘ方向移動部５３１及びＹ方向移動部５３２としては公知の技術を適宜採用可能であるが、例えばラックピニオン機構及びそのピニオンを回転させる電動モータを含んで構成されてもよい。また、滑車式の機構を用いて、駆動源は持たずX方向及びY方向のうちの少なくとも一方の移動は作業者による人力で行っても良い。

例えば、取り出しユニット５は、メンテナンス位置ＰＯＳ３に位置する蒸着源ユニット３から所定の部品を取り出すと、取り出した部品を不図示のメンテナンス用の台等に載置する。これにより、メンテナンス対象の部品が蒸着源チャンバ３１内にある場合よりも作業者によるメンテナンスが行いやすくなる。

なお、取り出しユニット５が複数設けられる構成も採用可能である。この場合、両外側の蒸着源ユニット３がメンテナンス位置ＰＯＳ３に引き出されている場合に、各蒸着源ユニット３からの部品の取り出しを並行して行うことができる。また、取り出しユニット５が複数設けられる場合、例えばＸ方向移動部５３１のレール部分等が共用となっていてもよい。

＜第４実施形態＞
図１３は、第４実施形態に係る成膜装置１４を模式的に示す正面図である。本実施形態では、足場ユニットの構成が第１実施形態と異なる。以下、第１実施形態と同様の構成については同様の符号を付して説明を省略する場合がある。また、同様の構成要素が複数設けられる場合、図面の見易さを考慮して一部の構成要素の符号を省略することがある。

図１４は、足場ユニット８の概略を示す斜視図である。また、図１５は、足場ユニット８の構成を示す図であって、複数の載置部８２、昇降部８４及びそれらの周辺構成を示す図である。足場ユニット８は、足場としての複数の床板部材８１と、複数の載置部８２と、一対のレール部材８３と、昇降部８４と接続部８５を含む。

複数の床板部材８１ａ～８１ｈ（以下、床板部材８１と総称する）は、蒸着源ユニット３が接続位置ＰＯＳ１又は接続解除位置ＰＯＳ２にある状態では上下方向に並んで配置される（図１３、図１５参照）。また、複数の床板部材８１は、蒸着源ユニット３がメンテナンス位置ＰＯＳ３にある状態では横方向に並んで配置される（図１４参照）。

図１６は、床板部材８１の構成を示す図であって、床板部材８１を裏側からみた斜視図である。複数の床板部材８１の各々は、天壁８１１と、側壁８１２と、位置決め部８１３と、位置決め部８１４と、延長部８１５と、を含む。天壁８１１は、作業者の足場を形成する部分である。側壁８１２は、床板部材８１のＸ方向の側面を形成する。側壁８１２は、他の部分に対してＸ方向内側に設けられる壁部８１２ａを含む。位置決め部８１３は、複数の載置部８２に対する位置決めを行う。位置決め部８１４は、一対のレール部材８３に対する位置決めを行う。本実施形態では、位置決め部８１３は壁部８１２ａからＸ方向内側に突出する突出部であり、位置決め部８１４は壁部８１２ａからＸ方向外側に突出する突出部である。

複数の載置部８２ａ～８２ｈ（以下、載置部８２と総称する）は、複数の床板部材８１ａ～８１ｈをそれぞれ載置可能に構成される。複数の載置部８２は、床板部材８１が載置される板部材８２１と、床板部材８１の位置決め部８１３に対応した位置に設けられる位置決め部８２２（図１８参照）とを含む。本実施形態では、位置決め部８２２は、板部材８２１に設けられたブロックに、位置決め部８１３を受容する凹部が形成されることで構成される。本実施形態では、位置決め部８２２は、床板部材８１が載置されたときの位置決め部８１３の位置に対応するように、各載置部８２にＸ方向に離間して２つずつ設けられる。なお、各載置部８２について、板部材８２１は、Ｘ方向に離間して複数枚設けられてもよいし、１枚で構成されてもよい。

一対のレール部材８３は、横方向に並んで配置された複数の床板部材８１を支持する。本実施形態では、一対のレール部材８３は、成膜装置１４のリブ２３やフレーム部１０１等に接続部８３１を介して支持される。他の態様として、一対のレール部材８３は、リブ２３やフレーム部１０１に直接支持されてもよいし、床面に配置された支持部等に支持されてもよい。図１７は、レール部材８３の構成を示す斜視図である。一対のレール部材８３には、床板部材８１の位置決めを行う位置決め部８３３が設けられる。位置決め部８３３は、一対のレール部材８３のそれぞれに所定の間隔で設けられる。位置決め部８３３は、レール部材８３に設けられたブロックに、床板部材８１の位置決め部８１４を受容する凹部が形成されることで構成される。また、一対のレール部材８３の下側には、後述するレール側ラック８４５が設けられる。

再び図１５を参照する。昇降部８４は、複数の載置部８２を昇降させる。昇降部８４は、支持部８４１と、歯車８４２と、歯車８４３と、歯車８４４と、レール側ラック８４５と、支持部側ラック８４６とを含む。支持部８４１は、昇降方向（本実施形態では鉛直方向）に延び、複数の載置部８２を支持する。

歯車８４２は、蒸着源ユニット３が接続解除位置ＰＯＳ２とメンテナンス位置ＰＯＳ３との間を移動する際に、その歯部８４２ａがレール側ラック８４５の歯部８４５ａ（図１８参照）と噛み合うことで回転する。すなわち、蒸着源ユニット３が横方向へ移動すると、レール側ラック８４５に対して歯車８４２が横方向に移動するので、歯車８４２が回転する。

歯車８４３は、歯車８４２の回転を歯車８４４に伝達する。本実施形態では、歯車８４２及び歯車８４３によりゼネバ機構が構成される。すなわち、歯車８４２に設けられる凸部８４２ｂが歯車８４３の溝部８４３ａに入り込んでいるときは歯車８４２の回転が歯車８４３に伝達され、そうでないときは伝達されない。これにより、歯車８４２の回転が間欠的に歯車８４３へ伝達される。また、歯車８４３の回転は、その歯部８４３ｂが歯車８４４の歯部８４４ａと噛み合うことで歯車８４４に伝達される。換言すると、歯車８４２の回転は、歯車８４３を介して歯車８４４に伝達される。

また、歯車８４４は、その歯部８４４ａが支持部側ラック８４６の歯部８４６ａと噛み合うことで支持部側ラック８４６に回転駆動力を伝達する。支持部側ラック８４６は、歯車８４４の回転を直線運動に変換する。支持部側ラック８４６が歯車８４４の回転により昇降方向（鉛直方向）に移動することにより、支持部側ラック８４６が設けられる支持部８４１が昇降する。そして、支持部８４１に支持される複数の載置部８２が昇降する。

接続部８５は、足場ユニット８の移動ユニット７との接続部分である。足場ユニット８が接続部８５により移動ユニット７と接続することにより、蒸着源ユニット３の横方向への移動に伴い足場ユニット８の複数の載置部８２等が横方向に移動する。

図１８は、載置部８２からレール部材８３への床板部材８１の受け渡し動作を説明する動作説明図である。なお、図面の見易さを考慮して、Ｘ方向で図面の手前側に配置されるレール部材８３及びレール側ラック８４５を破線で示している。

本実施形態では、複数の床板部材８１は、蒸着源ユニット３が接続位置ＰＯＳ１又は接続解除位置ＰＯＳ２に位置する状態で上下方向に並んで配置されている。そして、複数の床板部材８１は、蒸着源ユニット３が接続解除位置ＰＯＳ２からメンテナンス位置ＰＯＳ３へ移動するのに連動して横方向に並ぶように展開される。詳細には、蒸着源ユニット３が接続解除位置ＰＯＳ２からメンテナンス位置ＰＯＳ３へ移動するのに連動して、複数の載置部８２から一対のレール部材８３に複数の床板部材８１が順次受け渡されることにより、複数の床板部材８１が横方向に並べられる。図１８は複数の載置部８２のうち一番上の載置部８２ａに載置された床板部材８１ａが、一対のレール部材８３に受け渡される際の動作を説明するものである。しかしながら、他の載置部８２ｂ～８２ｈが床板部材８１ｂ～８１ｈを一対のレール部材８３に受け渡す際の動作も同様である。

状態ＳＴ１０１は、上から２つ目の載置部８２ｂから一対のレール部材８３に床板部材８１ｂが受け渡された後、蒸着源ユニット３が所定距離横方向に移動した状態である。状態ＳＴ１０１では、複数の載置部８２は、歯車８４２の歯部８４２ａとレール側ラック８４５の歯部８４５ａとの噛合により、蒸着源ユニット３の移動に伴い横方向に移動している。一方で、状態ＳＴ１０１では、凸部８４２ｂが溝部８４３ａに入り込んでいないため、昇降部８４による昇降動作は行われていない。すなわち、載置部８２は、水平方向に移動している。

状態ＳＴ１０２は、状態ＳＴ１０１から蒸着源ユニット３が所定距離だけレール部材８３に対して横方向に移動した状態である。状態ＳＴ１０２では、複数の載置部８２は、蒸着源ユニット３の移動に伴い横方向に移動しながら昇降部８４により下方に移動している。すなわち、凸部８４２ｂが溝部８４３ａに入り込むことで、歯車８４２の回転が歯車８４３、歯車８４４を介して支持部側ラック８４６に伝達されて載置部８２が下方に移動している。例えば、床板部材８１ｂと床板部材８１ａとの接触が避けられる程度に載置部８２の水平方向への移動が行われたところで載置部８２を下方に移動し始めるように、歯車８４２の回転の間欠的な伝達が行われる。

状態ＳＴ１０３は、床板部材８１ａが載置部８２ａから一対のレール部材８３に受け渡された後の状態である。状態ＳＴ１０３では、複数の載置部８２は、蒸着源ユニット３の移動に伴い横方向に移動している。状態ＳＴ１０２から状態ＳＴ１０３に遷移するまでの間、載置部８２ａは、横方向かつ下方に移動している。そして、載置部８２ａの床板部材８１ａを載置する載置面が、一対のレール部材８３の床板部材８１ａの支持面の上側から下側へと移動するところで、床板部材８１ａがレール部材８３へと受け渡される。すなわち、載置部８２ａは、一対のレール部材８３の上側から下側へと移動する際に載置している床板部材８１ａをレール部材８３に受け渡す。

以上説明したように、本実施形態では、蒸着源ユニット３が接続解除位置ＰＯＳ２からメンテナンス位置ＰＯＳ３に移動するのに連動して、搬送ユニット２の下方に足場が展開される。

なお、足場ユニット８は、展開された状態の足場としての床板部材８１に昇降可能な梯子、階段、ステップ等の昇降部を有していてもよい。

発明は上記の実施形態に制限されるものではなく、発明の要旨の範囲内で、種々の変形・変更が可能である。

１ 成膜装置、２ 搬送ユニット、３ 蒸着源ユニット、４ 足場ユニット、４１ 足場

Claims (19)

1. 基板を搬送する搬送ユニットと、
   成膜源を含み、前記搬送ユニットの下方の第１位置と、前記第１位置に対して横方向に変位した第２位置とに移動可能な成膜源ユニットと、を備え、
   基板を搬送しながら基板に対して成膜を行うインライン式の成膜装置であって、
   前記成膜源ユニットが前記第１位置から前記第２位置へ移動するのに連動して、前記搬送ユニットの下方に足場を展開する足場ユニットを備える、
   ことを特徴とする成膜装置。
2. 前記足場ユニットは、前記足場として、折りたたみ可能な床板部を含み、
   前記成膜源ユニットが前記第１位置から前記第２位置へと移動するのに連動して、折りたたまれた前記床板部が展開される、
   ことを特徴とする請求項１に記載の成膜装置。
3. 前記足場ユニットは、
   前記床板部を支持する前記足場としての梁と、
   前記梁と前記成膜源ユニットとを接続する接続部と、を含む、
   ことを特徴とする請求項２に記載の成膜装置。
4. 前記足場が展開された状態で、前記梁が前記成膜源ユニットの移動方向に対して斜めに設けられる、ことを特徴とする請求項３に記載の成膜装置。
5. 前記足場ユニットは、作業者が展開された前記足場へ昇降するための昇降部を含む、ことを特徴とする請求項１～４のいずれか１項に記載の成膜装置。
6. 前記足場ユニットは、展開された前記足場に対して起立する手すりを含む、ことを特徴とする請求項１～５のいずれか１項に記載の成膜装置。
7. 前記搬送ユニットの下部から下方に延びる手すりをさらに含む、ことを特徴とする請求項１～５のいずれか１項に記載の成膜装置。
8. 複数の前記成膜源ユニットが、それぞれ独立に移動可能に基板の搬送方向に並んで設けられ、
   前記足場ユニットは、前記複数の前記成膜源ユニットに対してそれぞれ設けられる、
   ことを特徴とする請求項１～７のいずれか１項に記載の成膜装置。
9. 前記搬送ユニットは、前記搬送ユニットの内部空間と前記成膜源ユニットの内部空間とを連通するための連通開口を含み、
   展開された前記足場は、前記搬送ユニットの下方において、前記連通開口と対向するように配置される、
   ことを特徴とする請求項１～８のいずれか１項に記載の成膜装置。
10. 基板を搬送する搬送ユニットと、
    成膜物質を放出する成膜源を含み、前記搬送ユニットの下方の第１位置と、前記第１位置に対して横方向に変位した第２位置との間を移動可能な成膜源ユニットと、を備え、
    基板を搬送しながら基板に対して成膜を行うインライン式の成膜装置に用いられる足場ユニットであって、
    前記成膜源ユニットが前記第１位置から前記第２位置へと移動するのに連動して、前記搬送ユニットの下方に足場を展開する、
    ことを特徴とする足場ユニット。
11. 基板を搬送する搬送ユニットと、
    成膜源を含み、前記搬送ユニットの下方の第１位置と、前記第１位置に対して横方向に変位した第２位置とに移動可能な成膜源ユニットと、を備え、
    基板を搬送しながら基板に対して成膜を行うインライン式の成膜装置であって、
    前記成膜源ユニットが前記第１位置から前記第２位置へ移動するのに連動して、前記搬送ユニットの下方に足場を展開する足場ユニットを備え、
    前記足場ユニットは、複数の床板部材を含み、
    前記成膜源ユニットが前記第１位置から前記第２位置へ移動するのに連動して、前記第１位置において上下方向に並んだ前記複数の床板部材が横方向に並んで配置され、
    前記第２位置に位置する前記成膜源ユニットの上方から所定の部品を取り出す取り出しユニットをさらに備える、
    ことを特徴とする成膜装置。
12. 前記取り出しユニットは、
    前記所定の部品を保持する保持部と、
    前記保持部を鉛直方向に移動する鉛直移動部と、
    前記保持部を水平方向に移動する水平移動部と、
    を含む、
    ことを特徴とする請求項１１に記載の成膜装置。
13. 基板を搬送する搬送ユニットと、
    成膜源を含み、前記搬送ユニットの下方の第１位置と、前記第１位置に対して横方向に変位した第２位置とに移動可能な成膜源ユニットと、を備え、
    基板を搬送しながら基板に対して成膜を行うインライン式の成膜装置であって、
    前記成膜源ユニットが前記第１位置から前記第２位置へ移動するのに連動して、前記搬送ユニットの下方に足場を展開する足場ユニットを備え、
    前記足場ユニットは、前記足場として複数の床板部材を含み、
    前記複数の床板部材は、
    前記成膜源ユニットが前記第１位置に位置する状態で上下方向に並んで配置され、
    前記成膜源ユニットが前記第１位置から前記第２位置へ移動するのに連動して横方向に並ぶように展開される、
    ことを特徴とする成膜装置。
14. 前記足場ユニットは、
    上下方向に並んで設けられ、前記複数の床板部材をそれぞれ載置可能な複数の載置部と、
    横方向に並んで配置された前記複数の床板部材を支持する一対のレール部材と、を含み、
    前記成膜源ユニットが前記第１位置から前記第２位置へ移動するのに連動して、前記複数の載置部から前記一対のレール部材に前記複数の床板部材が順次受け渡されることにより、前記複数の床板部材が横方向に並べられる、
    ことを特徴とする請求項１３に記載の成膜装置。
15. 前記足場ユニットは、
    上下方向に並んで設けられ、前記複数の床板部材をそれぞれ載置可能な複数の載置部と、
    横方向に並んで配置された前記複数の床板部材を支持する一対のレール部材と、
    前記足場ユニットは、前記複数の載置部を昇降させる昇降部と、を含み、
    前記複数の載置部は、前記成膜源ユニットが前記第１位置から前記第２位置へ移動する際に、前記成膜源ユニットとともに横方向に移動しながら前記昇降部により下方にも移動し、
    前記複数の載置部の各々は、前記一対のレール部材の上側から下側へと移動する際に載置している前記複数の床板部材の各々を前記レール部材に受け渡す、
    ことを特徴とする請求項１３に記載の成膜装置。
16. 前記昇降部は、前記成膜源ユニットが前記第１位置から前記第２位置へ移動する際に、断続的に前記複数の床板部材を下降させる、
    ことを特徴とする請求項１５に記載の成膜装置。
17. 前記昇降部は、
    前記一対のレール部材に設けられた第１ラックと、
    前記成膜源ユニットが前記第１位置から前記第２位置へ移動する際に、前記第１ラックと噛み合い回転する第１歯車と、
    前記第１歯車の回転が伝達される第２歯車と、
    昇降方向に延び、前記複数の載置部を支持する支持部と、
    前記支持部に設けられ、前記第２歯車と噛み合うことで前記支持部を昇降方向に移動する第２ラックと、を含む、
    ことを特徴とする請求項１５～１６のいずれか１項に記載の成膜装置。
18. 前記昇降部は、ゼネバ機構により前記第１歯車の回転を前記第２歯車に間欠的に伝達する、
    ことを特徴とする請求項１７に記載の成膜装置。
19. 前記複数の床板部材の各々は、前記複数の載置部に対する位置決めを行うための第１位置決め部と、前記一対のレール部材に対する位置決めを行うための第２位置決め部とを含む、
    ことを特徴とする請求項１４～１８のいずれか１項に記載の成膜装置。

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