JP2022060188A - 配線基板および配線基板の製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】配線パターン領域を視認しづらくすることが可能な、配線基板および配線基板の製造方法を提供する。
【解決手段】配線基板１０は、基板１１と、基板１１上に配置され、複数の配線２１を含む配線パターン領域２０と、配線パターン領域２０の周囲に配置され、配線２１から電気的に独立した複数のダミーパターン領域３０と、を備えている。配線パターン領域２０に隣接する第１ダミーパターン領域３０１の開口率Ａ２１は、配線パターン領域２０の開口率Ａ１以上である。また、第１ダミーパターン領域３０１に隣接するとともに、第１ダミーパターン領域３０１よりも配線パターン領域２０から遠い第２ダミーパターン領域３０２の開口率Ａ２２は、第１ダミーパターン領域３０１の開口率Ａ２１よりも大きくなっている。
【選択図】図２Ａ

Description

本開示の実施形態は、配線基板および配線基板の製造方法に関する。

現在、スマートフォン、タブレット等の携帯端末機器の高機能、小型化、薄型化および軽量化が進んでいる。これら携帯端末機器は、複数の通信帯域を使用するため、通信帯域に応じた複数のアンテナが必要とされる。例えば、携帯端末機器には、電話用アンテナ、ＷｉＦｉ（Wireless Fidelity）用アンテナ、３Ｇ（Generation）用アンテナ、４Ｇ（Generation）用アンテナ、ＬＴＥ（Long Term Evolution）用アンテナ、Bluetooth（登録商標）用アンテナ、ＮＦＣ（Near Field Communication）用アンテナ等の複数のアンテナが搭載されている。しかしながら、携帯端末機器の小型化に伴い、アンテナの搭載スペースは限られており、アンテナ設計の自由度は狭まっている。また、限られたスペース内にアンテナを内蔵していることから、電波感度が必ずしも満足できるものではない。

このため、携帯端末機器の表示領域に搭載できるフィルムアンテナが開発されている。このフィルムアンテナは、透明基材上にアンテナパターンが形成された透明アンテナにおいて、アンテナパターンが、不透明な導電体層の形成部としての導体部と非形成部としての多数の開口部とによるメッシュ状の導電体メッシュ層によって形成されている。

特開２０１１－６６６１０号公報 特許第５６３６７３５号明細書 特許第５６９５９４７号明細書

ところで、例えば、従来のフィルムアンテナにおいては、透明基材上に１つ又は複数のメッシュアンテナが搭載されるが、透明基材上にアンテナパターンが形成された領域と、アンテナパターンが形成されない領域との両方が存在する。この場合、アンテナパターンが形成されない領域が存在することにより、アンテナパターンが形成された領域が見え易くなってしまう。このため、アンテナパターン等の配線パターンを視認しづらくすることが求められている。

本実施形態は、配線パターン領域を視認しづらくすることが可能な、配線基板および配線基板の製造方法を提供することを目的の一つとする。

本開示の一実施形態による配線基板は、配線基板であって、基板と、前記基板上に配置され、複数の配線を含む配線パターン領域と、前記配線パターン領域の周囲に配置され、前記配線から電気的に独立した複数のダミーパターン領域と、を備え、前記基板は、透明性を有し、複数の前記ダミーパターン領域のうち、前記配線パターン領域に隣接する第１ダミーパターン領域の開口率は、前記配線パターン領域の開口率以上であり、複数の前記ダミーパターン領域のうち、前記第１ダミーパターン領域に隣接するとともに、前記第１ダミーパターン領域よりも前記配線パターン領域から遠い第２ダミーパターン領域の開口率は、前記第１ダミーパターン領域の開口率よりも大きい、配線基板である。

本開示の一実施形態による配線基板において、前記配線パターン領域が複数存在してもよく、少なくとも１つの前記ダミーパターン領域が、複数の前記配線パターン領域を取り囲むように設けられていてもよい。

本開示の一実施形態による配線基板は、前記配線パターン領域および複数の前記ダミーパターン領域の開口率は、前記配線パターン領域から、前記配線パターン領域に遠い前記ダミーパターン領域に向けて段階的に大きくなってもよく、前記第１ダミーパターン領域の開口率と、前記配線パターン領域の開口率との差は、０％以上２％以下であり、互いに隣り合う前記ダミーパターン領域の開口率の差は、それぞれ０．０２％以上２％以下であってもよい。

本開示の一実施形態による配線基板は、前記配線パターン領域から最も遠い前記ダミーパターン領域の周囲に配置された周囲領域を更に備えていてもよく、前記周囲領域の開口率は１００％であってもよい。

本開示の一実施形態による配線基板は、前記配線パターン領域および複数の前記ダミーパターン領域の開口率は、前記配線パターン領域から、前記配線パターン領域に遠い前記ダミーパターン領域に向けて段階的に大きくなってもよく、前記第１ダミーパターン領域の開口率と、前記配線パターン領域の開口率との差、互いに隣り合う前記ダミーパターン領域の開口率の差は、０％以上２％以下であり、前記周囲領域と、前記周囲領域に隣り合う前記ダミーパターン領域との開口率の差は、それぞれ０．０２％以上２％以下であってもよい。

本開示の一実施形態による配線基板において、前記配線パターン領域の外縁は、平面視において、互いに交わる第１辺および第２辺を含んでいてもよく、前記第１辺と前記第２辺とが交わる頂点を第１頂点とし、前記第１頂点から延びる、前記第１辺の延長線を第１仮想線とし、前記第１頂点から延びる、前記第２辺の延長線を第２仮想線とした場合、前記第１仮想線と前記第２仮想線とに挟まれた領域において、前記第１ダミーパターン領域の外縁は、前記第１頂点を中心とする円弧形状をもっていてもよい。

本開示の一実施形態による配線基板において、前記第１仮想線と前記第２仮想線とに挟まれた領域において、前記第２ダミーパターン領域の外縁は、前記第１頂点を中心とする円弧形状をもっていてもよい。

本開示の一実施形態による配線基板は、配線基板であって、基板と、前記基板上に配置され、複数の配線を含む配線パターン領域と、前記配線パターン領域の周囲に配置され、前記配線から電気的に独立した複数のダミーパターン領域と、を備え、前記基板は、透明性を有し、複数の前記ダミーパターン領域のうち、前記配線パターン領域に隣接する第１ダミーパターン領域の開口率は、複数の前記ダミーパターン領域のうち、前記第１ダミーパターン領域に隣接するとともに、前記第１ダミーパターン領域よりも前記配線パターン領域から遠い第２ダミーパターン領域の開口率よりも小さく、前記第１ダミーパターン領域の外縁は、平面視において、互いに交わる第３辺および第４辺を含み、前記第３辺と前記第４辺とが交わる頂点を第２頂点とし、前記第２頂点から延びる、前記第３辺の延長線を第３仮想線とし、前記第２頂点から延びる、前記第４辺の延長線を第４仮想線とした場合、前記第３仮想線と前記第４仮想線とに挟まれた領域において、前記第２ダミーパターン領域の外縁は、前記第２頂点を中心とする円弧形状をもつ、配線基板である。

本開示の一実施形態による配線基板において、複数の前記ダミーパターン領域は、それぞれ前記配線から電気的に独立した複数のダミー配線を含んでいてもよく、複数の前記ダミー配線は、それぞれ第１ダミー配線部分と第２ダミー配線部分とを有していてもよく、互いに隣り合う前記ダミーパターン領域の前記第１ダミー配線部分は、互いに平行に配置されていてもよく、互いに隣り合う前記ダミーパターン領域の前記第２ダミー配線部分は、互いに平行に配置されていてもよい。

本開示の一実施形態による配線基板において、前記配線パターン領域は、複数の前記配線を連結する複数の連結配線を更に含んでいてもよく、複数の前記ダミーパターン領域は、それぞれ前記配線および前記連結配線から電気的に独立した複数のダミー配線を含んでいてもよく、複数の前記ダミー配線は、それぞれ第１ダミー配線部分と第２ダミー配線部分とを有していてもよく、前記配線と、前記各ダミーパターン領域の前記第１ダミー配線部分とは、互いに平行に配置されていてもよく、前記連結配線と、前記各ダミーパターン領域の前記第２ダミー配線部分とは、互いに平行に配置されていてもよい。

本開示の一実施形態による配線基板は、配線基板であって、基板と、前記基板上に配置され、複数の配線を含む配線パターン領域と、前記配線パターン領域の周囲に配置され、前記配線から電気的に独立したダミーパターン領域と、を備え、前記基板は、透明性を有し、前記配線パターン領域の外縁は、平面視において、互いに交わる第１辺および第２辺を含み、前記第１辺と前記第２辺とが交わる頂点を第１頂点とし、前記第１頂点から延びる、前記第１辺の延長線を第１仮想線とし、前記第１頂点から延びる、前記第２辺の延長線を第２仮想線とした場合、前記第１仮想線と前記第２仮想線とに挟まれた領域において、前記ダミーパターン領域の外縁は、前記第１頂点を中心とする円弧形状をもつ、配線基板である。

本開示の一実施形態による配線基板は、電波送受信機能を有していてもよい。

本開示の一実施形態による画像表示装置は、一実施形態による配線基板と、前記配線基板に積層された表示装置と、を備え、前記配線パターン領域は、前記表示装置の隅部に設けられている、画像表示装置である。

本開示の一実施形態による配線基板の製造方法は、配線基板の製造方法であって、基板を準備する工程と、前記基板上に、複数の配線を含む配線パターン領域と、前記配線パターン領域の周囲に配置され、前記配線から電気的に独立した複数のダミーパターン領域とを形成する工程と、を備え、前記基板は、透明性を有し、複数の前記ダミーパターン領域のうち、前記配線パターン領域に隣接する第１ダミーパターン領域の開口率は、前記配線パターン領域の開口率以上であり、複数の前記ダミーパターン領域のうち、前記第１ダミーパターン領域に隣接するとともに、前記第１ダミーパターン領域よりも前記配線パターン領域から遠い第２ダミーパターン領域の開口率は、前記第１ダミーパターン領域の開口率よりも大きい、配線基板の製造方法である。

本開示の一実施形態による配線基板の製造方法は、配線基板の製造方法であって、基板を準備する工程と、前記基板上に、複数の配線を含む配線パターン領域と、前記配線パターン領域の周囲に配置され、前記配線から電気的に独立したダミーパターン領域とを形成する工程と、を備え、前記基板は、透明性を有し、前記配線パターン領域の外縁は、平面視において、互いに交わる第１辺および第２辺を含み、前記第１辺と前記第２辺とが交わる頂点を第１頂点とし、前記第１頂点から延びる、前記第１辺の延長線を第１仮想線とし、前記第１頂点から延びる、前記第２辺の延長線を第２仮想線とした場合、前記第１仮想線と前記第２仮想線とに挟まれた領域において、前記ダミーパターン領域の外縁は、前記第１頂点を中心とする円弧形状をもつ、配線基板の製造方法である。

本開示の一実施形態による配線基板の製造方法は、配線基板の製造方法であって、基板を準備する工程と、前記基板上に、複数の配線を含む配線パターン領域と、前記配線パターン領域の周囲に配置され、前記配線から電気的に独立した複数のダミーパターン領域とを形成する工程と、を備え、前記基板は、透明性を有し、複数の前記ダミーパターン領域のうち、前記配線パターン領域に隣接する第１ダミーパターン領域の開口率は、複数の前記ダミーパターン領域のうち、前記第１ダミーパターン領域に隣接するとともに、前記第１ダミーパターン領域よりも前記配線パターン領域から遠い第２ダミーパターン領域の開口率よりも小さく、前記第１ダミーパターン領域の外縁は、平面視において、互いに交わる第３辺および第４辺を含み、前記第３辺と前記第４辺とが交わる頂点を第２頂点とし、前記第２頂点から延びる、前記第３辺の延長線を第３仮想線とし、前記第２頂点から延びる、前記第４辺の延長線を第４仮想線とした場合、前記第３仮想線と前記第４仮想線とに挟まれた領域において、前記第２ダミーパターン領域の外縁は、前記第２頂点を中心とする円弧形状をもつ、配線基板の製造方法である。

本開示の実施の形態によると、配線パターン領域を視認しづらくできる。

図１は、一実施形態による配線基板を示す平面図である。 図２Ａは、一実施形態による配線基板を示す拡大平面図（図１のIIA部拡大図）である。 図２Ｂは、一実施形態による配線基板を示す拡大平面図（図１のIIB部拡大図）である。 図３は、一実施形態による配線基板を示す断面図（図２ＡのIII－III線断面図）である。 図４は、一実施形態による配線基板を示す断面図（図２ＡのIV－IV線断面図）である。 図５は、一実施形態による配線基板を示す断面図（図２ＡのV－V線断面図）である。 図６Ａは、一実施形態による配線基板の製造方法を示す断面図である。 図６Ｂは、一実施形態による配線基板の製造方法を示す断面図である。 図６Ｃは、一実施形態による配線基板の製造方法を示す断面図である。 図６Ｄは、一実施形態による配線基板の製造方法を示す断面図である。 図６Ｅは、一実施形態による配線基板の製造方法を示す断面図である。 図６Ｆは、一実施形態による配線基板の製造方法を示す断面図である。 図７は、一実施形態による画像表示装置を示す平面図である。 図８は、一実施形態による配線基板の変形例を示す平面図である。 図９は、一実施形態による配線基板の変形例を示す平面図である。 図１０は、一実施形態による配線基板の変形例を示す拡大平面図（図２Ａに対応する図）である。 図１１は、一実施形態による配線基板の変形例を示す拡大平面図（図２Ａに対応する図）である。 図１２は、一実施形態による配線基板の変形例を示す拡大平面図（図２Ａに対応する図）である。 図１３は、一実施形態による配線基板の変形例を示す拡大平面図（図２Ａに対応する図）である。 図１４は、一実施形態による配線基板の変形例を示す拡大平面図である。 図１５は、一実施形態による配線基板の変形例を示す拡大平面図である。 図１６は、一実施形態による配線基板の変形例を示す平面図である。 図１７は、一実施形態による配線基板を示す拡大平面図（図１６のXVII部拡大図）である。 図１８は、一実施形態による画像表示装置の変形例を示す平面図である。 図１９は、一実施形態による配線基板の変形例を示す平面図である。 図２０は、一実施形態による配線基板の変形例を示す平面図である。 図２１は、一実施形態による配線基板の変形例を示す平面図である。 図２２は、一実施形態による配線基板の変形例を示す平面図である。 図２３は、一実施形態による配線基板の変形例を示す平面図である。 図２４は、一実施形態による配線基板の変形例を示す平面図である。

まず、図１乃至図７により、一実施の形態について説明する。図１乃至図７は本実施の形態を示す図である。

以下に示す各図は、模式的に示した図である。そのため、各部の大きさ、形状は理解を容易にするために、適宜誇張している。また、技術思想を逸脱しない範囲において適宜変更して実施できる。なお、以下に示す各図において、同一部分には同一の符号を付しており、一部詳細な説明を省略する場合がある。また、本明細書中に記載する各部材の寸法等の数値および材料名は、実施形態としての一例であり、これに限定されることなく、適宜選択して使用できる。本明細書において、形状や幾何学的条件を特定する用語、例えば平行や直交、垂直等の用語については、厳密に意味するところに加え、実質的に同じ状態も含めて解釈することとする。

本実施形態において、「Ｘ方向」とは、配線パターン領域の長手方向に対して垂直な方向であり、アンテナ配線の周波数帯に対応する長さの方向に対して垂直な方向である。「Ｙ方向」とは、Ｘ方向に垂直かつ配線パターン領域の長手方向に対して平行な方向であり、アンテナ配線の周波数帯に対応する長さの方向に対して平行な方向である。「Ｚ方向」とは、Ｘ方向およびＹ方向の両方に垂直かつ配線基板の厚み方向に平行な方向である。また、「表面」とは、Ｚ方向プラス側の面であって、基板に対してアンテナ配線が設けられた面をいう。「裏面」とは、Ｚ方向マイナス側の面であって、基板に対してアンテナ配線が設けられた面と反対側の面をいう。なお、本実施形態において、配線パターン領域２０が、電波送受信機能（アンテナとしての機能）を有するアンテナパターン領域２０である場合を例にとって説明するが、配線パターン領域２０は電波送受信機能（アンテナとしての機能）を有していなくても良い。

［配線基板の構成］
図１乃至図５を参照して、本実施形態による配線基板の構成について説明する。図１乃至図５は、本実施形態による配線基板を示す図である。

図１に示すように、本実施形態による配線基板１０は、例えば画像表示装置のディスプレイ上に配置される。このような配線基板１０は、透明性を有する基板１１と、基板１１上に配置されたアンテナパターン領域（配線パターン領域）２０と、基板１１上でアンテナパターン領域２０の周囲に配置された複数のダミーパターン領域３０と、を備えている。また、アンテナパターン領域２０には、給電部４０が電気的に接続されている。

このうち基板１１は、平面視で略長方形状であり、その長手方向がＹ方向に平行であり、その短手方向がＸ方向に平行となっている。基板１１は、透明性を有するとともに略平板状であり、その厚みは全体として略均一となっている。基板１１の長手方向（Ｙ方向）の長さＬ_１は、例えば１００ｍｍ以上２００ｍｍ以下の範囲で選択でき、基板１１の短手方向（Ｘ方向）の長さＬ_２は、例えば５０ｍｍ以上１００ｍｍ以下の範囲で選択できる。

基板１１の材料は、可視光線領域での透明性および電気絶縁性を有する材料であればよい。本実施形態において基板１１の材料はポリエチレンテレフタレートであるが、これに限定されない。基板１１の材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル系樹脂、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリイミド系樹脂、或いは、シクロオレフィン重合体などのポリオレフィン系樹脂、トリアセチルセルロースなどのセルロース系樹脂材料等の有機絶縁性材料を用いることが好ましい。あるいは、基板１１の材料としては、シクロオレフィンポリマー（例えば日本ゼオン社製ＺＦ－１６）、ポリノルボルネンポリマー（住友ベークライト社製）等の有機絶縁性材料を用いても良い。また、基板１１の材料としては、用途に応じてガラス、セラミックス等を適宜選択することもできる。なお、基板１１は、単一の層によって構成された例を図示したが、これに限定されず、複数の基材又は層が積層された構造であってもよい。また、基板１１はフィルム状であっても、板状であってもよい。このため、基板１１の厚さは特に制限はなく、用途に応じて適宜選択できるが、一例として、基板１１の厚みＴ_１（Ｚ方向の長さ、図３参照）は、例えば１０μｍ以上２００μｍ以下の範囲とすることができる。

また、基板１１の誘電正接は、０．００２以下であっても良く、０．００１以下であることが好ましい。なお、基板１１の誘電正接の下限は特にないが、０超としても良い。基板１１の誘電正接が上記範囲であることにより、とりわけアンテナパターン領域２０が送受信する電磁波（例えばミリ波）が高周波である場合に、電磁波の送受信に伴う利得（感度）の損失を小さくできる。なお、基板１１の誘電正接の下限は、特に限定されない。基板１１の比誘電率は、特に制限はないが、２．０以上、１０．０以下であっても良い。

基板１１の誘電正接は、ＩＥＣ ６２５６２に準拠して測定できる。具体的には、まず、アンテナパターン領域２０が形成されてない部分の基板１１を切り出して試験片を準備する。または、アンテナパターン領域２０が形成された基板１１を切り出し、エッチング等によりアンテナパターン領域２０を除去しても良い。試験片の寸法は、幅１０ｍｍから２０ｍｍ、長さ５０ｍｍから１００ｍｍとする。次に、ＩＥＣ ６２５６２に準拠し、誘電正接を測定する。基板１１の比誘電率と誘電正接は、ＡＳＴＭ Ｄ１５０に準拠して測定することもできる。

また、基板１１は、透明性を有している。本明細書中、「透明性を有する」とは、可視光線（波長４００ｎｍ以上７００ｎｍ以下の光線）の透過率が８５％以上であることを意味する。基板１１は、可視光線（波長４００ｎｍ以上７００ｎｍ以下の光線）の透過率が８５％以上であっても良く、９０％以上であることが好ましい。なお、基板１１の可視光線の透過率の上限は特にないが、例えば１００％以下としても良い。基板１１の可視光線の透過率を上記範囲とすることにより、配線基板１０の透明性を高め、画像表示装置９０のディスプレイ９１（後述）を視認しやすくできる。なお、可視光線とは、波長が４００ｎｍ以上７００ｎｍ以下の光線のことをいう。また、可視光線の透過率が８５％以上であるとは、公知の分光光度計（例えば、日本分光株式会社製の分光器：Ｖ－６７０）を用いて基板１１に対して吸光度の測定を行った際、４００ｎｍ以上７００ｎｍ以下の全波長領域でその透過率が８５％以上となることをいう。

図１において、アンテナパターン領域２０は、基板１１上に複数（３つ）存在しており、それぞれ異なる周波数帯に対応している。すなわち、複数のアンテナパターン領域２０は、その長さ（Ｙ方向の長さ）Ｌ_ａが互いに異なっており、それぞれ特定の周波数帯に対応した長さを有している。なお、対応する周波数帯が低周波であるほどアンテナパターン領域２０の長さＬ_ａが長くなっている。配線基板１０が例えば画像表示装置９０のディスプレイ９１（後述する図７参照）上に配置される場合、各アンテナパターン領域２０は、配線基板１０が電波送受信機能を有する場合、電話用アンテナ、ＷｉＦｉ用アンテナ、３Ｇ用アンテナ、４Ｇ用アンテナ、５Ｇ用アンテナ、ＬＴＥ用アンテナ、Bluetooth（登録商標）用アンテナ、ＮＦＣ用アンテナ等のいずれかに対応していても良い。あるいは、配線基板１０が電波送受信機能を有していない場合、各アンテナパターン領域２０は、例えばホバリング（使用者がディスプレイに直接触れなくても操作可能となる機能）、指紋認証、ヒーター、ノイズカット（シールド）等の機能を果たしても良い。また、アンテナパターン領域２０は、基板１１の全面に存在するのではなく、基板１１上の一部領域のみに存在していても良い。

各アンテナパターン領域２０は、それぞれ、平面視において、四角形状をもつ。本実施の形態では、各アンテナパターン領域２０は、それぞれ平面視で略長方形状である。各アンテナパターン領域２０は、その長手方向がＹ方向に平行であり、その短手方向がＸ方向に平行となっている。各アンテナパターン領域２０の長手方向（Ｙ方向）の長さＬ_ａは、例えば３ｍｍ以上１００ｍｍ以下の範囲で選択でき、各アンテナパターン領域２０の短手方向（Ｘ方向）の幅Ｗ_ａは、例えば１ｍｍ以上１０ｍｍ以下の範囲で選択できる。とりわけアンテナパターン領域２０は、ミリ波用アンテナとして機能しても良い。アンテナパターン領域２０がミリ波用アンテナである場合、アンテナパターン領域２０の長さＬ_ａは、１ｍｍ以上１０ｍｍ以下、より好ましくは１．５ｍｍ以上５ｍｍ以下の範囲で選択できる。

アンテナパターン領域２０は、それぞれ金属線が格子形状または網目形状に形成され、Ｘ方向およびＹ方向に均一な繰り返しパターンを有している。すなわち図２Ａおよび図２Ｂに示すように、アンテナパターン領域２０は、Ｘ方向に延びる部分（後述するアンテナ連結配線２２の一部）とＹ方向に延びる部分（後述するアンテナ配線２１の一部）とから構成されるＬ字状の単位パターン形状２０ａ（図２Ａおよび図２Ｂの網掛け部分）の繰り返しから構成されている。

図２Ａおよび図２Ｂに示すように、各アンテナパターン領域２０は、アンテナとしての機能をもつ複数のアンテナ配線（配線）２１と、複数のアンテナ配線２１を連結する複数のアンテナ連結配線（連結配線）２２とを含んでいる。具体的には、複数のアンテナ配線２１と複数のアンテナ連結配線２２とは、全体として一体となって、規則的な格子形状または網目形状を形成している。各アンテナ配線２１は、アンテナの周波数帯に対応する方向（Ｙ方向）に延びており、各アンテナ連結配線２２は、アンテナ配線２１に直交する方向（Ｘ方向）に延びている。アンテナ配線２１は、所定の周波数帯に対応する長さＬ_ａ（上述したアンテナパターン領域２０の長さ）を有することにより、主としてアンテナとしての機能を発揮する。一方、アンテナ連結配線２２は、これらのアンテナ配線２１同士を連結することにより、アンテナ配線２１が断線したり、アンテナ配線２１と給電部４０とが電気的に接続しなくなったりする不具合を抑える役割を果たす。

各アンテナパターン領域２０においては、互いに隣接するアンテナ配線２１と、互いに隣接するアンテナ連結配線２２とに取り囲まれることにより、複数の開口部２３が形成されている。また、アンテナ配線２１とアンテナ連結配線２２とは互いに等間隔に配置されている。すなわち複数のアンテナ配線２１は、互いに等間隔に配置され、そのピッチＰ_１（図２Ａ参照）は、例えば０．０１ｍｍ以上１ｍｍ以下の範囲とすることができる。また、複数のアンテナ連結配線２２は、互いに等間隔に配置され、そのピッチＰ_２（図２Ａ参照）は、例えば０．０１ｍｍ以上１ｍｍ以下の範囲とすることができる。このように、複数のアンテナ配線２１と複数のアンテナ連結配線２２とがそれぞれ等間隔に配置されていることにより、各アンテナパターン領域２０内で開口部２３の大きさにばらつきがなくなり、アンテナパターン領域２０を肉眼で視認しにくくできる。また、アンテナ配線２１のピッチＰ_１は、アンテナ連結配線２２のピッチＰ_２と等しい。このため、各開口部２３は、それぞれ平面視略正方形状となっており、各開口部２３からは、透明性を有する基板１１が露出している。このため、各開口部２３の面積を広くすることにより、配線基板１０全体としての透明性を高めることができる。なお、各開口部２３の一辺の長さＬ_３（図２Ａ参照）は、例えば０．０１ｍｍ以上１ｍｍ以下の範囲とすることができる。なお、各アンテナ配線２１と各アンテナ連結配線２２とは、互いに直交しているが、これに限らず、互いに鋭角または鈍角に交差していてもよい。また、開口部２３の形状は、全面で同一形状同一サイズとするのが好ましいが、場所によって変えるなど全面で均一としなくても良い。

図３に示すように、各アンテナ配線２１は、その長手方向に垂直な断面（Ｘ方向断面）が略長方形形状又は略正方形形状となっている。この場合、アンテナ配線２１の断面形状は、アンテナ配線２１の長手方向（Ｙ方向）に沿って略均一となっている。また、図４に示すように、各アンテナ連結配線２２の長手方向に垂直な断面（Ｙ方向断面）の形状は、略長方形形状又は略正方形形状であり、上述したアンテナ配線２１の断面（Ｘ方向断面）形状と略同一である。この場合、アンテナ連結配線２２の断面形状は、アンテナ連結配線２２の長手方向（Ｘ方向）に沿って略均一となっている。アンテナ配線２１とアンテナ連結配線２２の断面形状は、必ずしも略長方形形状又は略正方形形状でなくても良く、例えば表面側（Ｚ方向プラス側）が裏面側（Ｚ方向マイナス側）よりも狭い略台形形状、あるいは、幅方向両側に位置する側面が湾曲した形状であっても良い。

本実施形態において、アンテナ配線２１の線幅Ｗ_１（Ｘ方向の長さ、図３参照）およびアンテナ連結配線２２の線幅Ｗ_２（Ｙ方向の長さ、図４参照）は、特に限定されず、用途に応じて適宜選択できる。例えば、アンテナ配線２１の線幅Ｗ_１は０．１μｍ以上５．０μｍ以下の範囲で選択でき、アンテナ連結配線２２の線幅Ｗ_２は、０．１μｍ以上５．０μｍ以下の範囲で選択できる。また、アンテナ配線２１の高さＨ_１（Ｚ方向の長さ、図３参照）およびアンテナ連結配線２２の高さＨ_２（Ｚ方向の長さ、図４参照）は特に限定されず、用途に応じて適宜選択でき、例えば０．１μｍ以上５．０μｍ以下の範囲で選択できる。

アンテナ配線２１およびアンテナ連結配線２２の材料は、導電性を有する金属材料であればよい。本実施形態においてアンテナ配線２１およびアンテナ連結配線２２の材料は銅であるが、これに限定されない。アンテナ配線２１およびアンテナ連結配線２２の材料は、例えば、金、銀、銅、白金、錫、アルミニウム、鉄、ニッケルなどの金属材料（含む合金）を用いることができる。

ところで、上述したように、配線基板１０は、複数のダミーパターン領域３０を備えている。再度図１を参照すると、各々のダミーパターン領域３０は、各アンテナパターン領域２０の周囲を取り囲むように設けられており、各アンテナパターン領域２０のうち、給電部４０側（Ｙ方向マイナス側）を除く周方向全域（Ｘ方向プラス側、Ｘ方向マイナス側、Ｙ方向プラス側）を取り囲むように形成されている。この場合、ダミーパターン領域３０は、基板１１上であって、アンテナパターン領域２０および給電部４０を除く略全域にわたって配置されている。このダミーパターン領域３０は、アンテナパターン領域２０とは異なり、実質的にアンテナとしての機能を果たすことはない。

図示された例において、配線基板１０は、３つのダミーパターン領域３０を備えている。すなわち、配線基板１０は、アンテナパターン領域２０に隣接する第１ダミーパターン領域３０１と、第１ダミーパターン領域３０１に隣接する第２ダミーパターン領域３０２と、第２ダミーパターン領域３０２に隣接する第３ダミーパターン領域３０３とを備えている。このうち、第２ダミーパターン領域３０２は、第１ダミーパターン領域３０１よりもアンテナパターン領域２０から遠くに位置し、第１ダミーパターン領域３０１を取り囲んでいる。また、第３ダミーパターン領域３０３は、第２ダミーパターン領域３０２よりもアンテナパターン領域２０から遠くに位置し、第２ダミーパターン領域３０２を取り囲んでいる。なお、配線基板１０が備えるダミーパターン領域３０の個数は任意であり、例えば２以上５０以下程度であってもよく、２以上１０以下程度であってもよい。

第１ダミーパターン領域３０１は、Ｙ方向に沿って延びる一対の第１部分３０１Ａと、Ｘ方向に沿って第１部分３０１Ａ間に延びる第２部分３０１Ｂとを有している。第１部分３０１Ａの短手方向（Ｘ方向）の幅Ｗ_ａ１は、例えば０．１ｍｍ以上５０ｍｍ以下の範囲で、好ましくは０．２ｍｍ以上１０ｍｍ以下の範囲で選択でき、第２部分３０１Ｂの短手方向（Ｙ方向）の幅Ｗ_ａ２は、例えば０．１ｍｍ以上５０ｍｍ以下の範囲で、好ましくは０．２ｍｍ以上１０ｍｍ以下の範囲で選択できる。

第２ダミーパターン領域３０２は、Ｙ方向に沿って延びる一対の第１部分３０２Ａと、Ｘ方向に沿って第１部分３０２Ａ間に延びる第２部分３０２Ｂとを有している。第１部分３０２Ａの短手方向（Ｘ方向）の幅Ｗ_ａ３は、例えば０．１ｍｍ以上５０ｍｍ以下の範囲で、好ましくは０．２ｍｍ以上１０ｍｍ以下の範囲で選択でき、第２部分３０２Ｂの短手方向（Ｙ方向）の幅Ｗ_ａ４は、例えば０．１ｍｍ以上５０ｍｍ以下の範囲で、好ましくは０．２ｍｍ以上１０ｍｍ以下の範囲で選択できる。

ここで、第２ダミーパターン領域３０２の第１部分３０２Ａの幅Ｗ_ａ３は、第１ダミーパターン領域３０１の第１部分３０１Ａの幅Ｗ_ａ１よりも大きくなっていてもよい。後述するように、本実施の形態では、第２ダミーパターン領域３０２の開口率Ａ２２が、第１ダミーパターン領域３０１の開口率Ａ２１よりも大きくなっている。このため、第２ダミーパターン領域３０２の第１部分３０２Ａの幅Ｗ_ａ３が、第１ダミーパターン領域３０１の第１部分３０１Ａの幅Ｗ_ａ１よりも大きくなっていることにより、配線基板１０の全体の開口率を高くでき、配線基板１０の透明性を高くできる。同様に、第２部分３０２Ｂの幅Ｗ_ａ４は、第１ダミーパターン領域３０１の第２部分３０１Ｂの幅Ｗ_ａ２よりも大きくなっていてもよい。これにより、配線基板１０の全体の開口率を高くでき、配線基板１０の透明性を高くできる。

第３ダミーパターン領域３０３は、複数のアンテナパターン領域２０を取り囲むように設けられている。図示された例において、第３ダミーパターン領域３０３は、全てのアンテナパターン領域２０を取り囲むように設けられている。これにより、複数のアンテナパターン領域２０を、効果的に視認しにくくできる。この第３ダミーパターン領域３０３は、基板１１上であって、アンテナパターン領域２０、第１ダミーパターン領域３０１、第２ダミーパターン領域３０２および給電部４０を除く略全域にわたって配置されている。

図２Ａおよび図２Ｂに示すように、複数のダミーパターン領域３０１、３０２、３０３は、それぞれアンテナ配線２１（アンテナ配線２１およびアンテナ連結配線２２）から電気的に独立した複数のダミー配線３０１ａ、３０２ａ、３０３ａを含んでいる。具体的には、第１ダミーパターン領域３０１は、所定の単位パターン形状をもつダミー配線３０１ａの繰り返しから構成され、第２ダミーパターン領域３０２は、所定の単位パターン形状をもつダミー配線３０２ａの繰り返しから構成され、第３ダミーパターン領域３０３は、所定の単位パターン形状をもつダミー配線３０３ａの繰り返しから構成されている。すなわち、各々のダミーパターン領域３０１、３０２、３０３は、複数の同一形状のダミー配線３０１ａ、３０２ａ、３０３ａを含んでおり、各ダミー配線３０１ａ、３０２ａ、３０３ａは、それぞれアンテナパターン領域２０から電気的に独立している。

複数のダミー配線３０１ａは、第１ダミーパターン領域３０１内の全域にわたって規則的に配置され、複数のダミー配線３０２ａは、第２ダミーパターン領域３０２内の全域にわたって規則的に配置され、複数のダミー配線３０３ａは、第３ダミーパターン領域３０３内の全域にわたって規則的に配置されている。複数のダミー配線３０１ａ、３０２ａ、３０３ａは、互いに平面方向に離間するとともに、基板１１上に突出して島状に配置されている。すなわち各ダミー配線３０１ａ、３０２ａ、３０３ａは、アンテナパターン領域２０、給電部４０および他のダミー配線から電気的に独立している。

また、複数のダミー配線３０１ａ、３０２ａ、３０３ａは、それぞれ第１ダミー配線部分３１１、３１２、３１３と第２ダミー配線部分３２１、３２２、３２３とを有している。そして、図２Ａに示すように、互いに隣り合うダミーパターン領域３０１、３０２、３０３の第１ダミー配線部分３１１、３１２、３１３は、互いに平行に配置されている。例えば、第１ダミーパターン領域３０１の第１ダミー配線部分３１１と、第２ダミーパターン領域３０２の第１ダミー配線部分３１２とが、互いに平行に配置されている。これにより、Ｙ方向において、第１ダミーパターン領域３０１と第２ダミーパターン領域３０２との相違が目視で視認しにくくなっている。また、第２ダミーパターン領域３０２の第１ダミー配線部分３１２と、第３ダミーパターン領域３０３の第１ダミー配線部分３１３とが、互いに平行に配置されている。これにより、Ｙ方向において、第２ダミーパターン領域３０２と第３ダミーパターン領域３０３との相違が目視で視認しにくくなっている。

また、図２Ａに示すように、アンテナパターン領域２０のアンテナ配線２１と、各ダミーパターン領域３０１、３０２、３０３の第１ダミー配線部分３１１、３１２、３１３とは、互いに平行に配置されている。これにより、Ｙ方向において、アンテナパターン領域２０と各ダミーパターン領域３０１、３０２、３０３との相違が目視で視認しにくくなっている。

また、図２Ｂに示すように、互いに隣り合うダミーパターン領域３０１、３０２、３０３の第２ダミー配線部分３２１、３２２、３２３は、互いに平行に配置されている。例えば、第１ダミーパターン領域３０１の第２ダミー配線部分３２１と、第２ダミーパターン領域３０２の第２ダミー配線部分３２２とが、互いに平行に配置されている。これにより、Ｘ方向において、第１ダミーパターン領域３０１と第２ダミーパターン領域３０２との相違が目視で視認しにくくなっている。また、第２ダミーパターン領域３０２の第２ダミー配線部分３２２と、第３ダミーパターン領域３０３の第２ダミー配線部分３２３とが、互いに平行に配置されている。これにより、Ｘ方向において、第２ダミーパターン領域３０２と第３ダミーパターン領域３０３との相違が目視で視認しにくくなっている。

また、図２Ｂに示すように、アンテナパターン領域２０のアンテナ連結配線２２と、各ダミーパターン領域３０１、３０２、３０３の第２ダミー配線部分３２１、３２２、３２３とは、互いに平行に配置されている。これにより、Ｘ方向において、アンテナパターン領域２０と各ダミーパターン領域３０１、３０２、３０３との相違が目視で視認しにくくなっている。

次に、ダミー配線３０１ａ、３０２ａ、３０３ａについてより詳細に説明する。ここでは、まず、第１ダミーパターン領域３０１のダミー配線３０１ａについて説明する。

（第１ダミーパターン領域のダミー配線）
図２Ａおよび図２Ｂに示すように、ダミー配線３０１ａは、それぞれ平面視略Ｌ字状であり、Ｙ方向に延びる第１ダミー配線部分３１１と、Ｘ方向に延びる第２ダミー配線部分３２１とを有している。このうち第１ダミー配線部分３１１は、所定の長さＬ_４（Ｙ方向の長さ、図２Ａ参照）を有し、第２ダミー配線部分３２１は、所定の長さＬ_５（Ｘ方向の長さ、図２Ａ参照）を有し、これらは互いに等しい（Ｌ_４＝Ｌ_５）。

また、第１ダミーパターン領域３０１において、Ｘ方向に互いに隣接するダミー配線３０１ａ同士の間には空隙部３３１ａ（図２Ａおよび図２Ｂの網掛け部分）が形成され、Ｙ方向に互いに隣接するダミー配線３０１ａ同士の間には空隙部３３１ｂ（図２Ａおよび図２Ｂの網掛け部分）が形成されている。この場合、ダミー配線３０１ａ同士は互いに等間隔に配置されている。すなわちＸ方向に互いに隣接するダミー配線３０１ａ同士は、互いに等間隔に配置され、そのギャップＧ_１は、例えば１μｍ以上２０μｍ以下の範囲とすることができる。同様に、Ｙ方向に互いに隣接するダミー配線３０１ａ同士は、互いに等間隔に配置され、そのギャップＧ_２は、例えば１μｍ以上２０μｍ以下の範囲とすることができる。なお、ギャップＧ_１、Ｇ_２の最大値は、それぞれ上述したピッチＰ_１、Ｐ_２の０．８倍以下としてもよい。この場合、ダミー配線３０１ａのＸ方向のギャップＧ_１は、ダミー配線３０１ａのＹ方向のギャップＧ_２と等しい（Ｇ_１＝Ｇ_２）。

本実施形態において、ダミー配線３０１ａは、上述したアンテナパターン領域２０の単位パターン形状２０ａの一部が欠落した形状をもつ。すなわち、ダミー配線３０１ａの形状は、アンテナパターン領域２０のＬ字状の単位パターン形状２０ａから、上述した空隙部３３１ａ、３３１ｂを除いた形状となる。すなわち、第１ダミーパターン領域３０１の複数のダミー配線３０１ａと複数の空隙部３３１ａ、３３１ｂとを併合した形状が、アンテナパターン領域２０を形成する格子形状または網目形状に相当する。このように、第１ダミーパターン領域３０１のダミー配線３０１ａが、アンテナパターン領域２０の単位パターン形状２０ａの一部が欠落した形状であることにより、アンテナパターン領域２０と第１ダミーパターン領域３０１との相違を目視で認識しにくくでき、基板１１上に配置されたアンテナパターン領域２０を見えにくくできる。

図２Ａにおいて、Ｙ方向にアンテナパターン領域２０と第１ダミーパターン領域３０１とが隣接している。このアンテナパターン領域２０と第１ダミーパターン領域３０１との境界近傍において、第１ダミー配線部分３１１がアンテナ配線２１の延長上に形成されている。このため、Ｙ方向において、アンテナパターン領域２０と第１ダミーパターン領域３０１との相違が目視で視認しにくくなっている。

また、図２Ｂにおいて、Ｘ方向にアンテナパターン領域２０と第１ダミーパターン領域３０１とが隣接している。このアンテナパターン領域２０と第１ダミーパターン領域３０１との境界近傍において、第２ダミー配線部分３２１がアンテナ連結配線２２の延長上に形成されている。このため、Ｘ方向において、アンテナパターン領域２０と第１ダミーパターン領域３０１との相違が目視で視認しにくくなっている。

図５に示すように、各ダミー配線３０１ａの第１ダミー配線部分３１１は、その長手方向（Ｙ方向）に垂直な断面（Ｘ方向断面）が略長方形形状又は略正方形形状となっている。また、図４に示すように、各ダミー配線３０１ａの第２ダミー配線部分３２１は、その長手方向（Ｘ方向）に垂直な断面（Ｙ方向断面）が略長方形形状又は略正方形形状となっている。この場合、第１ダミー配線部分３１１の断面形状はアンテナ配線２１の断面形状と略同一であり、第２ダミー配線部分３２１の断面形状はアンテナ連結配線２２の断面形状と略同一である。

本実施形態において、第１ダミー配線部分３１１の線幅Ｗ_３（Ｘ方向の長さ、図５参照）は、アンテナ配線２１の線幅Ｗ_１と略同一であり、第２ダミー配線部分３２１の線幅Ｗ_４（Ｙ方向の長さ、図４参照）は、アンテナ連結配線２２の線幅Ｗ_２と略同一となっている。また、第１ダミー配線部分３１１の高さＨ_３（Ｚ方向の長さ、図５参照）および第２ダミー配線部分３２１の高さＨ_４（Ｚ方向の長さ、図４参照）についても、それぞれアンテナ配線２１の高さＨ_１およびアンテナ連結配線２２の高さＨ_２と略同一となっている。

次に、第２ダミーパターン領域３０２のダミー配線３０２ａについて説明する。

（第２ダミーパターン領域のダミー配線）
図２Ａおよび図２Ｂに示すように、ダミー配線３０２ａは、それぞれ平面視略Ｌ字状であり、Ｙ方向に延びる第１ダミー配線部分３１２と、Ｘ方向に延びる第２ダミー配線部分３２２とを有している。このうち第１ダミー配線部分３１２は、所定の長さＬ_６（Ｙ方向の長さ、図２Ａ参照）を有し、第２ダミー配線部分３２２は、所定の長さＬ_７（Ｘ方向の長さ、図２Ａ参照）を有し、これらは互いに等しい（Ｌ_６＝Ｌ_７）。

また、第２ダミーパターン領域３０２において、Ｘ方向に互いに隣接するダミー配線３０２ａ同士の間には空隙部３３２ａ（図２Ａおよび図２Ｂの網掛け部分）が形成され、Ｙ方向に互いに隣接するダミー配線３０２ａ同士の間には空隙部３３２ｂ（図２Ａおよび図２Ｂの網掛け部分）が形成されている。この場合、ダミー配線３０２ａ同士は互いに等間隔に配置されている。すなわちＸ方向に互いに隣接するダミー配線３０２ａ同士は、互いに等間隔に配置され、そのギャップＧ_３は、例えば２μｍ以上４０μｍ以下の範囲とすることができる。同様に、Ｙ方向に互いに隣接するダミー配線３０２ａ同士は、互いに等間隔に配置され、そのギャップＧ_４は、例えば２μｍ以上４０μｍ以下の範囲とすることができる。なお、ギャップＧ_３、Ｇ_４の最大値は、それぞれ上述したピッチＰ_１、Ｐ_２の０．６４倍以下としてもよい。この場合、ダミー配線３０２ａのＸ方向のギャップＧ_３は、ダミー配線３０２ａのＹ方向のギャップＧ_４と等しい（Ｇ_３＝Ｇ_４）。

本実施形態において、ダミー配線３０２ａは、上述したダミー配線３０１ａの一部が欠落した形状をもつ。すなわち、ダミー配線３０２ａは、アンテナパターン領域２０の単位パターン形状２０ａの一部が欠落した形状をもつ。この場合、ダミー配線３０２ａの形状は、アンテナパターン領域２０のＬ字状の単位パターン形状２０ａから、上述した空隙部３３２ａ、３３２ｂを除いた形状となる。すなわち、第２ダミーパターン領域３０２の複数のダミー配線３０２ａと複数の空隙部３３２ａ、３３２ｂとを併合した形状が、アンテナパターン領域２０を形成する格子形状または網目形状に相当する。このように、第２ダミーパターン領域３０２のダミー配線３０２ａが、第１ダミーパターン領域３０１のダミー配線３０１ａの一部が欠落した形状であることにより、第１ダミーパターン領域３０１と第２ダミーパターン領域３０２との相違を目視で認識しにくくでき、基板１１上に配置された第１ダミーパターン領域３０１および第２ダミーパターン領域３０２を見えにくくできる。

図２Ａにおいて、Ｙ方向に第１ダミーパターン領域３０１と第２ダミーパターン領域３０２とが隣接している。この第１ダミーパターン領域３０１と第２ダミーパターン領域３０２との境界近傍において、第２ダミーパターン領域３０２の第１ダミー配線部分３１２が、第１ダミーパターン領域３０１の第１ダミー配線部分３１１の延長上に形成されている。このため、Ｙ方向において、第１ダミーパターン領域３０１と第２ダミーパターン領域３０２との相違が目視で視認しにくくなっている。なお、図示された例において、第１ダミーパターン領域３０１と第２ダミーパターン領域３０２との境界線Ｂ１に隣接する第１ダミー配線部分３１１と、境界線Ｂ１に隣接する第１ダミー配線部分３１２とが互いに離間しているが、これに限られない。例えば、図示はしないが、境界線Ｂ１に隣接する第１ダミー配線部分３１１と、境界線Ｂ１に隣接する第１ダミー配線部分３１２とが繋がっていてもよい。

また、図２Ｂにおいて、Ｘ方向に第１ダミーパターン領域３０１と第２ダミーパターン領域３０２とが隣接している。この第１ダミーパターン領域３０１と第２ダミーパターン領域３０２との境界近傍において、第２ダミーパターン領域３０２の第２ダミー配線部分３２２が、第１ダミーパターン領域３０１の第２ダミー配線部分３２１の延長上に形成されている。このため、Ｘ方向において、第１ダミーパターン領域３０１と第２ダミーパターン領域３０２との相違が目視で視認しにくくなっている。なお、図示された例において、第１ダミーパターン領域３０１と第２ダミーパターン領域３０２との境界線Ｂ１に隣接する第２ダミー配線部分３２１と、境界線Ｂ１に隣接する第２ダミー配線部分３２２とが互いに離間しているが、これに限られない。例えば、図示はしないが、境界線Ｂ１に隣接する第２ダミー配線部分３２１と、境界線Ｂ１に隣接する第２ダミー配線部分３２２とが繋がっていてもよい。

なお、本実施形態において、第２ダミーパターン領域３０２の第１ダミー配線部分３１２のその他の形状（Ｘ方向断面における断面形状、線幅および高さ）は、第１ダミーパターン領域３０１の第１ダミー配線部分３１１の形状と略同一であるため、ここでは、詳細な説明は省略する。また、第２ダミーパターン領域３０２の第２ダミー配線部分３２２のその他の形状（Ｙ方向断面における断面形状、線幅および高さ）は、第１ダミーパターン領域３０１の第２ダミー配線部分３２１の形状と略同一であるため、ここでは、詳細な説明は省略する。

次に、第３ダミーパターン領域３０３のダミー配線３０３ａについて説明する。

（第３ダミーパターン領域のダミー配線）
図２Ａおよび図２Ｂに示すようにダミー配線３０３ａは、それぞれ平面視略Ｌ字状であり、Ｙ方向に延びる第１ダミー配線部分３１３と、Ｘ方向に延びる第２ダミー配線部分３２３とを有している。このうち第１ダミー配線部分３１３は、所定の長さＬ_８（Ｙ方向の長さ、図２Ａ参照）を有し、第２ダミー配線部分３２３は、所定の長さＬ_９（Ｘ方向の長さ、図２Ａ参照）を有し、これらは互いに等しい（Ｌ_８＝Ｌ_９）。

また、第３ダミーパターン領域３０３において、Ｘ方向に互いに隣接するダミー配線３０３ａ同士の間には空隙部３３３ａ（図２Ａおよび図２Ｂの網掛け部分）が形成され、Ｙ方向に互いに隣接するダミー配線３０３ａ同士の間には空隙部３３３ｂ（図２Ａおよび図２Ｂの網掛け部分）が形成されている。この場合、ダミー配線３０３ａ同士は互いに等間隔に配置されている。すなわちＸ方向に互いに隣接するダミー配線３０３ａ同士は、互いに等間隔に配置され、そのギャップＧ_５は、例えば６μｍ以上６０μｍ以下の範囲とすることができる。同様に、Ｙ方向に互いに隣接するダミー配線３０３ａ同士は、互いに等間隔に配置され、そのギャップＧ_６は、例えば６μｍ以上６０μｍ以下の範囲とすることができる。なお、ギャップＧ_５、Ｇ_６の最大値は、それぞれ上述したピッチＰ_１、Ｐ_２の０．５１倍以下としてもよい。この場合、ダミー配線３０３ａのＸ方向のギャップＧ_５は、ダミー配線３０３ａのＹ方向のギャップＧ_６と等しい（Ｇ_５＝Ｇ_６）。

本実施形態において、ダミー配線３０３ａは、上述したダミー配線３０２ａの一部が欠落した形状をもつ。すなわち、ダミー配線３０３ａは、アンテナパターン領域２０の単位パターン形状２０ａの一部が欠落した形状をもつ。この場合、ダミー配線３０３ａの形状は、アンテナパターン領域２０のＬ字状の単位パターン形状２０ａから、上述した空隙部３３３ａ、３３３ｂを除いた形状となる。すなわち、第３ダミーパターン領域３０３の複数のダミー配線３０３ａと複数の空隙部３３３ａ、３３３ｂとを併合した形状が、アンテナパターン領域２０を形成する格子形状または網目形状に相当する。このように、第３ダミーパターン領域３０３のダミー配線３０３ａが、第２ダミーパターン領域３０２のダミー配線３０２ａの一部が欠落した形状であることにより、第２ダミーパターン領域３０２と第３ダミーパターン領域３０３との相違を目視で認識しにくくでき、基板１１上に配置された第２ダミーパターン領域３０２および第３ダミーパターン領域３０３を見えにくくできる。

図２Ａにおいて、Ｙ方向に第２ダミーパターン領域３０２と第３ダミーパターン領域３０３とが隣接している。この第２ダミーパターン領域３０２と第３ダミーパターン領域３０３との境界近傍において、第３ダミーパターン領域３０３の第１ダミー配線部分３１３が、第２ダミーパターン領域３０２の第１ダミー配線部分３１２の延長上に形成されている。このため、Ｙ方向において、第２ダミーパターン領域３０２と第３ダミーパターン領域３０３との相違が目視で視認しにくくなっている。なお、図示された例において、第２ダミーパターン領域３０２と第３ダミーパターン領域３０３との境界線Ｂ２に隣接する第１ダミー配線部分３１２と、境界線Ｂ２に隣接する第１ダミー配線部分３１３とが互いに離間しているが、これに限られない。例えば、図示はしないが、境界線Ｂ２に隣接する第１ダミー配線部分３１２と、境界線Ｂ２に隣接する第１ダミー配線部分３１３とが繋がっていてもよい。

また、図２Ｂにおいて、Ｘ方向に第２ダミーパターン領域３０２と第３ダミーパターン領域３０３とが隣接している。この第２ダミーパターン領域３０２と第３ダミーパターン領域３０３との境界近傍において、第３ダミーパターン領域３０３の第２ダミー配線部分３２３が、第２ダミーパターン領域３０２の第２ダミー配線部分３２２の延長上に形成されている。このため、Ｘ方向において、第２ダミーパターン領域３０２と第３ダミーパターン領域３０３との相違が目視で視認しにくくなっている。なお、図示された例において、第２ダミーパターン領域３０２と第３ダミーパターン領域３０３との境界線Ｂ２に隣接する第２ダミー配線部分３２２と、境界線Ｂ２に隣接する第２ダミー配線部分３２３とが互いに離間しているが、これに限られない。例えば、図示はしないが、境界線Ｂ２に隣接する第２ダミー配線部分３２２と、境界線Ｂ１に隣接する第２ダミー配線部分３２３とが繋がっていてもよい。

なお、本実施形態において、第３ダミーパターン領域３０３の第１ダミー配線部分３１３のその他の形状（Ｘ方向断面における断面形状、線幅および高さ）は、第１ダミーパターン領域３０１の第１ダミー配線部分３１１の形状と略同一であるため、ここでは、詳細な説明は省略する。また、第３ダミーパターン領域３０３の第２ダミー配線部分３２３のその他の形状（Ｙ方向断面における断面形状、線幅および高さ）は、第１ダミーパターン領域３０１の第２ダミー配線部分３２１の形状と略同一であるため、ここでは、詳細な説明は省略する。

上述したダミー配線３０１ａ、３０２ａ、３０３ａの材料は、アンテナ配線２１の材料およびアンテナ連結配線２２の材料と同一の金属材料を用いることができる。

ところで、本実施形態において、アンテナパターン領域２０、第１ダミーパターン領域３０１、第２ダミーパターン領域３０２および第３ダミーパターン領域３０３は、それぞれ所定の開口率Ａ１、Ａ２１、Ａ２２、Ａ２３を有する。この場合、第１ダミーパターン領域３０１の開口率Ａ２１は、アンテナパターン領域２０の開口率Ａ１以上であり、第２ダミーパターン領域３０２の開口率Ａ２２は、第１ダミーパターン領域３０１の開口率Ａ２１よりも大きくなっている。このように、本実施の形態では、アンテナパターン領域２０および複数のダミーパターン領域３０の開口率Ａ１、Ａ２１、Ａ２２、Ａ２３は、アンテナパターン領域２０から、アンテナパターン領域２０に遠いダミーパターン領域３０に向けて段階的に大きくなる。すなわち、第１ダミーパターン領域３０１の開口率Ａ２１は、アンテナパターン領域２０の開口率Ａ１以上であり、第１ダミーパターン領域３０１の開口率Ａ２１よりも、第２ダミーパターン領域３０２の開口率Ａ２２の方が大きく、第２ダミーパターン領域３０２の開口率Ａ２２よりも第３ダミーパターン領域３０３の開口率Ａ２３の方が大きい（Ａ２３＞Ａ２２＞Ａ２１≧Ａ１）。これにより、配線基板１０の透明性を確保できるようになっている。

また、アンテナパターン領域２０に隣接する第１ダミーパターン領域３０１の開口率Ａ２１と、アンテナパターン領域２０の開口率Ａ１との差は、０％以上２％以下であることが好ましく、０．０２％以上１％以下であることがより好ましく、０．０８％以上０．５％以下であることが更に好ましい。開口率Ａ２１と開口率Ａ１との差が０％以上であることにより、配線基板１０の透明性を高くできる。また、開口率Ａ２１と開口率Ａ１との差が２％以下であることにより、開口率Ａ２１と開口率Ａ１との差を小さくでき、アンテナパターン領域２０と第１ダミーパターン領域３０１との境界を見えづらくできる。このため、アンテナパターン領域２０の存在を肉眼で認識しにくくできる。なお、アンテナパターン領域２０の開口率Ａ１との差は、０．１％以上３％以下であってもよい。

さらに、互いに隣り合うダミーパターン領域３０の開口率Ａ２１、Ａ２２、Ａ２３の差（例えば、開口率Ａ２１と開口率Ａ２２との差）は、０．０２％以上２％以下であることが好ましく、０．０４％以上１％以下がより好ましく、０．０８％以上０．５％以下が更に好ましい。開口率Ａ２１、Ａ２２、Ａ２３の差が０．０２％以上であることにより、配線基板１０の透明性を高くできる。また、開口率Ａ２１、Ａ２２、Ａ２３の差が２％以下であることにより、例えば、開口率Ａ２１と開口率Ａ２２との差を小さくでき、第１ダミーパターン領域３０１と第２ダミーパターン領域３０２との境界を見えづらくできる。このように、各ダミーパターン領域３０の境界を見えづらくできるため、各ダミーパターン領域３０の存在を肉眼で認識しにくくできる。なお、互いに隣り合うダミーパターン領域３０の開口率Ａ２１、Ａ２２、Ａ２３の差は、０．１％以上３％以下であってもよい。

上述したアンテナパターン領域２０の開口率Ａ１は、例えば８５％以上９９．９％以下の範囲とすることができる。また、第１ダミーパターン領域３０１の開口率Ａ２１は、例えば８５％以上１００％未満の範囲とすることができる。また、第２ダミーパターン領域３０２の開口率Ａ２２は、例えば８６％以上１００％未満の範囲とすることができる。さらに、第３ダミーパターン領域３０３の開口率Ａ２３は、例えば８６．５％以上１００％未満の範囲とすることができる。

また、アンテナパターン領域２０および各々ダミーパターン領域３０を合わせた領域の開口率（すなわち、配線基板１０の全体の開口率）Ａ３は、例えば８７％以上１００％未満の範囲とすることができる。開口率Ａ３をこの範囲とすることにより、配線基板１０の導電性と透明性を確保できる。

なお、開口率とは、所定の領域（アンテナパターン領域２０、ダミーパターン領域３０、または、アンテナパターン領域２０およびダミーパターン領域３０）の単位面積に占める、開口領域（アンテナ配線２１、アンテナ連結配線２２、ダミー配線３０１ａ、３０２ａ、３０３ａ等の金属部分が存在せず、基板１１が露出する領域）の面積の割合（％）をいう。

再度図１を参照すると、給電部４０は、アンテナパターン領域２０に電気的に接続されている。この給電部４０は、略長方形状の導電性の薄板状部材からなる。給電部４０の長手方向はＸ方向に平行であり、給電部４０の短手方向はＹ方向に平行である。また、給電部４０は、基板１１の長手方向端部（Ｙ方向マイナス側端部）に配置されている。給電部４０の材料は、例えば、金、銀、銅、白金、錫、アルミニウム、鉄、ニッケルなどの金属材料（含む合金）を用いることができる。この給電部４０は、配線基板１０が画像表示装置９０（図７参照）に組み込まれた際、画像表示装置９０の無線通信用回路９２と電気的に接続される。なお、給電部４０は、基板１１の表面に設けられているが、これに限らず、給電部４０の一部又は全部が基板１１の周縁よりも外側に位置していても良い。

［配線基板の製造方法］
次に、図６Ａ乃至図６Ｆを参照して、本実施形態による配線基板の製造方法について説明する。図６Ａ乃至図６Ｆは、本実施形態による配線基板の製造方法を示す断面図である。

まず、図６Ａに示すように、透明性を有する基板１１を準備する。

次に、基板１１上に、複数のアンテナ配線２１を含むアンテナパターン領域２０と、アンテナパターン領域２０の周囲に配置され、アンテナ配線２１から電気的に独立した複数のダミーパターン領域３０とを形成する。この際、まず、基板１１の表面の略全域に導電層５１を形成する。本実施形態において導電層５１の厚さは、２００ｎｍである。しかしながらこれに限定されず、導電層５１の厚さは１０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下の範囲で適宜選択できる。本実施形態において導電層５１は、銅を用いてスパッタリング法によって形成する。導電層５１を形成する方法としては、プラズマＣＶＤ法を用いても良い。

次に、図６Ｂに示すように、基板１１の表面の略全域に光硬化性絶縁レジスト５２を供給する。この光硬化性絶縁レジスト５２としては、例えばアクリル樹脂、エポキシ系樹脂等の有機樹脂を挙げることができる。

続いて、図６Ｃに示すように、絶縁層５４をフォトリソグラフィ法により形成する。この場合、フォトリソグラフィ法により光硬化性絶縁レジスト５２をパターニングし、トレンチ５４ａが形成された絶縁層５４（レジストパターン）を形成する。トレンチ５４ａは、アンテナ配線２１、アンテナ連結配線２２およびダミー配線３０１ａ、３０２ａ、３０３ａに対応する平面形状パターンを有する。また、この際、アンテナ配線２１、アンテナ連結配線２２およびダミー配線３０１ａ、３０２ａ、３０３ａに対応する導電層５１が露出するように、絶縁層５４を形成する。

なお、これに限らず、絶縁層５４の表面に、インプリント法によってトレンチ５４ａを形成できる。この場合、トレンチ５４ａに対応した凸部を有する透明なインプリント用のモールドを準備し、このモールドと基板１１とを近接させて、モールドと基板１１との間に光硬化性絶縁レジスト５２を展開する。次に、モールド側から光照射を行い、光硬化性絶縁レジスト５２を硬化させることにより、絶縁層５４を形成する。これにより、絶縁層５４の表面に、凸部が転写された形状をもつトレンチ５４ａが形成される。その後モールドを絶縁層５４から剥離することで、図６Ｃに示す断面構造の絶縁層５４を得ることができる。ここで、図示はしないが、絶縁層５４のトレンチ５４ａの底部には、絶縁材料の残渣が残ることがある。このため過マンガン酸塩溶液やＮ－メチル－２－ピロリドンを用いたウェット処理や、酸素プラズマを用いたドライ処理を行うことによって、絶縁材料の残渣を除去する。このように、絶縁材料の残渣を除去することによって、図６Ｃに示すように導電層５１を露出したトレンチ５４ａを形成できる。

次に、図６Ｄに示すように、絶縁層５４のトレンチ５４ａを、導電体５５で充填する。本実施形態において、導電層５１をシード層として、電解メッキ法を用いて絶縁層５４のトレンチ５４ａを銅で充填する。

続いて、図６Ｅに示すように、絶縁層５４を除去する。この場合、過マンガン酸塩溶液やＮ－メチル－２－ピロリドン、酸またはアルカリ溶液等を用いたウェット処理や、酸素プラズマを用いたドライ処理を行うことによって、基板１１上の絶縁層５４を除去する。

その後、図６Ｆに示すように、基板１１の表面上の導電層５１を除去する。この際、過酸化水素水を用いたウェット処理を行うことによって、基板１１の表面が露出するように導電層５１をエッチングする。このようにして、基板１１と、基板１１上に配置されたアンテナパターン領域２０およびダミーパターン領域３０と、を有する配線基板１０が得られる。この場合、第１ダミーパターン領域３０１の開口率Ａ２１は、アンテナパターン領域２０の開口率Ａ１以上になり、第２ダミーパターン領域３０２の開口率Ａ２２は、第１ダミーパターン領域３０１の開口率Ａ２１よりも大きくなる。また、第３ダミーパターン領域３０３の開口率Ａ２３は、第２ダミーパターン領域３０２の開口率Ａ２２よりも大きくなる。また、アンテナパターン領域２０は、アンテナ配線２１およびアンテナ連結配線２２を含み、ダミーパターン領域３０は、ダミー配線３０１ａ、３０２ａ、３０３ａを含む。上述した導電体５５は、アンテナ配線２１と、アンテナ連結配線２２と、ダミー配線３０１ａ、３０２ａ、３０３ａとを含んでいる。

［本実施形態の作用］
次に、このような構成からなる配線基板の作用について述べる。

図７に示すように、配線基板１０は、ディスプレイ（表示装置）９１を有する画像表示装置９０に組み込まれる。画像表示装置９０は、配線基板１０と、配線基板１０に積層されたディスプレイ９１と、を備えている。配線基板１０は、ディスプレイ９１上に配置される。このような画像表示装置９０としては、例えばスマートフォン、タブレット等の携帯端末機器を挙げることができる。配線基板１０のアンテナパターン領域２０は、給電部４０を介して画像表示装置９０の無線通信用回路９２に電気的に接続される。このようにして、アンテナパターン領域２０を介して、所定の周波数の電波を送受信でき、画像表示装置９０を用いて通信を行うことができる。なお、各ダミーパターン領域３０は、それぞれアンテナパターン領域２０から離間し、電気的に独立しているので、各ダミーパターン領域３０が設けられていることによって電波の送受信に影響が生じるおそれはない。

本実施形態によれば、配線基板１０が、透明性を有する基板１１と、基板１１上に配置され、複数のアンテナ配線２１を含むアンテナパターン領域２０を有するので、配線基板１０の透明性が確保されている。これにより、配線基板１０がディスプレイ９１上に配置されたとき、アンテナパターン領域２０の開口部２３からディスプレイ９１を視認できるので、ディスプレイ９１の視認性が妨げられることがない。

また、アンテナパターン領域２０の周囲に、アンテナ配線２１から電気的に独立した複数のダミーパターン領域３０が配置されている。そして、アンテナパターン領域２０に隣接する第１ダミーパターン領域３０１の開口率Ａ２１が、アンテナパターン領域２０の開口率Ａ１以上である。また、第１ダミーパターン領域３０１に隣接するとともに、第１ダミーパターン領域３０１よりも配線パターン領域２０から遠い第２ダミーパターン領域３０２の開口率Ａ２２が、第１ダミーパターン領域３０１の開口率Ａ２１よりも大きくなっている。これにより、アンテナパターン領域２０、第１ダミーパターン領域３０１および第２ダミーパターン領域３０２の境界を不明瞭にできる。このため、ディスプレイ９１の表面上でアンテナパターン領域２０、第１ダミーパターン領域３０１および第２ダミーパターン領域３０２を見えにくくでき、画像表示装置９０の使用者がアンテナパターン領域２０、第１ダミーパターン領域３０１および第２ダミーパターン領域３０２を肉眼で認識しにくくできる。また、第１ダミーパターン領域３０１の開口率Ａ２１がアンテナパターン領域２０の開口率Ａ１以上であり、第２ダミーパターン領域３０２の開口率Ａ２２が第１ダミーパターン領域３０１の開口率Ａ２１よりも大きくなっていることにより、アンテナパターン領域２０、第１ダミーパターン領域３０１および第２ダミーパターン領域３０２の境界を不明瞭にした場合であっても、配線基板１０の全体の開口率Ａ３を高くできる。このため、配線基板１０の導電性と透明性を確保できる。

ここで、アンテナ性能を向上させるためには、アンテナ配線２１の導電性を高くすることが求められるが、アンテナ配線２１の導電性を高めるために、例えばアンテナ配線２１の線幅Ｗ_１を太くした場合、アンテナパターン領域２０の開口率Ａ１が低くなる。この場合、アンテナパターン領域２０を見えにくくするために、アンテナパターン領域２０の周囲にダミーパターン領域を設けることが考えられる。一方、アンテナパターン領域２０の周囲に単一のダミーパターン領域を設けた場合（例えば、基板１１上であって、アンテナパターン領域２０を除く略全域にわたって、単一のダミーパターン領域を設けた場合）、アンテナパターン領域２０の開口率Ａ１が低くなると、アンテナパターン領域２０と当該ダミーパターン領域との境界を不明瞭にするためには、当該ダミーパターン領域の開口率も低くすることが求められる。一方、当該ダミーパターン領域の開口率を低くした場合、配線基板１０の全体の開口率Ａ３が低くなってしまい、配線基板１０が全体的に暗くなってしまう可能性がある。これに対して本実施の形態によれば、配線基板１０が、複数のダミーパターン領域３０を備え、第１ダミーパターン領域３０１の開口率Ａ２１がアンテナパターン領域２０の開口率Ａ１以上であり、第２ダミーパターン領域３０２の開口率Ａ２２が第１ダミーパターン領域３０１の開口率Ａ２１よりも大きくなっている。これにより、アンテナパターン領域２０の開口率Ａ１を低くした場合であっても、アンテナパターン領域２０、第１ダミーパターン領域３０１および第２ダミーパターン領域３０２の境界を不明瞭にしつつ、配線基板１０の全体の開口率Ａ３を高くできる。このため、配線基板１０の導電性と透明性を確保できる。

また、本実施の形態によれば、第３ダミーパターン領域３０３が、複数のアンテナパターン領域２０を取り囲むように設けられている。これにより、複数のアンテナパターン領域２０を、効果的に視認しにくくできる。

また、本実施の形態によれば、複数のダミーパターン領域３０１、３０２、３０３が、それぞれアンテナ配線２１から電気的に独立した複数のダミー配線３０１ａ、３０２ａ、３０３ａを含んでいる。また、複数のダミー配線３０１ａ、３０２ａ、３０３ａが、それぞれ第１ダミー配線部分３１１、３１２、３１３と第２ダミー配線部分３２１、３２２、３２３とを有している。そして、互いに隣り合うダミーパターン領域３０１、３０２、３０３の第１ダミー配線部分３１１、３１２、３１３が、互いに平行に配置されている。これにより、Ｙ方向において、互いに隣り合うダミーパターン領域３０１、３０２、３０３の境界を不明瞭にでき、ディスプレイ９１の表面上でダミーパターン領域３０１、３０２、３０３を肉眼で認識しにくくできる。

また、互いに隣り合うダミーパターン領域３０１、３０２、３０３の第２ダミー配線部分３２１、３２２、３２３が、互いに平行に配置されている。これにより、Ｘ方向において、互いに隣り合うダミーパターン領域３０１、３０２、３０３の境界を不明瞭にでき、ディスプレイ９１の表面上でダミーパターン領域３０１、３０２、３０３を肉眼で認識しにくくできる。

また、本実施の形態によれば、アンテナパターン領域２０が、複数のアンテナ配線２１を連結する複数のアンテナ連結配線２２を更に含んでいる。また、複数のダミーパターン領域３０１、３０２、３０３が、それぞれアンテナ配線２１およびアンテナ連結配線２２から電気的に独立した複数のダミー配線３０１ａ、３０２ａ、３０３ａを含んでいる。また、複数のダミー配線３０１ａ、３０２ａ、３０３ａが、それぞれ第１ダミー配線部分３１１、３１２、３１３と第２ダミー配線部分３２１、３２２、３２３とを有している。そして、アンテナパターン領域２０のアンテナ配線２１と、各ダミーパターン領域３０１、３０２、３０３の第１ダミー配線部分３１１、３１２、３１３とが、互いに平行に配置されている。これにより、Ｙ方向において、アンテナパターン領域２０と各ダミーパターン領域３０１、３０２、３０３との境界を不明瞭にでき、ディスプレイ９１の表面上でアンテナパターン領域２０および各ダミーパターン領域３０１、３０２、３０３を肉眼で認識しにくくできる。

また、図２Ｂに示すように、アンテナパターン領域２０のアンテナ連結配線２２と、各ダミーパターン領域３０１、３０２、３０３の第２ダミー配線部分３２１、３２２、３２３とが、互いに平行に配置されている。これにより、Ｘ方向において、アンテナパターン領域２０と各ダミーパターン領域３０１、３０２、３０３との境界を不明瞭にでき、ディスプレイ９１の表面上でアンテナパターン領域２０および各ダミーパターン領域３０１、３０２、３０３を肉眼で認識しにくくできる。

（変形例）
次に、図８乃至図２４を参照して、配線基板の各種変形例について説明する。図８乃至図２４は、配線基板の各種変形例等を示す図である。図８乃至図２４に示す各変形例は、アンテナパターン領域２０および／またはダミーパターン領域３０の構成が異なるものであり、他の構成は上述した実施形態と略同一である。図８乃至図２４において、図１乃至図７に示す形態と同一部分には同一の符号を付して詳細な説明は省略する。

（変形例１）
図８は、変形例１による配線基板１０Ａを示している。図８において、第２ダミーパターン領域３０２が、複数のアンテナパターン領域２０を取り囲むように設けられている。図示された例において、第２ダミーパターン領域３０２は、全てのアンテナパターン領域２０を取り囲むように設けられている。この場合においても、複数のアンテナパターン領域２０を、効果的に視認しにくくできる。

なお、図示はしないが、第１ダミーパターン領域３０１が、複数のアンテナパターン領域２０を取り囲むように設けられていてもよい。この際、第１ダミーパターン領域３０１は、全てのアンテナパターン領域２０を取り囲むように設けられていてもよい。

（変形例２）
図９は、変形例２による配線基板１０Ｂを示している。図９において、配線基板１０Ｂは、アンテナパターン領域２０から最も遠いダミーパターン領域３０（本変形例では、第２ダミーパターン領域３０２）の周囲に配置された周囲領域５０を更に備えている。そして、周囲領域５０の開口率は１００％である。すなわち、周囲領域５０は、ダミー配線を含んでいない。

この場合、互いに隣り合うダミーパターン領域３０の開口率の差、および、周囲領域５０と、周囲領域５０に隣り合うダミーパターン領域３０の開口率の差は、それぞれ０．０２％以上２％以下であってもよい。上述した差が０．０２％以上であることにより、配線基板１０の透明性を高くできる。また、上述した差が２％以下であることにより、ダミーパターン領域３０と周囲領域５０との境界を見えづらくできる。このため、アンテナパターン領域２０の存在を肉眼で認識しにくくできる。

このように、配線基板１０Ｂが、アンテナパターン領域２０から最も遠いダミーパターン領域３０の周囲に配置された周囲領域５０を更に備え、周囲領域５０の開口率が１００％であることにより、配線基板１０Ｂの全体の開口率Ａ３を高くできる。このため、配線基板１０Ｂの透明性を高くできる。

（変形例３）
図１０は、変形例３による配線基板１０Ｃを示している。図１０において、アンテナ配線２１とアンテナ連結配線２２とは、斜めに交わっており、各開口部２３は、平面視で菱形状に形成されている。アンテナ配線２１およびアンテナ連結配線２２は、それぞれＸ方向及びＹ方向のいずれに対しても非平行となっている。

また、第１ダミーパターン領域３０１の第１ダミー配線部分３１１、第２ダミーパターン領域３０２の第１ダミー配線部分３１２、および第３ダミーパターン領域３０３の第１ダミー配線部分３１３は、それぞれアンテナ配線２１と平行に伸びている。同様に、第１ダミーパターン領域３０１の第２ダミー配線部分３２１、第２ダミーパターン領域３０２の第２ダミー配線部分３２２、および第３ダミーパターン領域３０３の第２ダミー配線部分３２３は、それぞれアンテナ連結配線２２と平行に伸びている。

本変形例においても、アンテナパターン領域２０および各ダミーパターン領域３０の境界を不明瞭にできる。このため、ディスプレイ９１の表面上でアンテナパターン領域２０および各ダミーパターン領域３０を見えにくくでき、画像表示装置９０の使用者がアンテナパターン領域２０および各ダミーパターン領域３０を肉眼で認識しにくくできる。また、配線基板１０Ｃの導電性と透明性を確保できる。

（変形例４）
図１１は、変形例４による配線基板１０Ｄを示している。図１１において、アンテナ配線２１および第１ダミー配線部分３１１、３１２、３１３の線幅が、アンテナパターン領域２０から、アンテナパターン領域２０に遠いダミーパターン領域３０に向けて段階的に狭くなっている。すなわち、第１ダミーパターン領域３０１の第１ダミー配線部分３１１の線幅が、アンテナパターン領域２０のアンテナ配線２１の線幅よりも狭くなっている。また、第２ダミーパターン領域３０２の第１ダミー配線部分３１２の線幅が、第１ダミーパターン領域３０１の第１ダミー配線部分３１１の線幅よりも狭くなっている。さらに、第３ダミーパターン領域３０３の第１ダミー配線部分３１３の線幅が、第２ダミーパターン領域３０２の第１ダミー配線部分３１２の線幅よりも狭くなっている。

このように、アンテナ配線２１および第１ダミー配線部分３１１、３１２、３１３の線幅を、アンテナパターン領域２０から、アンテナパターン領域２０に遠いダミーパターン領域３０に向けて段階的に狭くすることにより、アンテナパターン領域２０および複数のダミーパターン領域３０の開口率Ａ１、Ａ２１、Ａ２２、Ａ２３を、アンテナパターン領域２０から、アンテナパターン領域２０に遠いダミーパターン領域３０に向けて段階的に大きくできる。

また、図１１において、アンテナ連結配線２２および第２ダミー配線部分３２１、３２２、３２３の線幅が、アンテナパターン領域２０から、アンテナパターン領域２０に遠いダミーパターン領域３０に向けて段階的に狭くなっている。すなわち、第１ダミーパターン領域３０１の第２ダミー配線部分３２１の線幅が、アンテナパターン領域２０のアンテナ連結配線２２の線幅よりも狭くなっている。また、第２ダミーパターン領域３０２の第２ダミー配線部分３２２の線幅が、第１ダミーパターン領域３０１の第２ダミー配線部分３２１の線幅よりも狭くなっている。さらに、第３ダミーパターン領域３０３の第２ダミー配線部分３２３の線幅が、第２ダミーパターン領域３０２の第２ダミー配線部分３２２の線幅よりも狭くなっている。

このように、アンテナ連結配線２２および第２ダミー配線部分３２１、３２２、３２３の線幅を、アンテナパターン領域２０から、アンテナパターン領域２０に遠いダミーパターン領域３０に向けて段階的に狭くすることにより、アンテナパターン領域２０および複数のダミーパターン領域３０の開口率Ａ１、Ａ２１、Ａ２２、Ａ２３を、アンテナパターン領域２０から、アンテナパターン領域２０に遠いダミーパターン領域３０に向けて段階的に大きくできる。

（変形例５）
図１２は、変形例５による配線基板１０Ｅを示している。図１２において、アンテナ配線２１および第１ダミー配線部分３１１、３１２、３１３のピッチが、アンテナパターン領域２０から、アンテナパターン領域２０に遠いダミーパターン領域３０に向けて段階的に大きくなっている。すなわち、第１ダミーパターン領域３０１の第１ダミー配線部分３１１のピッチが、アンテナパターン領域２０のアンテナ配線２１のピッチよりも大きくなっている。また、第２ダミーパターン領域３０２の第１ダミー配線部分３１２のピッチが、第１ダミーパターン領域３０１の第１ダミー配線部分３１１のピッチよりも大きくなっている。さらに、第３ダミーパターン領域３０３の第１ダミー配線部分３１３のピッチが、第２ダミーパターン領域３０２の第１ダミー配線部分３１２のピッチよりも大きくなっている。

なお、図示された例においては、第１ダミー配線部分３１１、３１２、３１３のピッチは、それぞれアンテナ配線２１のピッチの整数倍になっている。具体的には、第１ダミー配線部分３１１のピッチは、アンテナ配線２１のピッチの２倍になっており、第１ダミー配線部分３１２のピッチは、アンテナ配線２１のピッチの３倍になっており、第１ダミー配線部分３１３のピッチは、アンテナ配線２１のピッチの４倍になっている。なお、第１ダミー配線部分３１１、３１２、３１３のピッチは、それぞれアンテナ配線２１のピッチの整数倍でなくてもよい。

このように、アンテナ配線２１および第１ダミー配線部分３１１、３１２、３１３のピッチを、アンテナパターン領域２０から、アンテナパターン領域２０に遠いダミーパターン領域３０に向けて段階的に大きくすることにより、アンテナパターン領域２０および複数のダミーパターン領域３０の開口率Ａ１、Ａ２１、Ａ２２、Ａ２３を、アンテナパターン領域２０から、アンテナパターン領域２０に遠いダミーパターン領域３０に向けて段階的に大きくできる。

また、図１２において、アンテナ連結配線２２および第２ダミー配線部分３２１、３２２、３２３のピッチが、アンテナパターン領域２０から、アンテナパターン領域２０に遠いダミーパターン領域３０に向けて段階的に大きくなっている。すなわち、第１ダミーパターン領域３０１の第２ダミー配線部分３２１のピッチが、アンテナパターン領域２０のアンテナ連結配線２２のピッチよりも大きくなっている。また、第２ダミーパターン領域３０２の第２ダミー配線部分３２２のピッチが、第１ダミーパターン領域３０１の第２ダミー配線部分３２１のピッチよりも大きくなっている。さらに、第３ダミーパターン領域３０３の第２ダミー配線部分３２３のピッチが、第２ダミーパターン領域３０２の第２ダミー配線部分３２２のピッチよりも大きくなっている。

なお、図示された例においては、第２ダミー配線部分３２１、３２２、３２３のピッチは、それぞれアンテナ連結配線２２のピッチの整数倍になっている。具体的には、第２ダミー配線部分３２１のピッチは、アンテナ連結配線２２のピッチの２倍になっており、第２ダミー配線部分３２２のピッチは、アンテナ連結配線２２のピッチの３倍になっており、第２ダミー配線部分３２３のピッチは、アンテナ連結配線２２のピッチの４倍になっている。なお、第２ダミー配線部分３２１、３２２、３２３のピッチは、それぞれアンテナ連結配線２２のピッチの整数倍でなくてもよい。

このように、アンテナ連結配線２２および第２ダミー配線部分３２１、３２２、３２３のピッチを、アンテナパターン領域２０から、アンテナパターン領域２０に遠いダミーパターン領域３０に向けて段階的に大きくすることにより、アンテナパターン領域２０および複数のダミーパターン領域３０の開口率Ａ１、Ａ２１、Ａ２２、Ａ２３を、アンテナパターン領域２０から、アンテナパターン領域２０に遠いダミーパターン領域３０に向けて段階的に大きくできる。

（変形例６）
図１３は、変形例６による配線基板１０Ｆを示している。図１３において、第１ダミー配線部分３１１、３１２、３１３が、破線状に形成されている。また、破線状に形成された第１ダミー配線部分３１１、３１２、３１３の切れ目が、アンテナパターン領域２０に隣接するダミーパターン領域３０から、アンテナパターン領域２０に遠いダミーパターン領域３０に向けて段階的に長くなっている。すなわち、第２ダミーパターン領域３０２の第１ダミー配線部分３１２の切れ目が、第１ダミーパターン領域３０１の第１ダミー配線部分３１１の切れ目よりも長くなっている。また、第３ダミーパターン領域３０３の第１ダミー配線部分３１３の切れ目が、第２ダミーパターン領域３０２の第１ダミー配線部分３１２の切れ目よりも長くなっている。

このように、第１ダミー配線部分３１１、３１２、３１３を破線状に形成し、破線状に形成された第１ダミー配線部分３１１、３１２、３１３の切れ目を、アンテナパターン領域２０に隣接するダミーパターン領域３０から、アンテナパターン領域２０に遠いダミーパターン領域３０に向けて段階的に長くすることにより、アンテナパターン領域２０および複数のダミーパターン領域３０の開口率Ａ１、Ａ２１、Ａ２２、Ａ２３を、アンテナパターン領域２０から、アンテナパターン領域２０に遠いダミーパターン領域３０に向けて段階的に大きくできる。

また、図１３において、第２ダミー配線部分３２１、３２２、３２３が、破線状に形成されている。また、破線状に形成された第２ダミー配線部分３２１、３２２、３２３の切れ目が、アンテナパターン領域２０に隣接するダミーパターン領域３０から、アンテナパターン領域２０に遠いダミーパターン領域３０に向けて段階的に長くなっている。すなわち、第２ダミーパターン領域３０２の第２ダミー配線部分３２２の切れ目が、第１ダミーパターン領域３０１の第２ダミー配線部分３２１の切れ目よりも長くなっている。また、第３ダミーパターン領域３０３の第２ダミー配線部分３２３の切れ目が、第２ダミーパターン領域３０２の第２ダミー配線部分３２２の切れ目よりも長くなっている。

このように、第２ダミー配線部分３２１、３２２、３２３を破線状に形成し、破線状に形成された第２ダミー配線部分３２１、３２２、３２３の切れ目を、アンテナパターン領域２０に隣接するダミーパターン領域３０から、アンテナパターン領域２０に遠いダミーパターン領域３０に向けて段階的に長くすることにより、アンテナパターン領域２０および複数のダミーパターン領域３０の開口率Ａ１、Ａ２１、Ａ２２、Ａ２３を、アンテナパターン領域２０から、アンテナパターン領域２０に遠いダミーパターン領域３０に向けて段階的に大きくできる。

（変形例７）
図１４は、変形例７による配線基板１０Ｇを示している。図１４において、アンテナパターン領域２０と第１ダミーパターン領域３０１との境界線Ｂ、第１ダミーパターン領域３０１と第２ダミーパターン領域３０２との境界線Ｂ１、および第２ダミーパターン領域３０２と第３ダミーパターン領域３０３との境界線Ｂ２が、それぞれジグザグに形成されている。

本変形例では、アンテナパターン領域２０および各ダミーパターン領域３０の境界をより不明瞭にできる。このため、ディスプレイ９１の表面上でアンテナパターン領域２０および各ダミーパターン領域３０を見えにくくでき、画像表示装置９０の使用者がアンテナパターン領域２０および各ダミーパターン領域３０を肉眼で認識しにくくできる。

（変形例８）
図１５は、変形例８による配線基板１０Ｈを示している。図１５において、アンテナパターン領域２０と第１ダミーパターン領域３０１との境界線Ｂ、第１ダミーパターン領域３０１と第２ダミーパターン領域３０２との境界線Ｂ１、および第２ダミーパターン領域３０２と第３ダミーパターン領域３０３との境界線Ｂ２が、それぞれ波形状に形成されている。

本変形例においても、アンテナパターン領域２０および各ダミーパターン領域３０の境界をより不明瞭にできる。このため、ディスプレイ９１の表面上でアンテナパターン領域２０および各ダミーパターン領域３０を見えにくくでき、画像表示装置９０の使用者がアンテナパターン領域２０および各ダミーパターン領域３０を肉眼で認識しにくくできる。

（変形例９）
図１６および図１７は、変形例９による配線基板１０Ｉを示している。図１６および図１７において、第１ダミーパターン領域３０１の外縁の少なくとも一部が、円弧形状をもっている。

上述したように、アンテナパターン領域２０は、平面視において、四角形状をもっている。この場合、アンテナパターン領域２０の外縁は、平面視において、長手方向（Ｙ方向）に延びる一対の第１辺２０１と、幅方向（Ｘ方向）に延びる一対の第２辺２０２とを含んでいる。第１辺２０１および第２辺２０２は、互いに交わっている。なお、アンテナパターン領域２０の外縁の第１辺２０１上には、アンテナ配線２１またはアンテナ連結配線２２が、第１辺２０１に平行になるように重なっていなくてもよい。同様に、アンテナパターン領域２０の外縁の第２辺２０２上には、アンテナ配線２１またはアンテナ連結配線２２が、第２辺２０２に平行になるように重なっていなくてもよい。すなわち、アンテナパターン領域２０の外縁の第１辺２０１および第２辺２０２は、アンテナ配線２１またはアンテナ連結配線２２のうち、最も外側（アンテナパターン領域２０から離れる側）に位置する部分が、その辺上に位置する辺である。

ここで、図１７に示すように、第１辺２０１と第２辺２０２とが交わる頂点を第１頂点Ｖ１とする。また、第１頂点Ｖ１から延びる、第１辺２０１の延長線を第１仮想線ＩＬ１とする。さらに、第１頂点Ｖ１から延びる、第２辺２０２の延長線を第２仮想線ＩＬ２とする。この場合、第１仮想線ＩＬ１と第２仮想線ＩＬ２とに挟まれた領域Ｒ１において、第１ダミーパターン領域３０１の外縁は、第１頂点Ｖ１を中心とする円弧形状をもっている。すなわち、第１ダミーパターン領域３０１と第２ダミーパターン領域３０２との境界線Ｂ１が、領域Ｒ１において、第１頂点Ｖ１を中心とする円弧状に形成されている。

また、第１仮想線ＩＬ１と第２仮想線ＩＬ２とに挟まれた領域Ｒ１において、第２ダミーパターン領域３０２の外縁は、第１頂点Ｖ１を中心とする円弧形状をもっている。すなわち、第２ダミーパターン領域３０２と第３ダミーパターン領域３０３との境界線Ｂ２が領域Ｒ１において、第１頂点Ｖ１を中心とする円弧状に形成されている。なお、上述したように、配線基板１０（配線基板１０Ｉ）が備えるダミーパターン領域３０の個数は任意であり、例えば、２以上５０以下程度であってもよく、２以上１０以下程度であってもよい。この場合、各々のダミーパターン領域３０の外縁が、第１頂点Ｖ１を中心とする円弧形状をもっていてもよい。

ここで、アンテナパターン領域２０が、平面視において、四角形状をもつ場合、四角形状の角部（例えば、第１頂点Ｖ１）の近傍において、アンテナパターン領域２０の境界が見えやすくなり得る。また、この場合、可視光の反射等によって、四角形状の角部から、それぞれＸ方向及びＹ方向のいずれに対しても非平行となるように外側（アンテナパターン領域２０から離れる側）へ延びる光の筋が視認される可能性がある。これに対して本変形例によれば、第１仮想線ＩＬ１と第２仮想線ＩＬ２とに挟まれた領域Ｒ１において、第１ダミーパターン領域３０１の外縁が、第１頂点Ｖ１を中心とする円弧形状をもっている。これにより、アンテナパターン領域２０が、平面視において、四角形状をもつ場合であっても、アンテナパターン領域２０および光の筋を、効果的に視認しにくくできる。

また、本変形例によれば、第１仮想線ＩＬ１と第２仮想線ＩＬ２とに挟まれた領域Ｒ１において、第２ダミーパターン領域３０２の外縁が、第１頂点Ｖ１を中心とする円弧形状をもっている。これにより、アンテナパターン領域２０および光の筋を、更に効果的に視認しにくくできる。

また、本変形例においては、図１８に示すように、画像表示装置において、アンテナパターン領域２０は、ディスプレイ９１の隅部９１ａに設けられていてもよい。図１８は、変形例による画像表示装置９０Ａを示している。本変形例では、各々のダミーパターン領域３０は、アンテナパターン領域２０のうち、Ｘ方向プラス側およびＹ方向マイナス側（給電部４０側）を除く周方向全域（Ｘ方向マイナス側、Ｙ方向プラス側）を取り囲むように形成されている。この場合、上述した光の筋を、更に効果的に視認しにくくできる。

（変形例１０）
図１９は、変形例１０による配線基板１０Ｊを示している。図１９において、配線基板１０Ｊは、単一のダミーパターン領域３０を備えている。すなわち、配線基板１０Ｊは、アンテナパターン領域２０に隣接する第１ダミーパターン領域３０１のみを備えている。

本変形例においても、第１仮想線ＩＬ１と第２仮想線ＩＬ２とに挟まれた領域Ｒ１において、第１ダミーパターン領域３０１の外縁が、第１頂点Ｖ１を中心とする円弧形状をもっていることにより、アンテナパターン領域２０が、平面視において、四角形状をもつ場合であっても、アンテナパターン領域２０および光の筋を、効果的に視認しにくくできる。

（変形例１１）
図２０は、変形例１１による配線基板１０Ｋを示している。図２０において、アンテナパターン領域２０は、給電部４０側の基端側部分２０３と、基端側部分２０３に接続された先端側部分２０４とを有する。基端側部分２０３と先端側部分２０４とは、それぞれ平面視で四角形状をもっている。この場合、先端側部分２０４の長さ（Ｙ方向距離）は基端側部分２０３の長さ（Ｙ方向距離）よりも長く、先端側部分２０４の幅（Ｘ方向距離）は基端側部分２０３の幅（Ｘ方向距離）よりも広い。この場合においても、アンテナパターン領域２０を、効果的に視認しにくくできる。なお、図示された例においては、配線基板１０Ｋが２つのダミーパターン領域３０（３０１、３０２）を備えているが、これに限られず、配線基板１０Ｋが３つ以上のダミーパターン領域３０を備えていても良い。この場合、各々のダミーパターン領域３０の外縁が、第１頂点Ｖ１を中心とする円弧形状をもっていてもよい。

（変形例１２）
図２１は、変形例１２による配線基板１０Ｌを示している。図２１において、第１ダミーパターン領域３０１の外縁が、第１頂点Ｖ１を中心とする円弧形状をもっていない。

この場合、第１ダミーパターン領域３０１の外縁は、平面視において、長手方向（Ｙ方向）に延びる一対の第３辺３０１１と、幅方向（Ｘ方向）に延びる第４辺３０１２とを含んでいる。第３辺３０１１および第４辺３０１２は、互いに交わっている。なお、第１ダミーパターン領域３０１の外縁の第３辺３０１１上には、第１ダミー配線部分３１１または第２ダミー配線部分３２１が、第３辺３０１１に平行になるように重なっていなくてもよい。同様に、第１ダミーパターン領域３０１の外縁の第４辺３０１２上には、第１ダミー配線部分３１１または第２ダミー配線部分３２１が、第４辺３０１２に平行になるように重なっていなくてもよい。すなわち、第１ダミーパターン領域３０１の外縁の第３辺３０１１および第４辺３０１２は、第１ダミー配線部分３１１または第２ダミー配線部分３２１のうち、最も外側（アンテナパターン領域２０から離れる側）に位置する部分が、その辺上に位置する辺である。

ここで、図２１に示すように、第３辺３０１１と第４辺３０１２とが交わる頂点を第２頂点Ｖ２とする。また、第２頂点Ｖ２から延びる、第３辺３０１１の延長線を第３仮想線ＩＬ３とする。さらに、第２頂点Ｖ２から延びる、第４辺３０１２の延長線を第４仮想線ＩＬ４とする。この場合、第３仮想線ＩＬ３と第４仮想線ＩＬ４とに挟まれた領域Ｒ２において、第２ダミーパターン領域３０２の外縁は、第２頂点Ｖ２を中心とする円弧形状をもっている。なお、上述したように、配線基板１０（配線基板１０Ｌ）が備えるダミーパターン領域３０の個数は任意であり、例えば、２以上５０以下程度であってもよく、２以上１０以下程度であってもよい。この場合、第１ダミーパターン領域３０１以外の各々のダミーパターン領域３０の外縁が、第２頂点Ｖ２を中心とする円弧形状をもっていてもよい。

上述したように、第１ダミーパターン領域３０１の開口率Ａ２１は、アンテナパターン領域２０の開口率Ａ１以上である。ここで、開口率Ａ２１が開口率Ａ１と等しくなっている場合、アンテナパターン領域２０の角部（例えば、第１頂点Ｖ１）の近傍において、アンテナパターン領域２０の境界が見えやすくなることを抑制できる。このため、第１仮想線ＩＬ１と第２仮想線ＩＬ２とに挟まれた領域Ｒ１において、第１ダミーパターン領域３０１の外縁が、第１頂点Ｖ１を中心とする円弧形状をもたない場合であっても、アンテナパターン領域２０および光の筋を視認しにくくできる。

一方、この場合、第１ダミーパターン領域３０１の開口率Ａ２１は、第２ダミーパターン領域３０２の開口率Ａ２２よりも小さくてもよい。すなわち、配線基板１０Ｌの全体の開口率Ａ３を高くするために、第２ダミーパターン領域３０２の開口率Ａ２２が、第１ダミーパターン領域３０１の開口率Ａ２１よりも大きくてもよい。

ここで、第１ダミーパターン領域３０１の外縁が、平面視において、互いに交わる第３辺３０１１および第４辺３０１２を含んでいる場合、第３辺３０１１と第４辺３０１２とが交わる第２頂点Ｖ２の近傍において、第１ダミーパターン領域３０１の境界が見えやすくなり得る。また、この場合、可視光の反射等によって、第２頂点Ｖ２から、それぞれＸ方向及びＹ方向のいずれに対しても非平行となるように外側へ延びる光の筋が視認される可能性がある。これに対して本変形例によれば、第３仮想線ＩＬ３と第４仮想線ＩＬ４とに挟まれた領域Ｒ２において、第２ダミーパターン領域３０２の外縁が、第２頂点Ｖ２を中心とする円弧形状をもっている。これにより、第１ダミーパターン領域３０１および光の筋を、効果的に視認しにくくできる。

（変形例１３）
図２２は、変形例１３による配線基板１０Ｍを示している。図２２において、アンテナパターン領域２０は、平面視において、角部が丸められた四角形状をもっている。このため、アンテナパターン領域２０は、アンテナパターン領域２０の境界が見えやすくなり得る角部を含む形状をもっていない。このため、上述した領域Ｒ１（図２１等参照）において、第１ダミーパターン領域３０１の外縁が、第１頂点Ｖ１を中心とする円弧形状をもたない場合であっても、アンテナパターン領域２０および光の筋を視認しにくくできる。

また、本変形例においても、第３仮想線ＩＬ３と第４仮想線ＩＬ４とに挟まれた領域Ｒ２において、第２ダミーパターン領域３０２の外縁が、第２頂点Ｖ２を中心とする円弧形状をもっていてもよい。これにより、第１ダミーパターン領域３０１および光の筋を、効果的に視認しにくくできる。

（変形例１４）
図２３は、変形例１４による配線基板１０Ｎを示している。図２３において、アンテナパターン領域２０は、給電部４０に接続された一対の第１電送部２０５と、各々の第１電送部２０５にそれぞれ接続された一対の第２電送部２０６と、一対の第２電送部２０６に接続された送受信部２０７とを有する。一対の第１電送部２０５は、それぞれ、アンテナパターン領域２０の長手方向（Ｙ方向）に延びている。一対の第２電送部２０６は、それぞれ、Ｙ方向プラス側に向かうにつれて互いに近づくように、Ｙ方向に対して傾斜して延びている。送受信部２０７は、平面視で、Ｘ方向に延びる対角線とＹ方向に延びる対角線とを含む四角形状をもっている。

本変形例においても、第１ダミーパターン領域３０１の開口率Ａ２１が開口率Ａ１と等しくなっている場合、アンテナパターン領域２０および光の筋を視認しにくくできる。

また、本変形例においても、第３仮想線ＩＬ３と第４仮想線ＩＬ４とに挟まれた領域Ｒ２において、第２ダミーパターン領域３０２の外縁が、第２頂点Ｖ２を中心とする円弧形状をもっていてもよい。これにより、第１ダミーパターン領域３０１および光の筋を、効果的に視認しにくくできる。

（変形例１５）
図２４は、変形例１５による配線基板１０Ｏを示している。図２４において、送受信部２０７は、平面視で、円形状をもっている。

本変形例においても、第１ダミーパターン領域３０１の開口率Ａ２１が開口率Ａ１と等しくなっている場合、アンテナパターン領域２０および光の筋を視認しにくくできる。

また、本変形例においても、第３仮想線ＩＬ３と第４仮想線ＩＬ４とに挟まれた領域Ｒ２において、第２ダミーパターン領域３０２の外縁が、第２頂点Ｖ２を中心とする円弧形状をもっていてもよい。これにより、第１ダミーパターン領域３０１および光の筋を、効果的に視認しにくくできる。

上記実施形態および各変形例に開示されている複数の構成要素を必要に応じて適宜組合せることも可能である。あるいは、上記実施形態および各変形例に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。

１０、１０Ａ～１０Ｏ 配線基板
１１ 基板
２０ アンテナパターン領域
３０ ダミーパターン領域
５０ 周囲領域
９０、９０Ａ 画像表示装置
９１ ディスプレイ９１
９１ａ 隅部
２０１ 第１辺
２０２ 第２辺
３０１ 第１ダミーパターン領域
３０１ａ ダミー配線
３０２ 第２ダミーパターン領域
３０２ａ ダミー配線
３０３ 第３ダミーパターン領域
３０３ａ ダミー配線
３１１ 第１ダミー配線部分
３１２ 第１ダミー配線部分
３１３ 第１ダミー配線部分
３２１ 第２ダミー配線部分
３２２ 第２ダミー配線部分
３２３ 第２ダミー配線部分
３０１１ 第３辺
３０１２ 第４辺
ＩＬ１ 第１仮想線
ＩＬ２ 第２仮想線
ＩＬ３ 第３仮想線
ＩＬ４ 第４仮想線
Ｒ１ 領域
Ｒ２ 領域
Ｖ１ 第１頂点
Ｖ２ 第２頂点

Claims (16)

1. 配線基板であって、
   基板と、
   前記基板上に配置され、複数の配線を含む配線パターン領域と、
   前記配線パターン領域の周囲に配置され、前記配線から電気的に独立した複数のダミーパターン領域と、を備え、
   前記基板は、透明性を有し、
   複数の前記ダミーパターン領域のうち、前記配線パターン領域に隣接する第１ダミーパターン領域の開口率は、前記配線パターン領域の開口率以上であり、
   複数の前記ダミーパターン領域のうち、前記第１ダミーパターン領域に隣接するとともに、前記第１ダミーパターン領域よりも前記配線パターン領域から遠い第２ダミーパターン領域の開口率は、前記第１ダミーパターン領域の開口率よりも大きい、配線基板。
2. 前記配線パターン領域が複数存在し、少なくとも１つの前記ダミーパターン領域が、複数の前記配線パターン領域を取り囲むように設けられている、請求項１に記載の配線基板。
3. 前記配線パターン領域および複数の前記ダミーパターン領域の開口率は、前記配線パターン領域から、前記配線パターン領域に遠い前記ダミーパターン領域に向けて段階的に大きくなり、前記第１ダミーパターン領域の開口率と、前記配線パターン領域の開口率との差は、０％以上２％以下であり、互いに隣り合う前記ダミーパターン領域の開口率の差は、０．０２％以上２％以下である、請求項１または２に記載の配線基板。
4. 前記配線パターン領域から最も遠い前記ダミーパターン領域の周囲に配置された周囲領域を更に備え、前記周囲領域の開口率は１００％である、請求項１乃至３のいずれか一項に記載の配線基板。
5. 前記配線パターン領域および複数の前記ダミーパターン領域の開口率は、前記配線パターン領域から、前記配線パターン領域に遠い前記ダミーパターン領域に向けて段階的に大きくなり、前記第１ダミーパターン領域の開口率と、前記配線パターン領域の開口率との差は、０％以上２％以下であり、互いに隣り合う前記ダミーパターン領域の開口率の差、および、前記周囲領域と、前記周囲領域に隣り合う前記ダミーパターン領域との開口率の差は、それぞれ０．０２％以上２％以下である、請求項４に記載の配線基板。
6. 前記配線パターン領域の外縁は、平面視において、互いに交わる第１辺および第２辺を含み、
   前記第１辺と前記第２辺とが交わる頂点を第１頂点とし、
   前記第１頂点から延びる、前記第１辺の延長線を第１仮想線とし、
   前記第１頂点から延びる、前記第２辺の延長線を第２仮想線とした場合、
   前記第１仮想線と前記第２仮想線とに挟まれた領域において、前記第１ダミーパターン領域の外縁は、前記第１頂点を中心とする円弧形状をもつ、請求項１乃至５のいずれか一項に記載の配線基板。
7. 前記第１仮想線と前記第２仮想線とに挟まれた領域において、前記第２ダミーパターン領域の外縁は、前記第１頂点を中心とする円弧形状をもつ、請求項６に記載の配線基板。
8. 配線基板であって、
   基板と、
   前記基板上に配置され、複数の配線を含む配線パターン領域と、
   前記配線パターン領域の周囲に配置され、前記配線から電気的に独立した複数のダミーパターン領域と、を備え、
   前記基板は、透明性を有し、
   複数の前記ダミーパターン領域のうち、前記配線パターン領域に隣接する第１ダミーパターン領域の開口率は、複数の前記ダミーパターン領域のうち、前記第１ダミーパターン領域に隣接するとともに、前記第１ダミーパターン領域よりも前記配線パターン領域から遠い第２ダミーパターン領域の開口率よりも小さく、
   前記第１ダミーパターン領域の外縁は、平面視において、互いに交わる第３辺および第４辺を含み、
   前記第３辺と前記第４辺とが交わる頂点を第２頂点とし、
   前記第２頂点から延びる、前記第３辺の延長線を第３仮想線とし、
   前記第２頂点から延びる、前記第４辺の延長線を第４仮想線とした場合、
   前記第３仮想線と前記第４仮想線とに挟まれた領域において、前記第２ダミーパターン領域の外縁は、前記第２頂点を中心とする円弧形状をもつ、配線基板。
9. 複数の前記ダミーパターン領域は、それぞれ前記配線から電気的に独立した複数のダミー配線を含み、複数の前記ダミー配線は、それぞれ第１ダミー配線部分と第２ダミー配線部分とを有し、互いに隣り合う前記ダミーパターン領域の前記第１ダミー配線部分は、互いに平行に配置されており、互いに隣り合う前記ダミーパターン領域の前記第２ダミー配線部分は、互いに平行に配置されている、請求項１乃至８のいずれか一項に記載の配線基板。
10. 前記配線パターン領域は、複数の前記配線を連結する複数の連結配線を更に含み、複数の前記ダミーパターン領域は、それぞれ前記配線および前記連結配線から電気的に独立した複数のダミー配線を含み、複数の前記ダミー配線は、それぞれ第１ダミー配線部分と第２ダミー配線部分とを有し、前記配線と、前記各ダミーパターン領域の前記第１ダミー配線部分とは、互いに平行に配置されており、前記連結配線と、前記各ダミーパターン領域の前記第２ダミー配線部分とは、互いに平行に配置されている、請求項１乃至９のいずれか一項に記載の配線基板。
11. 配線基板であって、
    基板と、
    前記基板上に配置され、複数の配線を含む配線パターン領域と、
    前記配線パターン領域の周囲に配置され、前記配線から電気的に独立したダミーパターン領域と、を備え、
    前記基板は、透明性を有し、
    前記配線パターン領域の外縁は、平面視において、互いに交わる第１辺および第２辺を含み、
    前記第１辺と前記第２辺とが交わる頂点を第１頂点とし、
    前記第１頂点から延びる、前記第１辺の延長線を第１仮想線とし、
    前記第１頂点から延びる、前記第２辺の延長線を第２仮想線とした場合、
    前記第１仮想線と前記第２仮想線とに挟まれた領域において、前記ダミーパターン領域の外縁は、前記第１頂点を中心とする円弧形状をもつ、配線基板。
12. 電波送受信機能を有する、請求項１乃至１１のいずれか一項に記載の配線基板。
13. 請求項１乃至１２のいずれか一項に記載の配線基板と、
    前記配線基板に積層された表示装置と、を備え、
    前記配線パターン領域は、前記表示装置の隅部に設けられている、画像表示装置。
14. 配線基板の製造方法であって、
    基板を準備する工程と、
    前記基板上に、複数の配線を含む配線パターン領域と、前記配線パターン領域の周囲に配置され、前記配線から電気的に独立した複数のダミーパターン領域とを形成する工程と、を備え、
    前記基板は、透明性を有し、
    複数の前記ダミーパターン領域のうち、前記配線パターン領域に隣接する第１ダミーパターン領域の開口率は、前記配線パターン領域の開口率以上であり、
    複数の前記ダミーパターン領域のうち、前記第１ダミーパターン領域に隣接するとともに、前記第１ダミーパターン領域よりも前記配線パターン領域から遠い第２ダミーパターン領域の開口率は、前記第１ダミーパターン領域の開口率よりも大きい、配線基板の製造方法。
15. 配線基板の製造方法であって、
    基板を準備する工程と、
    前記基板上に、複数の配線を含む配線パターン領域と、前記配線パターン領域の周囲に配置され、前記配線から電気的に独立したダミーパターン領域とを形成する工程と、を備え、
    前記基板は、透明性を有し、
    前記配線パターン領域の外縁は、平面視において、互いに交わる第１辺および第２辺を含み、
    前記第１辺と前記第２辺とが交わる頂点を第１頂点とし、
    前記第１頂点から延びる、前記第１辺の延長線を第１仮想線とし、
    前記第１頂点から延びる、前記第２辺の延長線を第２仮想線とした場合、
    前記第１仮想線と前記第２仮想線とに挟まれた領域において、前記ダミーパターン領域の外縁は、前記第１頂点を中心とする円弧形状をもつ、配線基板の製造方法。
16. 配線基板の製造方法であって、
    基板を準備する工程と、
    前記基板上に、複数の配線を含む配線パターン領域と、前記配線パターン領域の周囲に配置され、前記配線から電気的に独立した複数のダミーパターン領域とを形成する工程と、を備え、
    前記基板は、透明性を有し、
    複数の前記ダミーパターン領域のうち、前記配線パターン領域に隣接する第１ダミーパターン領域の開口率は、複数の前記ダミーパターン領域のうち、前記第１ダミーパターン領域に隣接するとともに、前記第１ダミーパターン領域よりも前記配線パターン領域から遠い第２ダミーパターン領域の開口率よりも小さく、
    前記第１ダミーパターン領域の外縁は、平面視において、互いに交わる第３辺および第４辺を含み、
    前記第３辺と前記第４辺とが交わる頂点を第２頂点とし、
    前記第２頂点から延びる、前記第３辺の延長線を第３仮想線とし、
    前記第２頂点から延びる、前記第４辺の延長線を第４仮想線とした場合、
    前記第３仮想線と前記第４仮想線とに挟まれた領域において、前記第２ダミーパターン領域の外縁は、前記第２頂点を中心とする円弧形状をもつ、配線基板の製造方法。

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