JP2022055688A - 有機ｅｌ用封止剤、及び有機ｅｌ素子 - Google Patents

Abstract

【課題】捕水成分を含みながら、使用前の意図しない硬化が抑制された、有機ＥＬ用封止剤を提供すること。【解決手段】硬化性の主剤成分と、主剤成分を硬化させるための重合開始剤と、式：Ｓｉ（ＯＲ１）ｎ（Ｒ２）４－ｎで表されるアルコキシシラン化合物、又は式：Ｂ（ＯＲ１）ｍ（Ｒ２）３－ｍで表されるアルコキシホウ素化合物のうち少なくとも一方を含む捕水成分とを含む、有機ＥＬ用封止剤が開示される。ｎが１～４の整数を示し、ｍが１～３の整数を示し、Ｒ１が第１の置換基で置換されていてもよいアルキル基を示し、Ｒ２が第２の置換基で置換されていてもよい炭化水素基を示す。１分子中の複数のＲ１及びＲ２はそれぞれ同一でも異なっていてもよい。第１の置換基及び第２の置換基は、酸性基、及び加水分解によって酸性基を生成する官能基を除く、基である。【選択図】図１

Description

本発明は、有機ＥＬ用封止剤、及び有機ＥＬ素子に関する。

有機ＥＬ素子において、発光性の有機層周囲の気密空間を充填するフィル剤等の封止剤が設けられることがある（例えば、特許文献１）。

特許第６５６０９４０号公報

有機ＥＬ素子用の封止剤が捕水成分を含むことにより、有機ＥＬ素子への水分の影響を抑制するための捕水機能を封止剤に付与できると考えられる。ところが、捕水成分の影響により、封止剤が有機ＥＬ素子の製造のために使用される前に、意図せず硬化してしまうことがあった。硬化した封止剤は流動性をほとんど有しないため、印刷等の通常の方法によって有機ＥＬ素子中に導入することが困難である。

そこで本発明の一側面は、捕水成分を含みながら、使用前の意図しない硬化が抑制された、有機ＥＬ用封止剤を提供する。

本発明の一側面は、硬化性の主剤成分と、前記主剤成分を硬化させるための重合開始剤と、式：Ｓｉ（ＯＲ^１）_ｎ（Ｒ^２）_４－ｎで表されるアルコキシシラン化合物、又は式：Ｂ（ＯＲ^１）_ｍ（Ｒ^２）_４－ｍで表されるアルコキシホウ素化合物のうち少なくとも一方を含む捕水成分とを含む、有機ＥＬ用封止剤を提供する。式中、ｎは１～４の整数を示し、ｍが１～３の整数を示し、Ｒ^１は第１の置換基で置換されていてもよいアルキル基を示し、Ｒ^２は第２の置換基で置換されていてもよい炭化水素基を示す。１分子中の複数のＲ^１及びＲ^２はそれぞれ同一でも異なっていてもよい。前記第１の置換基及び前記第２の置換基は、酸性基、及び加水分解によって前記酸性基を生成する官能基を除く、基である。

種々の中心金属を有する金属アルコキシドは、捕水成分として機能することが期待される。しかし、これらアルコキシド化合物を硬化性の主剤を含む封止剤に配合すると、封止剤が使用前に意図せず硬化することがある。アルコキシド化合物として上記アルコキシシラン化合物又はアルコキシホウ素化合物を選択して用いることより、使用前の硬化を効果的に抑制しながら、良好な硬化性及び捕水機能を有する封止剤を得ることができる。ケイ素及びホウ素が中性又は中性に近い性質を有することから、アルコキシシラン化合物及びアルコキシホウ素化合物は封止剤の硬化反応に影響し難く、その結果、係る効果が得られると考えられる。

本発明の別の一側面は、素子基板と、前記素子基板に対して対向配置された封止基板と、前記素子基板上に設けられた、対向配置された一対の電極及びそれらの間に設けられた有機層を有する発光部と、前記素子基板と前記封止基板との間に設けられ前記発光部を封止する封止層とを備える有機ＥＬ素子を提供する。前記封止層が、上記有機ＥＬ用封止剤の硬化物を含む。

係る有機ＥＬ素子は、封止剤の意図しない硬化を抑制しながら効率的に製造することができ、しかも封止剤の捕水機能によって良好な発光寿命を有することができる。

本発明の一側面によれば、捕水成分を含みながら、使用前の意図しない硬化が抑制された、有機ＥＬ用封止剤が提供される。

有機ＥＬ素子の一実施形態を示す断面図である。 有機ＥＬ素子の一実施形態を示す断面図である。 有機ＥＬ素子の一実施形態を示す断面図である。 有機ＥＬ素子の一実施形態を示す断面図である。

以下、本発明のいくつかの実施形態について詳細に説明する。ただし、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。

一実施形態に係る封止剤は、硬化性の主剤成分と、主剤成分を硬化させるための重合開始剤と、捕水成分とを含む。この封止剤は、有機ＥＬ素子の発光部周囲を封止する有機ＥＬ用封止剤として用いることができる。有機ＥＬ素子用封止剤は、例えば、発光部周囲の気密空間を充填するフィル剤であってもよい。

主剤成分は、例えば、酸又は塩基の作用によって反応して硬化物（架橋重合体）を形成する硬化性樹脂を含んでいてもよく、その例としてはエポキシ樹脂が挙げられる。エポキシ樹脂は、２個以上のエポキシ基を有する化合物であってもよく、その例としては、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂（例えば２，２－ビス（４－グリシジルオキシフェニル）プロパン）、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂（例えばビス［４-（グリシジルオキシ）フェニル］メタン）、及びエポキシ変性シリコーンが挙げられる。

主剤成分（又はエポキシ樹脂）の含有量は、封止剤の質量を基準として、例えば０．１～９０質量％、０．１～５０質量％、又は０．１～１０質量％であってもよい。

重合開始剤は、例えば、光又は熱により酸又は塩基を発生する化学種であってもよく、特に光カチオン重合開始剤であってもよい。光カチオン重合開始剤の例としては、トリアリールスルホニウム塩が挙げられる。重合開始剤の含有量は、封止剤の質量を基準として、例えば０．１～１０質量％であってもよい。

捕水成分は、式：Ｓｉ（ＯＲ^１）_ｎ（Ｒ^２）_４－ｎで表される１種以上のアルコキシシラン化合物、又は式：Ｂ（ＯＲ^１）_ｍ（Ｒ^２）_３－ｍで表されるアルコキシホウ素化合物のうち少なくとも一方を含む。式中、ｎは１～４の整数を示し、ｍは１～３の整数を示し、Ｒ^１は第１の置換基で置換されていてもよいアルキル基を示し、Ｒ^２は第２の置換基で置換されていてもよい炭化水素基を示す。１分子中の複数のＲ^１及びＲ^２はそれぞれ同一でも異なっていてもよい。

Ｒ^１は、無置換、又は第１の置換基で置換されたアルキル基である。Ｒ^１中のアルキル基は、炭素数１～５のアルキル基であってもよい。Ｒ^１中のアルキル基の炭素数が１～５であると、炭素数が６以上である場合と比較して、捕水速度の点でより優れた効果が得られ易い。同様の観点から、アルキル基の炭素数が１～３であってもよい。

Ｒ^１中のアルキル基が有し得る第１の置換基は酸性基ではなく、加水分解によって酸性基を生成する官能基でもない基である。酸性基は、例えばカルボキシル基、フェノール性水酸基、スルホ基、又はリン酸基である。加水分解によって酸性基を生成する官能基は、例えば、カルボン酸無水物基（－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－）、カルボン酸エステル基（－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－）である。Ｒ^１が酸性基及びこれを誘導する基を有しないことは、意図しない硬化反応の抑制に寄与する。

Ｒ^２は、無置換、又は第２の置換基で置換された炭化水素基である。Ｒ^２中の炭化水素基はアルキル基であってもよく、炭素数１～５のアルキル基であってもよい。第２の置換基も、第１の置換基と同様に、酸性基、及び加水分解によって酸性基を生成する官能基を除く、基である。

第１の置換基及び第２の置換基は、それぞれ独立に、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキロイル基、アルコール性水酸基、エポキシ基、ビニル基、メタクリロイル基、スチリル基、アクリロイル基、アミノ基、ウレイド基、イソシアネート基、及びイソシアヌレート基からなる群より選ばれる少なくとも１種の基であってもよい。

捕水成分として用いられるアルコキシシラン化合物の例としては、トリエトキシシラン、及び３－グリシドキシプロピルメチルジメトキシシランが挙げられる。捕水成分として用いられるアルコキシホウ素化合物の例としては、トリブチルボレートが挙げられる。

アルコキシシラン化合物及びアルコキシホウ素化合物の合計の含有量は、封止剤の質量を基準として０．１～９０質量％であってもよい。アルコキシシラン化合物及びアルコキシホウ素化合物の合計の含有量がこの範囲内であると、意図しない硬化反応を抑制しながら、封止剤が特に優れた硬化性及び捕水性能を有し易い。また、アルコキシシラン化合物及びアルコキシホウ素化合物の合計の含有量が適度に少ないと、加水分解によって生じるアルコールに起因する有機ＥＬ素子への影響を更に抑制できる。これらと同様の観点から、アルコキシシラン化合物及びアルコキシホウ素化合物の合計の含有量は、封止剤の質量を基準として０．１～５０質量％、又は０．１～１０質量％であってもよい。ここで、アルコキシシラン化合物及びアルコキシホウ素化合物の合計の含有量が、封止剤の質量を基準として０．１～９０質量％等であることは、封止剤がアルコキシシラン化合物及びアルコキシホウ素化合物の両方を必ず含むことを意味しない。封止剤がアルコキシシラン化合物又はアルコキシホウ素化合物のうち一方のみを含む場合、それぞれの含有量が、ここで例示された数値範囲内であってもよい。

封止剤は、主として、主剤成分、重合開始剤及び捕水成分から構成される。主剤成分（又はエポキシ樹脂）、重合開始剤及び捕水成分（又はアルコキシシラン化合物及びアルコキシホウ素化合物）の合計の含有量は、封止剤の質量を基準として例えば１０～９９．９質量％、５０～９９．９質量％、９０～９９．９質量％であってもよい。

封止剤は、光照射後の更に長い可使時間の確保の観点から、硬化反応遅延剤を更に含有してもよい。硬化反応遅延剤は特に限定されないが、例えばポリオール化合物であってもよい。ポリオール化合物の例としては、クラウンエーテルが挙げられる。

図１は、有機ＥＬ素子の一実施形態を示す模式断面図である。図１に示す有機ＥＬ素子１Ａは、素子基板２と、素子基板２に対して対向配置された封止基板３と、素子基板２上に設けられた、対向配置された陽極５及び陰極６とこれらの間に設けられた有機層４とを有する積層体である発光部１０と、素子基板２及び封止基板３の外周部を封止する封止シール剤８と、封止シール剤８の内側で発光部１０を封止する封止層７とから構成される。封止層７は、上述の実施形態に係る封止剤の硬化物であることができる。封止シール剤８が素子基板２及び封止基板３の外周部を封止することにより、素子基板２及び封止基板３の間で、発光部１０の周囲に気密空間が形成される。

封止層７は、封止シール剤８の内側で、素子基板２及び封止基板３と接しながら、発光部１０周囲の気密空間を充填している。すなわち、有機ＥＬ素子１Ａは、いわゆる充填封止構造の有機ＥＬ素子であり、封止層７はフィル剤として機能する。発光部１０は、封止層７内に埋め込まれている。ただし、気密空間が封止層７によって完全には充填されず、空隙が残っていてもよい。気密空間のうち、封止層の割合が、例えば５０～１００体積％、６０～１００体積％、７０～１００体積％、８０～１００体積％、又は９０～１００体積％であってもよい。

有機ＥＬ素子１Ａにおいて、封止層７以外の要素に関しては、当該技術分野において通常のものを適用することができるが、その一例を以下に説明する。

素子基板２は、絶縁性及び透光性を有する矩形状のガラス基板からなる、素子基板２上に、透明導電材であるＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）によって陽極５（電極）が形成されている。陽極５は、例えば真空蒸着法、スパッタ法等のＰＶＤ（Ｐｈｙｓｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法により素子基板２上に成膜されたＩＴＯ膜をフォトレジスト法によるエッチングで所定のパターン形状にパターニングすることにより形成される。電極としての陽極５の一部は、素子基板２の端部まで引き出されて駆動回路（図示せず）に接続される。

陽極５の上面には、例えば、真空蒸着法、抵抗加熱法等のＰＶＤ法により、有機発光材料を含む薄膜である有機層４が積層されている。有機層４は、単一の層から形成されていてもよく、機能の異なる複数の層から形成されていてもよい。本実施形態における有機層４は、陽極５側から順に、ホール注入層４ａ、ホール輸送層４ｂ、発光層４ｃ及び電子輸送層４ｄが積層された４層構造である。ホール注入層４ａは、例えば数１０ｎｍの膜厚の銅フタロシアニン（ＣｕＰｃ）から形成される。ホール輸送層４ｂは、例えば数１０ｎｍの膜厚のｂｉｓ［Ｎ－（１－ｎａｐｈｔｈｙｌ）－Ｎ－ｐｈｅｎｙｌ］ｂｅｎｚｉｄｉｎｅ（α－ＮＰＤ）から形成される。発光層４ｃは、例えば数１０ｎｍの膜厚のトリス（８－キノリノラト）アルミニウム（Ａｌｑ_３）から形成される。電子輸送層４ｄは、例えば数ｎｍの膜厚のフッ化リチウム（ＬｉＦ）から形成される。

有機層４（電子輸送層４ｄ）の上面には、真空蒸着法等のＰＶＤ法により形成された金属薄膜である陰極６（電極）が積層されている。金属薄膜の材料は、例えばＡｌ、Ｌｉ、Ｍｇ、Ｉｎ等の仕事関数の小さい金属単体やＡｌ－Ｌｉ、Ｍｇ－Ａｇ等の仕事関数の小さい合金であってもよい。陰極６は、例えば数１０ｎｍ～数１００ｎｍ、又は５０ｎｍ～２００ｎｍの厚さを有する。陰極６の一部は、素子基板２の端部まで引き出されて駆動回路（図示せず）に接続される。

封止基板３は、有機層４を挟んで素子基板２と対向するように配置されている。素子基板２及び封止基板３の外周部は、封止シール剤８により封止されている。封止シール剤としては例えば紫外線硬化性樹脂を用いることができる。

図２は、有機ＥＬ素子の他の一実施形態を示す模式断面図である。図２に示す有機ＥＬ素子１Ｂは、素子基板２と、素子基板２に対して対向配置された封止基板３と、素子基板２上に設けられた発光部１０と、素子基板２及び封止基板３の外周部を封止する封止シール剤８と、封止シール剤８の内側の面上に設けられた乾燥剤層９と、乾燥剤層９の内側で発光部１０の周囲を充填する封止層７とから構成される。有機ＥＬ素子１Ｂにおいても、発光部１０は封止層７内に埋め込まれている。素子基板２及び封止基板３の間の気密空間が封止層７及び乾燥剤層９によって充填されている。乾燥剤層９は、例えば酸化カルシウム等のアルカリ土類酸化物を含む酸化物粒子と、バインダーとを含有する層であることができる。

図３は、有機ＥＬ素子の更に他の一実施形態を示す模式断面図である。図３に示す有機ＥＬ素子１Ｃは、素子基板２と、素子基板２に対して対向配置された封止基板３と、素子基板２上に設けられた発光部１０と、素子基板２及び封止基板３と接しながら、素子基板２と封止基板３との間の発光部１０周囲の空間を充填する封止層７とから構成される。図３の有機ＥＬ素子１Ｃの場合、封止シール剤のような、発光部の周囲に気密空間を形成するような部材は設けられていないが、発光部１０が捕水能を有する封止層７内に埋め込まれていることにより、良好な発光寿命を有することができる。

図４は、有機ＥＬ素子の更に他の一実施形態を示す模式断面図である。図４に示す有機ＥＬ素子１Ｄは、素子基板２と、素子基板２に対して対向配置された封止基板３と、素子基板２上に設けられた発光部１０と、素子基板２及び封止基板３の外周部を封止する封止シール剤８と、封止シール剤８の内側で発光部１０を覆う封止層７とから構成される。有機ＥＬ素子１Ｄにおいても、発光部１０は封止層７内に埋め込まれている。

有機ＥＬ素子１Ｄを構成する封止層７は、封止剤の硬化物を含む１つの硬化膜２１と、２つの無機膜２２とを含む積層構造を有している。発光部１０側から、無機膜２２、硬化膜２１及び無機膜２２の順で積層されている。すなわち、封止層７は最表層としての２つの無機膜２２と、それらの内側に配置された硬化膜２１とを有する。封止層７を構成する硬化膜及び無機膜の数は限定されず、複数の硬化膜及び無機膜が交互に積層されていてもよい。図４の場合、封止層７は発光部１０を覆うとともに素子基板２の表面も覆っているが、封止シール剤８の内側の素子基板２の全面が覆われていなくてもよい。硬化膜２１の厚さは、例えば０．１～３μｍであってもよい。

無機膜２２は、例えば、窒化ケイ素（ＳｉＮ）、酸化ケイ素（ＳｉＯ）、及び、窒素を含む酸化ケイ素（ＳｉＯＮ）等から選ばれるケイ素化合物を含む膜であってもよい。無機膜２２は、例えば化学気相成長（ＣＶＤ）によって形成することができる。無機膜２２の厚さは、例えば、０．１～３μｍであってもよい。

有機ＥＬ素子は、例えば、素子基板２又は封止基板３に封止剤を塗布することを含む方法によって製造することができる。図４の有機ＥＬ素子１Ｄのように硬化膜及び無機膜を有する積層構造を有する封止層は、例えば無機膜に封止剤を塗布することを含む方法によって製造することができる。

一実施形態に係る製造方法では、素子基板２上に有機層４等を有する発光部が形成された積層体が準備される。この場合、別途準備した封止基板３上に、上記実施形態に係る封止剤をディスペンサ等の方法により塗布して、封止層７を形成する。その後、封止基板３上に塗布した封止層７を囲むように封止シール剤８をディスペンサで塗布する。これらの作業は、露点－７６℃以下の窒素で置換されたグローブボックス中で行ってもよい。

次に、発光部が搭載された素子基板２と、封止基板３とを、封止層７及び封止シール剤８をそれらの間に挟みながら貼り合わせる。必要により、得られた構造体に紫外線照射及び／又は加熱によって封止剤及び／又は封止シール剤を硬化することにより、本実施形態に係る有機ＥＬ素子１Ａが得られる。有機ＥＬ素子１Ｂも、乾燥剤組成物を用いて乾燥剤層を形成すること以外は同様の方法で、製造することができる。有機ＥＬ素子１Ｃは、封止シール剤を形成しないこと以外は同様の方法で、製造することができる。有機ＥＬ素子１Ｄは、発光部上に無機膜及び硬化膜を順次形成することを含む方法により、製造することができる。

以下、実施例を挙げて本発明についてさらに具体的に説明する。ただし、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。

実施例１
９０質量部のビスフェノールＡ型エポキシ樹脂（ＹＬ９８３Ｕ（商品名）、三菱ケミカル株式会社）、１質量部の光酸発生剤（トリアリールスルホニウム塩、ＣＰＩ－３１０Ｂ（商品名）、サンアプロ株式会社）、及び１０質量部のテトラエトキシシランをガラス容器の中で混合して、液状の封止剤を得た。

実施例２
テトラエトキシシランを、トリブチルボレートに変更したこと以外は実施例１にして、液状の封止剤を得た。

比較例１～３
テトラエトキシシランを、アルミニウム ｓｅｃ－ブチレート、テトラ－ｎ－ブトキシチタン、又はテトラ－ｔｅｒｔ－ブトキシジルコニウムに変更したこと以外は実施例１にして、液状の封止剤を得た。

硬化性の評価
各封止剤を窒素雰囲気下、８５℃で１２時間程度放置する間に、比較例１～３の封止剤は、硬化反応の進行によって流動性を消失していた。また、比較例１～３の封止剤に対して、流動性が維持されている間に紫外線を照射したところ、硬化反応が十分に進行しなかった。これに対して、実施例１又は２の封止剤の場合、紫外線硬化前の硬化反応の進行は認められず、紫外線照射によって速やかに硬化した。この評価結果から、捕水成分としてアルコキシシラン化合物又はアルコキシホウ素化合物を含む封止剤は、紫外線照射前に意図せずに硬化することを抑制しながら、紫外線照射による良好な硬化性を示すことが確認された。

比較例４
テトラエトキシシランを配合しなかったこと以外は実施例１と同様にして、封止剤を得た。

捕水性能の評価
実施例１の封止剤について、紫外線照射前、紫外線照射直後、及び、紫外線照射から窒素雰囲気下、室温で１日又は１週間経過後の含水量を測定した。含水量は、封止剤を溶媒で３倍に薄めて調製した試験液を用いたカールフィッシャー法によって測定した。比較例４の封止剤について、紫外線照射前及び紫外線照射直後の含水量を同様の方法で測定した。表１に示される測定結果から、アルコキシシラン化合物を含む封止剤が良好な捕水機能を有することが確認された。

１Ａ，１Ｂ，１Ｃ，１Ｄ…有機ＥＬ素子、２…素子基板、３…封止基板、４…有機層、４ａ…ホール注入層、４ｂ…ホール輸送層、４ｃ…発光層、４ｄ…電子輸送層、５…陽極、６…陰極、７…封止層、８…封止シール剤、９…乾燥剤層、１０…発光部。

Claims (11)

1. 硬化性の主剤成分と、
   前記主剤成分を硬化させるための重合開始剤と、
   式：Ｓｉ（ＯＲ^１）_ｎ（Ｒ^２）_４－ｎで表されるアルコキシシラン化合物、又は式：Ｂ（ＯＲ^１）_ｍ（Ｒ^２）_３－ｍで表されるアルコキシホウ素化合物のうち少なくとも一方を含む捕水成分と、を含み、
   ｎが１～４の整数を示し、ｍが１～３の整数を示し、Ｒ^１が第１の置換基で置換されていてもよいアルキル基を示し、Ｒ^２が第２の置換基で置換されていてもよい炭化水素基を示し、１分子中の複数のＲ^１及びＲ^２はそれぞれ同一でも異なっていてもよく、前記第１の置換基及び前記第２の置換基は、酸性基、及び加水分解によって前記酸性基を生成する官能基を除く、基である、
   有機ＥＬ用封止剤。
2. 前記主剤成分がエポキシ樹脂を含む、請求項１に記載の有機ＥＬ用封止剤。
3. 前記重合開始剤が光又は熱で酸又は塩基を発生する化学種である、請求項１又は２に記載の有機ＥＬ用封止剤。
4. 前記アルコキシシラン化合物及び前記アルコキシホウ素化合物の合計の含有量が、当該有機ＥＬ用封止剤の質量を基準として０．１～９０質量％である、請求項１～３のいずれか一項に記載の有機ＥＬ用封止剤。
5. Ｒ^１が前記第１の置換基で置換されていてもよい炭素数１～５のアルキル基である、請求項１～４のいずれか一項に記載の有機ＥＬ用封止剤。
6. 前記酸性基がカルボキシル基、フェノール性水酸基、スルホ基、又はリン酸基である、請求項１～５のいずれか一項に記載の有機ＥＬ用封止剤。
7. 前記第１の置換基及び前記第２の置換基が、それぞれ独立に、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキロイル基、アルコール性水酸基、エポキシ基、ビニル基、メタクリロイル基、スチリル基、アクリロイル基、アミノ基、ウレイド基、イソシアネート基、及びイソシアヌレート基からなる群より選ばれる少なくとも１種の基である、請求項１～６のいずれか一項に記載の有機ＥＬ用封止剤。
8. 素子基板と、
   前記素子基板に対して対向配置された封止基板と、
   前記素子基板上に設けられた、対向配置された一対の電極及びそれらの間に設けられた有機層を有する発光部と、
   前記素子基板と前記封止基板との間に設けられ前記発光部を封止する封止層と、を備え、
   前記封止層が請求項１～７のいずれか一項に記載の有機ＥＬ用封止剤の硬化物を含む、
   有機ＥＬ素子。
9. 前記封止層が、前記素子基板及び前記封止基板と接しながら、前記素子基板と前記封止基板との間の前記発光部周囲の空間を充填している、請求項８に記載の有機ＥＬ素子。
10. 当該有機ＥＬ素子が、前記素子基板及び前記封止基板の外周部を封止する封止シール剤を更に備え、
    前記封止層が、前記封止シール剤の内側で前記発光部周囲の気密空間のうち少なくとも一部を充填している、
    請求項８に記載の有機ＥＬ素子。
11. 前記封止層が、前記有機ＥＬ用封止剤の硬化物を含む硬化膜と、無機膜と、を含む積層構造を有している、請求項８に記載の有機ＥＬ素子。

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