JP2022075041A - 排ガス浄化触媒装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】ホットＮＯｘの低減とコールドＨＣの低減とが両立された排ガス浄化触媒装置の提供。【解決手段】基材１１０と、上流側下層コート層１２１と、上流側上層コート層１２２と、下流側下層コート層１３１と、下流側上層コート層１３２とを有し、（ｉ）及び（ｉｉ）を満たす、排ガス浄化触媒装置：（ｉ）上流側上層コート層１２２及び下流側下層コート層１３１中のＰｔ及び／又はＰｄの濃度が、上流側下層コート層１２１中のＰｔ及び／又はＰｄの濃度よりも高く、かつ、下流側上層コート層１３２中のＰｔ及び／又はＰｄの濃度よりも高いこと；並びに、（ｉｉ）上流側下層コート層１２１及び下流側上層コート層１３２中のＲｈの濃度が、上流側上層コート層１２２中のＲｈの濃度よりも高く、かつ、下流側下層コート層１３１中のＲｈの濃度よりも高いこと。【選択図】図１

Description

本発明は、排ガス浄化触媒装置に関する。
自動車エンジン等の内燃機関からの排ガス中には、窒素酸化物（ＮＯｘ）、一酸化炭素（ＣＯ）、炭化水素（ＨＣ）等が含まれる。これらの排ガスは、ＣＯ及びＨＣを酸化し、かつＮＯｘを還元する排ガス浄化触媒によって浄化したうえで、大気中に放出されている。
排ガス中に含まれる、ＣＯ、ＨＣ、及びＮＯｘの３成分については、大気汚染緩和等の観点から、各国において、自動車の単位走行距離当たりの排出重量が規制されている。
排ガス規制は、年々強化されている。現在、米国ではＬＥＶ ＩＩＩ規制が、欧州では、Ｅｕｒｏ ６規制が、それぞれ、適用されている。欧州では、近い将来にＥｕｒｏ ７規制に移行するものと考えられている。
このような状況下で、例えば特許文献１には、基材と、基材上に堆積されたＰｄを含む第１の層と、第１の層上に堆積されたＲｈを含む第２の層と、第２の層上に堆積されたＰｄを含む第３の層とを含む、層状触媒複合装置が記載されており、第３の層が、基材の上流側部分だけに堆積されて、高Ｐｄ含有領域を生成する態様が例示されている。
特表２０１０－５０１３３７号公報
上記の規制では、試験モードに、コールドスタートを含む運転モードが採用されており、コールド時のＨＣ排出量（コールドＨＣ）の低減と、ホット時のＮＯｘ排出量（ホットＮＯｘ）の低減との高度の両立が、喫緊の課題である。
これらのうち、コールドＨＣは、排出量全体に占める割合が大きいため、上記の特許文献1では、コールドＨＣの低減を重視した設計の排ガス浄化触媒装置が提案されている。
しかしながら、特許文献１に記載の層状触媒複合装置を含め、従来技術の排ガス浄化触媒装置では、ホットＮＯｘの低減と、コールドＨＣの低減との両立が不十分である。
そこで本発明は、ホットＮＯｘの低減と、コールドＨＣの低減とが、高度に両立された排ガス浄化触媒装置の提供を目的とする。
本発明は、以下のとおりである。
《態様１》基材と、前記基材上の触媒コート層とを有する排ガス浄化触媒装置であって、
前記触媒コート層は、排ガス流れ上流側に配置された、上流側コート層と、排ガス流れ下流側に配置された、下流側コート層とを有し、
前記上流側コート層は、前記基材上に配置された、上流側下層コート層と、前記上流側下層コート層上に配置された、上流側上層コート層とを有し、
前記下流側コート層は、前記基材上に配置された、下流側下層コート層と、前記下流側下層コート層上に配置された、下流側上層コート層とを有し、
前記上流側下層コート層、前記上流側上層コート層、前記下流側下層コート層、及び前記下流側上層コート層は、それぞれ、Ｐｔ、Ｐｄ、及びＲｈから選択される触媒貴金属を含み、
下記の（ｉ）及び（ｉｉ）を双方とも満たす、排ガス浄化触媒装置：
（ｉ）前記上流側上層コート層及び前記下流側下層コート層中の、Ｐｔ及びＰｄから選択される１種又は２種の濃度が、いずれも、
前記上流側下層コート層中の、Ｐｔ及びＰｄから選択される１種又は２種の濃度よりも高く、かつ、
前記下流側上層コート層中の、Ｐｔ及びＰｄから選択される１種又は２種の濃度よりも高いこと；並びに、
（ｉｉ）前記上流側下層コート層及び前記下流側上層コート層中のＲｈの濃度が、いずれも、
前記上流側上層コート層中のＲｈの濃度よりも高く、かつ、
前記下流側下層コート層中のＲｈの濃度よりも高いこと。
《態様２》少なくとも前記下流側下層コート層は、セリアを含み、
前記上流側下層コート層中のセリア濃度、前記上流側上層コート層中のセリア濃度、及び前記下流側上層コート層中のセリア濃度が、いすれも、前記下流側下層コート層中のセリア濃度の７０％以下である、
態様１に記載の排ガス浄化触媒装置。
《態様３》前記上流側下層コート層中のセリアの量が、前記上流側下層コート層形成部分の基材１Ｌ当たり、１０ｇ／Ｌ以下であり、
前記下流側上層コート層中のセリアの量が、前記下流側上層コート層形成部分の基材１Ｌ当たり、１０ｇ／Ｌ以下である、
態様１又は２に記載の排ガス浄化触媒装置。
《態様４》前記上流側上層コート層及び前記下流側下層コート層が、それぞれ、Ｐｄを含み、
前記上流側上層コート層中の、前記上流側上層コート層形成部分の基材１Ｌ当たりのＰｄ量が、
前記下流側下層コート層中の、前記下流側下層コート層形成部分の基材１Ｌ当たりのＰｄ量の２．０倍以上である、
態様１～３のいずれか一項に記載の排ガス浄化触媒装置。
《態様５》前記上流側下層コート層と、前記下流側上層コート層との合計の長さが、基材長さの８０％以上である、態様１～４のいずれか一項に記載の排ガス浄化触媒装置。
《態様６》排ガス流れ上流側の端部付近に、前記上流側上層コート層が、前記上流側下層コート層を介さずに、基材上に直接配置された領域を有さない、態様１～５のいずれか一項に記載の排ガス浄化触媒装置。
《態様７》前記上流側コート層の長さが、基材長さの２０％以上５０％以下である、態様１～６のいずれか一項に記載の排ガス浄化触媒装置。
《態様８》前記上流側コート層のコート量が、前記上流側コート層形成部分の基材１Ｌ当たり、２４０ｇ／Ｌ以下である、態様１～７のいずれか一項に記載の排ガス浄化触媒装置。
《態様９》前記上流側上層コート層のコート量が、前記上流側上層コート層形成部分の基材１Ｌ当たり、１６０ｇ／Ｌ以下である、態様１～８のいずれか一項に記載の排ガス浄化触媒装置。
本発明によると、ホットＮＯｘの低減と、コールドＨＣの低減とが、高度に両立された、排ガス浄化触媒装置が提供される。
図１は、本発明の排ガス浄化触媒装置の構成の一例を示す概略図である。 図２は、本発明の排ガス浄化触媒装置の構成の別の一例を示す概略図である。 図３は、本発明の排ガス浄化触媒装置の構成の更に別の一例を示す概略図である。 図４は、本発明の排ガス浄化触媒装置の構成の更に別の一例を示す概略図である。 図５は、実施例１及び比較例１～５でそれぞれ製造された排ガス浄化触媒装置の構成を示す概略図である。 図６は、実施例１、９、及び１０でそれぞれ製造された排ガス浄化触媒装置の構成を示す概略図である。 図７は、実施例１１～１６でそれぞれ製造された排ガス浄化触媒装置の構成を示す概略図である。
本発明の排ガス浄化触媒装置は、
基材と、前記基材上の触媒コート層とを有する排ガス浄化触媒装置であって、
前記触媒コート層は、排ガス流れ上流側に配置された、上流側コート層と、排ガス流れ下流側に配置された、下流側コート層とを有し、
前記上流側コート層は、前記基材上に配置された、上流側下層コート層と、前記上流側下層コート層上に配置された、上流側上層コート層とを有し、
前記下流側コート層は、前記基材上に配置された、下流側下層コート層と、前記下流側下層コート層上に配置された、下流側上層コート層とを有し、
前記上流側下層コート層、前記上流側上層コート層、前記下流側下層コート層、及び前記下流側上層コート層は、それぞれ、Ｐｔ、Ｐｄ、及びＲｈから選択される触媒貴金属を含み、
下記の（ｉ）及び（ｉｉ）を双方とも満たす、排ガス浄化触媒装置である：
（ｉ）前記上流側上層コート層及び前記下流側下層コート層中の、Ｐｔ及びＰｄから選択される１種又は２種の濃度が、いずれも、
前記上流側下層コート層中の、Ｐｔ及びＰｄから選択される１種又は２種の濃度よりも高く、かつ、
前記下流側上層コート層中の、Ｐｔ及びＰｄから選択される１種又は２種の濃度よりも高いこと；並びに、
（ｉｉ）前記上流側下層コート層及び前記下流側上層コート層中のＲｈの濃度が、いずれも、
前記上流側上層コート層中のＲｈの濃度よりも高く、かつ、
前記下流側下層コート層中のＲｈの濃度よりも高いこと。
以下に、図を参照しながら、本発明の排ガス浄化触媒装置の代表的な構成について説明する。
図１～図４は、それぞれ、本発明の排ガス浄化触媒装置の構成例を示す概略図である。
図１の排ガス浄化触媒装置（１００）は、基材（１１０）と、基材（１１０）上の触媒コート層とを有する排ガス浄化触媒装置である。排ガス浄化触媒装置（１００）の触媒コート層は、排ガス流れ上流側に配置された、上流側コート層（１２０）と、排ガス流れ下流側に配置された、下流側コート層（１３０）とを有する。
上流側コート層は、基材（１１０）上に配置された、上流側下層コート層（１２１）と、上流側下層コート層（１２１）上に配置された、上流側上層コート層（１２２）とを有する。下流側コート層は、基材（１１０）上に配置された、下流側下層コート層（１３１）と、下流側下層コート層（１３１）上に配置された、下流側上層コート層（１３２）とを有する。
これら上流側下層コート層（１２１）、上流側上層コート層（１２２）、下流側下層コート層（１３１）、及び下流側上層コート層（１３２）は、それぞれ、Ｐｔ、Ｐｄ、及びＲｈから選択される触媒貴金属を含む。
そして、排ガス浄化触媒装置（１００）は、下記の（ｉ）及び（ｉｉ）を双方とも満たす：
（ｉ）上流側上層コート層（１２２）及び下流側下層コート層（１３１）中の、Ｐｔ及びＰｄから選択される１種又は２種の濃度が、いずれも、
上流側下層コート層（１２１）中の、Ｐｔ及びＰｄから選択される１種又は２種の濃度よりも高く、かつ、
下流側上層コート層（１３２）中の、Ｐｔ及びＰｄから選択される１種又は２種の濃度よりも高いこと；並びに、
（ｉｉ）上流側下層コート層（１２１）及び下流側上層コート層（１３２）中のＲｈの濃度が、いずれも、
上流側上層コート層（１２２）中のＲｈの濃度よりも高く、かつ、
下流側下層コート層（１３１）中のＲｈの濃度よりも高いこと。
上記の（ｉ）及び（ｉｉ）の要件は、
上流側コート層では、上層がＰｔ及びＰｄから選択される１種又は２種を高濃度で含み、下層がＲｈを高濃度で含み、かつ、
下流側コート層では、上層がＲｈを高濃度で含み、下層がＰｔ及びＰｄから選択される１種又は２種を高濃度で含む
ことを示している。
図１の排ガス浄化触媒装置（１００）は、このような構成により、ホットＮＯｘの低減と、コールドＨＣの低減とを、高度に両立することができる。
すなわち、最も早く暖機される排ガス流れの上流側コート層の上層に、Ｐｔ及びＰｄから選択される１種又は２種の触媒貴金属が高濃度で含まれている。そのため、ＨＣの酸化浄化が促進されて、コールドＨＣが大幅に低減される。また、上流側コート層の下層には、Ｒｈが高濃度で含まれている。そのため、上流側コート層では、上層の触媒貴金属による酸化反応とともに、下層のＲｈによる還元反応も進行するので、三元触媒作用の全体を促進することができ、これによってコールドＨＣの低減がアシストされ、コールドＨＣを更に低減することができる。
一方の下流側コート層では、排ガスと接触し易い上層に、Ｒｈが高濃度で含まれている。これにより、ホットＮＯｘが効率的に低減される。また、下流側コート層の下層には、Ｐｔ及びＰｄから選択される１種又は２種の触媒貴金属が高濃度で含まれており、ホットＨＣの低減に資するのである。
図２に示す排ガス浄化触媒装置（２００）は、本発明の排ガス浄化触媒装置の別の構成例である。
図２の排ガス浄化触媒装置（２００）は、
基材（２１０）と、基材（２１０）上の触媒コート層とを有すること；
触媒コート層が、排ガス流れ上流側に配置された、上流側コート層（２２０）と、排ガス流れ下流側に配置された、下流側コート層（２３０）とを有すること；
上流側コート層が、基材（２１０）上に配置された、上流側下層コート層（２２１）と、上流側下層コート層（２２１）上に配置された、上流側上層コート層（２２２）とを有すること；及び
下流側コート層が、基材（２１０）上に配置された、下流側下層コート層（２３１）と、下流側下層コート層（２３１）上に配置された、下流側上層コート層（２３２）とを有すること；並びに
各コート層中に含まれる触媒貴金属の種類及び濃度の大小関係
については、図１の排ガス浄化触媒装置（１００）と同じである。
しかしながら、図２の排ガス浄化触媒装置（２００）では、上流側下層コート層（２２１）と、下流側上層コート層（２３２）とが、連結されて一体になっており、排ガス流れ方向に連続的に存在するＲｈ層（２４０）を形成している。
この排ガス浄化触媒装置（２００）でも、
上流側コート層では、上層に、Ｐｔ及びＰｄから選択される１種又は２種の触媒貴金属が含まれ、下層には、Ｒｈが高濃度で含まれ；
下流側コート層では、上層に、Ｒｈが高濃度で含まれ、下層には、Ｐｔ及びＰｄから選択される１種又は２種の触媒貴金属がＲｈが高濃度で含まれている。
したがって、図２の排ガス浄化触媒装置（２００）は、図１の排ガス浄化触媒装置（１００）と同様の機構により、コールドＨＣが大幅に低減され、三元触媒作用が促進されて、ホットＮＯｘ及びホットＨＣが低減されるのである。
図３に示す排ガス浄化触媒装置（３００）は、本発明の排ガス浄化触媒装置の更に別の構成例である。
図３の排ガス浄化触媒装置（３００）は、
基材（３１０）と、基材（３１０）上の触媒コート層とを有すること；
触媒コート層が、排ガス流れ上流側に配置された、上流側コート層（３２０）と、排ガス流れ下流側に配置された、下流側コート層（３３０）とを有すること；
上流側コート層が、基材（３１０）上に配置された、上流側下層コート層（３２１）と、上流側下層コート層（３２１）上に配置された、上流側上層コート層（３２２）とを有すること；及び
下流側コート層が、基材（３１０）上に配置された、下流側下層コート層（３３１）と、下流側下層コート層（３３１）上に配置された、下流側上層コート層（３３２）とを有すること；並びに
各コート層中に含まれる触媒貴金属の種類及び濃度の大小関係
については、図１の排ガス浄化触媒装置（１００）と同じである。
しかしながら、図３の排ガス浄化触媒装置（３００）では、上流側上層コート層（３２２）の長さと、上流側下層コート層（３２１）の長さとが異なっている。具体的には、上流側上層コート層（３２２）の長さが、上流側下層コート層（３２１）の長さよりも短くなっており、そのため、上流側下層コート層（３２１）の一部が、排ガスと直接接するように構成されている。
この排ガス浄化触媒装置（３００）でも、
上流側コート層では、上層に、Ｐｔ及びＰｄから選択される１種又は２種の触媒貴金属が含まれ、下層には、Ｒｈが高濃度で含まれ；
下流側コート層では、上層に、Ｒｈが高濃度で含まれ、下層には、Ｐｔ及びＰｄから選択される１種又は２種の触媒貴金属がＲｈが高濃度で含まれている。
したがって、図３の排ガス浄化触媒装置（３００）は、図１の排ガス浄化触媒装置（１００）と同様の機構により、コールドＨＣが大幅に低減され、三元触媒作用が促進されて、ホットＮＯｘ及びホットＨＣが低減される。
図４に示す排ガス浄化触媒装置（４００）は、本発明の排ガス浄化触媒装置の更に別の構成例である。
図４の排ガス浄化触媒装置（４００）は、
基材（４１０）と、基材（４１０）上の触媒コート層とを有すること；
触媒コート層が、排ガス流れ上流側に配置された、上流側コート層（４２０）と、排ガス流れ下流側に配置された、下流側コート層（４３０）とを有すること；
上流側コート層が、基材（４１０）上に配置された、上流側下層コート層（４２１）を有すること；及び
下流側コート層が、基材（４１０）上に配置された、下流側下層コート層（４３１）と、下流側下層コート層（４３１）上に配置された、下流側上層コート層（４３２）とを有すること
については、図１の排ガス浄化触媒装置（１００）と同じである。
しかしながら、図４の排ガス浄化触媒装置（４００）では、上流側上層コート層（４２２）が、上流側下層コート層（４２１）上に配置された、上流側上層コート層上流部（４２２（ａ））から、下流側に更に延在しており、下流側上層コート層（４３２）の上流側の一部を被覆する、上流側上層コート層下流部（４２２（ｂ））を含んでいる。
この図４の排ガス浄化触媒装置（４００）でも、各コート層中に含まれる触媒貴金属の種類及び濃度の大小関係は、図１の排ガス浄化触媒装置（１００）と同じであり、したがって、図１の排ガス浄化触媒装置（１００）と同様の機構により、コールドＨＣが大幅に低減され、三元触媒作用が促進されて、ホットＮＯｘ及びホットＨＣが低減される。
以下、本発明の排ガス浄化触媒装置を構成する各要素について、順に詳説する。
《《排ガス浄化触媒装置》》
上述したとおり、本発明の排ガス浄化触媒装置は、基材と、基材上の触媒コート層とを有する。
《基材》
本発明の排ガス浄化触媒装置における基材としては、排ガス浄化触媒装置の基材として一般に使用されているものを使用することができる。例えば、コージェライト、ＳｉＣ、ステンレス鋼、無機酸化物粒子等の材料から構成されている、例えばストレートフロー型のモノリスハニカム基材であってよい。
《触媒コート層》
触媒コート層は、基材上に存在する。詳しくは、触媒コート層は、基材において排ガス流れの上流端から下流端まで連通するセルを規格するセル壁の表面上に、セル側に突出する層として、存在していてよい。
触媒コート層は、排ガス流れ上流側に配置された、上流側コート層と、排ガス流れ下流側に配置された、下流側コート層とを有する。
〈上流側コート層〉
上流側コート層は、基材上の排ガス流れ上流側に配置されている。この上流側コート層は、上流側下層コート層と、上流側上層コート層とを有する。
上流側下層コート層は、基材上の排ガス流れ上流側において、基材上に直接配置されている。上流側上層コート層は、この上流側下層コート層上に配置されている。
〈下流側コート層〉
下流側コート層は、基材上の排ガス流れ下流側に配置されている。この下流側コート層は、下流側下層コート層と、下流側上層コート層とを有する。
下流側下層コート層は、基材上の排ガス流れ下流側において、基材上に直接配置されている。下流側上層コート層は、この下流側下層コート層上に配置されている。
（触媒コート層の長さ）
上流側コート層の長さは、コールドＨＣの低減を確実に行わせる観点から、基材長さの２０％以上、２２％以上、２５％以上、２７％以上、３０％以上、又は３２％以上であってよく、下流側コート層の三元触媒作用の発現を確保する観点から、基材長さの５０％以下、４８％以下、４５％以下、４３％以下、４０％以下、３８％以下、又は３５％以下であってよい。
上流側コート層の長さは、典型的には、基材長さの２０％以上５０％以下であってよい。
上記の上流側コート層の長さは、上流側下層コート層の長さ、及び上流側上層コート層の長さとしても、そのまま妥当する。ここで、上流側下層コート層の長さと、上流側上層コート層の長さとは、同じであってもよく、異なっていてもよい。上流側上層コート層の長さは、上流側下層コート層の長さとは独立に、基材長さの２５％以上、３０％以上、３５％以上、又は４０％以上であってよく、基材長さの７５％以下、７０％以下、６５％以下、６０％以下、５５％以下、又は５０％以下であってよい。
上流側上層コート層の長さは、典型的には、上流側下層コート層の長さとは独立に、基材長さの３０％以上６０％以下であってよい。
上流側下層コート層の長さと、上流側上層コート層の長さとが異なっている場合、本明細書における上流側コート層の長さとは、基材上で、上流側下層コート層と上流側上層コート層とが、積層して存在している部分の長さとして定義される。
また、三元触媒作用によるコールドＨＣ低減のアシスト効果を担保するため、本発明の排ガス浄化触媒装置は、排ガス流れ上流側の端部付近に、上流側上層コート層が、上流側下層コート層を介さずに、基材上に直接配置された領域を有さなくてよい。
下流側コート層の長さは、三元触媒作用の発現を確保する観点から、基材長さの５０％以上、５２％以上、５５％以上、６０％以上、６２％以上、又は６５％以上であってよく、上流側コート層によるコールドＨＣの低減を確実に行わせる観点から、基材長さの８０％以下、７８％以下、７５％以下、７３％以下、７０％以下、又は６８％以下であってよい。
下流側コート層の長さは、典型的には、基材長さの５０％以上８０％以下であってよい。
上記の下流側コート層の長さは、下流側下層コート層の長さ、及び下流側上層コート層の長さとしても、そのまま妥当する。ここで、下流側下層コート層の長さと、下流側上層コート層の長さとは、同じであってもよく、異なっていてもよい。下流側下層コート層の長さと、下流側上層コート層の長さとが異なっている場合、本明細書における下流側コート層の長さとは、基材上で、下流側下層コート層と下流側上層コート層とが、積層して存在している部分の長さとして定義される。
また、触媒貴金属としてＲｈを高濃度で含む層の配置長さを確保して、ホットＮＯｘの低減を効果的に行わせる観点から、上流側下層コート層と、下流側上層コート層との合計の長さは、基材長さの７０％以上、７５％以上、８０％以上、８５％以上、９０％以上、又は９５％以上であってよく、１００％であってもかまわない。
上述したように、上流側上層コート層の長さが上流側下層コート層の長さよりも長く、上流側上層コート層が、下流側コート層の一部を被覆している態様も、本発明の排ガス浄化触媒装置に包含される。この場合、ホットＮＯｘの効果的な低減のために、下流側コート層、特に下流側上層コート層の少なくとも一部は、上流側上層コート層に被覆されず、排ガスと直接接し得るように構成されていてよい。
この観点から、下流側上流コート層は、基材長さの３０％以上、３５％以上、４０％以上、４５％以上、又は５０％以上の範囲において、上流側上層コート層に被覆されておらずに、排ガスと直接接することができてよい。
（触媒コート層のコート量）
コールドＨＣの低減には、排ガス浄化触媒装置のうち、特に、排ガス流れ上流側の熱容量を低く設定して、昇温性を高くしておくことが望まれる。この観点から、上流側コート層のコート量は、上流側コート層形成部分の基材１Ｌ当たり、２５０ｇ／Ｌ以下、２４０ｇ／Ｌ以下、２３０ｇ／Ｌ以下、２２０ｇ／Ｌ、２１０ｇ／Ｌ以下、２００ｇ／Ｌ、１９０ｇ／Ｌ以下、又は１８０ｇ／Ｌ以下であってよい。一方で、上流側コート層によるコールドＨＣの低減効果を確保する観点から、上流側コート層のコート量は、上流側コート層形成部分の基材１Ｌ当たり、１６０ｇ／Ｌ以上、１７０ｇ／Ｌ以上、１８０ｇ／Ｌ以上、１９０ｇ／Ｌ以上、又は２００ｇ／Ｌ以上であってよい。
同様に、排ガス流れ上流側の昇温性を高くする観点から、上流側上層コート層のコート量は、上流側上層コート層形成部分の基材１Ｌ当たり、１６０ｇ／Ｌ以下、１５０ｇ／Ｌ以下、１４０ｇ／Ｌ以下、１２０ｇ／Ｌ以下、１１０ｇ／Ｌ以下、１００ｇ／Ｌ以下、又は９０ｇ／Ｌ以下であってよい。一方で、上流側上層コート層によるコールドＨＣの低減効果を確保する観点から、上流側上層コート層のコート量は、上流側上層コート層形成部分の基材１Ｌ当たり、６０ｇ／Ｌ以上、７０ｇ／Ｌ以上、８０ｇ／Ｌ以上、９０ｇ／Ｌ以上、１００ｇ／Ｌ以上、又は１１０ｇ／Ｌ以上であってよい。
更に、排ガス流れ上流側の昇温性を高くする観点から、上流側下層コート層のコート量は、上流側下層コート層形成部分の基材１Ｌ当たり、１４０ｇ／Ｌ以下、１３０ｇ／Ｌ以下、１２０ｇ／Ｌ以下、１１０ｇ／Ｌ以下、１００ｇ／Ｌ以下、又は９０ｇ／Ｌ以下であってよい。一方で、三元触媒作用によるコールドＨＣ低減のアシスト効果を担保するため、上流側下層コート層のコート量は、上流側下層コート層形成部分の基材１Ｌ当たり、６０ｇ／Ｌ以上、６５ｇ／Ｌ以上、７０ｇ／Ｌ以上、又は７５ｇ／Ｌ以上であってよい。
また、排気背圧の無用な上昇を回避しつつ、下流側コート層による三元触媒作用を確保して、ホットＨＣ及びホットＮＯｘの低減を図る観点から、下流側上層コート層のコート量は、下流側上層コート層形成部分の基材１Ｌ当たり、１２０ｇ／Ｌ以下、１１０ｇ／Ｌ以下、１００ｇ／Ｌ以下、又は９０ｇ／Ｌ以下であってよく、６０ｇ／Ｌ以上、６５ｇ／Ｌ以上、７０ｇ／Ｌ以上、７５ｇ／Ｌ以上、８０ｇ／Ｌ以上、又は８５ｇ／Ｌ以上であってよい。
同様の観点から、下流側下層コート層のコート量は、下流側下層コート層形成部分の基材１Ｌ当たり、２００ｇ／Ｌ、１９０ｇ／Ｌ以下、１８５ｇ／Ｌ以下、又は１８０ｇ／Ｌ以下であってよく、１５０ｇ／Ｌ以上、１６０ｇ／Ｌ以上、１７０ｇ／Ｌ以上、又は１７５ｇ／Ｌ以上であってよい。
〈触媒コート層の成分〉
（触媒貴金属）
上流側下層コート層、上流側上層コート層、下流側下層コート層、及び下流側上層コート層は、それぞれ、Ｐｔ、Ｐｄ、及びＲｈから選択される触媒貴金属を含み、下記の（ｉ）及び（ｉｉ）を双方とも満たす：
（ｉ）上流側上層コート層及び下流側下層コート層中の、Ｐｔ及びＰｄから選択される１種又は２種の濃度が、いずれも、
上流側下層コート層中の、Ｐｔ及びＰｄから選択される１種又は２種の濃度よりも高く、かつ、
下流側上層コート層中の、Ｐｔ及びＰｄから選択される１種又は２種の濃度よりも高いこと；並びに、
（ｉｉ）上流側下層コート層及び下流側上層コート層中のＲｈの濃度が、いずれも、
上流側上層コート層中のＲｈの濃度よりも高く、かつ、
下流側下層コート層中のＲｈの濃度よりも高いこと。
上記（ｉ）の要件は、具体的には、
上流側上層コート層及び下流側下層コート層中の、Ｐｔ及びＰｄから選択される１種又は２種の濃度が、それぞれ、
上流側下層コート層中のＰｔ及びＰｄから選択される１種又は２種の濃度、並びに下流側上層コート層中のＰｔ及びＰｄから選択される１種又は２種の濃度に対して、
２倍以上、５倍以上、１０倍以上、５０倍以上、１００倍以上、５００倍以上、若しくは１，０００倍以上であることをいい、又は、上流側下層コート層及び下流側上層コート層がＰｔ及びＰｄから選択される１種又は２種を含まず、したがって、この倍率が無限大であってもよい。
上記（ｉｉ）の要件は、具体的には、
上流側下層コート層及び下流側上層コート層中のＲｈの濃度が、それぞれ、
上流側上層コート層中のＲｈの濃度、及び下流側下層コート層中のＲｈの濃度に対して、
２倍以上、５倍以上、１０倍以上、５０倍以上、１００倍以上、５００倍以上、若しくは１，０００倍以上であることをいい、又は、上流側上層コート層及び下流側下層コート層がＲｈを含まず、したがって、この倍率が無限大であってもよい。
上述したとおり、これら（ｉ）及び（ｉｉ）の要件は、
上流側コート層では、上層がＰｔ及びＰｄから選択される１種又は２種を高濃度で含み、下層がＲｈを高濃度で含み、かつ、
下流側コート層では、上層がＲｈを高濃度で含み、下層がＰｔ及びＰｄから選択される１種又は２種を高濃度で含む
ことを意味している。
ここで、各コート層中の触媒貴金属の濃度とは、当該コート層中の触媒貴金属量の、当該コート層形成部分の基材１Ｌ当たりの質量割合（ｇ／Ｌ）をいう。
上流側上層コート層及び下流側下層コート層は、それぞれ、Ｐｔ及びＰｄから選択される１種又は２種を含んでいてよく、特にＰｄを含んでいてよい。この場合、これらのコート層は、Ｐｔを含んでいなくてよい。
上流側上層コート層及び下流側下層コート層が、それぞれ、Ｐｄを含み、かつ、Ｐｔを含まない場合、これらのコート層におけるＰｄの含有量は、それぞれ、以下のとおりであってよい。
上流側上層コート層中のＰｄ量は、上流側上層コート層形成部分の基材１Ｌ当たり、１．０ｇ／Ｌ以上、２．０ｇ／Ｌ以上、３．０ｇ／Ｌ以上、又は４．０ｇ／Ｌ以上であってよく、８．０ｇ／Ｌ以下、７．０ｇ／Ｌ以下、６．０ｇ／Ｌ以下、５．５ｇ／Ｌ以下、５．０ｇ／Ｌ以下、４．５ｇ／Ｌ以下、又は４．０ｇ／Ｌ以下であってよい。
上流側下層コート層中のＰｄ量は、上流側下層コート層形成部分の基材１Ｌ当たり、０．２５ｇ／Ｌ以上、０．５０ｇ／Ｌ以上、０．７５ｇ／Ｌ以上、又は１．００ｇ／Ｌ以上であってよく、２．００ｇ／Ｌ以下、１．７５ｇ／Ｌ以下、１．５０ｇ／Ｌ以下、１．２５ｇ／Ｌ以下、又は１．００ｇ／Ｌ以下であってよい。
上流側上層コート層による、コールドＨＣの低減を効果的に行わせ、これによってトータルのＨＣ量の低減を図るためには、上流側上層コート層及び下流側下層コート層のうちの上流側上層コート層に、Ｐｄを集中的に配置することが望ましい。一方で、下流側コート層の三元触媒作用を確保して、ホットＨＣの低減を図る必要もある。
上記の観点から、
上流側上層コート層中の、上流側上層コート層形成部分の基材１Ｌ当たりのＰｄ量は、
下流側下層コート層中の、下流側下層コート層形成部分の基材１Ｌ当たりのＰｄ量の
１．５倍以上、２．０倍以上、２．５倍以上、３．０倍以上、３．５倍以上、又は４．０倍以上であってよく、１０．０倍以下、８．０倍以下、７．０倍以下、６．０倍以下、又は５．０倍以下であってよい。
上流側上層コート層及び下流側下層コート層は、それぞれ、実質的にＲｈを含まなくてよい。これらのコート層が、実質的にＲｈを含まないとは、これらのコート層中のＲｈの量が、当該コート層形成部分の基材１Ｌ当たり、０．０２０ｇ／Ｌ以下、０．０１０ｇ／Ｌ以下、０．００５ｇ／Ｌ以下、０．００３ｇ／Ｌ以下、又は０．００１ｇ／Ｌ以下である場合をいい、Ｒｈを全く含まなくてもよい。
上流側下層コート層及び下流側上層コート層は、それぞれ、Ｒｈを含んでいてよい。
これらのコート層中のＲｈ量は、各コート層形成部分の基材１Ｌ当たりのＲｈ量として、０．０５ｇ／Ｌ以上、０．１０ｇ／Ｌ以上、０．１５ｇ／Ｌ以上、又は０．２０ｇ／Ｌ以上であってよく、０．４０ｇ／Ｌ以下、０．３５ｇ／Ｌ以下、０．３０ｇ／Ｌ以下、０．２５ｇ／Ｌ以下、又は０．２０ｇ／Ｌ以下であってよい。
上流側下層コート層中の、上流側下層コート層形成部分の基材１Ｌ当たりのＲｈ量と、
下流側上層コート層中の、下流側上層コート層形成部分の基材１Ｌ当たりのＲｈ量と
の比（重量比）は、１．０：２．０～２．０：１．０の範囲であってよく、１．０：１．５～１．５：１．０の範囲であってよく、１．０：１．２～１．２：１．０の範囲であってよい。
上流側下層コート層及び下流側上層コート層は、それぞれ、実質的にＰｔ及びＰｄを含まなくてよい。これらのコート層が、実質的にＰｔ及びＰｄを含まないとは、これらのコート層中のＰｔ及びＰｄの合計量が、当該コート層形成部分の基材１Ｌ当たり、０．０２０ｇ／Ｌ以下、０．０１０ｇ／Ｌ以下、０．００５ｇ／Ｌ以下、０．００３ｇ／Ｌ以下、又は０．００１ｇ／Ｌ以下である場合をいい、Ｐｔ及びＰｄを全く含まなくてもよい。
各コート層中の触媒貴金属は、後述する無機酸化物の１種又は２種以上に担持されていてよい。典型的には、コート層中の触媒貴金属は、微粒子として、無機酸化物粒子の１種又は２種以上に担持されていてよい。
（任意成分）
上流側下層コート層、上流側上層コート層、下流側下層コート層、及び下流側上層コート層は、それぞれ、上述の触媒貴金属以外の任意成分を含んでいてよい。これらのコート層における任意成分は、例えば、無機酸化物、助触媒、バインダー等であってよい。
－無機酸化物－
無機酸化物は、例えば、Ａｌ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｃｅ、Ｌａ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｙ等から選択される、１種、又は２種以上の元素の酸化物であってよい。無機残化物が２種以上の元素の酸化物であるとき、複数種の無機酸化物の混合物であっても、複数種の元素を含む複合酸化物であっても、これらの双方を含む形態の無機酸化物であってもよい。具体的には、例えば、アルミナ、シリカ、チタニア、シリカ－アルミナ複合酸化物、セリア、ジルコニア、セリア－ジルコニア複合酸化物（ＣＺ）等であってよい。これらの無機酸化物は、Ｃｅ以外の希土類元素（Ｌａ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｙ等）でドープされた複合酸化物であってもよい。
各コート層は、酸素貯蔵能を有する材料（ＯＳＣ材）を含んでいてよい。コート層がＯＳＣ材を含んでいると、ＯＳＣ材の雰囲気緩和能によって、リッチ時でもＨＣを触媒浄化することが可能となり、特に、ホットＨＣの低減に資する。
ＯＳＣ材は、典型的にはセリアである。セリアは、単独のセリアとして、又はセリアを含む複合酸化物の形態で、各コート層中に含まれていてよい。セリアを含む複合酸化物は、例えばＣＺであってよく、希土類元素でドープされたＣＺであってもよい。
少なくとも下流側下層コート層は、セリアを含んでいてよい。下流側下層コート層がセリアを含んでいると、下流側上層コート層中のＲｈのメタル化を阻害せずに雰囲気を緩和することができるから、下流側コート層による三元触媒作用を促進させて、ホットＨＣ及びホットＮＯｘの低減に資する。
十分な雰囲気緩和能を発揮するために、下流側下層コート層のセリアの量は、下流側下層コート層形成部分の基材１Ｌ当たり、１０ｇ／Ｌ超、２０ｇ／Ｌ以上、３０ｇ／Ｌ以上、４０ｇ／Ｌ以上、４５ｇ／Ｌ以上、５０ｇ／Ｌ以上、又は５５ｇ／Ｌ以下であってよい。一方で、基材の実効セル容量を維持し、排気背圧の無用な上昇を避けるため、下流側下層コート層のセリアの量は、下流側下層コート層形成部分の基材１Ｌ当たり、１００ｇ／Ｌ以下、９０ｇ／Ｌ以下、８０ｇ／Ｌ以下、７５ｇ／Ｌ以下、７０ｇ／Ｌ以下、又は６５ｇ／Ｌ以下であってよい。
下流側上層コート層中に存在するＲｈのメタル化を阻害しないように、下流側上層コート層中のセリアの量は、下流側上層コート層形成部分の基材１Ｌ当たり、１２ｇ／Ｌ以下、１０ｇ／Ｌ以下、９ｇ／Ｌ以下、又は８ｇ／Ｌ以下であってよい。一方で、リーン時にもＲｈの還元浄化活性を維持するために、下流側上層コート層にも一定の雰囲気緩和能を付与する目的で、下流側上層コート層中のセリアの量は、下流側上層コート層形成部分の基材１Ｌ当たり、１ｇ／Ｌ以上、２ｇ／Ｌ以上、３ｇ／Ｌ以上、４ｇ／Ｌ以上、又は５ｇ／Ｌ以上であってよい。
下流側上層コート層中に存在するＲｈのメタル化を阻害しない範囲で、下流側コート層の雰囲気緩和能を高めるために、下流側上下層の合計のセリア量は、下流側コート層形成部分の基材１Ｌ当たり、１２ｇ／Ｌ以上、２０ｇ／Ｌ以上、３０ｇ／Ｌ以上、４０ｇ／Ｌ以上、５０ｇ／Ｌ以上、５５ｇ／Ｌ以上、６０ｇ／Ｌ以上、又は６５ｇ／Ｌ以上であってよく、１１０ｇ／Ｌ以下、１００ｇ／Ｌ以下、９０ｇ／Ｌ以下、８０ｇ／Ｌ以下、７５ｇ／Ｌ以下、又は７０ｇ／Ｌ以下であってよい。
上流側下層コート層中に存在するＲｈのメタル化を阻害せず、かつ、上流側コート層の酸化活性を維持し、特にコールドエミッションの効果的な低減を図るために、上流側下層コート層中のセリアの量は、上流側下層コート層形成部分の基材１Ｌ当たり、１０ｇ／Ｌ以下、９ｇ／Ｌ以下、又は８ｇ／Ｌ以下であってよい。一方で、リーン時に、Ｒｈの還元浄化活性を発揮させるために、上流側下層コート層にも一定の雰囲気緩和能を付与する目的で上流側下層コート層中のセリアの量は、上流側下層コート層形成部分の基材１Ｌ当たり、１ｇ／Ｌ以上、２ｇ／Ｌ以上、３ｇ／Ｌ以上、４ｇ／Ｌ以上、又は５ｇ／Ｌ以上であってよい。
上流側コート層に雰囲気緩和能を付与するために、上流側上層コート層は、セリアを含んでいてもよい。しかしながら、上流側コート層の酸化活性を維持し、コールドエミッションの効果的な低減を図るために、上流側上層コート層中のセリアの量は制限されてよく、例えば、上流側上層コート層形成部分の基材１Ｌ当たり、６０ｇ／Ｌ以下、５０ｇ／Ｌ以下、４０ｇ／Ｌ以下、３０ｇ／Ｌ以下、２０ｇ／Ｌ以下、１５ｇ／Ｌ以下、１０ｇ／Ｌ以下、５ｇ／Ｌ以下、３ｇ／Ｌ以下、若しくは１ｇ／Ｌ以下であってよく、又は上流側上層コート層がセリアを含有していなくてもよい。
下流側上層コート層及び上流側下層コート層中に存在するＲｈのメタル化を阻害せず、かつ、上流側コート層の酸化活性を維持し、コールドＨＣの効果的な低減を図るために、上流側下層コート層中のセリア濃度、上流側上層コート層中のセリア濃度、及び下流側上層コート層中のセリア濃度は、それぞれ独立に、下流側下層コート層中のセリア濃度の、７０％以下、６０％以下、５０％以下、４０％以下、３０％以下、２５％以下、２０％以下、１５％以下、又は１０％以下であってよい。特に、上流側上層コート層は、これに含まれるセリアの濃度は、下流側下層コート層中のセリア濃度の、８％以下、５％以下、３％以下、１％以下、若しくは０．５％以下であってもよく、又は０％であってもよい。上記において、コート層中のセリア濃度とは、当該コート層中のセリア量の、当該コート層形成部分の基材１Ｌ当たりの質量割合をいう。
上流側コート層の酸化活性を維持し、コールドＨＣの効果的な低減を図るために、上流側コート層中のセリア濃度は、下流側コート層中のセリア濃度に対して、６５％以下、６０％以下、５０％以下、４０％以下、２５％以下、３０％以下、２０％以下、又は１５％以下であってよい。一方で、上流側コート層に必要な雰囲気酸化能を付与して、上流側コート層が三元触媒機能を介してコールドＨＣの低減に寄与できるように、上流側コート層中のセリア濃度は、下流側コート層中のセリア濃度の１％以上、３％以上、５％以上、７％以上、又は１０％以上であってよい。上記において、コート層中のセリア濃度とは、当該コート層の上下層合計のセリア量の、当該コート層形成部分の基材１Ｌ当たりの質量割合をいう。
上流側下層コート層、上流側上層コート層、下流側下層コート層、及び下流側上層コート層は、それぞれ、アルミナを含んでいてよい。アルミナは、単独のアルミナとして、又はアルミナを含む複合酸化物の形態で、各コート層中に含まれていてよい。アルミナを含む複合酸化物は、例えばシリカ－アルミナ複合酸化物であってよく、希土類元素でドープされたアルミナであってもよい。アルミナにドープされる希土類は、例えば、Ｌａ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｙ等であってよく、特にＬａであってよい。
各コート層に含まれる触媒貴金属は、上述の無機酸化物の１種又は２種以上に担持されていてよい。触媒貴金属は、典型的には、微粒子の状態で、無機酸化物の１種又は２種以上の粒子の表面上に担持されてよい。
－助触媒－
各コート層は、助触媒を含んでいてよい。
本発明の排ガス浄化触媒装置のコート層に含まれる助触媒は、例えば、アルカリ金属化合物、アルカリ土類金属化合物等であってよい。典型的には、アルカリ金属又はアルカリ土類金属の強酸塩であってよく、例えば、硫酸バリウムであってよい。
－バインダー－
本発明の排ガス浄化触媒装置のコート層に含まれるバインダーは、例えば、無機酸化物のゾルであってよく、典型的には、アルミナゾル、ジルコニアゾル、チタニアゾル等であってよい。
《《排ガス浄化触媒装置の製造方法》》
本発明の排ガス浄化装置は、公知の方法、若しくはこれに当業者による適宜の変更を加えた方法により、又はこれらを組み合わせた方法により、製造することができる。
以下、図１に示した排ガス浄化触媒装置（１００）、及び図２に示した排ガス浄化触媒装置（２００）を例にとり、その製造方法の具体例を説明する。しかしながら、本発明の排ガス浄化装置を製造する方法は、これに限定されない。
図１に示した排ガス浄化触媒装置（１００）を製造する場合、先ず、所望の排ガス浄化触媒装置（１００）の基材に対応する基材（１１０）を準備する。
次に、この基材（１１０）上に、上流側下層コート層（１２１）及び下流側下層コート層（１３１）を形成する。上流側下層コート層（１２１）及び下流側下層コート層（１３１）の形成順は、任意の順であってよい。次いで、上流側下層コート層（１２１）上に上流側上層コート層（１２２）を、下流側下層コート層（１３１）上に下流側上層コート層（１３２）を、それぞれ形成することにより、所望の排ガス浄化触媒装置（１００）が得られる。上流側上層コート層（１２２）及び下流側上層コート層（１３２）の形成順は、任意の順であってよい。
各コート層を形成するには、基材上又は下層コート層上に、各コート層形成用塗工液を所定のコート範囲にてコートし、必要に応じて乾燥した後、焼成する方法によってよい。各コート層形成用塗工液は、所定の種類及び量の触媒金属前駆体、無機酸化物、その他の任意成分を含む、例えば水分散体であってよい。触媒貴金属前駆体は、所望の触媒貴金属の硝酸塩、硫酸塩、塩化物、錯体等の中から、溶媒（例えば水）に可溶のものを適宜選択して使用してよい。
焼成は、全コート層の塗工液を塗布した後にまとめて行ってもよいし、一部のコート層の塗工液を塗布して焼成した後に、他のコート層の塗工液を塗布して焼成するというように、複数回に分けて行ってもよい。
図２に示した排ガス浄化触媒装置（２００）を製造する場合、先ず、所望の排ガス浄化触媒装置（２００）の基材に対応する基材（２１０）を準備する。
次に、この基材（２１０）上に、下流側下層コート層（２３１）を形成する。
次いで、下流側下層コート層（２３１）が形成された基材上に、Ｒｈ層（２４０）を形成する。このＲｈ層（２４０）は、排ガス流れ上流側では、基材（２１０）上に直接形成された上流側下層コート層（２２１）を構成し、排ガス流れ下流側では、下流側下層コート層（２３１）上に形成された下流側上層コート層（２３２）を構成し、これらが連結された１つのコート層である。
その後、Ｒｈ層（２４０）のうちの排ガス流れ上流側である、上流側下層コート層（２２１）上に、上流側上層コート層（２２２）を形成することにより、図２の排ガス浄化触媒装置（２００）が得られる。
各コート層の形成は、図１に示した排ガス浄化触媒装置（１００）を製造する場合と同様に、又はこれに当業者による適宜の変更を加えた方法によって、行われてよい。
以下の実施例及び比較例において、基材としては、容量約１Ｌの円柱形状のコージェライト製ストレートフロー型ハニカム基材を使用した。
塗工液の調製に用いた成分は、以下のとおりである。
Ｒｈ前駆体：塩化ロジウム
Ｐｄ前駆体：硝酸パラジウム
アルミナ：Ｌａを含む複合化Ａｌ２Ｏ３
ＯＳＣ材Ａ：Ｌａ、Ｐｒ、Ｎｄ、及びＹを含むＣＺ複合酸化物（セリア含量６０質量％）
ＯＳＣ材Ｂ：Ｌａ、Ｐｒ、Ｎｄ、及びＹを含むＣＺ複合酸化物（セリア含量２０質量％）
助触媒：硫酸バリウム
バインダー：アルミナゾル
《実施例１》
１．排ガス浄化触媒装置の製造
（１）塗工液の調製
硝酸パラジウム１．４５ｇ（金属Ｐｄ換算０．６７ｇ相当）、アルミナ４０．２０ｇ、ＯＳＣ材Ａ６７．００ｇ（セリア４０．２０ｇ相当）、硫酸バリウム６．７０ｇ、及びアルミナゾル３．３５ｇを、蒸留水中で混合し、ビーズミルで湿式粉砕することにより、下流側下層Ｐｄ層形成用塗工液を調製した。
使用した成分の種類及び量を、それぞれ、表１に記載のとおりとした他は、上記の下流側下層Ｐｄ層形成用塗工液の調製と同様の手法により、上流側下層Ｒｈ層形成用塗工液、下流側上層Ｒｈ層形成用塗工液、及び上流側上層Ｐｄ層形成用塗工液を、それぞれ、調製した。
（２）触媒コート層の形成（排ガス浄化触媒装置の製造）
基材の、排ガス流れ下流端に、上記で得られた下流側下層Ｐｄ層形成用塗工液を配置し、上流端から吸引器で吸引して、基材の下流端から基材長さの６７％の領域に、下流側下層Ｐｄ層形成用塗工液をコートした。次いで、下流側下層Ｐｄ層形成用塗工液コート後の基材の、排ガス流れ上流端に、上流側下層Ｒｈ層形成用塗工液を配置し、下流端から吸引器で吸引して、基材の上流端から基材長さの３３％の領域に、上流側下層Ｒｈ層形成用塗工液をコートした。その後、塗工後の基材を、大気中、５００℃にて２時間焼成することにより、基材上に、下流側Ｐｄ層及び上流側Ｒｈ層から成る下層を形成した。
下層形成後の基材の、排ガス流れ下流端に、上記で得られた下流側上層Ｒｈ層形成用塗工液を配置し、上流端から吸引器で吸引して、下層を有する基材の下流端から基材長さの６７％の領域に、下流側上層Ｒｈ層形成用塗工液をコートした。次いで、下流側上層Ｒｈ層形成用塗工液コート後の基材の、排ガス流れ上流端に、上流側上層Ｐｄ層形成用塗工液を配置し、下流端から吸引器で吸引して、基材の上流端から基材長さの３３％の領域に、上流側上層Ｐｄ層形成用塗工液をコートした。その後、塗工後の基材を、大気中、５００℃にて２時間焼成して、基材の下層上に、下流側Ｒｈ層及び上流側Ｐｄ層から成る上層を形成することにより、実施例１の排ガス浄化触媒装置を得た。
ここで得られた排ガス浄化触媒装置では、触媒コート層のうちの上流側ゾーン（上流端から基材長さの３３％の領域）における上層（上流側上層Ｐｄ層）のＰｄ密度（上流側上層Ｐｄ層形成部分の基材１Ｌ当たりのＰｄ量）は、４．００ｇ／Ｌ－ゾーンである。
ここで得られた排ガス浄化触媒装置の触媒コート層の構成を、図５（Ａ）に示した。
（３）排ガス浄化触媒装置の評価
上記で得られた排ガス浄化触媒装置について、リッチ及びリーンの交互条件の耐久試験により、１５万マイル走行相当の耐久処理を行った。
耐久後の排ガス浄化触媒装置を、排気量２，０００ｍＬのガソリンエンジンを搭載したＵＬＥＶ７０基準適合車両に到着し、ＦＴＰ７５走行モードにて試験を行い、Ｂａｇ１～Ｂａｇ３の各フェーズにおけるＮＭＯＧ（非メタン有機ガス）及びＮＯｘのエミッション量を測定した。
排ガス浄化触媒装置試料は、エンジン直下に搭載され、各試料の比較を容易化するため、床下触媒は搭載しなかった。
なお、Ｂａｇ１フェーズはコールドスタートフェーズを示し、Ｂａｇ２フェーズはトランジェントフェーズを示し、Ｂａｇ３フェーズはホットスタートフェーズを示す。したがって、Ｂａｇ１フェーズのＮＭＯＧエミッションは、コールドＨＣエミッションに相当し、Ｂａｇ２フェーズのＮＯｘエミッション量とＢａｇ３フェーズのＮＯｘエミッション量との合計は、ホットＮＯｘエミッションに相当する。
排ガス浄化触媒装置の評価結果を、表２に示す。
《比較例１及び２》
（１）塗工液の調製
使用した成分の種類及び量を、それぞれ、表１に記載のとおりとした他は、実施例１と同様の手法により、下層形成用塗工液及び上層形成用塗工液を、それぞれ調製した。
ここで調製した下層形成用塗工液は、
比較例１では、下層Ｐｄ層形成用塗工液であり、
比較例２では、下層Ｒｈ層形成用塗工液であり、
上層形成用塗工液は、
比較例１では、上層Ｒｈ層形成用塗工液であり、
比較例２では、上層Ｐｄ層形成用塗工液である。
（２）触媒コート層の形成（排ガス浄化触媒装置の製造）
基材の、排ガス流れ下流端に、上記で得られた下層形成用塗工液を配置し、上流端から吸引器で吸引して、基材長さの１００％の領域に、下層形成用塗工液をコートした。次いで、塗工後の基材を、大気中、５００℃にて２時間焼成することにより、基材上に、下層を形成した。
下層形成後の基材の、排ガス流れ下流端に、上記で得られた上層形成用塗工液を配置し、上流端から吸引器で吸引して、下層を有する基材の下流端から基材長さの１００％の領域に、上層形成用塗工液をコートした。次いで、塗工後の基材を、大気中、５００℃にて２時間焼成して、基材の下層上に、上層を形成することにより、比較例１及び２の排ガス浄化触媒装置を、それぞれ得た。
ここで得られた排ガス浄化触媒装置の触媒コート層の構成を、図５（Ｂ）及び図５（Ｃ）に、それぞれ示した。
（３）排ガス浄化触媒装置の評価
上記で得られた排ガス浄化触媒装置をそれぞれ用いて、実施例１と同様にして評価を行った。評価結果を、表２に示す。
《比較例３》
（１）塗工液の調製
使用した成分の種類及び量を、それぞれ、表１に記載のとおりとした他は、実施例１と同様の手法により、下下流側層Ｐｄ層形成用塗工液、上流側下層Ｐｄ層形成用塗工液、及び上層Ｒｈ層形成用塗工液を、それぞれ調製した。
（２）触媒コート層の形成（排ガス浄化触媒装置の製造）
基材の、排ガス流れ下流端に、上記で得られた下流側下層Ｐｄ層形成用塗工液を配置し、上流端から吸引器で吸引して、基材の下流端から基材長さの６７％の領域に、下流側下層Ｐｄ層形成用塗工液をコートした。次いで、下流側下層Ｐｄ層形成用塗工液コート後の基材の、排ガス流れ上流端に、上流側下層Ｐｄ層形成用塗工液を配置し、下流端から吸引器で吸引して、基材の上流端から基材長さの３３％の領域に、上流側下層Ｐｄ層形成用塗工液をコートした。その後、塗工後の基材を、大気中、５００℃にて２時間焼成することにより、基材上に、下流側Ｐｄ層及び上流側Ｐｄ層から成る下層を形成した。
下層形成後の基材の、排ガス流れ下流端に、上記で得られた上層Ｒｈ層形成用塗工液を配置し、上流端から吸引器で吸引して、下層を有する基材の下流端から基材長さの１００％の領域に、上層Ｒｈ層形成用塗工液をコートした。次いで、塗工後の基材を、大気中、５００℃にて２時間焼成して、基材の下層上に、上層Ｒｈ層を形成することにより、比較例３の排ガス浄化触媒装置を得た。
ここで得られた排ガス浄化触媒装置の触媒コート層の構成を、図５（Ｄ）に示した。
（３）排ガス浄化触媒装置の評価
上記で得られた排ガス浄化触媒装置を用いて、実施例１と同様にして評価を行った。評価結果を、表２に示す。
《比較例４》
（１）塗工液の調製
使用した成分の種類及び量を、それぞれ、表１に記載のとおりとした他は、実施例１と同様の手法により、下層Ｐｄ層形成用塗工液、下流側上層Ｒｈ層形成用塗工液、及び上流側上層Ｐｄ層形成用塗工液を、それぞれ調製した。
（２）触媒コート層の形成（排ガス浄化触媒装置の製造）
基材の、排ガス流れ下流端に、上記で得られた下層Ｐｄ層形成用塗工液を配置し、上流端から吸引器で吸引して、基材長さの１００％の領域に、下層Ｐｄ層形成用塗工液をコートした。次いで、塗工後の基材を、大気中、５００℃にて２時間焼成することにより、基材上に、Ｐｄ層である下層を形成した。
下層形成後の基材の、排ガス流れ下流端に、上記で得られた上下流側層Ｒｈ層形成用塗工液を配置し、上流端から吸引器で吸引して、下層を有する基材の下流端から基材長さの６７％の領域に、下流側上層Ｒｈ層形成用塗工液をコートした。次いで、下流側上層Ｒｈ層形成用塗工液コート後の基材の、排ガス流れ上流端に、上流側上層Ｐｄ層形成用塗工液を配置し、下流端から吸引器で吸引して、基材の上流端から基材長さの３３％の領域に、上流側上層Ｐｄ層形成用塗工液をコートした。その後、塗工後の基材を、大気中、５００℃にて２時間焼成して、基材の下層上に、下流側Ｒｈ層及び上流側Ｐｄ層から成る上層を形成することにより、比較例４の排ガス浄化触媒装置を得た。
ここで得られた排ガス浄化触媒装置の触媒コート層の構成を、図５（Ｅ）に示した。
（３）排ガス浄化触媒装置の評価
上記で得られた排ガス浄化触媒装置を用いて、実施例１と同様にして評価を行った。評価結果を、表２に示す。
《比較例５》
（１）塗工液の調製
使用した成分の種類及び量を、それぞれ、表１に記載のとおりとした他は、実施例１と同様の手法により、下層Ｐｄ層形成用塗工液、上層Ｒｈ層形成用塗工液、及び上流側最上層Ｐｄ層形成用塗工液を、それぞれ調製した。
を、それぞれ、調製した。
（２）触媒コート層の形成（排ガス浄化触媒装置の製造）
上記で得られた、下層Ｐｄ層形成用塗工液及び上層Ｒｈ層形成用塗工液を用いて、比較例１と同様の手法により、基材上に、Ｐｄ層である下層、及びＲｈ層である上層を、この順に形成した。
下層及び上層を形成した後の基材の、排ガス流れ上流端に、上流側最上層Ｐｄ層形成用塗工液を配置し、下流端から吸引器で吸引して、基材の上流端から基材長さの３３％の領域に、上流側最上層Ｐｄ層形成用塗工液をコートした。次いで、塗工後の基材を、大気中、５００℃にて２時間焼成して、基材の上層上に、上流側最上層Ｐｄ層を形成することにより、比較例５の排ガス浄化触媒装置を得た。
ここで得られた排ガス浄化触媒装置の触媒コート層の構成を、図５（Ｆ）に示した。
（３）排ガス浄化触媒装置の評価
上記で得られた排ガス浄化触媒装置を用いて、実施例１と同様にして評価を行った。評価結果を、表２に示す。
Figure 2022075041000002
Figure 2022075041000003
Figure 2022075041000004
触媒コート層が、下層のＰｄ層及び上層のＲｈ層の２層構成であり、触媒コート層の成分が基材長さの１００％にわたって均一に配置された、比較例１の排ガス浄化触媒装置では、耐久後エミッションのうち、ホットＮＯｘエミッションの低減効果は認められるが、コールドＨＣエミッションの低減が不十分であった。
また、触媒コート層が、下層のＲｈ層及び上層のＰｄ層の２層構成であり、触媒コート層の成分が基材長さの１００％にわたって均一に配置された、比較例２の排ガス浄化触媒装置では、比較例１の装置と比べて、コールドＨＣエミッションは低減されたものの、ホットＮＯｘエミッションが、大きく増大した。これは、触媒反応の反応熱によって、触媒コート層の排ガス流れ下流側が高温化して、耐熱性の低いＰｄが熱劣化したこと、及びＮＯｘの還元浄化活性を有するＲｈが下層に配置されたため、排ガスとの接触効率に劣ることとなって、反応効率が低くなったことに起因すると考えられる。
比較例３の排ガス浄化触媒装置は、比較例１の装置において、下層のＰｄ層を、排ガス流れ上流側と下流側とにゾーン化し、上流側のＰｄ濃度を高くした構成を有する。この排ガス浄化装置では、比較例１の装置のホットＮＯｘエミッションの低減効果を維持しつつ、コールドＨＣエミッションを低減することが期待された。しかしながら、比較例３の装置では、コールドＨＣエミッションを低減効果は不十分であった。下層に配置されたＰｄと、ＨＣとの反応効率が低かったためと考えられる。
比較例４の排ガス浄化触媒装置は、比較例１の装置において、上層をゾーン化し、排ガス流れ上流側にＰｄ層を配置した構成を有する。上流側にＰｄ層を配置した分、上層Ｒｈ層の長さは短くなっている。この比較例４の装置では、上流側上層にＰｄを配置したことにより、コールドＨＣエミッションは、ある程度は低減された。しかしながら、比較例１の装置と比べて、ホットＮＯｘエミッションは増大した。上層Ｒｈ層の長さが短くなったことによると考えられる。
比較例５の排ガス浄化触媒装置は、比較例１の装置において、上流側の最上層に、Ｐｄ層を追加した構成を有する。この比較例５の装置では、コールドＨＣエミッションは、ある程度低減された。しかしながら、比較例１の装置と比べて、ホットＮＯｘエミッションは増大した。これは、上流側最上層へのＰｄ層の追加配置により、触媒コート層の熱容量が増大して、昇温性が損なわれたことによると考えられる。
これらの比較例に対して、本発明所定の構成を有する実施例１の排ガス浄化触媒装置では、コールドＨＣエミッション及びホットＮＯｘエミッション双方が有意に低減された。また、これらのエミッションが低減されたことにより、ＮＭＯＧ及びＮＯｘ合計のエミッションも、大幅に低減された。
《実施例２～５》
（１）塗工液の調製
上流側上層Ｐｄ層形成用塗工液に含まれるＯＳＣ材Ａの量を表３に記載のとおりに変更した他は、実施例１と同様にして、各層形成用塗工液を調製した。
（２）触媒コート層の形成（排ガス浄化触媒装置の製造）
上記で得られた各層形成用塗工液を用いて、実施例１と同様にして、基材上に、下流側Ｐｄ層及び上流側Ｒｈ層から成る下層、並びに下流側Ｒｈ層及び上流側Ｐｄ層から成る上層を、この順に形成することにより、実施例２～５の排ガス浄化触媒装置をそれぞれ得た。
（３）排ガス浄化触媒装置の評価
上記で得られた各排ガス浄化触媒装置を用いて、実施例１と同様にして評価を行った。コールドＨＣエミッションの評価結果（Ｂａｇ１フェーズのＮＭＯＧエミッション）を、実施例１の評価結果とともに、表４に示す。
Figure 2022075041000005
Figure 2022075041000006
表３及び表４の結果からは、実施例１～５の排ガス浄化触媒装置のコールドＨＣエミッション量は、総じて低い値を示した。これらの中でも、上流側上層中のセリア濃度の、下流側下層中のセリア濃度に対する比が小さくなるほど、コールドＨＣエミッション量がより低減される傾向が見られた。特に、上流側上層中のセリア濃度の下流側下層中のセリア濃度に対する比が、０．４５を下回る実施例１～３の排ガス浄化触媒装置では、コールドＨＣエミッション量が極めて低かった。これは、上流側ゾーン、特に上流側上層Ｐｄ層中のＯＳＣ材の量が少なくなって、ＯＳＣ材による酸素吸収が制限されたため、リッチ時であってもＰｄの酸化触媒活性が、高い状態に維持されたことによると考えられる。
《実施例６～８》
（１）塗工液の調製
上流側上層Ｐｄ層形成用塗工液に含まれるアルミナの量を表５に記載のとおりに変更した他は、実施例１と同様にして、各層形成用塗工液を調製した。
（２）触媒コート層の形成（排ガス浄化触媒装置の製造）
上記で得られた各層形成用塗工液を用いて、実施例１と同様にして、基材上に、下流側Ｐｄ層及び上流側Ｒｈ層から成る下層、並びに下流側Ｒｈ層及び上流側Ｐｄ層から成る上層を、この順に形成することにより、実施例２～５の排ガス浄化触媒装置をそれぞれ得た。
（３）排ガス浄化触媒装置の評価
上記で得られた各排ガス浄化触媒装置を用いて、実施例１と同様にして評価を行った。コールドＨＣエミッションの評価結果（Ｂａｇ１フェーズのＮＭＯＧエミッション）を、実施例１の評価結果とともに、表６に示す。
Figure 2022075041000007
Figure 2022075041000008
表５及び表６の結果からは、実施例１及び６～８の排ガス浄化触媒装置のコールドＨＣエミッション量は、総じて低い値を示した。これらの中でも、上流側上層の触媒層のコート量（全固形分量）が少なくなるほど、コールドＨＣエミッション量がより低減される傾向が見られた。特に、上流側上層の触媒コート層が、１３０ｇ／Ｌ程度を下回る実施例１及び６の排ガス浄化触媒装置では、コールドＨＣエミッション量が極めて低かった。これは、上流側上層の触媒コート層のコート量が少なくなって、熱容量が下がったため、上流側上層であるＰｄ層の暖機性の点で特に有利になったことによると考えられる。
《実施例９》
（１）塗工液の調製
使用した成分の種類及び量を、それぞれ、表７に記載のとおりとした他は、実施例１と同様の手法により、下流側下層Ｐｄ層形成用塗工液、Ｒｈ層形成用塗工液、及び上流側上層Ｐｄ層形成用塗工液を、それぞれ調製した。
（２）触媒コート層の形成（排ガス浄化触媒装置の製造）
基材の、排ガス流れ下流端に、上記で得られた下流側下層Ｐｄ層形成用塗工液を配置し、上流端から吸引器で吸引して、基材の下流端から基材長さの６７％の領域に、下流側下層Ｐｄ層形成用塗工液をコートした。次いで、下流側下層Ｐｄ層形成用塗工液コート後の基材の、排ガス流れ上流端に、Ｒｈ層形成用塗工液を配置し、下流端から吸引器で吸引して、基材の上流端から基材長さの８０％の領域に、Ｒｈ層形成用塗工液をコートした。更に、下流側下層Ｐｄ層形成用塗工液及びＲｈ層形成用塗工液コート後の基材の、排ガス流れ上流端に、上流側上層Ｐｄ層形成用塗工液を配置し、下流端から吸引器で吸引して、基材の上流端から基材長さの３３％の領域に、上流側上層Ｐｄ層形成用塗工液をコートした。その後、塗工後の基材を、大気中、５００℃にて２時間焼成することにより、基材上に、下流側下層Ｐｄ層、上流端から基材長さの８０％の長さのＲｈ層、及び上流側上層Ｐｄ層をこの順に有する、実施例９の排ガス浄化触媒装置を得た。
ここで得られた排ガス浄化触媒装置の触媒コート層の構成を、図６（Ｂ）に示した。
（３）排ガス浄化触媒装置の評価
上記で得られた排ガス浄化触媒装置を用いて、実施例１と同様にして評価を行った。評価結果を、実施例１の評価結果とともに、表８に示す。
《実施例１０》
（１）塗工液の調製
実施例９と同様にして、表７に記載の各層形成用塗工液を調製した。
（２）触媒コート層の形成（排ガス浄化触媒装置の製造）
Ｒｈ層形成用塗工液の配置位置を、排ガス流れ下流端とし、次いで上流端から吸引器で吸引して、基材の下流端から基材長さの８０％の領域に、Ｒｈ層形成用塗工液をコートした他は、実施例９と同様にして、基材上に、下流側下層Ｐｄ層、下流端から基材長さの８０％の長さのＲｈ層、及び上流側上層Ｐｄ層をこの順に有する、実施例１０の排ガス浄化触媒装置を得た。
ここで得られた排ガス浄化触媒装置の触媒コート層の構成を、図６（Ｃ）に示した。
（３）排ガス浄化触媒装置の評価
上記で得られた排ガス浄化触媒装置を用いて、実施例１と同様にして評価を行った。評価結果を、実施例１の評価結果とともに、表８に示す。
Figure 2022075041000009
Figure 2022075041000010
表７及び８の結果から、以下のことが分かった。
Ｒｈ層が、基材の上流端から基材長さの８０％の領域に存在する実施例９の排ガス浄化触媒装置のエミッションは、ＮＭＯＧ及びＮＯｘ双方とも、実施例１の装置と同等であった。実施例９の排ガス浄化触媒装置は、基材の下流端から基材長さの２０％の領域にＲｈ層を有さないことから、ホットＮＯｘのエミッション量が多くなるかとも思われた。しかしながら、Ｒｈ層が、基材長さの８０％程度の長さで存在すれば、下流側にＲｈ層を有さないことの影響は小さかった。
一方、Ｒｈ層が、基材の下流端から基材長さの８０％の領域に存在する実施例１０の排ガス浄化触媒装置では、特に、コールドＨＣエミッション及びコールドＮＯｘエミッションが増加した。実施例１０の排ガス浄化触媒装置は、基材の上流端から基材長さの２０％の領域にＲｈ層を有さない。このことが、コールドＨＣエミッションの増加、及びコールドＮＯｘエミッションの増加双方に影響していると考えられる。
《実施例１１～１６》
（１）塗工液の調製
実施例１において、対応する塗工液とそれぞれ同じ組成の、下流側下層Ｐｄ層形成用塗工液、上流側下層Ｒｈ層形成用塗工液、下流側上層Ｒｈ層形成用塗工液、及び上流側上層Ｐｄ層形成用塗工液を、それぞれ、調製した。
（２）触媒コート層の形成（排ガス浄化触媒装置の製造）
上記で調製した、下流側下層Ｐｄ層形成用塗工液、及び上流側下層Ｒｈ層形成用塗工液を用いて、実施例１と同様にして、基材上に、下流側Ｐｄ層及び上流側Ｒｈ層から成る下層を形成した。更に、下流側上層Ｒｈ層形成用塗工液を用いて、実施例１と同様にして、基材の下層上に、下流側上層Ｒｈ層形成用塗工液をコートした。
下層上に下流側上層Ｒｈ層形成用塗工液をコートした後の基材の、排ガス流れ上流端に、上記で得られた上流側上層Ｐｄ層形成用塗工液を配置し、上流端から吸引器で吸引して、上流側上層Ｐｄ層形成用塗工液をコートした。このとき、基材長さに対する上流側上層Ｐｄ層形成用塗工液のコート長さ（ｄ（％））が、それぞれ、表９に記載の長さとなるように、吸引の程度を調整した。その後、塗工後の基材を、大気中、５００℃にて２時間焼成して、実施例１１～１６の排ガス浄化触媒装置を、それぞれ、得た。
ここで得られた排ガス浄化触媒装置の触媒コート層の構成を、図７（Ａ）～（Ｃ）にそれぞれ示した。
（３）排ガス浄化触媒装置の評価
上記で得られた排ガス浄化触媒装置を用いて、実施例１と同様にして評価を行った。評価結果を、実施例１の評価結果とともに、表９に示す。
表９には、上流側上層Ｐｄ層のコート長さ、及び下流側上層Ｒｈ層のうちの、上流側上層Ｐｄ層に被覆されず、排ガスと直接接し得る部分の長さを、それぞれ、基材長さに対する比（「対基材長（％）」）で、合わせて示した。
Figure 2022075041000011
表９の結果から、以下の傾向が見られた。
実施例１、及び実施例１１～１６の排ガス浄化触媒装置は、いずれも、コールドＨＣ及びホットＮｏｘの低減に優れていた。
特に、上流側上層Ｐｄ層の長さが、基材長さの３０％以上６０％以下（したがって、下流側上層Ｒｈ層のうちの、上流側上層Ｐｄ層に被覆されず、排ガスと直接接し得る部分の長さが、基材長さの４０％以上７０％以下）の実施例１、及び実施例１２～１４の場合に、コールドＨＣ及びホットＮＯｘのエミッション双方が、極めて低減された。
１００、２００、３００、４００ 排ガス浄化触媒装置
１１０、２１０、３１０、４１０ 基材
１２０、２２０、３２０、４２０ 上流側コート層
１２１、２２１、３２１、４２１ 上流側下層コート層
１２２、２２２、３２２、４２２ 上流側上層コート層
１３０、２３０、３３０、４３０ 下流側コート層
１３１、２３１、３３１、４３１ 下流側下層コート層
１３２、２３２、３３２、４３２ 下流側上層コート層
２４０ Ｒｈ層
４２２（ａ） 上流側上流コート層上流部
４２２（ｂ） 上流側上流コート層下流部
１００、２００、３００、４００ 排ガス浄化触媒装置
１１０、２１０、３１０、４１０ 基材
１２０、２２０、３２０、４２０ 上流側コート層
１２１、２２１、３２１、４２１ 上流側下層コート層
１２２、２２２、３２２、４２２ 上流側上層コート層
１３０、２３０、３３０、４３０ 下流側コート層
１３１、２３１、３３１、４３１ 下流側下層コート層
１３２、２３２、３３２、４３２ 下流側上層コート層
２４０ Ｒｈ層
４２２（ａ） 上流側上層コート層上流部
４２２（ｂ） 上流側上層コート層下流部

Claims (9)

  1. 基材と、前記基材上の触媒コート層とを有する排ガス浄化触媒装置であって、
    前記触媒コート層は、排ガス流れ上流側に配置された、上流側コート層と、排ガス流れ下流側に配置された、下流側コート層とを有し、
    前記上流側コート層は、前記基材上に配置された、上流側下層コート層と、前記上流側下層コート層上に配置された、上流側上層コート層とを有し、
    前記下流側コート層は、前記基材上に配置された、下流側下層コート層と、前記下流側下層コート層上に配置された、下流側上層コート層とを有し、
    前記上流側下層コート層、前記上流側上層コート層、前記下流側下層コート層、及び前記下流側上層コート層は、それぞれ、Ｐｔ、Ｐｄ、及びＲｈから選択される触媒貴金属を含み、
    下記の（ｉ）及び（ｉｉ）を双方とも満たす、排ガス浄化触媒装置：
    （ｉ）前記上流側上層コート層及び前記下流側下層コート層中の、Ｐｔ及びＰｄから選択される１種又は２種の濃度が、いずれも、
    前記上流側下層コート層中の、Ｐｔ及びＰｄから選択される１種又は２種の濃度よりも高く、かつ、
    前記下流側上層コート層中の、Ｐｔ及びＰｄから選択される１種又は２種の濃度よりも高いこと；並びに、
    （ｉｉ）前記上流側下層コート層及び前記下流側上層コート層中のＲｈの濃度が、いずれも、
    前記上流側上層コート層中のＲｈの濃度よりも高く、かつ、
    前記下流側下層コート層中のＲｈの濃度よりも高いこと。
  2. 少なくとも前記下流側下層コート層は、セリアを含み、
    前記上流側下層コート層中のセリア濃度、前記上流側上層コート層中のセリア濃度、及び前記下流側上層コート層中のセリア濃度が、いすれも、前記下流側下層コート層中のセリア濃度の７０％以下である、
    請求項１に記載の排ガス浄化触媒装置。
  3. 前記上流側下層コート層中のセリアの量が、前記上流側下層コート層形成部分の基材１Ｌ当たり、１０ｇ／Ｌ以下であり、
    前記下流側上層コート層中のセリアの量が、前記下流側上層コート層形成部分の基材１Ｌ当たり、１０ｇ／Ｌ以下である、
    請求項１又は２に記載の排ガス浄化触媒装置。
  4. 前記上流側上層コート層及び前記下流側下層コート層が、それぞれ、Ｐｄを含み、
    前記上流側上層コート層中の、前記上流側上層コート層形成部分の基材１Ｌ当たりのＰｄ量が、
    前記下流側下層コート層中の、前記下流側下層コート層形成部分の基材１Ｌ当たりのＰｄ量の２．０倍以上である、
    請求項１～３のいずれか一項に記載の排ガス浄化触媒装置。
  5. 前記上流側下層コート層と、前記下流側上層コート層との合計の長さが、基材長さの８０％以上である、請求項１～４のいずれか一項に記載の排ガス浄化触媒装置。
  6. 排ガス流れ上流側の端部付近に、前記上流側上層コート層が、前記上流側下層コート層を介さずに、基材上に直接配置された領域を有さない、請求項１～５のいずれか一項に記載の排ガス浄化触媒装置。
  7. 前記上流側コート層の長さが、基材長さの２０％以上５０％以下である、請求項１～６のいずれか一項に記載の排ガス浄化触媒装置。
  8. 前記上流側コート層のコート量が、前記上流側コート層形成部分の基材１Ｌ当たり、２４０ｇ／Ｌ以下である、請求項１～７のいずれか一項に記載の排ガス浄化触媒装置。
  9. 前記上流側上層コート層のコート量が、前記上流側上層コート層形成部分の基材１Ｌ当たり、１６０ｇ／Ｌ以下である、請求項１～８のいずれか一項に記載の排ガス浄化触媒装置。
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