JP2022066024A - 光学活性なヒドロキシエステル類またはヒドロキシアミド類の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】基質カルボニル化合物を高い効率で水素化し、水酸基のα、β位に不斉点を有する光学活性なヒドロキシエステル類またはヒドロキシアミド類を高いエナンチオマー純度およびジアステレオマー純度で製造する方法の提供。【解決手段】一般式：ＲｕＸＹＡＢ［ＸおよびＹは互いに同一または異なり、水素原子またはアニオン性基を示し、Ａは特定の光学活性ジホスフィンを示し、Ｂも特定の化合物を示す。］で表されるルテニウム化合物の存在下、基質カルボニル化合物を水素および／または水素を供与する化合物と反応させる。【選択図】なし
Description
特許法第３０条第２項適用申請有り 「不斉水素化触媒 ｓ－ＰＩＣＡ触媒」，関東化学株式会社，令和１年１１月１日 関東化学株式会社のウェブサイト（ｈｔｔｐｓ：／／ｐｒｏｄｕｃｔｓ．ｋａｎｔｏ．ｃｏ．ｊｐ／ｗｅｂ／ｉｎｄｅｘ．ｃｇｉ？ｃ＝ｔ＿ｐｒｏｄｕｃｔ＿ｔａｂｌｅ＆ｐｋ＝９２４），令和１年１２月１日
本発明は、光学活性なヒドロキシエステル類またはヒドロキシアミド類の製造方法に関する。
水酸基とエステル基またはアミド基が置換した両炭素原子に不斉を有する光学活性β-ヒドロキシエステル類またはヒドロキシアミド類を製造する効率的な方法として、ラセミ体のβ-ケトエステル類またはβ-ケトアミド類を不斉触媒存在下でジアステレオ選択的かつエナンチオ選択的に水素化もしくは還元する方法が知られている。例えば、ＢＩＮＡＰ等の光学活性ジホスフィンを配位子とするルテニウム錯体を触媒とする方法が知られている（非特許文献１、２、３）。しかし、これらの文献に開示されている手法は、使用する触媒量が多く、かつ高圧水素を必要とするため工業的に実施することは困難である。
また、光学活性ジホスフィンを配位子とするイリジウム錯体を触媒に用いて、添加剤としてＮａＢＡＲＦを共存させることにより、低水素圧で反応を進行させる手法が開示されている（非特許文献４）。しかし、本手法では高価なイリジウムを用いる必要があることや、α位の置換基が窒素原子であるヒドロキシエステル類に限定されるといった問題がある。
また、光学活性なリン原子と窒素原子で配位する配位子を有するイリジウム錯体を用いて、ラセミ体のβ-ケトエステル類をジアステレオ選択的かつエナンチオ選択的に水素化してエステル基と水酸基が置換した両炭素原子に不斉を有する光学活性β-ヒドロキシエステルを取得する方法が開示されている（非特許文献５，６）。しかし、これらに開示されている手法は、いずれも高価なイリジウムを必要とすることや、基質適用範囲、立体選択性及び触媒効率の観点から不十分である。
一方、α-ピコリルアミン配位子を有する不斉金属触媒を用いたケトン類の不斉還元方法としては、２－プロパノールを水素源として使用し、不斉ルテニウム錯体によるプロキラルなケトン類の不斉還元反応による光学活性アルコールの製法が報告されている。しかし、本文献中にはα-位に置換基を持つβ-ケトエステル類またはβ-ケトアミド類への適応の記載はない（特許文献１）。
以上のように、従来からラセミ体のβ-ケトエステル類あるいはβ-ケトアミド類から効率的に光学活性β-ヒドロキシエステル類あるいはβ-ヒドロキシアミド類を製造する手法の開発が望まれているが、水酸基とエステル基またはアミド基が置換した両炭素原子に不斉を有する光学活性β-ヒドロキシエステル類あるいはβ-ヒドロキシアミド類を高収率、高エナンチオマー純度、高ジアステレオマー純度で製造する例は全く報告されていない。
また、光学活性ジホスフィンを配位子とするイリジウム錯体を触媒に用いて、添加剤としてＮａＢＡＲＦを共存させることにより、低水素圧で反応を進行させる手法が開示されている（非特許文献４）。しかし、本手法では高価なイリジウムを用いる必要があることや、α位の置換基が窒素原子であるヒドロキシエステル類に限定されるといった問題がある。
また、光学活性なリン原子と窒素原子で配位する配位子を有するイリジウム錯体を用いて、ラセミ体のβ-ケトエステル類をジアステレオ選択的かつエナンチオ選択的に水素化してエステル基と水酸基が置換した両炭素原子に不斉を有する光学活性β-ヒドロキシエステルを取得する方法が開示されている（非特許文献５，６）。しかし、これらに開示されている手法は、いずれも高価なイリジウムを必要とすることや、基質適用範囲、立体選択性及び触媒効率の観点から不十分である。
一方、α-ピコリルアミン配位子を有する不斉金属触媒を用いたケトン類の不斉還元方法としては、２－プロパノールを水素源として使用し、不斉ルテニウム錯体によるプロキラルなケトン類の不斉還元反応による光学活性アルコールの製法が報告されている。しかし、本文献中にはα-位に置換基を持つβ-ケトエステル類またはβ-ケトアミド類への適応の記載はない（特許文献１）。
以上のように、従来からラセミ体のβ-ケトエステル類あるいはβ-ケトアミド類から効率的に光学活性β-ヒドロキシエステル類あるいはβ-ヒドロキシアミド類を製造する手法の開発が望まれているが、水酸基とエステル基またはアミド基が置換した両炭素原子に不斉を有する光学活性β-ヒドロキシエステル類あるいはβ-ヒドロキシアミド類を高収率、高エナンチオマー純度、高ジアステレオマー純度で製造する例は全く報告されていない。
J. Am. Chem. Soc., 111, 9134-9135 (1989)
J. Am. Chem. Soc., 126, 1626-1627 (2004)
Chem. Commun., 1296-1297 (2004)
Org. Lett., 8, 4573-4576 (2006)
Org. Lett., 18, 5592-5595 (2016)
Org. Lett., 20, 1888-1892 (2018)
本発明の目的は、特定の光学活性ジホスフィン化合物と、合成が容易なアミン化合物を配位子とするルテニウム錯体を触媒として、基質カルボニル化合物を高い効率で水素化し、水酸基のα、β位に不斉点を有する光学活性なヒドロキシエステル類またはヒドロキシアミド類を高いエナンチオマー純度およびジアステレオマー純度で製造する方法を提供することである。
本発明者らは基質カルボニル化合物の水素化反応を鋭意検討する中で、合成が容易な炭素上に不斉を有するジホスフィン化合物である光学活性ＳＫＥＷＰＨＯＳ（２，４－ビス（ジフェニルホスフィノ）ペンタン）誘導体化合物とＰＩＣＡ型配位子とをもつルテニウム錯体触媒が、カルボニル化合物の不斉水素化触媒として優れた性能を有し、これにより、水酸基のα、β位に不斉点を有する光学活性なヒドロキシエステル類またはヒドロキシアミド類が高いエナンチオマー純度およびジアステレオマー純度で生成することを見出し、本発明を完成させるに至った。
すなわち、本発明は、以下に関する。
［１］ 光学活性なヒドロキシエステル類またはヒドロキシアミド類の製造方法であって、下記一般式（１）
ＲｕＸＹＡＢ （１）
［（一般式（１）中、ＸおよびＹは互いに同一または異なり、水素原子またはアニオン性基を示し、Ａは下記一般式（２）
［１］ 光学活性なヒドロキシエステル類またはヒドロキシアミド類の製造方法であって、下記一般式（１）
ＲｕＸＹＡＢ （１）
［（一般式（１）中、ＸおよびＹは互いに同一または異なり、水素原子またはアニオン性基を示し、Ａは下記一般式（２）
Ｒ１およびＲ２は、互いに同一または異なり、置換基を有してもよい炭素数１～２０の鎖状または環状炭化水素基を示し、
Ｒ３およびＲ４は互いに同一または異なり、水素原子、または炭素数１～３の炭化水素基を示し、
Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は、互いに同一または異なり、置換基を有してもよい炭化水素基を表し、＊は不斉炭素原子を表す。）
で表される光学活性ジホスフィンを示し、
Ｂは、下記一般式（３）
Ｒ９、Ｒ１０およびＲ１１は、互いに同一または異なり、水素原子または置換基を有してもよい炭素数１～２０の鎖状もしくは環状炭化水素基を示し、および／または、Ｒ１０とＲ１１は、互いに連結して、置換基を有していてもよい飽和または不飽和の炭化水素環または複素環を形成してもよく、
各Ｒ１２は、互いに同一または異なり、置換基を有してもよい炭素数１～２０の鎖状もしくは環状炭化水素基を示し、および／または、２つのＲ１２同士が互いに連結して、置換基を有していてもよい飽和または不飽和の炭化水素環または複素環を形成してもよく、
Ｒ１２は、少なくともその一部がアニオン性基Ｘとしてルテニウムに結合してもよく、
ｎは、０～（４－（窒素原子であるＤの数））の整数である。）で表されるアミン化合物を示す。］
で表される化合物から選択される１種または２種以上のルテニウム錯体の存在下において、下記一般式（４）
で表される光学活性なヒドロキシエステル類またはヒドロキシアミド類を製造する、前記方法。
［２］ 反応系中に、下記一般式（６）
ＲｕＸＹＡ （６）
（一般式（６）中、Ｘ、ＹおよびＡは、互いに独立して一般式（１）中で定義されたとおりの意味を有する。）で表される化合物から選択される１種または２種以上の錯体と、前記一般式（３）で表される化合物から選択される１種または２種以上のアミン化合物とを存在させることにより、一般式（１）で表されるルテニウム錯体がｉｎ ｓｉｔｕで調製される、前記［１］に記載の方法。
［３］ ２つのＲ１２同士が互いに連結して、置換基を有していてもよい飽和または不飽和の炭化水素環または複素環を形成し、当該２つのＲ１２同士によって形成される環とＤを含んで構成される環とによって形成される環が、キノリン環またはイソキノリン環である、前記［１］または［２］に記載の方法。
［４］ 一般式（３）中、４つのＤのうち１以上が窒素原子である、前記［１］～［３］のいずれか１つに記載の方法。
ＲｕＸＹＡ （６）
（一般式（６）中、Ｘ、ＹおよびＡは、互いに独立して一般式（１）中で定義されたとおりの意味を有する。）で表される化合物から選択される１種または２種以上の錯体と、前記一般式（３）で表される化合物から選択される１種または２種以上のアミン化合物とを存在させることにより、一般式（１）で表されるルテニウム錯体がｉｎ ｓｉｔｕで調製される、前記［１］に記載の方法。
［３］ ２つのＲ１２同士が互いに連結して、置換基を有していてもよい飽和または不飽和の炭化水素環または複素環を形成し、当該２つのＲ１２同士によって形成される環とＤを含んで構成される環とによって形成される環が、キノリン環またはイソキノリン環である、前記［１］または［２］に記載の方法。
［４］ 一般式（３）中、４つのＤのうち１以上が窒素原子である、前記［１］～［３］のいずれか１つに記載の方法。
［５］ Ａが、２，４－ビス－（ジフェニルホスフィノ）ペンタン、２，４－ビス－（ジ－４－トリルホスフィノ）ペンタン、２，４－ビス－（ジ－３，５－キシリルホスフィノ）ペンタン、２，４－ビス－（ジ－４－ｔｅｒｔ－ブチルフェニルホスフィノ）ペンタン、２，４－ビス－（ジ－４－イソプロピルフェニルホスフィノ）ペンタン、２，４－ビス－（ジ－３，５－ジエチルフェニルホスフィノ）ペンタン、２，４－ビス－（ジ－３，５－ジイソプロピルフェニルホスフィノ）ペンタン、２，４－ビス－（ジ－３，５－ジｔｅｒｔブチルフェニルホスフィノ）ペンタン、２，４－ビス－（ジフェニルホスフィノ）－３－メチルペンタン、２，４－ビス－（ジ－４－トリルホスフィノ）－３－メチルペンタン、２，４－ビス－（ジ－３，５－キシリルホスフィノ）－３－メチルペンタン、２，４－ビス－（ジ－４－ｔｅｒｔ－ブチルフェニルホスフィノ）－３－メチルペンタン、２，４－ビス－（ジ－３，５－ジエチルフェニルホスフィノ）－３－メチルペンタン、２，４－ビス－（ジ－３，５－ジイソプロピルフェニルホスフィノ）－３－メチルペンタン、１，３－ビス－（ジフェニルホスフィノ）－１，３－ジフェニルプロパン、１，３－ビス－（ジ－４－トリルホスフィノ）－１，３－ジフェニルプロパン、１，３－ビス－（ジ－３，５－キシリルホスフィノ）－１，３－ジフェニルプロパン、１，３－ビス－（ジ－４－ｔｅｒｔ－ブチルフェニルホスフィノ）－１，３－ジフェニルプロパン、１，３－ビス－（ジ－３，５－ジエチルフェニルホスフィノ）－１，３－ジフェニルプロパン、１，３－ビス－（ジ－３，５－ジイソプロピルフェニルホスフィノ）－１，３－ジフェニルプロパン、１，３－ビス－（ジフェニルホスフィノ）－１，３－ジフェニル－２－メチルプロパン、１，３－ビス－（ジ－４－トリルホスフィノ）－１，３－ジフェニル－２－メチルプロパン、１，３－ビス－（ジ－３，５－キシリルホスフィノ）－１，３－ジフェニル－２－メチルプロパン、１，３－ビス－（ジ－４－ｔｅｒｔ－ブチルフェニルホスフィノ）－１，３－ジフェニル－２－メチルプロパン、１，３－ビス－（ジ－３，５－ジエチルフェニルホスフィノ）－１，３－ジフェニル－２－メチルプロパンまたは１，３－ビス－（ジ－３，５－ジイソプロピルフェニルホスフィノ）－１，３－ジフェニル－２－メチルプロパンである、前記［１］～［４］のいずれか１つに記載の方法。
［６］ Ａが、２，４－ビス－（ジフェニルホスフィノ）ペンタン、２，４－ビス－（ジ－４－トリルホスフィノ）ペンタン、２，４－ビス－（ジ－３，５－キシリルホスフィノ）ペンタン、２，４－ビス－（ジ－４－ｔｅｒｔ－ブチルフェニルホスフィノ）ペンタン、２，４－ビス－（ジ－４－イソプロピルフェニルホスフィノ）ペンタン、２，４－ビス－（ジ－３，５－ジエチルフェニルホスフィノ）ペンタン、２，４－ビス－（ジ－３，５－ジイソプロピルフェニルホスフィノ）ペンタン、２，４－ビス－（ジ－３，５－ジｔｅｒｔブチルフェニルホスフィノ）ペンタン、または２，４－ビス－（ジフェニルホスフィノ）－３－メチルペンタンである、前記［１］～［５］のいずれか１つに記載の方法。
［７］ Ｂが、２－ピコリルアミン、（６－（ｐ－トリル）－２－ピリジル）メタンアミン、１－（２－ピリジル）エチルアミン、２－（アミノメチル）－６－メチルピリジン、２－（アミノメチル）－３－メチルピリジン、２－（アミノメチル）－４－メチルピリジン、２－（アミノメチル）－５－メチルピリジン、２－（アミノメチル）－６－エチルピリジン、２－（アミノメチル）－３－エチルピリジン、２－（アミノメチル）－４－エチルピリジン、２－（アミノメチル）－５－エチルピリジン、２－（アミノメチル）－６－ｎ－プロピルピリジン、２－（アミノメチル）－３－ｎ－プロピルピリジン、２－（アミノメチル）－４－ｎ－プロピルピリジン、２－（アミノメチル）－５－ｎ－プロピルピリジン、２－（アミノメチル）－６－イソプロピルピリジン、２－（アミノメチル）－３－イソプロピルピリジン、２－（アミノメチル）－４－イソピロピルピリジン、２－（アミノメチル）－５－イソプロピルピリジン、２－（アミノメチル）－６－ｔｅｒｔ－ブチルピリジン、２－（アミノメチル）－３－ｔｅｒｔ－ブチルピリジン、２－（アミノメチル）－４－ｔｅｒｔ－ブチルピリジン、２－（アミノメチル）－５－ｔｅｒｔ－ブチルピリジン、２－（Ｎ－ベンジル－アミノメチル）ピリジン、２－（アミノメチル）ピロリジン、２－（アミノメチル）－１－エチルピロリジン、２－（ピロリジニルメチル）ピロリジン、２－（１－アミノ－１，１－ジフェニルメチル）ピロリジン、２－（アミノメチル）－６－フェニルピリジン、２－（アミノメチル）－３－フェニルピリジン、２－（アミノメチル）－４－フェニルピリジン、２－（アミノメチル）－５－フェニルピリジン、２－（アミノメチル）－３，４－ジメチルピリジン、２－（アミノメチル）－３，５－ジメチルピリジン、２－（アミノメチル）－３，６－ジメチルピリジン、２－（アミノメチル）－４，５－ジメチルピリジン、２－（アミノメチル）－４，６－ジメチルピリジン、２－（アミノメチル）－５，６－ジメチルピリジン、２－（アミノメチル）－３，４，５－トリメチルピリジン、２－（アミノメチル）－３，５，６－トリメチルピリジン、２－（アミノメチル）－４，５，６－トリメチルピリジン、２－（アミノメチル）－３，４，５，６－テトラメチルピリジン、２－（アミノメチル）－３，４－ジエチルピリジン、２－（アミノメチル）－３，５－ジエチルピリジン、２－（アミノメチル）－３，６－ジエチルピリジン、２－（アミノメチル）－４，５－ジエチルピリジン、２－（アミノメチル）－４，６－ジエチルピリジン、２－（アミノメチル）－５，６－ジエチルピリジン、２－（アミノメチル）－３，４－ジｎ－プロピルピリジン、２－（アミノメチル）－３，５－ジｎ－プロピルピリジン、２－（アミノメチル）－３，６－ジｎ－プロピルピリジン、２－（アミノメチル）－４，５－ジｎ－プロピルピリジン、２－（アミノメチル）－４，６－ジｎ－プロピルピリジン、２－（アミノメチル）－５，６－ジｎ－プロピルピリジン、２－（アミノメチル）－３，４－ジイソプロピルピリジン、２－（アミノメチル）－３，５－ジイソプロピルピリジン、２－（アミノメチル）－３，６－ジイソプロピルピリジン、２－（アミノメチル）－４，５－ジイソプロピルピリジン、２－（アミノメチル）－４，６－ジイソプロピルピリジン、２－（アミノメチル）－５，６－ジイソプロピルピリジン、２－（アミノメチル）－３，４－ジｎ－ブチルピリジン、２－（アミノメチル）－３，５－ジｎ－ブチルピリジン、２－（アミノメチル）－３，６－ジｎ－ブチルピリジン、２－（アミノメチル）－４，５－ジｎ－ブチルピリジン、２－（アミノメチル）－４，６－ジｎ－ブチルピリジン、２－（アミノメチル）－５，６－ジｎ－ブチルピリジン、２－（アミノメチル）－３，４－ジイソブチルピリジン、２－（アミノメチル）－３，５－ジイソブチルピリジン、２－（アミノメチル）－３，６－ジイソブチルピリジン、２－（アミノメチル）－４，５－ジイソブチルピリジン、２－（アミノメチル）－４，６－ジイソブチルピリジン、２－（アミノメチル）－５，６－ジイソブチルピリジン、２－（アミノメチル）－３，４－ジｔｅｒｔ－ブチルピリジン、２－（アミノメチル）－３，５－ジｔｅｒｔ－ブチルピリジン、２－（アミノメチル）－３，６－ジｔｅｒｔ－ブチルピリジン、２－（アミノメチル）－４，５－ジｔｅｒｔ－ブチルピリジン、２－（アミノメチル）－４，６－ジｔｅｒｔ－ブチルピリジン、２－（アミノメチル）－５，６－ジｔｅｒｔ－ブチルピリジン、２－（アミノメチル）－３，４－ジフェニルピリジン、２－（アミノメチル）－３，５－ジフェニルピリジン、２－（アミノメチル）－３，６－ジフェニルピリジン、２－（アミノメチル）－４，５－ジフェニルピリジン、２－（アミノメチル）－４，６－ジフェニルピリジン、２－（アミノメチル）－５，６－ジフェニルピリジン、２－（アミノメチル）－４－メトキシ－３，５－ジメチルピリジン、２－（アミノメチル）キノリン、１－（アミノメチル）イソキノリン、３－（アミノメチル）イソキノリン、２－（アミノメチル）ピラジン、２－（アミノメチル）ピリミジン、６－アミノメチルフェナントリジン、２－（１－アミノエチル）－３，４－ジメチルピリジン、２－（１－アミノエチル）－３，５－ジメチルピリジン、２－（１－アミノエチル）－３，６－ジメチルピリジン、２－（１－アミノエチル）－４，５－ジメチルピリジン、２－（１－アミノエチル）－４，６－ジメチルピリジン、２－（１－アミノエチル）－５，６－ジメチルピリジン、２－（１－アミノエチル）－３，４，５－トリメチルピリジン、２－（１－アミノエチル）－３，５，６－トリメチルピリジン、２－（１－アミノエチル）－４，５，６－トリメチルピリジン、２－（１－アミノエチル）－３，４，５，６－テトラメチルピリジン、２－（１－アミノエチル）－３，４－ジエチルピリジン、２－（１－アミノエチル）－３，５－ジエチルピリジン、２－（１－アミノエチル）－３，６－ジエチルピリジン、２－（１－アミノエチル）－４，５－ジエチルピリジン、２－（１－アミノエチル）－４，６－ジエチルピリジン、２－（１－アミノエチル）－５，６－ジエチルピリジン、２－（１－アミノエチル）－３，４－ジｎ－プロピルピリジン、２－（１－アミノエチル）－３，５－ジｎ－プロピルピリジン、２－（１－アミノエチル）－３，６－ジｎ－プロピルピリジン、２－（１－アミノエチル）－４，５－ジｎ－プロピルピリジン、２－（１－アミノエチル）－４，６－ジｎ－プロピルピリジン、２－（１－アミノエチル）－５，６－ジｎ－プロピルピリジン、２－（１－アミノエチル）－３，４－ジイソプロピルピリジン、２－（１－アミノエチル）－３，５－ジイソプロピルピリジン、２－（１－アミノエチル）－３，６－ジイソプロピルピリジン、２－（１－アミノエチル）－４，５－ジイソプロピルピリジン、２－（１－アミノエチル）－４，６－ジイソプロピルピリジン、２－（１－アミノエチル）－５，６－ジイソプロピルピリジン、２－（１－アミノエチル）－３，４－ジｎ－ブチルピリジン、２－（１－アミノエチル）－３，５－ジｎ－ブチルピリジン、２－（１－アミノエチル）－３，６－ジｎ－ブチルピリジン、２－（１－アミノエチル）－４，５－ジｎ－ブチルピリジン、２－（１－アミノエチル）－４，６－ジｎ－ブチルピリジン、２－（１－アミノエチル）－５，６－ジｎ－ブチルピリジン、２－（１－アミノエチル）－３，４－ジイソブチルピリジン、２－（１－アミノエチル）－３，５－ジイソブチルピリジン、２－（１－アミノエチル）－３，６－ジイソブチルピリジン、２－（１－アミノエチル）－４，５－ジイソブチルピリジン、２－（１－アミノエチル）－４，６－ジイソブチルピリジン、２－（１－アミノエチル）－５，６－ジイソブチルピリジン、２－（１－アミノエチル）－３，４－ジｔｅｒｔ－ブチルピリジン、２－（１－アミノエチル）－３，５－ジｔｅｒｔ－ブチルピリジン、２－（１－アミノエチル）－３，６－ジｔｅｒｔ－ブチルピリジン、２－（１－アミノエチル）－４，５－ジｔｅｒｔ－ブチルピリジン、２－（１－アミノエチル）－４，６－ジｔｅｒｔ－ブチルピリジン、２－（１－アミノエチル）－５，６－ジｔｅｒｔ－ブチルピリジン、２－（１－アミノエチル）－３，４－ジフェニルピリジン、２－（１－アミノエチル）－３，５－ジフェニルピリジン、２－（１－アミノエチル）－３，６－ジフェニルピリジン、２－（１－アミノエチル）－４，５－ジフェニルピリジン、２－（１－アミノエチル）－４，６－ジフェニルピリジン、２－（１－アミノエチル）－５，６－ジフェニルピリジン、２－（１－アミノエチル）キノリン、１－（１－アミノエチル）イソキノリン、３－（１－アミノエチル）イソキノリン、２－（１－アミノエチル）ピラジン、２－（１－アミノエチル）ピリミジンまたは６－（１－アミノエチル）フェナントリジンである、前記［１］～［６］のいずれか１つに記載の方法。
本発明によれば、合成が容易な炭素上に不斉を有するジホスフィン化合物である光学活性ＳＫＥＷＰＨＯＳ（２，４－ビス（ジフェニルホスフィノ）ペンタン）誘導体化合物とＰＩＣＡ型配位子とをもつルテニウム錯体触媒が、高い効率をもつ水素化触媒として作用する。これにより、従来用いられてきたルテニウム錯体では不斉水素化が効率的に進行せず、また、高価なイリジウム錯体ではエナンチオマー純度およびジアステレオマー純度が不十分であった、水酸基のα、β位に不斉点を有する光学活性なヒドロキシエステル類またはヒドロキシアミド類の製造を、高いエナンチオマー純度およびジアステレオマー純度で行うことが可能となった。
以下、本発明を、好適な実施態様に基づいて詳細に説明する。
本発明は、後述する一般式（１）で表される化合物から選択される１種または２種以上のルテニウム錯体の存在下において、後述する一般式（４）で表される基質カルボニル化合物を水素あるいは水素を供与する化合物と反応させて、後述する一般式（５）で表される光学活性なヒドロキシエステル類またはヒドロキシアミド類を製造する方法である。
以下、まず、本方法に用いられるルテニウム錯体を詳細に説明し、その後本方法の好適な態様を詳細に説明する。
本発明は、後述する一般式（１）で表される化合物から選択される１種または２種以上のルテニウム錯体の存在下において、後述する一般式（４）で表される基質カルボニル化合物を水素あるいは水素を供与する化合物と反応させて、後述する一般式（５）で表される光学活性なヒドロキシエステル類またはヒドロキシアミド類を製造する方法である。
以下、まず、本方法に用いられるルテニウム錯体を詳細に説明し、その後本方法の好適な態様を詳細に説明する。
＜ルテニウム錯体＞
本発明で用いられるルテニウム錯体は、一般式（１）
ＲｕＸＹＡＢ （１）
（式中、Ａは、下記一般式（２）
で表される光学活性ジホスフィン化合物Ａであり、Ｂは、下記一般式（３）
で表されるアミン化合物Ｂである。）
で表される。
本発明で用いられるルテニウム錯体は、一般式（１）
ＲｕＸＹＡＢ （１）
（式中、Ａは、下記一般式（２）
で表される。
上記一般式（１）中、置換基ＸおよびＹは互いに同一または異なり、水素原子またはアニオン性基を示す。
アニオン性基としては、ハロゲン原子やカルボキシル基、テトラヒドロボラートアニオン、置換フェニルアニオン基が好適であるが、その他各種アニオン性基であってもよく、例えばアルコキシ基、ヒドロキシ基等も用いることができる。ＸおよびＹは、好ましくは水素原子、ハロゲン原子、テトラヒドロボラートアニオン、トリルアニオン性基、アセトキシ基等であり、より好ましくはハロゲン原子またはトリルアニオン性基であり、特に好ましくは、塩素原子または臭素原子である。
アニオン性基としては、ハロゲン原子やカルボキシル基、テトラヒドロボラートアニオン、置換フェニルアニオン基が好適であるが、その他各種アニオン性基であってもよく、例えばアルコキシ基、ヒドロキシ基等も用いることができる。ＸおよびＹは、好ましくは水素原子、ハロゲン原子、テトラヒドロボラートアニオン、トリルアニオン性基、アセトキシ基等であり、より好ましくはハロゲン原子またはトリルアニオン性基であり、特に好ましくは、塩素原子または臭素原子である。
また上述したように、一般式（１）で表される光学活性ルテニウム錯体中の光学活性ジホスフィン化合物Ａは、下記一般式（２）で表される。
一般式（２）中、Ｒ１およびＲ２は互いに同一または異なり、置換基を有してもよい炭素数１～２０の鎖状または環状炭化水素基を示し、Ｒ３およびＲ４は互いに同一または異なり、水素または炭素数１～３の炭化水素基を示し、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は互いに同一または異なり、置換基を有してもよい炭化水素基を示し、＊は不斉炭素原子を示す。
ここでＲ１およびＲ２としては、特に限定されないが、例えば、飽和または不飽和の鎖状脂肪族炭化水素基、飽和または不飽和の単環または多環の環状脂肪族炭化水素基、単環または多環の芳香族炭化水素基およびこれらの各種炭化水素基を組み合わせた基が挙げられ、これらの炭化水素基はさらに置換基を有していてもよい。
ここでＲ１およびＲ２としては、特に限定されないが、例えば、飽和または不飽和の鎖状脂肪族炭化水素基、飽和または不飽和の単環または多環の環状脂肪族炭化水素基、単環または多環の芳香族炭化水素基およびこれらの各種炭化水素基を組み合わせた基が挙げられ、これらの炭化水素基はさらに置換基を有していてもよい。
Ｒ１およびＲ２の例としては、アルキル、アルケニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、アリール、例えばフェニルおよびナフチル、アラルキル、例えばフェニルアルキル等の炭化水素基、およびこれら炭化水素基に更にアルキル、アルケニル、シクロアルキル、アリール、アルコキシ、エステル、アシルオキシ、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基等の許容される置換基を有する炭化水素基が挙げられる。
これらのうち、Ｒ１およびＲ２は、好ましくは飽和鎖状脂肪族炭化水素基または単環の芳香族炭化水素基であり、より好ましくはメチル基、エチル基、プロピル基または置換もしくは未置換のフェニル基であり、特に好ましくはメチル基およびフェニル基である。
これらのうち、Ｒ１およびＲ２は、好ましくは飽和鎖状脂肪族炭化水素基または単環の芳香族炭化水素基であり、より好ましくはメチル基、エチル基、プロピル基または置換もしくは未置換のフェニル基であり、特に好ましくはメチル基およびフェニル基である。
Ｒ３およびＲ４は、水素原子または炭素数１～３の炭化水素基であり、好ましくは脂肪族の飽和炭化水素基である。具体的には水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基等が好ましい。
Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８としては、特に限定されないが、例えば、飽和または不飽和の鎖状脂肪族炭化水素基、飽和または不飽和の単環または多環の環状脂肪族炭化水素基、単環または多環の芳香族炭化水素基が挙げられ、これらの炭化水素基はさらに置換基を有していてもよい。
Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８の例としては、アルキル、アルケニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、アリール、例えばフェニルおよびナフチル、アラルキル、例えばフェニルアルキル等の炭化水素基およびこれらの炭化水素基に更にアルキル、アルケニル、シクロアルキル、アリール、アルコキシ、エステル、アシルオキシ、ハロゲン原子、ジアルキルアミノ基、ニトロ基、シアノ基等の許容される置換基を有する炭化水素基が挙げられる。
このうちＲ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は、好ましくは置換または未置換の単環の芳香族炭化水素基であり、より好ましくはフェニル基、および置換フェニル基であり、特に好ましくは、フェニル基、ならびにメチル基、エチル基、イソプロピル基、プロピル基およびｔｅｒｔ－ブチル基から選ばれた置換基を少なくとも１つ有する置換フェニル基である。
なお、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８の炭素数は、特に限定されないが、例えば、１～２０、好ましくは、５～１０とすることができる。
一般式（２）で表される光学活性ジホスフィンの例としては、２位および４位にジフェニルホスフィノ基を有するペンタン誘導体、２位および４位にジ－４－トリルホスフィノ基を有するペンタン誘導体、２位および４位にジ－４－ｔ－ブチルフェニルホスフィノ基を有するペンタン誘導体、２位および４位にジ－３，５－キシリルホスフィノ基を有するペンタン誘導体、２位および４位にジ－３，５－ジエチルフェニルホスフィノ基を有するペンタン誘導体、２位および４位にジ－３，５－ジイソプロピルフェニルホスフィノ基を有するペンタン誘導体、１位および３位にジフェニルホスフィノ基を有する１，３－ジフェニルプロパン誘導体、１位および３位にジ－４－トリルホスフィノ基を有する１，３－ジフェニルプロパン誘導体、１位および３位にジ－４－ｔ－ブチルフェニルホスフィノ基を有する１，３－ジフェニルプロパン誘導体、１位および３位にジ－３，５－キシリルホスフィノ基を有する１，３－ジフェニルプロパン誘導体、１位および３位にジ－３，５－ジエチルフェニルホスフィノ基を有する１，３－ジフェニルプロパン誘導体が挙げられる。
より具体的には、光学活性ジホスフィン化合物Ａは、ＳＫＥＷＰＨＯＳ：２，４－ビス－（ジフェニルホスフィノ）ペンタン、ＴｏｌＳＫＥＷＰＨＯＳ：２，４－ビス－（ジ－４－トリルホスフィノ）ペンタン、ＸｙｌＳＫＥＷＰＨＯＳ：２，４－ビス－（ジ－３，５－キシリルホスフィノ）ペンタン、４－ｔ－ＢｕＳＫＥＷＰＨＯＳ：２，４－ビス－（ジ－４－ｔｅｒｔ－ブチルフェニルホスフィノ）ペンタン、４－ｉ－ＰｒＳＫＥＷＰＨＯＳ：２，４－ビス－（ジ－４－イソプロピルフェニルホスフィノ）ペンタン、３，５－ｄｉＥｔＳＫＥＷＰＨＯＳ：２，４－ビス－（ジ－３，５－ジエチルフェニルホスフィノ）ペンタン、ＤＩＰＳＫＥＷＰＨＯＳ：２，４－ビス－（ジ－３，５－ジイソプロピルフェニルホスフィノ）ペンタン、ＤＴＢＳＫＥＷＰＨＯＳ：２，４－ビス－（ジ－３，５－ジｔｅｒｔブチルフェニルホスフィノ）ペンタン、２，４－ビス－（ジフェニルホスフィノ）－３－メチルペンタン、２，４－ビス－（ジ－４－トリルホスフィノ）－３－メチルペンタン、２，４－ビス－（ジ－３，５－キシリルホスフィノ）－３－メチルペンタン、２，４－ビス－（ジ－４－ｔｅｒｔ－ブチルフェニルホスフィノ）－３－メチルペンタン、２，４－ビス－（ジ－３，５－ジエチルフェニルホスフィノ）－３－メチルペンタン、２，４－ビス－（ジ－３，５－ジイソプロピルフェニルホスフィノ）－３－メチルペンタン、１，３－ビス－（ジフェニルホスフィノ）－１，３－ジフェニルプロパン、１，３－ビス－（ジ－４－トリルホスフィノ）－１，３－ジフェニルプロパン、１，３－ビス－（ジ－３，５－キシリルホスフィノ）－１，３－ジフェニルプロパン、１，３－ビス－（ジ－４－ｔｅｒｔ－ブチルフェニルホスフィノ）－１，３－ジフェニルプロパン、１，３－ビス－（ジ－３，５－ジエチルフェニルホスフィノ）－１，３－ジフェニルプロパン、１，３－ビス－（ジ－３，５－ジイソプロピルフェニルホスフィノ）－１，３－ジフェニルプロパン、１，３－ビス－（ジフェニルホスフィノ）－１，３－ジフェニル－２－メチルプロパン、１，３－ビス－（ジ－４－トリルホスフィノ）－１，３－ジフェニル－２－メチルプロパン、１，３－ビス－（ジ－３，５－キシリルホスフィノ）－１，３－ジフェニル－２－メチルプロパン、１，３－ビス－（ジ－４－ｔｅｒｔ－ブチルフェニルホスフィノ）－１，３－ジフェニル－２－メチルプロパン、１，３－ビス－（ジ－３，５－ジエチルフェニルホスフィノ）－１，３－ジフェニル－２－メチルプロパンまたは１，３－ビス－（ジ－３，５－ジイソプロピルフェニルホスフィノ）－１，３－ジフェニル－２－メチルプロパンである。
光学活性ジホスフィン化合物Ａは、より好ましくは、ＳＫＥＷＰＨＯＳ：２，４－ビス－（ジフェニルホスフィノ）ペンタン、ＴｏｌＳＫＥＷＰＨＯＳ：２，４－ビス－（ジ－４－トリルホスフィノ）ペンタン、ＸｙｌＳＫＥＷＰＨＯＳ：２，４－ビス－（ジ－３，５－キシリルホスフィノ）ペンタン、４－ｔ－ＢｕＳＫＥＷＰＨＯＳ：２，４－ビス－（ジ－４－ｔｅｒｔ－ブチルフェニルホスフィノ）ペンタン、４－ｉ－ＰｒＳＫＥＷＰＨＯＳ：２，４－ビス－（ジ－４－イソプロピルフェニルホスフィノ）ペンタン、３，５－ｄｉＥｔＳＫＥＷＰＨＯＳ：２，４－ビス－（ジ－３，５－ジエチルフェニルホスフィノ）ペンタン、ＤＩＰＳＫＥＷＰＨＯＳ：２，４－ビス－（ジ－３，５－ジイソプロピルフェニルホスフィノ）ペンタン、ＤＴＢＳＫＥＷＰＨＯＳ：２，４－ビス－（ジ－３，５－ジｔｅｒｔブチルフェニルホスフィノ）ペンタン、または２，４－ビス－（ジフェニルホスフィノ）－３－メチルペンタンである。
これらのうち、特にＳＫＥＷＰＨＯＳ、ＴｏｌＳＫＥＷＰＨＯＳ、３，５－ｄｉＥｔＳＫＥＷＰＨＯＳ、４－ｔ－ＢｕＳＫＥＷＰＨＯＳ、ＸｙｌＳＫＥＷＰＨＯＳ、ＤＴＢＳＫＥＷＰＨＯＳおよびＤＩＰＳＫＥＷＰＨＯＳが好適である。しかし、もちろん本発明に用いることのできる光学活性ジホスフィン化合物は、これらに何ら限定されるものではない。
また、一般式（１）で表される光学活性ルテニウム錯体中のアミン化合物Ｂとしては、下記式（３）で表される化合物を用いることができる。
一般式（３）中、
各Ｄは、独立して同一または異なり、炭素原子または窒素原子を示し、
Ｒ９、Ｒ１０およびＲ１１は、互いに同一または異なり、水素原子または置換基を有してもよい炭素数１～２０の鎖状もしくは環状炭化水素基を示し、および／または、Ｒ１０とＲ１１は、互いに連結して、置換基を有していてもよい飽和または不飽和の炭化水素環または複素環を形成してもよく、
各Ｒ１２は、互いに同一または異なり、置換基を有してもよい炭素数１～２０の鎖状もしくは環状炭化水素基を示し、および／または、２つのＲ１２同士が互いに連結して、置換基を有していてもよい飽和または不飽和の炭化水素環または複素環を形成してもよく、
Ｒ１２は、少なくともその一部がアニオン性基Ｘとしてルテニウムに結合してもよく、
ｎは、０～（４－（窒素原子であるＤの数））の整数である。
各Ｄは、独立して同一または異なり、炭素原子または窒素原子を示し、
Ｒ９、Ｒ１０およびＲ１１は、互いに同一または異なり、水素原子または置換基を有してもよい炭素数１～２０の鎖状もしくは環状炭化水素基を示し、および／または、Ｒ１０とＲ１１は、互いに連結して、置換基を有していてもよい飽和または不飽和の炭化水素環または複素環を形成してもよく、
各Ｒ１２は、互いに同一または異なり、置換基を有してもよい炭素数１～２０の鎖状もしくは環状炭化水素基を示し、および／または、２つのＲ１２同士が互いに連結して、置換基を有していてもよい飽和または不飽和の炭化水素環または複素環を形成してもよく、
Ｒ１２は、少なくともその一部がアニオン性基Ｘとしてルテニウムに結合してもよく、
ｎは、０～（４－（窒素原子であるＤの数））の整数である。
ここで、上述したように式中各Ｄは、独立して同一または異なり、窒素原子または炭素原子を示す。式中の４つのＤのすべてが炭素原子であることができ、また、４つのＤのうちの１以上が窒素原子であることもできる。
Ｄを含んで構成される環中において存在する窒素原子は、例えば、１～３、好ましくは１～２であることができる。したがって、この場合、式中の４つのＤのうち、０～２、好ましくは、０または１のＤが窒素原子であり、その余のＤが炭素原子である。
Ｄを含んで構成される環は、特に限定されないが、例えば、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、ピリダジン環、トリアジン環またはテトラジン環であることができる。中でもＤを含んで構成される環は、好ましくは、ピリジン環、ピラジン環またはピリミジン環である。
Ｄを含んで構成される環中において存在する窒素原子は、例えば、１～３、好ましくは１～２であることができる。したがって、この場合、式中の４つのＤのうち、０～２、好ましくは、０または１のＤが窒素原子であり、その余のＤが炭素原子である。
Ｄを含んで構成される環は、特に限定されないが、例えば、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、ピリダジン環、トリアジン環またはテトラジン環であることができる。中でもＤを含んで構成される環は、好ましくは、ピリジン環、ピラジン環またはピリミジン環である。
式中、Ｒ９～Ｒ１１としては、特に限定されないが、例えば、水素原子、飽和または不飽和の鎖状脂肪族炭化水素基、飽和または不飽和の単環または多環の環状脂肪族炭化水素基、単環または多環の芳香族炭化水素基が挙げられ、これらの炭化水素基はさらに置換基を有していてもよい。
Ｒ９～Ｒ１１の例としては、水素原子、アルキル、アルケニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、アリール、例えばフェニル、ナフチル、アラルキル、例えばフェニルアルキル等の炭化水素基、およびこれら炭化水素基にさらにアルキル、アルケニル、シクロアルキル、アリール、アルコキシ、エステル、アシルオキシ、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基等の許容される各種の置換基を有する炭化水素基が挙げられる。
Ｒ９～Ｒ１１の例としては、水素原子、アルキル、アルケニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、アリール、例えばフェニル、ナフチル、アラルキル、例えばフェニルアルキル等の炭化水素基、およびこれら炭化水素基にさらにアルキル、アルケニル、シクロアルキル、アリール、アルコキシ、エステル、アシルオキシ、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基等の許容される各種の置換基を有する炭化水素基が挙げられる。
上記Ｒ９は、好ましくは水素原子、アルキル基、フェニル基およびフェニルアルキル基であり、より好ましくは、水素原子、ベンジル基、特に好ましくは水素原子である。
上記のＲ１０およびＲ１１は、好ましくは水素原子、アルキル基、フェニル基、フェニルアルキル基等であり、特に好ましくはすべてが水素原子、あるいはＲ１０およびＲ１１のいずれか一つがメチル基である。
上記のＲ１０およびＲ１１は、好ましくは水素原子、アルキル基、フェニル基、フェニルアルキル基等であり、特に好ましくはすべてが水素原子、あるいはＲ１０およびＲ１１のいずれか一つがメチル基である。
また、Ｒ１０とＲ１１は、互いに連結して、置換基を有してもよい飽和または不飽和の炭化水素環または複素環を形成してもよい。このような炭化水素環としては、環員数が３～１０、好ましくは４～８のシクロアルカン環、シクロアルケン環、シクロアルキン環が挙げられる。Ｒ１０とＲ１１とが形成する環としては、より具体的には、例えばシクロプロピリデン、シクロブチリデン、シクロペンチリデン、シクロヘキシリデン、ピペリジリデンやこれらに置換基が置換されたものが挙げられる。上述した中でも、単環の炭化水素基、特にシクロペンチリデン、シクロヘキシリデンが好ましい。
また、Ｒ１２としては、特に限定されないが、例えば、飽和または不飽和の鎖状脂肪族炭化水素基、飽和または不飽和の単環または多環の環状脂肪族炭化水素基、単環または多環の芳香族炭化水素基が挙げられ、これらの炭化水素基はさらに置換基を有していてもよい。
Ｒ１２の例としては、アルキル、アルケニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、アリール、例えばフェニル、ナフチル、アラルキル、例えばフェニルアルキル等の炭化水素基、およびこれら炭化水素基にさらにアルキル、アルケニル、シクロアルキル、アリール、アルコキシ、エステル、アシルオキシ、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基等の許容される各種の置換基を有する炭化水素基が挙げられる。
上記Ｒ１２は、好ましくはアルキル基またはアリール基であり、より好ましくはメチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、置換または未置換のフェニル基、特に好ましくは、メチル基、フェニル基またはｏ－、ｍ－もしくはｐ－トリル基である。
Ｒ１２の例としては、アルキル、アルケニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、アリール、例えばフェニル、ナフチル、アラルキル、例えばフェニルアルキル等の炭化水素基、およびこれら炭化水素基にさらにアルキル、アルケニル、シクロアルキル、アリール、アルコキシ、エステル、アシルオキシ、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基等の許容される各種の置換基を有する炭化水素基が挙げられる。
上記Ｒ１２は、好ましくはアルキル基またはアリール基であり、より好ましくはメチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、置換または未置換のフェニル基、特に好ましくは、メチル基、フェニル基またはｏ－、ｍ－もしくはｐ－トリル基である。
また、２つのＲ１２同士が互いに連結して、置換基を有していてもよい飽和または不飽和の炭化水素環または複素環を形成してもよい。前記互いに連結する２つのＲ１２は、隣り合うＤに置換するＲ１２（オルト位の位置関係にあるＲ１２）または１つのＤを挟んだＤに置換するＲ１２（メタ位の位置関係にあるＲ１２）であることが好ましく、隣り合うＤに置換するＲ１２であることが好ましい
このような２つのＲ１２同士によって形成される環としては、環員数が３～１０、好ましくは４～８の飽和または不飽和の炭化水素環または複素環が挙げられ、より具体的には、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、ピリダジン環、トリアジン環、テトラジン環、イミダゾリン環、ピロール環、イミダゾール環、ピラゾール環や、これらに置換基が置換されたものが挙げられる。上述した中でも、単環の炭化水素芳香族基、特にベンゼン環が好ましい。
このような２つのＲ１２同士によって形成される環としては、環員数が３～１０、好ましくは４～８の飽和または不飽和の炭化水素環または複素環が挙げられ、より具体的には、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、ピリダジン環、トリアジン環、テトラジン環、イミダゾリン環、ピロール環、イミダゾール環、ピラゾール環や、これらに置換基が置換されたものが挙げられる。上述した中でも、単環の炭化水素芳香族基、特にベンゼン環が好ましい。
２つのＲ１２同士によって形成される環とＤを含んで構成される環とによって形成される環としては、例えば、キノリン環、イソキノリン環、プリン環、キノキサリン環、キナゾリン環、シンノリン環、フタラジン環、フェナントリジン環が挙げられ、これらのうち、キノリン環またはイソキノリン環が好ましい。
また、上述したように、式中、ｎは、０～（４－（窒素原子であるＤの数））の整数である。すなわち、窒素原子であるＤの数が０である場合、ｎは、０～４であり、窒素原子であるＤの数が１である場合、ｎは、０～３であり、窒素原子であるＤの数が２である場合、ｎは、０～２であり、窒素原子であるＤの数が３である場合、ｎは、０～１であり、窒素原子であるＤの数が４である場合、ｎは、０である。
より具体的には、アミン化合物Ｂは、例えば、ＰＩＣＡ：２－ピコリルアミン、（６－（ｐ－トリル）－２－ピリジル）メタンアミン、１－（２－ピリジル）エチルアミン、２－（アミノメチル）－６－メチルピリジン、２－（アミノメチル）－３－メチルピリジン、２－（アミノメチル）－４－メチルピリジン、２－（アミノメチル）－５－メチルピリジン、２－（アミノメチル）－６－エチルピリジン、２－（アミノメチル）－３－エチルピリジン、２－（アミノメチル）－４－エチルピリジン、２－（アミノメチル）－５－エチルピリジン、２－（アミノメチル）－６－ｎ－プロピルピリジン、２－（アミノメチル）－３－ｎ－プロピルピリジン、２－（アミノメチル）－４－ｎ－プロピルピリジン、２－（アミノメチル）－５－ｎ－プロピルピリジン、２－（アミノメチル）－６－イソプロピルピリジン、２－（アミノメチル）－３－イソプロピルピリジン、２－（アミノメチル）－４－イソピロピルピリジン、２－（アミノメチル）－５－イソプロピルピリジン、２－（アミノメチル）－６－ｔｅｒｔ－ブチルピリジン、２－（アミノメチル）－３－ｔｅｒｔ－ブチルピリジン、２－（アミノメチル）－４－ｔｅｒｔ－ブチルピリジン、２－（アミノメチル）－５－ｔｅｒｔ－ブチルピリジン、２－（Ｎ－ベンジル－アミノメチル）ピリジン、２－（アミノメチル）ピロリジン、２－（アミノメチル）－１－エチルピロリジン、２－（ピロリジニルメチル）ピロリジン、２－（１－アミノ－１，１－ジフェニルメチル）ピロリジン、２－（アミノメチル）－６－フェニルピリジン、２－（アミノメチル）－３－フェニルピリジン、２－（アミノメチル）－４－フェニルピリジン、２－（アミノメチル）－５－フェニルピリジン、３，４－ＤＭＰＩＣＡ：２－（アミノメチル）－３，４－ジメチルピリジン、３，５－ＤＭＰＩＣＡ：２－（アミノメチル）－３，５－ジメチルピリジン、２－（アミノメチル）－３，６－ジメチルピリジン、２－（アミノメチル）－４，５－ジメチルピリジン、２－（アミノメチル）－４，６－ジメチルピリジン、２－（アミノメチル）－５，６－ジメチルピリジン、２－（アミノメチル）－３，４，５－トリメチルピリジン、２－（アミノメチル）－３，５，６－トリメチルピリジン、２－（アミノメチル）－４，５，６－トリメチルピリジン、２－（アミノメチル）－３，４，５，６－テトラメチルピリジン、２－（アミノメチル）－３，４－ジエチルピリジン、２－（アミノメチル）－３，５－ジエチルピリジン、２－（アミノメチル）－３，６－ジエチルピリジン、２－（アミノメチル）－４，５－ジエチルピリジン、２－（アミノメチル）－４，６－ジエチルピリジン、２－（アミノメチル）－５，６－ジエチルピリジン、２－（アミノメチル）－３，４－ジｎ－プロピルピリジン、２－（アミノメチル）－３，５－ジｎ－プロピルピリジン、２－（アミノメチル）－３，６－ジｎ－プロピルピリジン、２－（アミノメチル）－４，５－ジｎ－プロピルピリジン、２－（アミノメチル）－４，６－ジｎ－プロピルピリジン、２－（アミノメチル）－５，６－ジｎ－プロピルピリジン、２－（アミノメチル）－３，４－ジイソプロピルピリジン、２－（アミノメチル）－３，５－ジイソプロピルピリジン、２－（アミノメチル）－３，６－ジイソプロピルピリジン、２－（アミノメチル）－４，５－ジイソプロピルピリジン、２－（アミノメチル）－４，６－ジイソプロピルピリジン、２－（アミノメチル）－５，６－ジイソプロピルピリジン、２－（アミノメチル）－３，４－ジｎ－ブチルピリジン、２－（アミノメチル）－３，５－ジｎ－ブチルピリジン、２－（アミノメチル）－３，６－ジｎ－ブチルピリジン、２－（アミノメチル）－４，５－ジｎ－ブチルピリジン、２－（アミノメチル）－４，６－ジｎ－ブチルピリジン、２－（アミノメチル）－５，６－ジｎ－ブチルピリジン、２－（アミノメチル）－３，４－ジイソブチルピリジン、２－（アミノメチル）－３，５－ジイソブチルピリジン、２－（アミノメチル）－３，６－ジイソブチルピリジン、２－（アミノメチル）－４，５－ジイソブチルピリジン、２－（アミノメチル）－４，６－ジイソブチルピリジン、２－（アミノメチル）－５，６－ジイソブチルピリジン、２－（アミノメチル）－３，４－ジｔｅｒｔ－ブチルピリジン、２－（アミノメチル）－３，５－ジｔｅｒｔ－ブチルピリジン、２－（アミノメチル）－３，６－ジｔｅｒｔ－ブチルピリジン、２－（アミノメチル）－４，５－ジｔｅｒｔ－ブチルピリジン、２－（アミノメチル）－４，６－ジｔｅｒｔ－ブチルピリジン、２－（アミノメチル）－５，６－ジｔｅｒｔ－ブチルピリジン、２－（アミノメチル）－３，４－ジフェニルピリジン、２－（アミノメチル）－３，５－ジフェニルピリジン、２－（アミノメチル）－３，６－ジフェニルピリジン、２－（アミノメチル）－４，５－ジフェニルピリジン、２－（アミノメチル）－４，６－ジフェニルピリジン、２－（アミノメチル）－５，６－ジフェニルピリジン、２－（アミノメチル）－４－メトキシ－３，５－ジメチルピリジン、２－ＡＭＱ：２－（アミノメチル）キノリン、１－ＡＭＩＱ：１－（アミノメチル）イソキノリン、３－ＡＭＩＱ：３－（アミノメチル）イソキノリン、ＡＭＰＺ：２－（アミノメチル）ピラジン、２－ＡＭＰＲ：２－（アミノメチル）ピリミジン、６－アミノメチルフェナントリジン、２－（１－アミノエチル）－３，４－ジメチルピリジン、２－（１－アミノエチル）－３，５－ジメチルピリジン、２－（１－アミノエチル）－３，６－ジメチルピリジン、２－（１－アミノエチル）－４，５－ジメチルピリジン、２－（１－アミノエチル）－４，６－ジメチルピリジン、２－（１－アミノエチル）－５，６－ジメチルピリジン、２－（１－アミノエチル）－３，４，５－トリメチルピリジン、２－（１－アミノエチル）－３，５，６－トリメチルピリジン、２－（１－アミノエチル）－４，５，６－トリメチルピリジン、２－（１－アミノエチル）－３，４，５，６－テトラメチルピリジン、２－（１－アミノエチル）－３，４－ジエチルピリジン、２－（１－アミノエチル）－３，５－ジエチルピリジン、２－（１－アミノエチル）－３，６－ジエチルピリジン、２－（１－アミノエチル）－４，５－ジエチルピリジン、２－（１－アミノエチル）－４，６－ジエチルピリジン、２－（１－アミノエチル）－５，６－ジエチルピリジン、２－（１－アミノエチル）－３，４－ジｎ－プロピルピリジン、２－（１－アミノエチル）－３，５－ジｎ－プロピルピリジン、２－（１－アミノエチル）－３，６－ジｎ－プロピルピリジン、２－（１－アミノエチル）－４，５－ジｎ－プロピルピリジン、２－（１－アミノエチル）－４，６－ジｎ－プロピルピリジン、２－（１－アミノエチル）－５，６－ジｎ－プロピルピリジン、２－（１－アミノエチル）－３，４－ジイソプロピルピリジン、２－（１－アミノエチル）－３，５－ジイソプロピルピリジン、２－（１－アミノエチル）－３，６－ジイソプロピルピリジン、２－（１－アミノエチル）－４，５－ジイソプロピルピリジン、２－（１－アミノエチル）－４，６－ジイソプロピルピリジン、２－（１－アミノエチル）－５，６－ジイソプロピルピリジン、２－（１－アミノエチル）－３，４－ジｎ－ブチルピリジン、２－（１－アミノエチル）－３，５－ジｎ－ブチルピリジン、２－（１－アミノエチル）－３，６－ジｎ－ブチルピリジン、２－（１－アミノエチル）－４，５－ジｎ－ブチルピリジン、２－（１－アミノエチル）－４，６－ジｎ－ブチルピリジン、２－（１－アミノエチル）－５，６－ジｎ－ブチルピリジン、２－（１－アミノエチル）－３，４－ジイソブチルピリジン、２－（１－アミノエチル）－３，５－ジイソブチルピリジン、２－（１－アミノエチル）－３，６－ジイソブチルピリジン、２－（１－アミノエチル）－４，５－ジイソブチルピリジン、２－（１－アミノエチル）－４，６－ジイソブチルピリジン、２－（１－アミノエチル）－５，６－ジイソブチルピリジン、２－（１－アミノエチル）－３，４－ジｔｅｒｔ－ブチルピリジン、２－（１－アミノエチル）－３，５－ジｔｅｒｔ－ブチルピリジン、２－（１－アミノエチル）－３，６－ジｔｅｒｔ－ブチルピリジン、２－（１－アミノエチル）－４，５－ジｔｅｒｔ－ブチルピリジン、２－（１－アミノエチル）－４，６－ジｔｅｒｔ－ブチルピリジン、２－（１－アミノエチル）－５，６－ジｔｅｒｔ－ブチルピリジン、２－（１－アミノエチル）－３，４－ジフェニルピリジン、２－（１－アミノエチル）－３，５－ジフェニルピリジン、２－（１－アミノエチル）－３，６－ジフェニルピリジン、２－（１－アミノエチル）－４，５－ジフェニルピリジン、２－（１－アミノエチル）－４，６－ジフェニルピリジン、２－（１－アミノエチル）－５，６－ジフェニルピリジン、２－（１－アミノエチル）キノリン、１－（１－アミノエチル）イソキノリン、３－（１－アミノエチル）イソキノリン、２－（１－アミノエチル）ピラジン、２－（１－アミノエチル）ピリミジンまたは６－（１－アミノエチル）フェナントリジンであることが好ましい。これらのうち特にＰＩＣＡ、２－ＡＭＱ、１－ＡＭＩＱ、３－ＡＭＩＱ、３，４－ＤＭＰＩＣＡ、３，５－ＤＭＰＩＣＡ、ＡＭＰＺ、２－ＡＭＰＲが好適である。
以上説明した一般式（１）で表されるルテニウム錯体は、アミン配位子として、一般式（３）で表される、含窒素環上に複数の置換基を有するか、または含窒素環が複数の窒素原子を含んで構成されるアミン化合物Ｂを有する。このようなアミン化合物Ｂと、一般式（２）で表される光学活性ジホスフィン化合物Ａとを有するルテニウム錯体を用いて基質カルボニル化合物を水素化した場合、従来知られているアキラルな配位子をもつルテニウム錯体を用いた場合と比較して、遥かに高いエナンチオマー純度およびジアステレオマー純度で水酸基のα、β位に不斉点を有する光学活性なヒドロキシエステル類またはヒドロキシアミド類を得ることができる。
なお、本発明で用いる一般式（１）で表されるルテニウム錯体は、基質カルボニル化合物を塩基存在下で水素と反応させる際に、その反応系中（ｉｎ ｓｉｔｕ）で調製してもよい。その方法に制限はないが、一例としては、反応系中に、前駆体である下記一般式（６）
ＲｕＸＹＡ （６）
［一般式（６）中、Ｘ、ＹおよびＡは、互いに独立して一般式（１）中で定義されたとおりの意味を有する。]で表される化合物から選択される１種または２種以上の錯体と、前記一般式（３）で表される化合物から選択される１種または２種以上のアミン化合物とを存在させることにより、一般式（１）で表されるルテニウム錯体をｉｎ ｓｉｔｕで調製することができる。
ＲｕＸＹＡ （６）
［一般式（６）中、Ｘ、ＹおよびＡは、互いに独立して一般式（１）中で定義されたとおりの意味を有する。]で表される化合物から選択される１種または２種以上の錯体と、前記一般式（３）で表される化合物から選択される１種または２種以上のアミン化合物とを存在させることにより、一般式（１）で表されるルテニウム錯体をｉｎ ｓｉｔｕで調製することができる。
一般式（６）で表される錯体と、一般式（３）で表されるアミン化合物とは、一般式（６）で表される錯体と、一般式（３）で表されるアミン化合物が反応し、一般式（１）で表される触媒前駆体を生成することから、一般式（６）で表される錯体と、一般式（３）で表されるアミン化合物のモル比は特に制限はないが、一般式（６）で表される錯体に比べ、一般式（３）で表されるアミン化合物が少ない場合は、一般式（６）で表される錯体が一般式（１）で表される触媒前駆体に変化せずに残存するため、反応の経済性の観点から不利である。よって一般式（６）で表される錯体と、一般式（３）で表されるアミン化合物とは、好ましくは１：１～１：５０のモル比で、さらに好ましくは１：１～１：２０のモル比で、基質カルボニル化合物を水素および／または水素を供与する化合物と反応させる容器に仕込むことができる。一般式（６）で表される錯体に比べ、一般式（３）で表されるアミン化合物が少ない場合においても、反応性が低下する点を除けば、問題なく使用することができる。
また、一般式（１）および一般式（６）で示されるルテニウム錯体は、その合成に用いられた反応試剤である有機化合物を１ないし複数個含む場合がある。ここで、有機化合物は配位性の有機溶媒を示し、例えば、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素溶媒、ペンタン、ヘキサンなどの脂肪族炭化水素溶媒、塩化メチレンなどのハロゲン含有炭化水素溶媒、エーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒、メタノール、エタノール、２－プロパノール、ブタノール、ｔｅｒｔ－ブチルアルコール、ベンジルアルコールなどのアルコール系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン、シクロへキシルケトンなどのケトン系溶媒、アセトニトリル、ＤＭＦ、Ｎ－メチルピロリドン、ＤＭＳＯ、トリエチルアミンなどヘテロ原子を含む有機溶剤などが例示される。
一般式（１）で表されるルテニウム錯体の合成は、一例として一般式（６）で表される光学活性ルテニウム錯体と、アミン化合物、あるいは、光学活性アミン化合物と反応させることにより行うことができる。一般式（６）で表される光学活性ルテニウム錯体の合成は、光学活性ジホスフィン化合物と、原料であるルテニウム錯体と反応させることにより行うことができる。一般式（１）で表される錯体は、前述のように予め調製したものを用いても良く、水素化反応の系中で調製したものを用いてもよい。一般式（１）で表されるルテニウム錯体の調製法としては、用いる原料の構造を含めて現在までに報告された何れの方法でも用いることができ、特に制限はないが、その実施態様の一つを以下に示す。
錯体合成のための出発物質であるルテニウム錯体には、０価、１価、２価、３価及びさらに高原子価のルテニウム錯体を用いることができる。０価、および１価のルテニウム錯体を用いた場合には、最終段階までにルテニウムの酸化が必要である。２価の錯体を用いた場合には、ルテニウム錯体と光学活性ジホスフィン化合物、及び、光学活性ジアミン化合物を順次もしくは逆の順で、または、同時に反応することで合成できる。３価、及び４価以上のルテニウム錯体を出発原料に用いた場合には、最終段階までに、ルテニウムの還元が必要である。
出発原料となるルテニウム錯体としては、塩化ルテニウム（ＩＩＩ）水和物、臭化ルテニウム（ＩＩＩ）水和物、沃化ルテニウム（ＩＩＩ）水和物等の無機ルテニウム化合物、［２塩化ルテニウム（ノルボルナジエン）］多核体、［２塩化ルテニウム（シクロオクタ－１，５－ジエン）］多核体、ビス（メチルアリル）ルテニウム（シクロオクタ－１，５ジエン）等のジエンが配位したルテニウム化合物、［２塩化ルテニウム（ベンゼン）］多核体、［２塩化ルテニウム（ｐ－シメン）］多核体、［２塩化ルテニウム（トリメチルベンゼン）］多核体、［２塩化ルテニウム（ヘキサメチルベンゼン）］多核体、等の芳香族化合物が配位したルテニウム錯体、また、ジクロロトリス（トリフェニルホスフィン）ルテニウム等のホスフィンが配位した錯体等が用いられる。その他、光学活性ジホスフィン化合物、光学活性ジアミン化合物と置換可能な配位子を有するルテニウム錯体であれば、特に、上記に限定されるものではない。例えば、ＣＯＭＰＲＥＨＥＮＳＩＶＥＯＲＧＡＮＯＭＥＴＡＬＬＩＣ ＣＨＥＭＩＳＴＲＹ ＩＩ ７巻 ｐ２９４－２９６（ＰＥＲＧＡＭＯＮ）に示された、種々のルテニウム錯体を出発原料として用いることができる。
３価のルテニウム錯体を出発原料として用いる場合には、例えば、ハロゲン化ルテニウム（ＩＩＩ）を過剰のホスフィンと反応することにより、ホスフィン－ルテニウムハライド錯体を合成することができる。次いで得られたホスフィン－ルテニウムハライド錯体を、アミンと反応することにより、目的とする一般式（１）で表されるアミン－ホスフィン－ルテニウムハライド錯体を得ることができる。例えば、この合成については、文献［Ｊ．Ｍｏｌ．Ｃａｔ．，１５， ２９７（１９８２）］などに記述がある。
すなわち、Ｉｎｏｒｇ，Ｓｙｎｔｈ．， ｖｏｌ １２， ２３７（１９７０）などに記載の方法により合成されたＲｕＣｌ２（ＰＰｈ３）３をベンゼン中、エチレンジアミンと反応させて、 ＲｕＣｌ２（ＰＰｈ３）２（ｅｎ）が得られている（ただし収率の記載がない）。ただ、この方法では、反応が不均一系であり、未反応の原料が残存する傾向が見られる。一方、反応溶媒を塩化メチレン、クロロホルム等の溶媒に変更する場合には、反応を均一状態で行うことができ、操作性が向上する。
すなわち、Ｉｎｏｒｇ，Ｓｙｎｔｈ．， ｖｏｌ １２， ２３７（１９７０）などに記載の方法により合成されたＲｕＣｌ２（ＰＰｈ３）３をベンゼン中、エチレンジアミンと反応させて、 ＲｕＣｌ２（ＰＰｈ３）２（ｅｎ）が得られている（ただし収率の記載がない）。ただ、この方法では、反応が不均一系であり、未反応の原料が残存する傾向が見られる。一方、反応溶媒を塩化メチレン、クロロホルム等の溶媒に変更する場合には、反応を均一状態で行うことができ、操作性が向上する。
ハロゲン化ルテニウムとホスフィン配位子との反応は、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素溶媒、ペンタン、ヘキサンなどの脂肪族炭化水素溶媒、塩化メチレンなどのハロゲン含有炭化水素溶媒、エーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒、メタノール、エタノール、２－プロパノール、ブタノール、ｔｅｒｔ－ブチルアルコール、ベンジルアルコールなどのアルコール系溶媒、アセトニトリル、ＤＭＦ、Ｎ－メチルピロリドン、ＤＭＳＯなどヘテロ原子を含む有機溶剤中、反応温度－１００℃から２００℃の間で行われ、一般式（６）で表されるホスフィン－ルテニウムハライド錯体を得ることができる。
得られた、一般式（６）で表されるホスフィン－ルテニウムハライド錯体と一般式（３）で表されるアミン配位子との反応は、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素溶媒、ペンタン、ヘキサンなどの脂肪族炭化水素溶媒、塩化メチレンなどのハロゲン含有炭化水素溶媒、エーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒、メタノール、エタノール、２－プロパノール、ブタノール、ｔｅｒｔ－ブチルアルコール、ベンジルアルコールなどのアルコール系溶媒、アセトニトリル、ＤＭＦ、Ｎ－メチルピロリドン、ＤＭＳＯなどヘテロ原子を含む有機溶剤中、反応温度－１００℃から２００℃の間で行われ、一般式（１）で表されるアミン－ホスフィン－ルテニウムハライド錯体を得ることができる。
一方、最初から二価のルテニウム錯体を用い、これと、ホスフィン化合物、アミン化合物を順次、もしくは逆の順で、または同時に、反応する方法も用いられる。一例として、［２塩化ルテニウム（ノルボルナジエン）］多核体、［２塩化ルテニウム（シクロオク－１，５－タジエン）］多核体、ビス（メチルアリル）ルテニウム（シクロオクタジエン）等のジエンが配位したルテニウム化合物、または、［２塩化ルテニウム（ベンゼン）］ニ核体、［２塩化ルテニウム（ｐ－シメン）］ニ核体、［２塩化ルテニウム（トリメチルベンゼン）］ニ核体、［２塩化ルテニウム（ヘキサメチルベンゼン）］ニ核体等の芳香族化合物が配位したルテニウム錯体、また、ジクロロトリス（トリフェニルホスフィン）ルテニウム等のホスフィンが配位した錯体を、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素溶媒、ペンタン、ヘキサンなどの脂肪族炭化水素溶媒、塩化メチレンなどのハロゲン含有炭化水素溶媒、エーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒、メタノール、エタノール、２－プロパノール、ブタノール、ｔｅｒｔ－ブチルアルコール、ベンジルアルコールなどのアルコール系溶媒、アセトニトリル、ＤＭＦ、Ｎ－メチルピロリドン、ＤＭＳＯなどヘテロ原子を含む有機溶剤中、反応温度－１００℃から２００℃の間で、ホスフィン化合物と反応し、一般式（６）で表されるホスフィン－ルテニウム－ハライド錯体、またはホスフィン－ルテニウム－メチルアリル錯体を得ることができる。ホスフィン－ルテニウム－メチルアリル錯体はハロゲン化水素との反応によりホスフィン－ルテニウム－ハライド錯体を得ることができる。
得られた一般式（６）で表されるホスフィン－ルテニウムハライド錯体とジアミン化合物の反応は、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素溶媒、ペンタン、ヘキサンなどの脂肪族炭化水素溶媒、塩化メチレンなどのハロゲン含有炭化水素溶媒、エーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒、メタノール、エタノール、２－プロパンノール、ブタノール、ｔｅｒｔ－ブチルアルコール、ベンジルアルコールなどのアルコール系溶媒、アセトニトリル、ＤＭＦ、Ｎ－メチルピロリドン、ＤＭＳＯなどヘテロ原子を含む有機溶媒中、反応温度－１００℃から２００℃の間で、アミン配位子と反応し、アミン－ホスフィン－ルテニウム錯体を得ることができる。また、同様の条件で、［クロロルテニウム（ＢＩＮＡＰ）（ベンゼン）］クロライドなどのカチオン性ルテニウム錯体をアミン配位子と反応させて、一般式（１）で表されるアミン－ホスフィン－ルテニウムハライド錯体を得ることができる。
一般式（３）で表されるジアミン化合物に結合した環状炭化水素基がアニオン性基Ｘとしてルテニウムに結合した錯体の合成方法としては、文献［Ｏｒｇａｎｏｍｅｔａｌｌｉｃｓ， ２９， ３５６３（２０１０）］などに記載の方法によって合成できる。すなわち上記アミン－ホスフィン－ルテニウムハライド錯体合成法と同様に、一般式（６）で表される、ホスフィン－ルテニウムハライド錯体に対してアミン配位子を添加してアミン－ホスフィン－ルテニウムハライド錯体を合成した後、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素溶媒、ペンタン、ヘキサンなどの脂肪族炭化水素溶媒、塩化メチレンなどのハロゲン含有炭化水素溶媒、エーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒、メタノール、エタノール、２－プロパンノール、ブタノール、ｔｅｒｔ－ブチルアルコール、ベンジルアルコールなどのアルコール系溶媒、アセトニトリル、ＤＭＦ、Ｎ－メチルピロリドン、ＤＭＳＯなどヘテロ原子を含む有機溶媒中、トリエチルアミンなどの塩基を温度－１００℃から２００℃の間で反応する。あるいは一般式（６）で表される、ホスフィン－ルテニウムハライド錯体とアミン配位子を上記溶媒中、トリエチルアミンなどの塩基存在下、温度－１００℃から２００℃の間で反応することで合成できる。
また、合成した一般式（１）で表される、アミン－ホスフィン－ルテニウムハライド錯体は、いくつかの配位様式の異なる錯体の混合物となる場合があるが、精製して単一構造の錯体を取得することなく、直接水素化反応に使用することができる。
＜基質カルボニル化合物＞
本発明で用いられる基質カルボニル化合物は、一般式（４）
本発明で用いられる基質カルボニル化合物は、一般式（４）
上記一般式（４）中、Ｊは、それぞれ置換基を有してもよい、芳香環またはアルキル基を示す。
芳香環としては、芳香族炭化水素環または芳香族複素環が挙げられる。
芳香族炭化水素環としては特に限定されず、単環または多環であることができ、環員数は、特に制限がないが、５～２０が好ましく、５～１５がより好ましい。具体例として、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、アズレン環、アセナフチレン環、アントラセン環、フルオレン環、フェナントレン環、ビフェニレン環、ピレン環、テトラセン環が挙げられ、これらのうち、ベンゼン環、ナフタレン環が好ましい。
また、芳香族複素環としては特に限定されず、例えば、窒素原子、酸素原子あるいは硫黄原子をヘテロ原子として有する単環または多環式のヘテロ環が好ましい。環員数には特に制限がないが、５～２０が好ましく、５～１５がより好ましい。具体例として、例えば、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、ピリダジン環、トリアジン環、テトラジン環、イミダゾリン環、ピロール環、イミダゾール環、ピラゾール環、キノリン環、イソキノリン環、プリン環、キノキサリン環、キナゾリン環、シンノリン環、フタラジン環、フェナントリジン環、フラン環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、チオフェン環、チアゾール環、イソチアゾール環が挙げられ、これらのうち、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、フラン環、チオフェン環が好ましい。
芳香環としては、芳香族炭化水素環または芳香族複素環が挙げられる。
芳香族炭化水素環としては特に限定されず、単環または多環であることができ、環員数は、特に制限がないが、５～２０が好ましく、５～１５がより好ましい。具体例として、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、アズレン環、アセナフチレン環、アントラセン環、フルオレン環、フェナントレン環、ビフェニレン環、ピレン環、テトラセン環が挙げられ、これらのうち、ベンゼン環、ナフタレン環が好ましい。
また、芳香族複素環としては特に限定されず、例えば、窒素原子、酸素原子あるいは硫黄原子をヘテロ原子として有する単環または多環式のヘテロ環が好ましい。環員数には特に制限がないが、５～２０が好ましく、５～１５がより好ましい。具体例として、例えば、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、ピリダジン環、トリアジン環、テトラジン環、イミダゾリン環、ピロール環、イミダゾール環、ピラゾール環、キノリン環、イソキノリン環、プリン環、キノキサリン環、キナゾリン環、シンノリン環、フタラジン環、フェナントリジン環、フラン環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、チオフェン環、チアゾール環、イソチアゾール環が挙げられ、これらのうち、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、フラン環、チオフェン環が好ましい。
芳香環上の置換基としては、例えば、アルキル、アルケニル、シクロアルキル、アリール、シクロアルキルアルキル、シクロアルキルアルキルオキシ、アリールアルキル、アリールアルキルオキシ、アルコキシ、エステル、ハロゲン原子、アミノ基、Ｎ－アルキルアミノ基、Ｎ，Ｎ－ジアルキルアミノ基、アミド基、ニトロ基、シアノ基が挙げられる。
アルキル基としては、例えば、１～１０の炭素原子、好ましくは１～５の炭素原子、を有する、直鎖または分枝鎖アルキル基が挙げられる。また、アルキル基が有してもよい置換基としては、例えば、アルコキシ、エステル結合のＣ原子で結合するエステル基、ハロゲン原子、アミノ基、アミド結合のＣ原子で結合するアミド基、ニトロ基、シアノ基、Ｎ－アセトアミド基、上記Ｊについて述べた芳香族炭化水素環が挙げられる。
上記一般式（４）中、Ｋは、それぞれ置換基を有してもよい、アルキル基、アリール基、アリル基、アミノ基、アミド結合のＮ原子で結合するアミド基、または、アミド結合のＮ原子で結合するスルホンアミド基を示す。
アルキル基としては、例えば、１～１０の炭素原子、好ましくは１～５の炭素原子、を有する、直鎖または分枝鎖アルキル基が挙げられる。また、アルキル基が有してもよい置換基としては、例えば、アルコキシ、エステル、ハロゲン原子、アミノ基、アミド基、ニトロ基、シアノ基、Ｎ－アセトアミド基、上記Ｊについて述べた芳香族炭化水素環が挙げられる。
アリール基としては、例えば、上記Ｊについて述べた芳香族炭化水素環が挙げられ、好ましい範囲も同様である。また、アリール基が有してもよい置換基としては、例えば、上記Ｊについて述べた芳香環上の置換基と同様のものが挙げられる。
アリル基およびアミノ基が有してもよい置換基としては、例えば、１～１０の炭素原子、好ましくは１～５の炭素原子、を有する、直鎖または分枝鎖アルキル基が挙げられる。
アルキル基としては、例えば、１～１０の炭素原子、好ましくは１～５の炭素原子、を有する、直鎖または分枝鎖アルキル基が挙げられる。また、アルキル基が有してもよい置換基としては、例えば、アルコキシ、エステル、ハロゲン原子、アミノ基、アミド基、ニトロ基、シアノ基、Ｎ－アセトアミド基、上記Ｊについて述べた芳香族炭化水素環が挙げられる。
アリール基としては、例えば、上記Ｊについて述べた芳香族炭化水素環が挙げられ、好ましい範囲も同様である。また、アリール基が有してもよい置換基としては、例えば、上記Ｊについて述べた芳香環上の置換基と同様のものが挙げられる。
アリル基およびアミノ基が有してもよい置換基としては、例えば、１～１０の炭素原子、好ましくは１～５の炭素原子、を有する、直鎖または分枝鎖アルキル基が挙げられる。
アミド結合のＮ原子で結合するアミド基とは、アミド結合のＮ原子が、一般式（４）中のカルボニル基のα位に結合するアミド基を意味する。アミド結合の他方（Ｃ原子）と結合する基としては、例えば、それぞれ置換基を有してもよい、アルキル基、アルコキシ基または芳香環が挙げられる。また、アミド結合のＮ原子はアミノ基が有してもよい置換基として挙げたような置換基を更に有してもよい。
アミド結合の他方と結合するアルキル基またはアルコキシ基としては、例えば、１～１０の炭素原子、好ましくは１～５の炭素原子、を有する、直鎖または分枝鎖アルキル基またはアルコキシ基が挙げられる。また、アルキル基またはアルコキシ基が有してもよい置換基としては、例えば、アルコキシ、エステル、ハロゲン原子、アミノ基、アミド基、ニトロ基、シアノ基、Ｎ－アセトアミド基、上記Ｊについて述べた芳香族炭化水素環が挙げられる。
アミド結合の他方と結合する芳香環としては、例えば、上記Ｊについて述べた芳香環が挙げられる。また、芳香環が有してもよい置換基としては、例えば、上記Ｊについて述べた芳香環上の置換基と同様のものが挙げられる。
アミド結合の他方と結合するアルキル基またはアルコキシ基としては、例えば、１～１０の炭素原子、好ましくは１～５の炭素原子、を有する、直鎖または分枝鎖アルキル基またはアルコキシ基が挙げられる。また、アルキル基またはアルコキシ基が有してもよい置換基としては、例えば、アルコキシ、エステル、ハロゲン原子、アミノ基、アミド基、ニトロ基、シアノ基、Ｎ－アセトアミド基、上記Ｊについて述べた芳香族炭化水素環が挙げられる。
アミド結合の他方と結合する芳香環としては、例えば、上記Ｊについて述べた芳香環が挙げられる。また、芳香環が有してもよい置換基としては、例えば、上記Ｊについて述べた芳香環上の置換基と同様のものが挙げられる。
アミド結合のＮ原子で結合するスルホンアミド基とは、アミド結合のＮ原子が、一般式（４）中のカルボニル基のα位に結合するスルホンアミド基を意味する。アミド結合の他方（Ｓ原子）と結合する基としては、例えば、それぞれ置換基を有してもよい、アルキル基、アルコキシ基または芳香環が挙げられる。また、アミド結合のＮ原子はアミノ基が有してもよい置換基として挙げたような置換基を更に有してもよい。
アミド結合の他方と結合するアルキル基またはアルコキシ基としては、例えば、１～１０の炭素原子、好ましくは１～５の炭素原子、を有する、直鎖または分枝鎖アルキル基またはアルコキシ基が挙げられる。また、アルキル基またはアルコキシ基が有してもよい置換基としては、例えば、アルコキシ、エステル、ハロゲン原子、アミノ基、アミド基、ニトロ基、シアノ基、Ｎ－アセトアミド基、上記Ｊについて述べた芳香族炭化水素環が挙げられる。
アミド結合の他方と結合する芳香環としては、例えば、上記Ｊについて述べた芳香環が挙げられる。また、芳香環が有してもよい置換基としては、例えば、上記Ｊについて述べた芳香環上の置換基と同様のものが挙げられる。
アミド結合の他方と結合するアルキル基またはアルコキシ基としては、例えば、１～１０の炭素原子、好ましくは１～５の炭素原子、を有する、直鎖または分枝鎖アルキル基またはアルコキシ基が挙げられる。また、アルキル基またはアルコキシ基が有してもよい置換基としては、例えば、アルコキシ、エステル、ハロゲン原子、アミノ基、アミド基、ニトロ基、シアノ基、Ｎ－アセトアミド基、上記Ｊについて述べた芳香族炭化水素環が挙げられる。
アミド結合の他方と結合する芳香環としては、例えば、上記Ｊについて述べた芳香環が挙げられる。また、芳香環が有してもよい置換基としては、例えば、上記Ｊについて述べた芳香環上の置換基と同様のものが挙げられる。
上記一般式（４）中、Ｌは、エステル結合のＣ原子で結合するエステル基、または、アミド結合のＣ原子で結合するアミド基のいずれかである。
エステル結合のＣ原子で結合するエステル基とは、エステル結合のＣ原子が、一般式（４）中のカルボニル基のα位に結合するエステル基を意味する。エステル結合の他方（Ｏ原子側）と結合する基としては、例えば、それぞれ置換基を有してもよい、アルキル基または芳香環が挙げられる。
エステル結合の他方と結合するアルキル基としては、例えば、１～１０の炭素原子、好ましくは１～５の炭素原子、を有する、直鎖または分枝鎖アルキル基が挙げられる。また、アルキル基が有してもよい置換基としては、例えば、アルコキシ、エステル、ハロゲン原子、アミノ基、アミド基、ニトロ基、シアノ基、Ｎ－アセトアミド基、上記Ｊについて述べた芳香族炭化水素環が挙げられる。
エステル結合の他方と結合する芳香環としては、例えば、上記Ｊについて述べた芳香環が挙げられる。また、芳香環が有してもよい置換基としては、例えば、上記Ｊについて述べた芳香環上の置換基と同様のものが挙げられる。
エステル結合のＣ原子で結合するエステル基とは、エステル結合のＣ原子が、一般式（４）中のカルボニル基のα位に結合するエステル基を意味する。エステル結合の他方（Ｏ原子側）と結合する基としては、例えば、それぞれ置換基を有してもよい、アルキル基または芳香環が挙げられる。
エステル結合の他方と結合するアルキル基としては、例えば、１～１０の炭素原子、好ましくは１～５の炭素原子、を有する、直鎖または分枝鎖アルキル基が挙げられる。また、アルキル基が有してもよい置換基としては、例えば、アルコキシ、エステル、ハロゲン原子、アミノ基、アミド基、ニトロ基、シアノ基、Ｎ－アセトアミド基、上記Ｊについて述べた芳香族炭化水素環が挙げられる。
エステル結合の他方と結合する芳香環としては、例えば、上記Ｊについて述べた芳香環が挙げられる。また、芳香環が有してもよい置換基としては、例えば、上記Ｊについて述べた芳香環上の置換基と同様のものが挙げられる。
アミド結合のＣ原子で結合するアミド基とは、アミド結合のＣ原子が、一般式（４）中のカルボニル基のα位に結合するアミド基を意味する。アミド結合の他方（Ｎ原子側）と結合する基としては、例えば、それぞれ置換基を有してもよい、アルキル基または芳香環が挙げられる。
アミド結合の他方と結合するアルキル基としては、例えば、１～１０の炭素原子、好ましくは１～５の炭素原子、を有する、直鎖または分枝鎖アルキル基が挙げられる。また、アルキル基が有してもよい置換基としては、例えば、アルコキシ、エステル、ハロゲン原子、アミノ基、アミド基、ニトロ基、シアノ基、Ｎ－アセトアミド基、上記Ｊについて述べた芳香族炭化水素環が挙げられる。
アミド結合の他方と結合する芳香環としては、例えば、上記Ｊについて述べた芳香環が挙げられる。また、芳香環が有してもよい置換基としては、例えば、上記Ｊについて述べた芳香環上の置換基と同様のものが挙げられる。
アミド結合の他方と結合するアルキル基としては、例えば、１～１０の炭素原子、好ましくは１～５の炭素原子、を有する、直鎖または分枝鎖アルキル基が挙げられる。また、アルキル基が有してもよい置換基としては、例えば、アルコキシ、エステル、ハロゲン原子、アミノ基、アミド基、ニトロ基、シアノ基、Ｎ－アセトアミド基、上記Ｊについて述べた芳香族炭化水素環が挙げられる。
アミド結合の他方と結合する芳香環としては、例えば、上記Ｊについて述べた芳香環が挙げられる。また、芳香環が有してもよい置換基としては、例えば、上記Ｊについて述べた芳香環上の置換基と同様のものが挙げられる。
一般式（４）で表される基質カルボニル化合物は、１種または２種以上組み合わせて用いることができる。
使用できる基質カルボニル化合物としては、一般式（４）を満たすものであれば特に制限されないが、例えば、α位にメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ‐ブチル基、ペンチル基、ネオペンチル基、イソペンチル基、ｓｅｃ－ペンチル基、３－ペンチル基、ｔｅｒｔ－ペンチル基、アリル基、フェニル基、ジメチルアミノ基、アセトアミドメチル基のいずれかを有する３－オキソ－３－フェニルプロパン酸エステル誘導体、３－オキソ－３－ピリジルプロパン酸エステル誘導体、３－オキソ－３－フリルプロパン酸エステル誘導体、３－オキソ－３－チエニルプロパン酸エステル誘導体、３－オキソ－３－ナフチルプロパン酸エステル誘導体、３－オキソ－３－フェニルプロパン酸エステル誘導体、３－オキソ－３－ピリジルプロパン酸エステル誘導体、３－オキソ－３－フリルプロパン酸エステル誘導体、３－オキソ－３－チエニルプロパン酸エステル誘導体、３－オキソ－３－ナフチルプロパン酸エステル誘導体、３－オキソ－３－フェニルプロパン酸アミド誘導体、３－オキソ－３－ピリジルプロパン酸アミド誘導体、３－オキソ－３－フリルプロパン酸アミド誘導体、３－オキソ－３－チエニルプロパン酸アミド誘導体、３－オキソ－３－ナフチルプロパン酸アミド誘導体、３－オキソ－３－フェニルプロパン酸アミド誘導体、３－オキソ－３－ピリジルプロパン酸アミド誘導体、３－オキソ－３－フリルプロパン酸アミド誘導体、３－オキソ－３－チエニルプロパン酸アミド誘導体、３－オキソ－３－ナフチルプロパン酸アミド誘導体等が挙げられる。
使用できる基質カルボニル化合物としては、一般式（４）を満たすものであれば特に制限されないが、例えば、α位にメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ‐ブチル基、ペンチル基、ネオペンチル基、イソペンチル基、ｓｅｃ－ペンチル基、３－ペンチル基、ｔｅｒｔ－ペンチル基、アリル基、フェニル基、ジメチルアミノ基、アセトアミドメチル基のいずれかを有する３－オキソ－３－フェニルプロパン酸エステル誘導体、３－オキソ－３－ピリジルプロパン酸エステル誘導体、３－オキソ－３－フリルプロパン酸エステル誘導体、３－オキソ－３－チエニルプロパン酸エステル誘導体、３－オキソ－３－ナフチルプロパン酸エステル誘導体、３－オキソ－３－フェニルプロパン酸エステル誘導体、３－オキソ－３－ピリジルプロパン酸エステル誘導体、３－オキソ－３－フリルプロパン酸エステル誘導体、３－オキソ－３－チエニルプロパン酸エステル誘導体、３－オキソ－３－ナフチルプロパン酸エステル誘導体、３－オキソ－３－フェニルプロパン酸アミド誘導体、３－オキソ－３－ピリジルプロパン酸アミド誘導体、３－オキソ－３－フリルプロパン酸アミド誘導体、３－オキソ－３－チエニルプロパン酸アミド誘導体、３－オキソ－３－ナフチルプロパン酸アミド誘導体、３－オキソ－３－フェニルプロパン酸アミド誘導体、３－オキソ－３－ピリジルプロパン酸アミド誘導体、３－オキソ－３－フリルプロパン酸アミド誘導体、３－オキソ－３－チエニルプロパン酸アミド誘導体、３－オキソ－３－ナフチルプロパン酸アミド誘導体等が挙げられる。
特に有効である基質カルボニル化合物の具体例としては、２－メチル－３－オキソ－３－フェニルプロパン酸エチル、３－（４－クロロフェニル）－２－メチル－３－オキソプロパン酸エチル、３－（２－ブロモフェニル）－２－メチル－３－オキソプロパン酸エチル、３－（４－メトキシフェニル）－２－メチル－３－オキソプロパン酸エチル、３－（フラン－３－イル）－３－メチル－３－オキソプロパン酸エチル、３－（フラン－２－イル）－３－メチル－３－オキソプロパン酸エチル、３－（チオフェン－３－イル）－３－メチル－３－オキソプロパン酸エチル、３－（チオフェン－２－イル）－３－メチル－３－オキソプロパン酸エチル、３－（ピリジン－３－イル）－３－メチル－３－オキソプロパン酸エチル、３－（ピリジン－２－イル）－３－メチル－３－オキソプロパン酸エチル、３－（ピリジン－４－イル）－３－メチル－３－オキソプロパン酸エチル、２－メチル－３－（ナフタレン－１－イル）－３－オキソプロパン酸エチル、２－メチル－３－（ナフタレン－２－イル）－３－オキソプロパン酸エチル、２－ベンゾイルブタン酸エチル、２－ベンゾイル－３－メチルブタン酸エチル、２－ベンゾイル－４－ペンテン酸エチル、３－オキソ－２，３－ジフェニルプロパン酸エチル、２－アセトアミドメチル－３－オキソ－３－フェニルプロパン酸エチル、２－（ジメチルアミノ）－３－オキソ－３－フェニルプロパン酸エチル、２－メチル－３－オキソ－３－フェニルプロパン酸メチル、２－メチル－３－オキソ－３－フェニルプロパン酸プロピル、２－メチル－３－オキソ－３－フェニルプロパン酸イソプロピル、２－メチル－３－オキソ－３－フェニルプロパン酸ブチル、２－メチル－３－オキソ－３－フェニルプロパン酸イソブチル、２－メチル－３－オキソ－３－フェニルプロパン酸ｔｅｒｔ－ブチル、２－メチル－３－オキソ－３－フェニルプロパン酸フェニル、Ｎ－ベンジル－２－メチル－３－オキソ－３－フェニルプロパンアミド、Ｎ－メチル－２－メチル－３－オキソ－３－フェニルプロパンアミド、Ｎ－エチル－２－メチル－３－オキソ－３―フェニルプロパンアミド、Ｎ－プロピル－２－メチル－３－オキソ－３－フェニルプロパンアミド、Ｎ、Ｎ－ジメチル－２－メチル－３－オキソ－３－フェニルプロパンアミドが挙げられる。またここで例示した基質カルボニル化合物は、上述した置換基をさらに有してもよい。
＜水酸基のα、β位に不斉点を有する光学活性なヒドロキシエステル類またはヒドロキシアミド類の製造方法＞
次に、本実施態様の、水酸基のα、β位に不斉点を有する光学活性なヒドロキシエステル類またはヒドロキシアミド類の製造方法について説明する。
本実施態様の、水酸基のα、β位に不斉点を有する光学活性なヒドロキシエステル類またはヒドロキシアミド類の製造方法は、上記一般式（１）で表される１種または２種以上のルテニウム錯体の存在下において、上述一般式（４）で表される基質カルボニル化合物を水素および／または水素を供与する化合物と反応させて、下記一般式（５）
次に、本実施態様の、水酸基のα、β位に不斉点を有する光学活性なヒドロキシエステル類またはヒドロキシアミド類の製造方法について説明する。
本実施態様の、水酸基のα、β位に不斉点を有する光学活性なヒドロキシエステル類またはヒドロキシアミド類の製造方法は、上記一般式（１）で表される１種または２種以上のルテニウム錯体の存在下において、上述一般式（４）で表される基質カルボニル化合物を水素および／または水素を供与する化合物と反応させて、下記一般式（５）
で表される光学活性なヒドロキシエステル類またはヒドロキシアミド類を製造する方法である。
上記一般式（５）中、Ｊ、ＫおよびＬの定義は、一般式（４）中のＪ、ＫおよびＬの定義とそれぞれ同じであり、また、これらの好ましい範囲も同じである。
上記一般式（５）で表される光学活性なヒドロキシエステル類またはヒドロキシアミド類は、特に医薬、農薬等に使用される光学活性な生理活性化合物、または液晶材料合成中間体として有用である。
ルテニウム錯体は、本方法において触媒として機能するものである。ルテニウム錯体としては、上述した一般式（１）で表されるものであればよいが、一般式（１）で表されるルテニウム錯体中の一般式（２）で表される光学活性ジホスフィン化合物のうち、これらの（Ｒ，Ｒ）体または（Ｓ，Ｓ）体のいずれかを選択することにより、水酸基のα位に関して所望する絶対配置を有する、水酸基のα、β位に不斉点を有する光学活性なヒドロキシエステル類またはヒドロキシアミド類をつくり分けることができる。
また、一般式（１）で表されるルテニウム錯体中の一般式（３）で表されるアミン化合物が光学活性体である場合、一般式（６）で表される光学活性ルテニウム錯体中のジホスフィン化合物の絶対構造と添加する光学活性アミン化合物の絶対構造の組合せが、高い光学純度を得るためには重要である。例えば、基質の構造により、ジホスフィン化合物の絶対構造とアミン化合物の絶対構造の適切な組合せが異なる。不適切な組合せをもつ錯体を用いた場合には、適切な組合せをもつ錯体を使用した場合と比較して、触媒活性の低下あるいは生成物のエナンチオマー純度、ジアステレオマー純度が低下する場合がある。
一般式（１）で表されるルテニウム錯体の使用量は、使用する反応容器、水素の純度、使用する溶媒の種類や純度、または基質の純度などの反応条件あるいは経済性によって異なるが、基質カルボニル化合物に対してモル比で、１／１００～１／１０，０００，０００の範囲で、好ましくは１／５００～１／１，０００，０００の範囲で用いることができる。
本方法に用いる水素源としては、上述したように水素（水素ガス）および／または水素を供与する化合物（水素供与体）を用いることができる。
ここで、本明細書中において水素供与体とは、分子内の水素をルテニウム触媒に供給する作用を有する化合物を指し、このような化合物としては、特に限定されないが、例えば、２－プロパノール、プロパノール、ブタノール、エタノール、メタノールなどの低級アルコールやギ酸、またはギ酸カリウム、ギ酸ナトリウムなどのギ酸塩が挙げられる。
上述した中でも、水素供与体として、低級アルコールを用いることが好ましく、２－プロパノールを用いることがより好ましい。
ここで、本明細書中において水素供与体とは、分子内の水素をルテニウム触媒に供給する作用を有する化合物を指し、このような化合物としては、特に限定されないが、例えば、２－プロパノール、プロパノール、ブタノール、エタノール、メタノールなどの低級アルコールやギ酸、またはギ酸カリウム、ギ酸ナトリウムなどのギ酸塩が挙げられる。
上述した中でも、水素供与体として、低級アルコールを用いることが好ましく、２－プロパノールを用いることがより好ましい。
水素供与体の用量としては、特に限定されないが、基質カルボニル化合物に対して１～２０当量の範囲、好ましくは、１～１０当量の範囲で用いることができる。
また、水素源としては、水素ガスを用いることが、十分な反応性が得られるとの観点から、好ましい。
また、水素ガスを用いる場合、水素ガスの圧力は、特に限定されないが、例えば、１～２００気圧の範囲、好ましくは１～１００気圧の範囲、特に好ましくは１～２０気圧の範囲である。
なお、水素ガスと水素供与体とを併用してもよい。
また、水素ガスを用いる場合、水素ガスの圧力は、特に限定されないが、例えば、１～２００気圧の範囲、好ましくは１～１００気圧の範囲、特に好ましくは１～２０気圧の範囲である。
なお、水素ガスと水素供与体とを併用してもよい。
また、反応において、反応系中に塩基を存在させることが好ましい。
また、用いることのできる塩基としては、特に限定されないが、例えば、ＫＯＨ、ＫＯＣＨ３、ＫＯＣＨ（ＣＨ３）２、ＫＯＣ（ＣＨ３）３、ＫＯＣ１０Ｈ８、ＫＯＣ（ＣＨ３）２（ＣＨ２ＣＨ３）、ＮａＯＣ（ＣＨ３）３、ＮａＯＣ（ＣＨ３）２（ＣＨ２ＣＨ３）、ＬｉＯＨ、ＬｉＯＣＨ３、ＬｉＯＣＨ（ＣＨ３）２、ＬｉＯＣ（ＣＨ３）３等のアルカリ金属、アルカリ土類金属の塩あるいは４級アンモニウム塩が挙げられ、これらのうち１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。これらのうち、塩基は、好ましくはＫＯＨ、ＫＯＣＨ（ＣＨ３）２、ＫＯＣ（ＣＨ３）３またはＮａＯＣ（ＣＨ３）３であり、特に好ましくはＫＯＣＨ（ＣＨ３）２、ＫＯＣ（ＣＨ３）３またはＮａＯＣ（ＣＨ３）３である。
また、用いることのできる塩基としては、特に限定されないが、例えば、ＫＯＨ、ＫＯＣＨ３、ＫＯＣＨ（ＣＨ３）２、ＫＯＣ（ＣＨ３）３、ＫＯＣ１０Ｈ８、ＫＯＣ（ＣＨ３）２（ＣＨ２ＣＨ３）、ＮａＯＣ（ＣＨ３）３、ＮａＯＣ（ＣＨ３）２（ＣＨ２ＣＨ３）、ＬｉＯＨ、ＬｉＯＣＨ３、ＬｉＯＣＨ（ＣＨ３）２、ＬｉＯＣ（ＣＨ３）３等のアルカリ金属、アルカリ土類金属の塩あるいは４級アンモニウム塩が挙げられ、これらのうち１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。これらのうち、塩基は、好ましくはＫＯＨ、ＫＯＣＨ（ＣＨ３）２、ＫＯＣ（ＣＨ３）３またはＮａＯＣ（ＣＨ３）３であり、特に好ましくはＫＯＣＨ（ＣＨ３）２、ＫＯＣ（ＣＨ３）３またはＮａＯＣ（ＣＨ３）３である。
添加する塩基の量は、特に限定されないが、例えば、塩基濃度が反応系中において０．００１～０．２モル／Ｌとなる量、好ましくは、０．００５～０．１モル／Ｌとなる量、さらに好ましくはである０．０１～０．０５モル／Ｌとなる量である。
以上の通り、水酸基のα、β位に不斉点を有する光学活性なヒドロキシエステル類またはヒドロキシアミド類を、円滑な不斉水素化反応により高いエナンチオマー純度及びジアステレオマー純度で製造するためには、触媒として使用する一般式（１）に示したルテニウム錯体と塩基とを組み合わせて用いることが好ましい。
ただし、一般式（１）で表されるルテニウム錯体のＸ，Ｙが水素原子の場合、あるいはＸが水素原子でありＹがテトラヒドロボラートアニオンの場合は、塩基を添加することなしに、基質カルボニル化合物の円滑な不斉水素化反応による高い不斉収率が達成される。このような場合、例えば、ルテニウム錯体と基質カルボニル化合物とを塩基を加えることなく混合した後、水素圧をかけて攪拌することで反応を行ってもよい。
また、反応系中に溶媒が存在していてもよい。
用いることのできる溶媒としては、特に限定されず、基質および触媒系を可溶化するものが好ましい。例えば、メタノール、エタノール、ｎ－プロパノール、２－プロパノール、ブタノール、ｔｅｒｔ－ブチルアルコール、ｔｅｒｔ－アミルアルコール、ベンジルアルコールなどの低級アルコール、ペンタン、ヘキサン等の脂肪族炭化水素溶媒、塩化メチレン等のハロゲン含有炭化水素溶媒、エーテル、メチル－ｔｅｒｔ－ブチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒、アセトニトリル、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ－メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）等のヘテロ原子を含む有機溶媒が挙げられ、これらのうち１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。
用いることのできる溶媒としては、特に限定されず、基質および触媒系を可溶化するものが好ましい。例えば、メタノール、エタノール、ｎ－プロパノール、２－プロパノール、ブタノール、ｔｅｒｔ－ブチルアルコール、ｔｅｒｔ－アミルアルコール、ベンジルアルコールなどの低級アルコール、ペンタン、ヘキサン等の脂肪族炭化水素溶媒、塩化メチレン等のハロゲン含有炭化水素溶媒、エーテル、メチル－ｔｅｒｔ－ブチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒、アセトニトリル、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ－メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）等のヘテロ原子を含む有機溶媒が挙げられ、これらのうち１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。
溶媒の量は反応基質の溶解度および経済性により判断される。例えば、基質濃度は、基質によっては反応系中０．１モル／Ｌ以下の低濃度から無溶媒に近い状態で反応を行うことができるが、好ましくは０．３～５モル／Ｌの範囲で用いることが望ましい。
反応温度は、その上限は触媒として用いるルテニウム錯体の分解が生起しない範囲に、下限は活性を考慮して設定することが必要であり、例えば、０～６０℃、好ましくは、２５～４０℃で反応を実施することが好ましく、かかる温度範囲は経済性の観点からも優れたものといえる。
反応時間は、反応溶媒、反応基質濃度、温度、圧力、基質／触媒比等の反応条件によって異なるが、反応操作の容易さと経済性の両面を考慮し、数分から数十時間、例えば、１０分～９６時間、好ましくは、２時間～４８時間で反応が完結するよう任意に設定することができる。
なお仮に、基質のカルボニル基の還元反応が完結した後に、そのまま継続して反応操作を続行した場合においても、特に問題は認められない。従って本発明の実施に際しては、反応の進行度を絶えずモニターする必要は無く、反応完結後に直ちに反応を打ち切る必要も無い。即ち、反応時間は実質的な反応完結時間よりも長めに設定することができ、工業的な実施に際しては有利な方法である。
上記記載の方法により、基質カルボニル化合物を水素化することにより、対応する、水酸基のα、β位に不斉点を有する光学活性なヒドロキシエステル類またはヒドロキシアミド類を得ることができる。
上記記載の方法により、基質カルボニル化合物を水素化することにより、対応する、水酸基のα、β位に不斉点を有する光学活性なヒドロキシエステル類またはヒドロキシアミド類を得ることができる。
しかしながら、本発明の方法によっても、水素化反応生成物中に原料ケトン、添加した塩基あるいは錯体と塩基が反応して生成した塩等を含むことがある。これらは蒸留、水洗、再結晶、クロマトグラフィー等の一般的に知られた精製操作によって精製することができる。
また、上記反応の反応形式は、特に限定されず、バッチ式、連続式あるいはフロー反応装置のいずれにおいても実施することができる。
以上の本発明によれば、合成が容易な炭素上に不斉を有するジホスフィン化合物である光学活性ＳＫＥＷＰＨＯＳ（２，４－ビス（ジフェニルホスフィノ）ペンタン）誘導体化合物とＰＩＣＡ型配位子またはピリジン環が複数の窒素原子をもつ複素環に置換されたＰＩＣＡ型配位子をもつルテニウム錯体触媒が、高い効率をもつ水素化触媒として作用する。この錯体は従来用いられてきた光学活性アミンでなく、合成が容易なアキラルなアミンを配位子とすることができるため安価となる。かかる特徴は、従来の方法に比べて、工業的かつ経済性に優れた手法であると言える。そして、本方法によって得られる、水酸基のα、β位に不斉点を有する光学活性なヒドロキシエステル類またはヒドロキシアミド類は、従来の方法によって得られるものよりもそのエナンチオマー純度およびジアステレオマー純度が高いものとなる。
また、本発明の他の実施態様に係る、水酸基のα、β位に不斉点を有する光学活性なヒドロキシエステル類またはヒドロキシアミド類の製造方法は、下記一般式（６）
ＲｕＸＹＡ （６）
［一般式（６）中、ＸおよびＹは互いに同一または異なり、互いに独立して一般式（１）中で定義されたとおりの意味を有する。]で表される化合物から選択される１種または２種以上の錯体と、上記一般式（３）で表される化合物から選択される１種または２種以上のアミン化合物の存在下で、上記一般式（４）で表される基質カルボニル化合物を水素および／または水素を供与する化合物と反応させる、方法である。
ＲｕＸＹＡ （６）
［一般式（６）中、ＸおよびＹは互いに同一または異なり、互いに独立して一般式（１）中で定義されたとおりの意味を有する。]で表される化合物から選択される１種または２種以上の錯体と、上記一般式（３）で表される化合物から選択される１種または２種以上のアミン化合物の存在下で、上記一般式（４）で表される基質カルボニル化合物を水素および／または水素を供与する化合物と反応させる、方法である。
一般式（６）で表される錯体と、一般式（３）で表されるアミン化合物とは、好ましくは１：１～１：５０のモル比で、さらに好ましくは１：１～１：２０のモル比で、基質カルボニル化合物を水素および／または水素を供与する化合物と反応させる容器に仕込むことができる。
また、本実施態様における他の条件としては、上述した条件を用いることができる。
このような態様の方法によっても、同様の効果を得ることができる。
このような態様の方法によっても、同様の効果を得ることができる。
本発明における基質カルボニル化合物の水素化反応は、反応形式が、バッチ式においても連続式においても実施することができる。
以下、実施例により本発明を更に詳細に説明するが、本発明は以下の実施例によって限定されるものではない。なお、下記の実施例においては、反応はすべてアルゴンガスあるいは窒素ガス等の不活性ガス雰囲気下で行った。また、反応にもちいた溶媒は、特に記載しない限り、乾燥、脱気したものを使用した。カルボニル化合物の水素化反応は、オートクレーブ中、水素を加圧して行った。
実施例または比較例に記載する基質カルボニル化合物は、特に記載しない限り試薬購入品を直接使用した。反応に用いる溶媒は、関東化学社製脱水溶媒を直接使用した。その他の薬品に関しては、特に記載しない限り関東化学社製試薬を直接使用した。
以下に記載する実施例および比較例において、Ｓ／Ｃは、基質／触媒モル比を示す。
また、［物質名］０は、当該物質の初期濃度を示す。
以下に記載する実施例および比較例において、Ｓ／Ｃは、基質／触媒モル比を示す。
また、［物質名］０は、当該物質の初期濃度を示す。
尚、以下の測定には次の機器を使用した。
ＮＭＲ：ＪＮＭ－ＥＣＸ４００Ｐ型（４００ＭＨｚ）（日本電子（株）製）
内部標準物質：１Ｈ－ＮＭＲ・・・テトラメチルシラン
ＮＭＲ：ＪＮＭ－ＥＣＸ４００Ｐ型（４００ＭＨｚ）（日本電子（株）製）
内部標準物質：１Ｈ－ＮＭＲ・・・テトラメチルシラン
ＨＰＬＣによる光学純度測定
測定装置：ＬＣ―２０（高速液体クロマトグラフ、島津製作所製）、Ａｇｉｌｅｎｔ １２６０ ＩＮＦＩＮＩＴＹ（高速液体クロマトグラフ、アジレント製）、Ａｇｉｌｅｎｔ １２６０ ＩＮＦＩＮＩＴＹ ＩＩ（高速液体クロマトグラフ、アジレント製）
カラム：各実施例に記載のものを使用した
測定装置：ＬＣ―２０（高速液体クロマトグラフ、島津製作所製）、Ａｇｉｌｅｎｔ １２６０ ＩＮＦＩＮＩＴＹ（高速液体クロマトグラフ、アジレント製）、Ａｇｉｌｅｎｔ １２６０ ＩＮＦＩＮＩＴＹ ＩＩ（高速液体クロマトグラフ、アジレント製）
カラム：各実施例に記載のものを使用した
［実施例１］化合物（２Ｒ，３Ｓ）－２ａの合成
１００ｍＬハイパーグラス内筒に、ＲｕＢｒ２［（Ｓ，Ｓ）－ｄｉｐｓｋｅｗｐｈｏｓ］（３－ａｍｉｑ）（２．３９ｍｇ，２μｍｏｌ，０．００２当量）とｔＢｕＯＮａ（３．８４ｍｇ，４０μｍｏｌ，０．０４当量）を量りとり、オートクレーブ内部をアルゴンガス雰囲気に置換した。アルゴンガスをフローさせながらｔＢｕＯＨ（１．８ｍＬ）、化合物１ａ（０．１９ｍＬ，１ｍｍｏｌ，１当量）を加えたのち、攪拌を行いながら軽く気泡立つ程度に減圧脱気とアルゴンガスの充填を５回繰り返した。その後、水素ガスで０．５ＭＰａまで加圧し、０．１ＭＰａまでリークする作業を１０回繰り返し、系内を水素雰囲気に置換した。水素ガスを１．０ＭＰａまで加圧し、恒温水層を用いて２５ｏＣの条件で２４時間攪拌した。
２４時間後、水素ガスを放出して反応液を濃縮した。カラムクロマトグラフィー（展開液：ヘキサン／酢酸エチル＝５：１）により精製を行い無色の液体として化合物２ａを得た（２０１．６ｍｇ，９７％収率，ジアステレオ比＞９９：１，＞９９％ｅｅ）。
２４時間後、水素ガスを放出して反応液を濃縮した。カラムクロマトグラフィー（展開液：ヘキサン／酢酸エチル＝５：１）により精製を行い無色の液体として化合物２ａを得た（２０１．６ｍｇ，９７％収率，ジアステレオ比＞９９：１，＞９９％ｅｅ）。
１Ｈ－ＮＭＲスペクトル（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ１．０３（ｄ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，３Ｈ），δ１．２６（ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，３Ｈ），δ２．８０（ｄｑ，Ｊ＝７．４，８．２Ｈｚ，１Ｈ），δ３．００（ｄ，Ｊ＝４．６Ｈｚ，１Ｈ），δ４．１９（ｑ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，２Ｈ），δ４．７５（ｄｄ，Ｊ＝４．６，８．２Ｈｚ，１Ｈ），δ７．２８－７．３８（ｍ，５Ｈ）
（２Ｒ，３Ｓ）－２ａのエナンチオマー過剰率（ｅｅ）は、下記条件下のＨＰＬＣ光学純度測定により決定した。
カラム：ＣＨＩＲＡＬＣＥＬ ＯＤ－Ｈ（４．６×２５０ｍｍ）（ダイセル社製）、移動相：ヘキサン／２－ＰｒＯＨ＝９７／３、フロー：０．８ｍｌ ｍｉｎ－１、検出器：ＵＶ ２１０ｎｍ、カラム温度：３０ｏＣ、ｔＲ＝１２．２ｍｉｎ，１３．９ｍｉｎ，１５．８ｍｉｎ，２１．２ｍｉｎ
（２Ｒ，３Ｓ）－２ａのエナンチオマー過剰率（ｅｅ）は、下記条件下のＨＰＬＣ光学純度測定により決定した。
カラム：ＣＨＩＲＡＬＣＥＬ ＯＤ－Ｈ（４．６×２５０ｍｍ）（ダイセル社製）、移動相：ヘキサン／２－ＰｒＯＨ＝９７／３、フロー：０．８ｍｌ ｍｉｎ－１、検出器：ＵＶ ２１０ｎｍ、カラム温度：３０ｏＣ、ｔＲ＝１２．２ｍｉｎ，１３．９ｍｉｎ，１５．８ｍｉｎ，２１．２ｍｉｎ
［実施例２］化合物（２Ｒ，３Ｓ）－２ｂの合成
化合物１ｂはAngew. Chem. Int. Ed., 57, 1039-1043 (2018)に記載の方法を参考にして、原料に（４－メトキシベンゾイル）酢酸エチルを用いて合成した。
１００ｍＬガラス内筒に、ＲｕＢｒ２［（Ｓ，Ｓ）－ｄｉｐｓｋｅｗｐｈｏｓ］（３－ａｍｉｑ）（２．３９ｍｇ，２μｍｏｌ，０．００２当量）とｔＢｕＯＮａ（３．８４ｍｇ，４０μｍｏｌ，０．０４当量）を量りとり、ステンレスのオートクレーブ内部をアルゴンガス雰囲気に置換した。アルゴンガス雰囲気下、２０ｍＬシュレンク管に化合物１ｂ（２３６．２７ｍｇ，１ｍｍｏｌ，１当量）を量り取り、ｔＢｕＯＨ（１．８ｍＬ）で希釈しながらキャヌラーを用いてオートクレーブ内に圧送した。その後、攪拌を行いながら軽く気泡立つ程度に減圧脱気とアルゴンガスの充填を５回繰り返した。つづいて水素ガスで０．５ＭＰａまで加圧し、０．１ＭＰａまでリークする作業を１０回繰り返し、系内を水素雰囲気に置換した。水素ガスを２．０ＭＰａまで加圧し、恒温水層を用いて２５ｏＣの条件で２４時間攪拌した。
２４時間後、水素ガスを放出して反応液を濃縮した。カラムクロマトグラフィー（展開液：ヘキサン／酢酸エチル＝５／１）により精製を行い無色の結晶として化合物２ｂを得た（２２５．７ｍｇ，９５％収率，ジアステレオ比＞９９：１，＞９９％ｅｅ）。
１００ｍＬガラス内筒に、ＲｕＢｒ２［（Ｓ，Ｓ）－ｄｉｐｓｋｅｗｐｈｏｓ］（３－ａｍｉｑ）（２．３９ｍｇ，２μｍｏｌ，０．００２当量）とｔＢｕＯＮａ（３．８４ｍｇ，４０μｍｏｌ，０．０４当量）を量りとり、ステンレスのオートクレーブ内部をアルゴンガス雰囲気に置換した。アルゴンガス雰囲気下、２０ｍＬシュレンク管に化合物１ｂ（２３６．２７ｍｇ，１ｍｍｏｌ，１当量）を量り取り、ｔＢｕＯＨ（１．８ｍＬ）で希釈しながらキャヌラーを用いてオートクレーブ内に圧送した。その後、攪拌を行いながら軽く気泡立つ程度に減圧脱気とアルゴンガスの充填を５回繰り返した。つづいて水素ガスで０．５ＭＰａまで加圧し、０．１ＭＰａまでリークする作業を１０回繰り返し、系内を水素雰囲気に置換した。水素ガスを２．０ＭＰａまで加圧し、恒温水層を用いて２５ｏＣの条件で２４時間攪拌した。
２４時間後、水素ガスを放出して反応液を濃縮した。カラムクロマトグラフィー（展開液：ヘキサン／酢酸エチル＝５／１）により精製を行い無色の結晶として化合物２ｂを得た（２２５．７ｍｇ，９５％収率，ジアステレオ比＞９９：１，＞９９％ｅｅ）。
１Ｈ－ＮＭＲスペクトル（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ１．００（ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，３Ｈ），δ１．２７（ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，３Ｈ），δ２．７８（ｄｑ，Ｊ＝６．９，８．７Ｈｚ，１Ｈ），δ２．８８（ｄ，Ｊ＝４．１，１Ｈ），δ３．８１（ｓ，３Ｈ），δ４．２０（ｑ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，２Ｈ），δ４．７１（ｄｄ，Ｊ＝４．１，８．７Ｈｚ，１Ｈ），δ６．８５－６．９２（ｍ，２Ｈ），δ７．２５－７．２９（ｍ，２Ｈ）
（２Ｒ，３Ｓ）－２ｂのエナンチオマー過剰率（ｅｅ）は、下記条件下のＨＰＬＣ光学純度測定により決定した。
カラム：ＣＨＩＲＡＬＣＥＬ ＯＤ－Ｈ（４．６×２５０ ｍｍ）（ダイセル社製）×２、移動相：ヘキサン／２－ＰｒＯＨ＝９９：１、フロー：０．５ｍｌ ｍｉｎ－１、検出器：ＵＶ ２１０ｎｍ、カラム温度：３０ｏＣ、ｔＲ＝５９．５ｍｉｎ，６６．２ｍｉｎ，７６．６ｍｉｎ，７９．２ｍｉｎ
（２Ｒ，３Ｓ）－２ｂのエナンチオマー過剰率（ｅｅ）は、下記条件下のＨＰＬＣ光学純度測定により決定した。
カラム：ＣＨＩＲＡＬＣＥＬ ＯＤ－Ｈ（４．６×２５０ ｍｍ）（ダイセル社製）×２、移動相：ヘキサン／２－ＰｒＯＨ＝９９：１、フロー：０．５ｍｌ ｍｉｎ－１、検出器：ＵＶ ２１０ｎｍ、カラム温度：３０ｏＣ、ｔＲ＝５９．５ｍｉｎ，６６．２ｍｉｎ，７６．６ｍｉｎ，７９．２ｍｉｎ
［実施例３］化合物（２Ｒ，３Ｓ）－２ｃの合成
化合物１ｃはAngew. Chem. Int. Ed., 57, 1039-1043 (2018)に記載の方法を参考にして、原料に３－オキソ－（４－クロロフェニル）プロピオン酸エチルを用いて合成した。
１００ｍＬハイパーグラス内筒に、ＲｕＢｒ２［（Ｓ，Ｓ）－ｄｉｐｓｋｅｗｐｈｏｓ］（３－ａｍｉｑ）（２．３９ｍｇ，２μｍｏｌ，０．００２当量）とｔＢｕＯＮａ（３．８４ｍｇ，４０μｍｏｌ，０．０４当量）を量りとり、オートクレーブ内部をアルゴンガス雰囲気に置換した。アルゴンガス雰囲気下、２０ｍＬシュレンク管に化合物１ｃ（２４０．６８ｍｇ，１ｍｍｏｌ，１当量）を量り取り、ｔＢｕＯＨ（１．８ｍＬ）で希釈しながらキャヌラーを用いてオートクレーブ内に圧送した。その後、攪拌を行いながら軽く気泡立つ程度に減圧脱気とアルゴンガスの充填を５回繰り返した。つづいて水素ガスで０．５ＭＰａまで加圧し、０．１ＭＰａまでリークする作業を１０回繰り返し、系内を水素雰囲気に置換した。水素ガスを１．０ＭＰａまで加圧し、恒温水層を用いて２５ｏＣの条件で２４時間攪拌した。
２４時間後、水素ガスを放出して反応液を濃縮した。カラムクロマトグラフィー（展開液：ヘキサン／酢酸エチル＝５／１）により精製を行い無色の結晶として化合物２ｃを得た（２３１．６ｍｇ，９５％収率，ジアステレオ比９９：１，＞９９％ｅｅ）。
１Ｈ－ＮＭＲスペクトル（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ１．０４（ｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，３Ｈ），δ１．２６（ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，３Ｈ），δ２．７５（ｄｑ，Ｊ＝７．３，８．０Ｈｚ，１Ｈ），δ３．１４（ｄ，Ｊ＝４．６，１Ｈ），δ４．１８（ｑ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，２Ｈ），δ４．７４（ｄｄ，Ｊ＝４．６，８．０Ｈｚ，１Ｈ），δ７．２６－７．３６（ｍ，４Ｈ）
（２Ｒ，３Ｓ）－２ｃのエナンチオマー過剰率（ｅｅ）は、下記条件下のＨＰＬＣ光学純度測定により決定した。
カラム：ＣＨＩＲＡＬＰＡＫ ＡＤ－Ｈ（４．６×２５０ｍｍ）（ダイセル社製）×２、移動相：ヘキサン／２－ＰｒＯＨ＝９７：３、フロー：０．８ｍｌ ｍｉｎ－１、検出器：ＵＶ ２１０ｎｍ、カラム温度：３０ｏＣ、ｔＲ＝３７．９ｍｉｎ，４０．３ｍｉｎ，６７．１ｍｉｎ，７０．７ｍｉｎ
１００ｍＬハイパーグラス内筒に、ＲｕＢｒ２［（Ｓ，Ｓ）－ｄｉｐｓｋｅｗｐｈｏｓ］（３－ａｍｉｑ）（２．３９ｍｇ，２μｍｏｌ，０．００２当量）とｔＢｕＯＮａ（３．８４ｍｇ，４０μｍｏｌ，０．０４当量）を量りとり、オートクレーブ内部をアルゴンガス雰囲気に置換した。アルゴンガス雰囲気下、２０ｍＬシュレンク管に化合物１ｃ（２４０．６８ｍｇ，１ｍｍｏｌ，１当量）を量り取り、ｔＢｕＯＨ（１．８ｍＬ）で希釈しながらキャヌラーを用いてオートクレーブ内に圧送した。その後、攪拌を行いながら軽く気泡立つ程度に減圧脱気とアルゴンガスの充填を５回繰り返した。つづいて水素ガスで０．５ＭＰａまで加圧し、０．１ＭＰａまでリークする作業を１０回繰り返し、系内を水素雰囲気に置換した。水素ガスを１．０ＭＰａまで加圧し、恒温水層を用いて２５ｏＣの条件で２４時間攪拌した。
２４時間後、水素ガスを放出して反応液を濃縮した。カラムクロマトグラフィー（展開液：ヘキサン／酢酸エチル＝５／１）により精製を行い無色の結晶として化合物２ｃを得た（２３１．６ｍｇ，９５％収率，ジアステレオ比９９：１，＞９９％ｅｅ）。
１Ｈ－ＮＭＲスペクトル（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ１．０４（ｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，３Ｈ），δ１．２６（ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，３Ｈ），δ２．７５（ｄｑ，Ｊ＝７．３，８．０Ｈｚ，１Ｈ），δ３．１４（ｄ，Ｊ＝４．６，１Ｈ），δ４．１８（ｑ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，２Ｈ），δ４．７４（ｄｄ，Ｊ＝４．６，８．０Ｈｚ，１Ｈ），δ７．２６－７．３６（ｍ，４Ｈ）
（２Ｒ，３Ｓ）－２ｃのエナンチオマー過剰率（ｅｅ）は、下記条件下のＨＰＬＣ光学純度測定により決定した。
カラム：ＣＨＩＲＡＬＰＡＫ ＡＤ－Ｈ（４．６×２５０ｍｍ）（ダイセル社製）×２、移動相：ヘキサン／２－ＰｒＯＨ＝９７：３、フロー：０．８ｍｌ ｍｉｎ－１、検出器：ＵＶ ２１０ｎｍ、カラム温度：３０ｏＣ、ｔＲ＝３７．９ｍｉｎ，４０．３ｍｉｎ，６７．１ｍｉｎ，７０．７ｍｉｎ
［実施例４］化合物（２Ｒ，３Ｓ）－２ｄの合成
化合物１ｄはAngew. Chem. Int. Ed., 57, 1039-1043 (2018)に記載の方法を参考に合成した。
１００ｍＬハイパーグラス内筒に、ＲｕＢｒ２［（Ｓ，Ｓ）－ｄｉｐｓｋｅｗｐｈｏｓ］（３－ａｍｉｑ）（１．２０ｍｇ，１μｍｏｌ，０．００２当量）とｔＢｕＯＮａ（１．９２ｍｇ，２０μｍｏｌ，０．０４当量）を量りとり、オートクレーブ内部をアルゴンガス雰囲気に置換した。アルゴンガス雰囲気下、２０ｍＬシュレンク管に化合物１ｄ（１４０．２５ｍｇ，０．５ｍｍｏｌ，１当量）を量り取り、ｔＢｕＯＨ（０．８６ｍＬ）で希釈しながらキャヌラーを用いてオートクレーブ内に圧送した。その後、攪拌を行いながら軽く気泡立つ程度に減圧脱気とアルゴンガスの充填を５回繰り返した。つづいて水素ガスで０．５ＭＰａまで加圧し、０．１ＭＰａまでリークする作業を１０回繰り返し、系内を水素雰囲気に置換した。水素ガスを１．０ＭＰａまで加圧し、恒温水層を用いて２５ｏＣの条件で２４時間攪拌した。
２４時間後、水素ガスを放出して反応液を濃縮した。カラムクロマトグラフィー（展開液：ヘキサン／酢酸エチル＝５／１）により精製を行い無色の液体として化合物２ｄを得た（１３２．５ｍｇ，９２％収率，ジアステレオ比９８：２，＞９９％ｅｅ）。
１Ｈ－ＮＭＲスペクトル（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ１．２０（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ），δ１．２２（ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ），δ２．９４（ｄｑ，Ｊ＝６．８，７．２Ｈｚ，１Ｈ），δ３．５４（ｄ，Ｊ＝６．８，１Ｈ），δ４．１３（ｍ，２Ｈ），δ５．１９（ｄｄ，Ｊ＝６．８，６．８Ｈｚ，１Ｈ），δ７．１２－７．１７（ｍ，１Ｈ），δ７．３３－７．３６（ｍ，１Ｈ），δ７．４５－７．４８（ｍ，１Ｈ），δ７．５２－７．５５（ｍ，１Ｈ）
（２Ｒ，３Ｓ）－２ｄのエナンチオマー過剰率（ｅｅ）は、下記条件下のＨＰＬＣ光学純度測定により決定した。
カラム：ＣＨＩＲＡＬＰＡＫ ＡＤ－Ｈ（４．６×２５０ｍｍ）（ダイセル社製）×２、移動相：ヘキサン／２－ＰｒＯＨ＝９９：１、フロー：０．５ｍｌ ｍｉｎ－１、検出器：ＵＶ ２１０ｎｍ、カラム温度：３０ｏＣ、ｔＲ＝４７．４ｍｉｎ，６９．１ｍｉｎ，８８．４ｍｉｎ，９１．１ｍｉｎ
１００ｍＬハイパーグラス内筒に、ＲｕＢｒ２［（Ｓ，Ｓ）－ｄｉｐｓｋｅｗｐｈｏｓ］（３－ａｍｉｑ）（１．２０ｍｇ，１μｍｏｌ，０．００２当量）とｔＢｕＯＮａ（１．９２ｍｇ，２０μｍｏｌ，０．０４当量）を量りとり、オートクレーブ内部をアルゴンガス雰囲気に置換した。アルゴンガス雰囲気下、２０ｍＬシュレンク管に化合物１ｄ（１４０．２５ｍｇ，０．５ｍｍｏｌ，１当量）を量り取り、ｔＢｕＯＨ（０．８６ｍＬ）で希釈しながらキャヌラーを用いてオートクレーブ内に圧送した。その後、攪拌を行いながら軽く気泡立つ程度に減圧脱気とアルゴンガスの充填を５回繰り返した。つづいて水素ガスで０．５ＭＰａまで加圧し、０．１ＭＰａまでリークする作業を１０回繰り返し、系内を水素雰囲気に置換した。水素ガスを１．０ＭＰａまで加圧し、恒温水層を用いて２５ｏＣの条件で２４時間攪拌した。
２４時間後、水素ガスを放出して反応液を濃縮した。カラムクロマトグラフィー（展開液：ヘキサン／酢酸エチル＝５／１）により精製を行い無色の液体として化合物２ｄを得た（１３２．５ｍｇ，９２％収率，ジアステレオ比９８：２，＞９９％ｅｅ）。
１Ｈ－ＮＭＲスペクトル（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ１．２０（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ），δ１．２２（ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ），δ２．９４（ｄｑ，Ｊ＝６．８，７．２Ｈｚ，１Ｈ），δ３．５４（ｄ，Ｊ＝６．８，１Ｈ），δ４．１３（ｍ，２Ｈ），δ５．１９（ｄｄ，Ｊ＝６．８，６．８Ｈｚ，１Ｈ），δ７．１２－７．１７（ｍ，１Ｈ），δ７．３３－７．３６（ｍ，１Ｈ），δ７．４５－７．４８（ｍ，１Ｈ），δ７．５２－７．５５（ｍ，１Ｈ）
（２Ｒ，３Ｓ）－２ｄのエナンチオマー過剰率（ｅｅ）は、下記条件下のＨＰＬＣ光学純度測定により決定した。
カラム：ＣＨＩＲＡＬＰＡＫ ＡＤ－Ｈ（４．６×２５０ｍｍ）（ダイセル社製）×２、移動相：ヘキサン／２－ＰｒＯＨ＝９９：１、フロー：０．５ｍｌ ｍｉｎ－１、検出器：ＵＶ ２１０ｎｍ、カラム温度：３０ｏＣ、ｔＲ＝４７．４ｍｉｎ，６９．１ｍｉｎ，８８．４ｍｉｎ，９１．１ｍｉｎ
［実施例５］化合物（２Ｒ，３Ｓ）－２ｅの合成
化合物１ｅはAngew. Chem. Int. Ed., 57, 1039-1043 (2018)に記載の方法を参考にして、原料にβ－オキソ－３－フランプロピオン酸エチルを用いて合成した。
実施例２と同条件の操作により２ｅを取得した（１３１．０ｍｇ，６７％収率，ジアステレオ比９８：２，＞９９％ｅｅ）。
１Ｈ－ＮＭＲスペクトル（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ１．１３（ｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，３Ｈ），δ１．２７（ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，３Ｈ），δ２．７８（ｄｑ，Ｊ＝７．３，７．３Ｈｚ，１Ｈ），δ２．９９（ｄ，Ｊ＝５．５，１Ｈ），δ４．１９（ｑ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，２Ｈ），δ４．７５（ｄｄ，Ｊ＝５．５，７．３Ｈｚ，１Ｈ），δ６．３９－６．４２（ｍ，１Ｈ），δ７．３８－７．４２（ｍ，２Ｈ）
（２Ｒ，３Ｓ）－２ｅのエナンチオマー過剰率（ｅｅ）は、下記条件下のＨＰＬＣ光学純度測定により決定した。
カラム：ＣＨＩＲＡＬＰＡＫ ＡＤ－Ｈ（４．６×２５０ ｍｍ）（ダイセル社製）×２、移動相：ヘキサン／２－ＰｒＯＨ＝９７／３、フロー：０．８ｍｌ ｍｉｎ－１、検出器：ＵＶ ２１０ｎｍ、カラム温度：３０ｏＣ、ｔＲ＝２１．１ｍｉｎ，２４．４ｍｉｎ，３１．３ｍｉｎ，３４．３ｍｉｎ
実施例２と同条件の操作により２ｅを取得した（１３１．０ｍｇ，６７％収率，ジアステレオ比９８：２，＞９９％ｅｅ）。
１Ｈ－ＮＭＲスペクトル（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ１．１３（ｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，３Ｈ），δ１．２７（ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，３Ｈ），δ２．７８（ｄｑ，Ｊ＝７．３，７．３Ｈｚ，１Ｈ），δ２．９９（ｄ，Ｊ＝５．５，１Ｈ），δ４．１９（ｑ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，２Ｈ），δ４．７５（ｄｄ，Ｊ＝５．５，７．３Ｈｚ，１Ｈ），δ６．３９－６．４２（ｍ，１Ｈ），δ７．３８－７．４２（ｍ，２Ｈ）
（２Ｒ，３Ｓ）－２ｅのエナンチオマー過剰率（ｅｅ）は、下記条件下のＨＰＬＣ光学純度測定により決定した。
カラム：ＣＨＩＲＡＬＰＡＫ ＡＤ－Ｈ（４．６×２５０ ｍｍ）（ダイセル社製）×２、移動相：ヘキサン／２－ＰｒＯＨ＝９７／３、フロー：０．８ｍｌ ｍｉｎ－１、検出器：ＵＶ ２１０ｎｍ、カラム温度：３０ｏＣ、ｔＲ＝２１．１ｍｉｎ，２４．４ｍｉｎ，３１．３ｍｉｎ，３４．３ｍｉｎ
［実施例６］化合物（２Ｒ，３Ｓ）－２ｆの合成
化合物１ｆはJ. Med. Chem., 32, 757-765 (1989)に記載の方法を参考に合成した。
実施例３と同条件の操作により２ｆを取得した（２４８．８ｍｇ，９６％収率，ジアステレオ比＞９９：１，＞９９％ｅｅ）。
１Ｈ－ＮＭＲスペクトル（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ１．０７（ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ），δ１．２５（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ），δ３．１６（ｄｑ，Ｊ＝７．６，７．６Ｈｚ，１Ｈ），δ３．２９（ｄ，Ｊ＝４．４，１Ｈ），δ４．２０（ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），δ５．５３（ｄｄ，Ｊ＝４．４，７．６Ｈｚ，１Ｈ），δ７．４７－７．５８（ｍ，４Ｈ），δ７．８１（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），δ７．８８（ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，１Ｈ），δ８．２３（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ）
（２Ｒ，３Ｓ）－２ｆのエナンチオマー過剰率（ｅｅ）は、下記条件下のＨＰＬＣ測定により決定した。
カラム：ＣＨＩＲＡＬＣＥＬ ＯＤ－Ｈ（４．６×２５０ ｍｍ）（ダイセル社製）、移動相：ヘキサン／２－ＰｒＯＨ＝９７／３、フロー：０．８ｍｌ ｍｉｎ－１、検出器：ＵＶ ２１０ｎｍ、カラム温度：３０ｏＣ、ｔＲ＝１９．６ｍｉｎ，２９．５ｍｉｎ，３３．２ｍｉｎ，６２．７ｍｉｎ
実施例３と同条件の操作により２ｆを取得した（２４８．８ｍｇ，９６％収率，ジアステレオ比＞９９：１，＞９９％ｅｅ）。
１Ｈ－ＮＭＲスペクトル（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ１．０７（ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ），δ１．２５（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ），δ３．１６（ｄｑ，Ｊ＝７．６，７．６Ｈｚ，１Ｈ），δ３．２９（ｄ，Ｊ＝４．４，１Ｈ），δ４．２０（ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），δ５．５３（ｄｄ，Ｊ＝４．４，７．６Ｈｚ，１Ｈ），δ７．４７－７．５８（ｍ，４Ｈ），δ７．８１（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），δ７．８８（ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，１Ｈ），δ８．２３（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ）
（２Ｒ，３Ｓ）－２ｆのエナンチオマー過剰率（ｅｅ）は、下記条件下のＨＰＬＣ測定により決定した。
カラム：ＣＨＩＲＡＬＣＥＬ ＯＤ－Ｈ（４．６×２５０ ｍｍ）（ダイセル社製）、移動相：ヘキサン／２－ＰｒＯＨ＝９７／３、フロー：０．８ｍｌ ｍｉｎ－１、検出器：ＵＶ ２１０ｎｍ、カラム温度：３０ｏＣ、ｔＲ＝１９．６ｍｉｎ，２９．５ｍｉｎ，３３．２ｍｉｎ，６２．７ｍｉｎ
［実施例７］化合物（２Ｒ，３Ｓ）－２ｇの合成
化合物１ｇはAngew. Chem. Int. Ed., 57, 1039-1043 (2018)に記載の方法を参考にして、原料にヨードエタンを用いて合成した。
実施例３と同条件の操作により２ｇを取得した（２０７．０ｍｇ，９３％収率，ジアステレオ比９６：４，９７．６％ｅｅ）。
１Ｈ－ＮＭＲスペクトル（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ０．８８（ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，３Ｈ），δ１．２３（ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，３Ｈ），δ１．３５－１．４５（ｍ，１Ｈ），δ１．５０－１．６４（ｍ，１Ｈ），δ２．６８（ｄｄｄ，７．８Ｈｚ，１Ｈ），δ２．８６（ｄ，Ｊ＝５．５Ｈｚ，１Ｈ），δ４．１７（ｍ，２Ｈ），δ４．８１（ｄｄ，Ｊ＝５．５，７．８Ｈｚ，１Ｈ），δ７．２７－７．３８（ｍ，５Ｈ）
（２Ｒ，３Ｓ）－２ｇのエナンチオマー過剰率（ｅｅ）は、下記条件下のＨＰＬＣ光学純度測定により決定した。
カラム：ＣＨＩＲＡＬＣＥＬ ＯＤ－Ｈ（４．６×２５０ｍｍ）（ダイセル社製）×２、移動相：ヘキサン／２－ＰｒＯＨ＝９７／３、フロー：０．８ｍｌ ｍｉｎ－１、検出器：ＵＶ ２１０ｎｍ、カラム温度：３０ｏＣ、ｔＲ＝２１．５ｍｉｎ，２４．９ｍｉｎ，３１．４ｍｉｎ，３２．９ｍｉｎ
実施例３と同条件の操作により２ｇを取得した（２０７．０ｍｇ，９３％収率，ジアステレオ比９６：４，９７．６％ｅｅ）。
１Ｈ－ＮＭＲスペクトル（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ０．８８（ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，３Ｈ），δ１．２３（ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，３Ｈ），δ１．３５－１．４５（ｍ，１Ｈ），δ１．５０－１．６４（ｍ，１Ｈ），δ２．６８（ｄｄｄ，７．８Ｈｚ，１Ｈ），δ２．８６（ｄ，Ｊ＝５．５Ｈｚ，１Ｈ），δ４．１７（ｍ，２Ｈ），δ４．８１（ｄｄ，Ｊ＝５．５，７．８Ｈｚ，１Ｈ），δ７．２７－７．３８（ｍ，５Ｈ）
（２Ｒ，３Ｓ）－２ｇのエナンチオマー過剰率（ｅｅ）は、下記条件下のＨＰＬＣ光学純度測定により決定した。
カラム：ＣＨＩＲＡＬＣＥＬ ＯＤ－Ｈ（４．６×２５０ｍｍ）（ダイセル社製）×２、移動相：ヘキサン／２－ＰｒＯＨ＝９７／３、フロー：０．８ｍｌ ｍｉｎ－１、検出器：ＵＶ ２１０ｎｍ、カラム温度：３０ｏＣ、ｔＲ＝２１．５ｍｉｎ，２４．９ｍｉｎ，３１．４ｍｉｎ，３２．９ｍｉｎ
［実施例８］化合物（２Ｒ，３Ｓ）－２ｈの合成
化合物１ｈはAngew. Chem. Int. Ed., 57, 1039-1043 (2018)に記載の方法を参考にして、原料に２－ヨードプロパンを用いて合成した。
実施例３と同条件の操作により２ｈを取得した（１８０．６ｍｇ，７６％収率，ジアステレオ比９３：７，＞９９％ｅｅ）。
１Ｈ－ＮＭＲスペクトル（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ０．９５（ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，３Ｈ），δ１．０７（ｄ，ｏｖｅｒｌａｐｐｅｄ，３Ｈ），δ１．０８（ｔ，ｏｖｅｒｌａｐｐｅｄ，３Ｈ），δ２．０３（ｍ，１Ｈ），δ２．５３（ｄｄ，Ｊ＝５．５，８．２Ｈｚ，１Ｈ），δ３．４２（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），δ４．００－４．０７（ｍ，２Ｈ），δ４．９８（ｄｄ，Ｊ＝５．５，７．８Ｈｚ，１Ｈ），δ７．２４－７．３８（ｍ，５Ｈ）
（２Ｒ，３Ｓ）－２ｈのエナンチオマー過剰率（ｅｅ）は、下記条件下のＨＰＬＣ光学純度測定により決定した。
カラム：ＣＨＩＲＡＬＰＡＫ ＡＤ－Ｈ（４．６×２５０ｍｍ）（ダイセル社製）×２、移動相：ヘキサン／２－ＰｒＯＨ＝９８／２、フロー：０．８ｍｌ ｍｉｎ－１、検出器：ＵＶ ２１０ｎｍ、カラム温度：３０ｏＣ、ｔＲ＝３６．０ｍｉｎ，３８．８ｍｉｎ，４２．９ｍｉｎ，５０．０ｍｉｎ
実施例３と同条件の操作により２ｈを取得した（１８０．６ｍｇ，７６％収率，ジアステレオ比９３：７，＞９９％ｅｅ）。
１Ｈ－ＮＭＲスペクトル（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ０．９５（ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，３Ｈ），δ１．０７（ｄ，ｏｖｅｒｌａｐｐｅｄ，３Ｈ），δ１．０８（ｔ，ｏｖｅｒｌａｐｐｅｄ，３Ｈ），δ２．０３（ｍ，１Ｈ），δ２．５３（ｄｄ，Ｊ＝５．５，８．２Ｈｚ，１Ｈ），δ３．４２（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），δ４．００－４．０７（ｍ，２Ｈ），δ４．９８（ｄｄ，Ｊ＝５．５，７．８Ｈｚ，１Ｈ），δ７．２４－７．３８（ｍ，５Ｈ）
（２Ｒ，３Ｓ）－２ｈのエナンチオマー過剰率（ｅｅ）は、下記条件下のＨＰＬＣ光学純度測定により決定した。
カラム：ＣＨＩＲＡＬＰＡＫ ＡＤ－Ｈ（４．６×２５０ｍｍ）（ダイセル社製）×２、移動相：ヘキサン／２－ＰｒＯＨ＝９８／２、フロー：０．８ｍｌ ｍｉｎ－１、検出器：ＵＶ ２１０ｎｍ、カラム温度：３０ｏＣ、ｔＲ＝３６．０ｍｉｎ，３８．８ｍｉｎ，４２．９ｍｉｎ，５０．０ｍｉｎ
［実施例９］化合物（２Ｒ，３Ｓ）－２ｉの合成
化合物１ｉはAngew. Chem. Int. Ed., 57, 1039-1043 (2018)に記載の方法を参考にして、原料に３－ヨードプロピレンを用いて合成した。
実施例２と同条件の操作により２ｉを取得した（２１７．６ｍｇ，９３％収率，ジアステレオ比９４：６，＞９９％ｅｅ）。
１Ｈ－ＮＭＲスペクトル（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ１．２０（ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，３Ｈ），δ２．１４－２．２３（ｍ，１Ｈ），δ２．２６－２．３５（ｍ，１Ｈ），δ２．８４（ｍ，１Ｈ），δ２．９６（ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ，１Ｈ），δ４．１５（ｍ，２Ｈ），δ４．８３（ｄｄ，Ｊ＝６．０，７．６Ｈｚ，１Ｈ），δ５．００－５．０７（ｍ，２Ｈ），δ５．６４－５．７６（ｍ，１Ｈ），δ７．２８－７．３９（ｍ，５Ｈ）
（２Ｒ，３Ｓ）－２ｉのエナンチオマー過剰率（ｅｅ）は、下記条件下のＨＰＬＣ光学純度測定により決定した。
カラム：ＣＨＩＲＡＬＰＡＫ ＡＤ－Ｈ（４．６×２５０ｍｍ）（ダイセル社製）×２、移動相：ヘキサン／２－ＰｒＯＨ＝９８／２、フロー：０．８ｍｌ ｍｉｎ－１、検出器：ＵＶ ２１０ｎｍ、カラム温度：３０ｏＣ、ｔＲ＝３７．８ｍｉｎ，４２．２ｍｉｎ，６６．０ｍｉｎ，６８．５ｍｉｎ
実施例２と同条件の操作により２ｉを取得した（２１７．６ｍｇ，９３％収率，ジアステレオ比９４：６，＞９９％ｅｅ）。
１Ｈ－ＮＭＲスペクトル（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ１．２０（ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，３Ｈ），δ２．１４－２．２３（ｍ，１Ｈ），δ２．２６－２．３５（ｍ，１Ｈ），δ２．８４（ｍ，１Ｈ），δ２．９６（ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ，１Ｈ），δ４．１５（ｍ，２Ｈ），δ４．８３（ｄｄ，Ｊ＝６．０，７．６Ｈｚ，１Ｈ），δ５．００－５．０７（ｍ，２Ｈ），δ５．６４－５．７６（ｍ，１Ｈ），δ７．２８－７．３９（ｍ，５Ｈ）
（２Ｒ，３Ｓ）－２ｉのエナンチオマー過剰率（ｅｅ）は、下記条件下のＨＰＬＣ光学純度測定により決定した。
カラム：ＣＨＩＲＡＬＰＡＫ ＡＤ－Ｈ（４．６×２５０ｍｍ）（ダイセル社製）×２、移動相：ヘキサン／２－ＰｒＯＨ＝９８／２、フロー：０．８ｍｌ ｍｉｎ－１、検出器：ＵＶ ２１０ｎｍ、カラム温度：３０ｏＣ、ｔＲ＝３７．８ｍｉｎ，４２．２ｍｉｎ，６６．０ｍｉｎ，６８．５ｍｉｎ
［実施例１０］化合物（２Ｒ，３Ｓ）－２ｊの合成
化合物１ｊはEur. J. Org. Chem., 2333-2336 (2015)に記載の方法を参考に合成した。
１００ｍＬハイパーグラス内筒に、化合物１ｊ（１３４．２ｍｇ，０．５ｍｍｏｌ，１当量）、ＲｕＢｒ２［（Ｓ，Ｓ）－ｘｙｌｓｋｅｗｐｈｏｓ］（３，５－ｄｍｐｉｃａ）（４．７５ｍｇ，５μｍｏｌ，０．０１当量）、ｔＢｕＯＮａ（１．９２ｍｇ，２０μｍｏｌ，０．０４当量）を量りとり、オートクレーブ内部をアルゴンガス雰囲気に置換した。アルゴンガスをフローさせながらｔＢｕＯＨ（１０ｍＬ）を加えたのち、攪拌を行いながら軽く気泡立つ程度に減圧脱気とアルゴンガスの充填を５回繰り返した。つづいて水素ガスで０．５ＭＰａまで加圧し、０．１ＭＰａまでリークする作業を１０回繰り返し、系内を水素雰囲気に置換した。水素ガスを１．０ＭＰａまで加圧し、恒温水層を用いて２５ｏＣの条件で２４時間攪拌した。
２４時間後、水素ガスを放出して反応液を濃縮した。カラムクロマトグラフィー（展開液：ヘキサン／酢酸エチル＝５／１）により精製を行い無色の液体として化合物２ｊを得た（７７．３ｍｇ，５７％収率，ジアステレオ比９４：６，９７．９％ｅｅ）。
１００ｍＬハイパーグラス内筒に、化合物１ｊ（１３４．２ｍｇ，０．５ｍｍｏｌ，１当量）、ＲｕＢｒ２［（Ｓ，Ｓ）－ｘｙｌｓｋｅｗｐｈｏｓ］（３，５－ｄｍｐｉｃａ）（４．７５ｍｇ，５μｍｏｌ，０．０１当量）、ｔＢｕＯＮａ（１．９２ｍｇ，２０μｍｏｌ，０．０４当量）を量りとり、オートクレーブ内部をアルゴンガス雰囲気に置換した。アルゴンガスをフローさせながらｔＢｕＯＨ（１０ｍＬ）を加えたのち、攪拌を行いながら軽く気泡立つ程度に減圧脱気とアルゴンガスの充填を５回繰り返した。つづいて水素ガスで０．５ＭＰａまで加圧し、０．１ＭＰａまでリークする作業を１０回繰り返し、系内を水素雰囲気に置換した。水素ガスを１．０ＭＰａまで加圧し、恒温水層を用いて２５ｏＣの条件で２４時間攪拌した。
２４時間後、水素ガスを放出して反応液を濃縮した。カラムクロマトグラフィー（展開液：ヘキサン／酢酸エチル＝５／１）により精製を行い無色の液体として化合物２ｊを得た（７７．３ｍｇ，５７％収率，ジアステレオ比９４：６，９７．９％ｅｅ）。
１Ｈ－ＮＭＲスペクトル（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ１．２２（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ），δ３．１５（ｄ，Ｊ＝４．０Ｈｚ，１Ｈ），δ３．８７（ｄ，Ｊ＝９．２Ｈｚ，１Ｈ），δ４．１０－４．２８（ｍ，２Ｈ），δ５．１７（ｄｄ，Ｊ＝９．２，４．０Ｈｚ，１Ｈ），δ７．０６－７．３０（ｍ，１０Ｈ）
（２Ｒ，３Ｓ）－２ｊのエナンチオマー過剰率（ｅｅ）は、下記条件下のＨＰＬＣ光学純度測定により決定した。
カラム：ＣＨＩＲＡＬＣＥＬ ＯＪ－Ｈ（４．６×２５０ｍｍ）（ダイセル社製）、移動相：ヘキサン／２－ＰｒＯＨ＝９０／１０、フロー：０．８ｍｌ ｍｉｎ－１、検出器：ＵＶ ２１０ｎｍ、カラム温度：３０ｏＣ、ｔＲ＝９．１ｍｉｎ，１４．１ｍｉｎ，１５．６ｍｉｎ，２５．５ｍｉｎ
（２Ｒ，３Ｓ）－２ｊのエナンチオマー過剰率（ｅｅ）は、下記条件下のＨＰＬＣ光学純度測定により決定した。
カラム：ＣＨＩＲＡＬＣＥＬ ＯＪ－Ｈ（４．６×２５０ｍｍ）（ダイセル社製）、移動相：ヘキサン／２－ＰｒＯＨ＝９０／１０、フロー：０．８ｍｌ ｍｉｎ－１、検出器：ＵＶ ２１０ｎｍ、カラム温度：３０ｏＣ、ｔＲ＝９．１ｍｉｎ，１４．１ｍｉｎ，１５．６ｍｉｎ，２５．５ｍｉｎ
［実施例１１］化合物（２Ｒ，３Ｓ）－２ｋの合成
１００ｍＬガラス内筒に、化合物１ｋ（１３１．７ｍｇ，０．５ｍｍｏｌ，１当量）、ＲｕＢｒ２［（Ｓ，Ｓ）－ｄｉｐｓｋｅｗｐｈｏｓ］（３－ａｍｉｑ）（５．９８ｍｇ，５μｍｏｌ，０．０１当量）、ｔＢｕＯＮａ（１．９２ｍｇ，２０μｍｏｌ，０．０４当量）を量りとり、オートクレーブ内部をアルゴンガス雰囲気に置換した。アルゴンガスをフローさせながらｔＢｕＯＨ（０．８７ｍＬ）を加えたのち、攪拌を行いながら軽く気泡立つ程度に減圧脱気とアルゴンガスの充填を５回繰り返した。つづいて水素ガスで０．５ＭＰａまで加圧し、０．１ＭＰａまでリークする作業を１０回繰り返し、系内を水素雰囲気に置換した。水素ガスを２．０ＭＰａまで加圧し、恒温水層を用いて４０ｏＣの条件で２４時間攪拌した。
２４時間後、水素ガスを放出して反応液を濃縮した。カラムクロマトグラフィー（展開液：ヘキサン／酢酸エチル＝１／１）により精製を行い無色の液体として化合物２ｋを得た（１２３．３ｍｇ，９３％収率，ジアステレオ比９０：１０，＞９９％ｅｅ）。
２４時間後、水素ガスを放出して反応液を濃縮した。カラムクロマトグラフィー（展開液：ヘキサン／酢酸エチル＝１／１）により精製を行い無色の液体として化合物２ｋを得た（１２３．３ｍｇ，９３％収率，ジアステレオ比９０：１０，＞９９％ｅｅ）。
１Ｈ－ＮＭＲスペクトル（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ１．１７（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ），δ１．９３（ｓ，３Ｈ），δ３．０７（ｄｔ，Ｊ＝６．０，７．２Ｈｚ，１Ｈ），δ３．２２（ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ，１Ｈ），δ３．４０－３．５５（ｍ，２Ｈ），δ４．０９－４．１５（ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），δ４．９４（ｄｄ，Ｊ＝６．０，６．０Ｈｚ，１Ｈ），δ５．７８（ｂｒ，１Ｈ），δ７．２７－７．３６（ｍ，５Ｈ）
（２Ｒ，３Ｓ）－２ｋのエナンチオマー過剰率（ｅｅ）は、下記条件下のＨＰＬＣ光学純度測定により決定した。
カラム：ＣＨＩＲＡＬＣＥＬ ＯＪ－Ｈ（４．６×２５０ｍｍ）（ダイセル社製）＋ＣＨＩＲＡＬＰＡＫ ＡＤ－Ｈ（４．６×２５０ｍｍ）（ダイセル社製）、移動相：ヘキサン／２－ＰｒＯＨ＝９０／１０、フロー：１．０ｍｌ ｍｉｎ－１、検出器：ＵＶ ２１０ｎｍ、カラム温度：３０ｏＣ、ｔＲ＝２３．０ｍｉｎ，２８．９ｍｉｎ，３１．９ｍｉｎ，３７．５ｍｉｎ
（２Ｒ，３Ｓ）－２ｋのエナンチオマー過剰率（ｅｅ）は、下記条件下のＨＰＬＣ光学純度測定により決定した。
カラム：ＣＨＩＲＡＬＣＥＬ ＯＪ－Ｈ（４．６×２５０ｍｍ）（ダイセル社製）＋ＣＨＩＲＡＬＰＡＫ ＡＤ－Ｈ（４．６×２５０ｍｍ）（ダイセル社製）、移動相：ヘキサン／２－ＰｒＯＨ＝９０／１０、フロー：１．０ｍｌ ｍｉｎ－１、検出器：ＵＶ ２１０ｎｍ、カラム温度：３０ｏＣ、ｔＲ＝２３．０ｍｉｎ，２８．９ｍｉｎ，３１．９ｍｉｎ，３７．５ｍｉｎ
［実施例１２］化合物（２Ｒ，３Ｓ）－２ｌの合成
化合物１ｌはChem. A Eur. J., 16, 11954-11962 (2010)に記載の方法を参考にして塩酸塩を合成し、中和することで取得した。
１００ｍＬガラス内筒に、ＲｕＢｒ２［（Ｓ，Ｓ）－ｄｉｐｓｋｅｗｐｈｏｓ］（３－ａｍｉｑ）（５．９８ｍｇ，５μｍｏｌ，０．０１当量）とｔＢｕＯＮａ（１．９２ｍｇ，２０μｍｏｌ，０．０４当量）を量りとり、ステンレスのオートクレーブ内部をアルゴンガス雰囲気に置換した。アルゴンガス雰囲気下、２０ｍＬシュレンク管に化合物１ｌ（１１７．６４ｍｇ，０．５ｍｍｏｌ，１当量）を量り取り、ｔＢｕＯＨ（０．８８ｍＬ）で希釈しながらキャヌラーを用いてオートクレーブ内に圧送した。その後、攪拌を行いながら軽く気泡立つ程度に減圧脱気とアルゴンガスの充填を５回繰り返した。つづいて水素ガスで０．５ＭＰａまで加圧し、０．１ＭＰａまでリークする作業を１０回繰り返し、系内を水素雰囲気に置換した。水素ガスを２．０ＭＰａまで加圧し、恒温水層を用いて４０ｏＣの条件で７２時間攪拌した。
７２時間後、水素ガスを放出して反応液を濃縮した。カラムクロマトグラフィー（展開液：ヘキサン／酢酸エチル＝５／１）により精製を行い無色の液体として化合物２ｌを得た（８９．０ｍｇ，７５％収率，ジアステレオ比９３：７，＞９９％ｅｅ）。
１００ｍＬガラス内筒に、ＲｕＢｒ２［（Ｓ，Ｓ）－ｄｉｐｓｋｅｗｐｈｏｓ］（３－ａｍｉｑ）（５．９８ｍｇ，５μｍｏｌ，０．０１当量）とｔＢｕＯＮａ（１．９２ｍｇ，２０μｍｏｌ，０．０４当量）を量りとり、ステンレスのオートクレーブ内部をアルゴンガス雰囲気に置換した。アルゴンガス雰囲気下、２０ｍＬシュレンク管に化合物１ｌ（１１７．６４ｍｇ，０．５ｍｍｏｌ，１当量）を量り取り、ｔＢｕＯＨ（０．８８ｍＬ）で希釈しながらキャヌラーを用いてオートクレーブ内に圧送した。その後、攪拌を行いながら軽く気泡立つ程度に減圧脱気とアルゴンガスの充填を５回繰り返した。つづいて水素ガスで０．５ＭＰａまで加圧し、０．１ＭＰａまでリークする作業を１０回繰り返し、系内を水素雰囲気に置換した。水素ガスを２．０ＭＰａまで加圧し、恒温水層を用いて４０ｏＣの条件で７２時間攪拌した。
７２時間後、水素ガスを放出して反応液を濃縮した。カラムクロマトグラフィー（展開液：ヘキサン／酢酸エチル＝５／１）により精製を行い無色の液体として化合物２ｌを得た（８９．０ｍｇ，７５％収率，ジアステレオ比９３：７，＞９９％ｅｅ）。
１Ｈ－ＮＭＲスペクトル（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ１．１６（ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ），δ２．３６（ｓ，６Ｈ），δ３．２８（ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，１Ｈ），δ４．０２－４．１７（ｍ，２Ｈ），δ５．００－５．０７（ｍ，２Ｈ），δ５．０２（ｄ，Ｊ＝７．２，４．１Ｈｚ，１Ｈ），δ７．２６－７．３８（ｍ，５Ｈ）
（２Ｒ，３Ｓ）－２ｌのエナンチオマー過剰率（ｅｅ）は、下記条件下のＨＰＬＣ光学純度測定により決定した。
カラム：ＣＨＩＲＡＬＣＥＬ ＯＤ－Ｈ（４．６×２５０ｍｍ）（ダイセル社製）、移動相：ヘキサン／２－ＰｒＯＨ＝９７／３、フロー：０．８ｍｌ ｍｉｎ－１、検出器：ＵＶ ２１０ｎｍ、カラム温度：３０ｏＣ、ｔＲ＝８．０ｍｉｎ，９．０ｍｉｎ，１９．３ｍｉｎ，２１．４ｍｉｎ
（２Ｒ，３Ｓ）－２ｌのエナンチオマー過剰率（ｅｅ）は、下記条件下のＨＰＬＣ光学純度測定により決定した。
カラム：ＣＨＩＲＡＬＣＥＬ ＯＤ－Ｈ（４．６×２５０ｍｍ）（ダイセル社製）、移動相：ヘキサン／２－ＰｒＯＨ＝９７／３、フロー：０．８ｍｌ ｍｉｎ－１、検出器：ＵＶ ２１０ｎｍ、カラム温度：３０ｏＣ、ｔＲ＝８．０ｍｉｎ，９．０ｍｉｎ，１９．３ｍｉｎ，２１．４ｍｉｎ
［実施例１３］化合物（２Ｒ，３Ｓ）－２ｎの合成
１００ｍＬハイパーグラス内筒に、化合物１ｎ（１３３．７ｍｇ，０．５ｍｍｏｌ，１当量）ＲｕＢｒ２［（Ｓ，Ｓ）－ｄｉｐｓｋｅｗｐｈｏｓ］（３－ａｍｉｑ）（１．２０ｍｇ，１μｍｏｌ，０．００２当量）とｔＢｕＯＮａ（１．９２ｍｇ，４０μｍｏｌ，０．０４当量）を量りとり、オートクレーブ内部をアルゴンガス雰囲気に置換した。アルゴンガスをフローさせながらｔＢｕＯＨ（０．８７ｍＬ）を加えたのち、攪拌を行いながら軽く気泡立つ程度に減圧脱気とアルゴンガスの充填を５回繰り返した。その後、水素ガスで０．５ＭＰａまで加圧し、０．１ＭＰａまでリークする作業を１０回繰り返し、系内を水素雰囲気に置換した。水素ガスを１．０ＭＰａまで加圧し、恒温水層を用いて２５ｏＣの条件で２４時間攪拌した。
２４時間後、水素ガスを放出して反応液を濃縮した。カラムクロマトグラフィー（展開液：ヘキサン／酢酸エチル＝２／１）により精製を行い無色の固体として化合物２ｎを得た（１３３．９ｍｇ，９９％収率，ジアステレオ比＞９９：１，＞９９％ｅｅ）。
２４時間後、水素ガスを放出して反応液を濃縮した。カラムクロマトグラフィー（展開液：ヘキサン／酢酸エチル＝２／１）により精製を行い無色の固体として化合物２ｎを得た（１３３．９ｍｇ，９９％収率，ジアステレオ比＞９９：１，＞９９％ｅｅ）。
１Ｈ－ＮＭＲスペクトル（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ１．２１（ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，３Ｈ），δ２．５５（ｄｑ，Ｊ＝６．０，７．６Ｈｚ，１Ｈ），δ３．８４（ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ，１Ｈ），δ４．３０－４．５０（ｍ，２Ｈ），δ４．７８（ｄｄ，Ｊ＝６．０，６．０Ｈｚ，１Ｈ），δ５．８５（ｂｒｓ，１Ｈ），δ７．０８－７．１１（ｍ，２Ｈ），δ７．２５－７．３５（ｍ，８Ｈ）
（２Ｒ，３Ｓ）－２ｎのエナンチオマー過剰率（ｅｅ）は、下記条件下のＨＰＬＣ光学純度測定により決定した。
カラム：ＣＨＩＲＡＬＣＥＬ ＯＤ－Ｈ（４．６×２５０ｍｍ）（ダイセル社製）×２、移動相：ヘキサン／２－ＰｒＯＨ＝９０／１０、フロー：１．０ｍｌ ｍｉｎ－１、検出器：ＵＶ ２１０ｎｍ、カラム温度：３０ｏＣ、ｔＲ＝１８．２ｍｉｎ，２４．２ｍｉｎ，３０．０ｍｉｎ，３２．７ｍｉｎ
（２Ｒ，３Ｓ）－２ｎのエナンチオマー過剰率（ｅｅ）は、下記条件下のＨＰＬＣ光学純度測定により決定した。
カラム：ＣＨＩＲＡＬＣＥＬ ＯＤ－Ｈ（４．６×２５０ｍｍ）（ダイセル社製）×２、移動相：ヘキサン／２－ＰｒＯＨ＝９０／１０、フロー：１．０ｍｌ ｍｉｎ－１、検出器：ＵＶ ２１０ｎｍ、カラム温度：３０ｏＣ、ｔＲ＝１８．２ｍｉｎ，２４．２ｍｉｎ，３０．０ｍｉｎ，３２．７ｍｉｎ
Claims (7)
- 光学活性なヒドロキシエステル類またはヒドロキシアミド類の製造方法であって、下記一般式（１）
ＲｕＸＹＡＢ （１）
［（一般式（１）中、ＸおよびＹは互いに同一または異なり、水素原子またはアニオン性基を示し、Ａは下記一般式（２）
Ｒ１およびＲ２は、互いに同一または異なり、置換基を有してもよい炭素数１～２０の鎖状または環状炭化水素基を示し、
Ｒ３およびＲ４は互いに同一または異なり、水素原子、または炭素数１～３の炭化水素基を示し、
Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は、互いに同一または異なり、置換基を有してもよい炭化水素基を表し、＊は不斉炭素原子を表す。）
で表される光学活性ジホスフィンを示し、
Ｂは、下記一般式（３）
Ｒ９、Ｒ１０およびＲ１１は、互いに同一または異なり、水素原子または置換基を有してもよい炭素数１～２０の鎖状もしくは環状炭化水素基を示し、および／または、Ｒ１０とＲ１１は、互いに連結して、置換基を有していてもよい飽和または不飽和の炭化水素環または複素環を形成してもよく、
各Ｒ１２は、互いに同一または異なり、置換基を有してもよい炭素数１～２０の鎖状もしくは環状炭化水素基を示し、および／または、２つのＲ１２同士が互いに連結して、置換基を有していてもよい飽和または不飽和の炭化水素環または複素環を形成してもよく、
Ｒ１２は、少なくともその一部がアニオン性基Ｘとしてルテニウムに結合してもよく、
ｎは、０～（４－（窒素原子であるＤの数））の整数である。）で表されるアミン化合物を示す。］
で表される化合物から選択される１種または２種以上のルテニウム錯体の存在下において、下記一般式（４）
で表される光学活性なヒドロキシエステル類またはヒドロキシアミド類を製造する、前記方法。 - 反応系中に、下記一般式（６）
ＲｕＸＹＡ （６）
（一般式（６）中、Ｘ、ＹおよびＡは、互いに独立して一般式（１）中で定義されたとおりの意味を有する。）で表される化合物から選択される１種または２種以上の錯体と、前記一般式（３）で表される化合物から選択される１種または２種以上のアミン化合物とを存在させることにより、一般式（１）で表されるルテニウム錯体がｉｎ ｓｉｔｕで調製される、請求項１に記載の方法。 - ２つのＲ１２同士が互いに連結して、置換基を有していてもよい飽和または不飽和の炭化水素環または複素環を形成し、当該２つのＲ１２同士によって形成される環とＤを含んで構成される環とによって形成される環が、キノリン環またはイソキノリン環である、請求項１または２に記載の方法。
- 一般式（３）中、４つのＤのうち１以上が窒素原子である、請求項１～３のいずれか１項に記載の方法。
- Ａが、２，４－ビス－（ジフェニルホスフィノ）ペンタン、２，４－ビス－（ジ－４－トリルホスフィノ）ペンタン、２，４－ビス－（ジ－３，５－キシリルホスフィノ）ペンタン、２，４－ビス－（ジ－４－ｔｅｒｔ－ブチルフェニルホスフィノ）ペンタン、２，４－ビス－（ジ－４－イソプロピルフェニルホスフィノ）ペンタン、２，４－ビス－（ジ－３，５－ジエチルフェニルホスフィノ）ペンタン、２，４－ビス－（ジ－３，５－ジイソプロピルフェニルホスフィノ）ペンタン、２，４－ビス－（ジ－３，５－ジｔｅｒｔブチルフェニルホスフィノ）ペンタン、２，４－ビス－（ジフェニルホスフィノ）－３－メチルペンタン、２，４－ビス－（ジ－４－トリルホスフィノ）－３－メチルペンタン、２，４－ビス－（ジ－３，５－キシリルホスフィノ）－３－メチルペンタン、２，４－ビス－（ジ－４－ｔｅｒｔ－ブチルフェニルホスフィノ）－３－メチルペンタン、２，４－ビス－（ジ－３，５－ジエチルフェニルホスフィノ）－３－メチルペンタン、２，４－ビス－（ジ－３，５－ジイソプロピルフェニルホスフィノ）－３－メチルペンタン、１，３－ビス－（ジフェニルホスフィノ）－１，３－ジフェニルプロパン、１，３－ビス－（ジ－４－トリルホスフィノ）－１，３－ジフェニルプロパン、１，３－ビス－（ジ－３，５－キシリルホスフィノ）－１，３－ジフェニルプロパン、１，３－ビス－（ジ－４－ｔｅｒｔ－ブチルフェニルホスフィノ）－１，３－ジフェニルプロパン、１，３－ビス－（ジ－３，５－ジエチルフェニルホスフィノ）－１，３－ジフェニルプロパン、１，３－ビス－（ジ－３，５－ジイソプロピルフェニルホスフィノ）－１，３－ジフェニルプロパン、１，３－ビス－（ジフェニルホスフィノ）－１，３－ジフェニル－２－メチルプロパン、１，３－ビス－（ジ－４－トリルホスフィノ）－１，３－ジフェニル－２－メチルプロパン、１，３－ビス－（ジ－３，５－キシリルホスフィノ）－１，３－ジフェニル－２－メチルプロパン、１，３－ビス－（ジ－４－ｔｅｒｔ－ブチルフェニルホスフィノ）－１，３－ジフェニル－２－メチルプロパン、１，３－ビス－（ジ－３，５－ジエチルフェニルホスフィノ）－１，３－ジフェニル－２－メチルプロパンまたは１，３－ビス－（ジ－３，５－ジイソプロピルフェニルホスフィノ）－１，３－ジフェニル－２－メチルプロパンである、請求項１～４のいずれか１項に記載の方法。
- Ａが、２，４－ビス－（ジフェニルホスフィノ）ペンタン、２，４－ビス－（ジ－４－トリルホスフィノ）ペンタン、２，４－ビス－（ジ－３，５－キシリルホスフィノ）ペンタン、２，４－ビス－（ジ－４－ｔｅｒｔ－ブチルフェニルホスフィノ）ペンタン、２，４－ビス－（ジ－４－イソプロピルフェニルホスフィノ）ペンタン、２，４－ビス－（ジ－３，５－ジエチルフェニルホスフィノ）ペンタン、２，４－ビス－（ジ－３，５－ジイソプロピルフェニルホスフィノ）ペンタン、２，４－ビス－（ジ－３，５－ジｔｅｒｔブチルフェニルホスフィノ）ペンタン、または２，４－ビス－（ジフェニルホスフィノ）－３－メチルペンタンである、請求項１～５のいずれか１項に記載の方法。
- Ｂが、２－ピコリルアミン、（６－（ｐ－トリル）－２－ピリジル）メタンアミン、１－（２－ピリジル）エチルアミン、２－（アミノメチル）－６－メチルピリジン、２－（アミノメチル）－３－メチルピリジン、２－（アミノメチル）－４－メチルピリジン、２－（アミノメチル）－５－メチルピリジン、２－（アミノメチル）－６－エチルピリジン、２－（アミノメチル）－３－エチルピリジン、２－（アミノメチル）－４－エチルピリジン、２－（アミノメチル）－５－エチルピリジン、２－（アミノメチル）－６－ｎ－プロピルピリジン、２－（アミノメチル）－３－ｎ－プロピルピリジン、２－（アミノメチル）－４－ｎ－プロピルピリジン、２－（アミノメチル）－５－ｎ－プロピルピリジン、２－（アミノメチル）－６－イソプロピルピリジン、２－（アミノメチル）－３－イソプロピルピリジン、２－（アミノメチル）－４－イソピロピルピリジン、２－（アミノメチル）－５－イソプロピルピリジン、２－（アミノメチル）－６－ｔｅｒｔ－ブチルピリジン、２－（アミノメチル）－３－ｔｅｒｔ－ブチルピリジン、２－（アミノメチル）－４－ｔｅｒｔ－ブチルピリジン、２－（アミノメチル）－５－ｔｅｒｔ－ブチルピリジン、２－（Ｎ－ベンジル－アミノメチル）ピリジン、２－（アミノメチル）ピロリジン、２－（アミノメチル）－１－エチルピロリジン、２－（ピロリジニルメチル）ピロリジン、２－（１－アミノ－１，１－ジフェニルメチル）ピロリジン、２－（アミノメチル）－６－フェニルピリジン、２－（アミノメチル）－３－フェニルピリジン、２－（アミノメチル）－４－フェニルピリジン、２－（アミノメチル）－５－フェニルピリジン、２－（アミノメチル）－３，４－ジメチルピリジン、２－（アミノメチル）－３，５－ジメチルピリジン、２－（アミノメチル）－３，６－ジメチルピリジン、２－（アミノメチル）－４，５－ジメチルピリジン、２－（アミノメチル）－４，６－ジメチルピリジン、２－（アミノメチル）－５，６－ジメチルピリジン、２－（アミノメチル）－３，４，５－トリメチルピリジン、２－（アミノメチル）－３，５，６－トリメチルピリジン、２－（アミノメチル）－４，５，６－トリメチルピリジン、２－（アミノメチル）－３，４，５，６－テトラメチルピリジン、２－（アミノメチル）－３，４－ジエチルピリジン、２－（アミノメチル）－３，５－ジエチルピリジン、２－（アミノメチル）－３，６－ジエチルピリジン、２－（アミノメチル）－４，５－ジエチルピリジン、２－（アミノメチル）－４，６－ジエチルピリジン、２－（アミノメチル）－５，６－ジエチルピリジン、２－（アミノメチル）－３，４－ジｎ－プロピルピリジン、２－（アミノメチル）－３，５－ジｎ－プロピルピリジン、２－（アミノメチル）－３，６－ジｎ－プロピルピリジン、２－（アミノメチル）－４，５－ジｎ－プロピルピリジン、２－（アミノメチル）－４，６－ジｎ－プロピルピリジン、２－（アミノメチル）－５，６－ジｎ－プロピルピリジン、２－（アミノメチル）－３，４－ジイソプロピルピリジン、２－（アミノメチル）－３，５－ジイソプロピルピリジン、２－（アミノメチル）－３，６－ジイソプロピルピリジン、２－（アミノメチル）－４，５－ジイソプロピルピリジン、２－（アミノメチル）－４，６－ジイソプロピルピリジン、２－（アミノメチル）－５，６－ジイソプロピルピリジン、２－（アミノメチル）－３，４－ジｎ－ブチルピリジン、２－（アミノメチル）－３，５－ジｎ－ブチルピリジン、２－（アミノメチル）－３，６－ジｎ－ブチルピリジン、２－（アミノメチル）－４，５－ジｎ－ブチルピリジン、２－（アミノメチル）－４，６－ジｎ－ブチルピリジン、２－（アミノメチル）－５，６－ジｎ－ブチルピリジン、２－（アミノメチル）－３，４－ジイソブチルピリジン、２－（アミノメチル）－３，５－ジイソブチルピリジン、２－（アミノメチル）－３，６－ジイソブチルピリジン、２－（アミノメチル）－４，５－ジイソブチルピリジン、２－（アミノメチル）－４，６－ジイソブチルピリジン、２－（アミノメチル）－５，６－ジイソブチルピリジン、２－（アミノメチル）－３，４－ジｔｅｒｔ－ブチルピリジン、２－（アミノメチル）－３，５－ジｔｅｒｔ－ブチルピリジン、２－（アミノメチル）－３，６－ジｔｅｒｔ－ブチルピリジン、２－（アミノメチル）－４，５－ジｔｅｒｔ－ブチルピリジン、２－（アミノメチル）－４，６－ジｔｅｒｔ－ブチルピリジン、２－（アミノメチル）－５，６－ジｔｅｒｔ－ブチルピリジン、２－（アミノメチル）－３，４－ジフェニルピリジン、２－（アミノメチル）－３，５－ジフェニルピリジン、２－（アミノメチル）－３，６－ジフェニルピリジン、２－（アミノメチル）－４，５－ジフェニルピリジン、２－（アミノメチル）－４，６－ジフェニルピリジン、２－（アミノメチル）－５，６－ジフェニルピリジン、２－（アミノメチル）－４－メトキシ－３，５－ジメチルピリジン、２－（アミノメチル）キノリン、１－（アミノメチル）イソキノリン、３－（アミノメチル）イソキノリン、２－（アミノメチル）ピラジン、２－（アミノメチル）ピリミジン、６－アミノメチルフェナントリジン、２－（１－アミノエチル）－３，４－ジメチルピリジン、２－（１－アミノエチル）－３，５－ジメチルピリジン、２－（１－アミノエチル）－３，６－ジメチルピリジン、２－（１－アミノエチル）－４，５－ジメチルピリジン、２－（１－アミノエチル）－４，６－ジメチルピリジン、２－（１－アミノエチル）－５，６－ジメチルピリジン、２－（１－アミノエチル）－３，４，５－トリメチルピリジン、２－（１－アミノエチル）－３，５，６－トリメチルピリジン、２－（１－アミノエチル）－４，５，６－トリメチルピリジン、２－（１－アミノエチル）－３，４，５，６－テトラメチルピリジン、２－（１－アミノエチル）－３，４－ジエチルピリジン、２－（１－アミノエチル）－３，５－ジエチルピリジン、２－（１－アミノエチル）－３，６－ジエチルピリジン、２－（１－アミノエチル）－４，５－ジエチルピリジン、２－（１－アミノエチル）－４，６－ジエチルピリジン、２－（１－アミノエチル）－５，６－ジエチルピリジン、２－（１－アミノエチル）－３，４－ジｎ－プロピルピリジン、２－（１－アミノエチル）－３，５－ジｎ－プロピルピリジン、２－（１－アミノエチル）－３，６－ジｎ－プロピルピリジン、２－（１－アミノエチル）－４，５－ジｎ－プロピルピリジン、２－（１－アミノエチル）－４，６－ジｎ－プロピルピリジン、２－（１－アミノエチル）－５，６－ジｎ－プロピルピリジン、２－（１－アミノエチル）－３，４－ジイソプロピルピリジン、２－（１－アミノエチル）－３，５－ジイソプロピルピリジン、２－（１－アミノエチル）－３，６－ジイソプロピルピリジン、２－（１－アミノエチル）－４，５－ジイソプロピルピリジン、２－（１－アミノエチル）－４，６－ジイソプロピルピリジン、２－（１－アミノエチル）－５，６－ジイソプロピルピリジン、２－（１－アミノエチル）－３，４－ジｎ－ブチルピリジン、２－（１－アミノエチル）－３，５－ジｎ－ブチルピリジン、２－（１－アミノエチル）－３，６－ジｎ－ブチルピリジン、２－（１－アミノエチル）－４，５－ジｎ－ブチルピリジン、２－（１－アミノエチル）－４，６－ジｎ－ブチルピリジン、２－（１－アミノエチル）－５，６－ジｎ－ブチルピリジン、２－（１－アミノエチル）－３，４－ジイソブチルピリジン、２－（１－アミノエチル）－３，５－ジイソブチルピリジン、２－（１－アミノエチル）－３，６－ジイソブチルピリジン、２－（１－アミノエチル）－４，５－ジイソブチルピリジン、２－（１－アミノエチル）－４，６－ジイソブチルピリジン、２－（１－アミノエチル）－５，６－ジイソブチルピリジン、２－（１－アミノエチル）－３，４－ジｔｅｒｔ－ブチルピリジン、２－（１－アミノエチル）－３，５－ジｔｅｒｔ－ブチルピリジン、２－（１－アミノエチル）－３，６－ジｔｅｒｔ－ブチルピリジン、２－（１－アミノエチル）－４，５－ジｔｅｒｔ－ブチルピリジン、２－（１－アミノエチル）－４，６－ジｔｅｒｔ－ブチルピリジン、２－（１－アミノエチル）－５，６－ジｔｅｒｔ－ブチルピリジン、２－（１－アミノエチル）－３，４－ジフェニルピリジン、２－（１－アミノエチル）－３，５－ジフェニルピリジン、２－（１－アミノエチル）－３，６－ジフェニルピリジン、２－（１－アミノエチル）－４，５－ジフェニルピリジン、２－（１－アミノエチル）－４，６－ジフェニルピリジン、２－（１－アミノエチル）－５，６－ジフェニルピリジン、２－（１－アミノエチル）キノリン、１－（１－アミノエチル）イソキノリン、３－（１－アミノエチル）イソキノリン、２－（１－アミノエチル）ピラジン、２－（１－アミノエチル）ピリミジンまたは６－（１－アミノエチル）フェナントリジンである、請求項１～６のいずれか１項に記載の方法。
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