JP2022058128A - ワーク容器システム - Google Patents
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Abstract
Description
本出願は、2020年9月30日に出願された台湾特許出願第109134304号の利益を主張し、これを参照により本明細書に取り込まれ、本明細書の一部をなす。
に、部品の形状、サイズ、及び配置について、原則の範囲内で、即ち、特許請求の範囲で使用されている用語の幅広い一般的な意味によって確立された全範囲にまで及び全範囲を含めて、変更を加えることができる。したがって、上述の実施形態は、特許請求の範囲内で変更され得ることが理解されよう。
Claims (20)
- シート部材を備える保管アセンブリを含むワーク容器システムであって、
前記シート部材は、
幾何学的中心領域を包含し、ワークを受け入れるように構成されたワーク受け入れ領域を備え、前記幾何学的中心領域を介して縦軸を画定する保管部と、
前記保管部の両側に前記縦軸に沿って配置され、各々が前記保管部の厚さよりも薄い厚さを有する一対のフランク部と、を有し、
拡散誘導構成要素が、前記ワーク受け入れ領域内の前記保管部上に設けられ、前記幾何学的中心領域をオフセットする、
ワーク容器システム。 - 前記ワーク受け入れ領域は、パターン領域を有する基板を受け入れるように構成され、
前記拡散誘導構成要素は、前記パターン領域の平面投影内に設けられる、
請求項1に記載のワーク容器システム。 - 前記拡散誘導構成要素は、前記保管部の前記幾何学的中心領域の周囲の前記ワーク受け入れ領域内に配置された複数の拡散ポートアセンブリを含む、
請求項2に記載のワーク容器システム。 - 前記拡散ポートアセンブリは、フィルタカバーと、カバー保持部材とを含み、
前記フィルタカバー及び前記カバー保持部材は組み立て時に、前記シート部材の外面と面一となっている、
請求項3に記載のワーク容器システム。 - 前記拡散ポートアセンブリは、前記フィルタカバーによって保持されるように構成されたフィルタ膜をさらに含み、
前記フィルタ膜は、フッ素含有量を含まない、
請求項4に記載のワーク容器システム。 - 前記拡散ポートアセンブリのうちの少なくとも1つは、前記保管部の前記幾何学的中心領域の周りのそれぞれの四分円領域に配置される、
請求項3に記載のワーク容器システム。 - 前記シート部材の前記保管部は、前記幾何学的中心領域の周囲の前記四分円領域の各々にそれぞれ配置された複数のウェイトシェービング領域を備え、
前記ウェイトシェービング領域内の前記シート部材の厚さは、前記幾何学的中心領域内の厚さよりも薄く、
前記拡散ポートアセンブリは、前記ウェイトシェービング領域内にそれぞれ配置される、
請求項6に記載のワーク容器システム。 - 前記シート部材の前記保管部は、前記パターン領域の投影に対応して配置されたウェイトシェービング領域を備え、
前記拡散ポートアセンブリは、前記ウェイトシェービング領域に配置される、
請求項6に記載のワーク容器システム。 - 前記シート部材は、前記ワーク受け入れ領域を囲む平面ループプロファイルを有するトレンチ構造を備える、
請求項2に記載のワーク容器システム。 - 前記シート部材は、前記ワーク受け入れ領域のそれぞれの角の周りに突出して配置された複数の位置決め構造をさらに備え、
前記トレンチ構造は、前記位置決め構造をそれぞれ包含する複数のガイドトレンチセグメントを備える、
請求項9に記載のワーク容器システム。 - 保管アセンブリを含むワーク容器システムであって、
前記保管アセンブリは、
パターン領域を有する基板を受け入れるように構成された、幾何学的中心領域を包含するワーク受け入れ領域を画定するシート部材と、
前記基板を収容するためのエンクロージャを協働的に形成するように構成された、前記ワーク受け入れ領域の周辺領域で前記シート部材と係合するように構成されたシートカバーと、を含み、
下部拡散誘導構成要素が、前記基板のパターン領域の平面投影内で、前記シート部材上に設けられ、前記幾何学的中心領域をオフセットする、
ワーク容器システム。 - 前記下部拡散誘導構成要素は、前記幾何学的中心領域の周囲の前記ワーク受け入れ領域内に配置された複数の拡散ポートアセンブリを含む、
請求項11に記載のワーク容器システム。 - 前記拡散ポートアセンブリは、フィルタカバーと、前記フィルタカバーによって保持されるように構成された下部フィルタ膜と、カバー保持部材とを含み、
前記フィルタカバー及び前記カバー保持部材は組み立て時に、前記シート部材の外面と面一となっている、
請求項12に記載のワーク容器システム。 - 前記下部フィルタ膜は、フッ素含有量を含まない、
請求項13に記載のワーク容器システム。 - 前記シートカバーは、前記下部拡散誘導構成要素と投影的に重なる上部拡散誘導構成要素を備え、
前記上部拡散誘導構成要素は、前記下部フィルタ膜と異なる材料組成を有する上部フィルタ膜を備える、
請求項14に記載のワーク容器システム。 - 前記上部フィルタ膜は、布ベースの材料を含み、
前記下部フィルタ膜は、金属材料を含む、
請求項15に記載のワーク容器システム。 - 前記拡散ポートアセンブリのうちの少なくとも1つは、前記幾何学的中心領域の周りのそれぞれの四分円領域に配置される、
請求項12に記載のワーク容器システム。 - 前記シート部材は、前記幾何学的中心領域の周囲の前記四分円領域の各々にそれぞれ配置された複数のウェイトシェービング領域を備え、
前記ウェイトシェービング領域内の前記シート部材の厚さは、前記幾何学的中心領域内の厚さよりも薄く、
前記拡散ポートアセンブリは、前記ウェイトシェービング領域内にそれぞれ配置される、
請求項17に記載のワーク容器システム。 - 前記シート部材は、前記基板の前記パターン領域の投影に対応して配置されたウェイトシェービング領域を備え、
前記拡散ポートアセンブリは、前記ウェイトシェービング領域に配置される、
請求項17に記載のワーク容器システム。 - 前記保管アセンブリの前記シート部材の光学的観察を可能にしながら、前記保管アセンブリを囲むように構成された搬送アセンブリをさらに含む、
請求項11に記載のワーク容器システム。
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