JP2022047965A5 - 集束荷電粒子ビーム装置 - Google Patents
集束荷電粒子ビーム装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2022047965A5 JP2022047965A5 JP2020154036A JP2020154036A JP2022047965A5 JP 2022047965 A5 JP2022047965 A5 JP 2022047965A5 JP 2020154036 A JP2020154036 A JP 2020154036A JP 2020154036 A JP2020154036 A JP 2020154036A JP 2022047965 A5 JP2022047965 A5 JP 2022047965A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- processed
- substrate
- focused
- charged particle
- particle beam
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000002245 particle Substances 0.000 title claims description 13
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 28
- 238000005086 pumping Methods 0.000 claims description 12
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 claims description 5
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 2
- 238000007664 blowing Methods 0.000 claims 2
- 238000005452 bending Methods 0.000 claims 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
Description
本発明は、差動排気装置を備える集束荷電粒子ビーム装置に関する。
本発明は、上記の課題に鑑みてなされたものであって、被処理基板の下面に異物が付着したり、被処理基板の下面を損傷させたりすることのない、集束荷電粒子ビーム装置を提供することを目的とする。
上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明の態様は、被処理基板を支持する支持部と、前記被処理基板の被処理面の任意領域に対応するように相対移動可能な、差動排気装置を備えた集束エネルギービームカラムと、を備える集束荷電粒子ビーム装置であって、前記支持部は、前記被処理基板を水平に配置した状態で周縁部のみを支持し、前記支持部に支持された前記被処理基板の下方に、前記被処理基板の被処理領域全体に亘って陽圧を及ぼし、前記被処理基板の自重による撓みを阻止する陽圧チャンバが配置され、前記陽圧チャンバ内に、前記被処理基板の下面に非接触な状態を維持して陰圧を及ぼして前記差動排気装置の吸引力を相殺し、当該被処理基板を挟んで前記差動排気装置と対向する状態を維持して前記差動排気装置に追従して前記被処理基板に相対移動可能な局所陰圧機構を備えることを特徴とする。
本発明によれば、被処理基板の下面に異物が付着したり、被処理基板の下面が損傷したりすることのない、集束荷電粒子ビーム装置を実現できる。
本発明に係る集束荷電粒子ビーム装置は、出射するエネルギービームの種類や被処理基板への処理用途に応じて、リペア装置としての集束イオンビーム装置、被処理基板への直接描画機能を有する電子線描画装置、被処理基板の表面状態の観察を可能にする走査電子顕微鏡などに適用できる。
以下、本発明の実施の形態に係る集束エネルギービーム装置の詳細を図面に基づいて説明する。本実施の形態は、本発明の集束荷電粒子ビーム装置を、集束イオンビームをエネルギービームとして用いる集束イオンビーム装置に適用した実施の形態である。なお、図面は模式的なものであり、各部材の寸法や寸法の比率や数、形状などは現実のものと異なることに留意すべきである。また、図面相互間においても互いの寸法の関係や比率や形状が異なる部分が含まれている。
Claims (6)
- 被処理基板を支持する支持部と、
前記被処理基板の被処理面の任意領域に対応するように相対移動可能な、差動排気装置を備えた集束エネルギービームカラムと、
を備える集束荷電粒子ビーム装置であって、
前記支持部は、前記被処理基板を水平に配置した状態で周縁部のみを支持し、
前記支持部に支持された前記被処理基板の下方に、前記被処理基板の被処理領域全体に亘って陽圧を及ぼし、前記被処理基板の自重による撓みを阻止する陽圧チャンバが配置され、
前記陽圧チャンバ内に、前記被処理基板の下面に非接触な状態を維持して陰圧を及ぼして前記差動排気装置の吸引力を相殺し、当該被処理基板を挟んで前記差動排気装置と対向する状態を維持して前記差動排気装置に追従して前記被処理基板に相対移動可能な局所陰圧機構を備えること
を特徴とする集束荷電粒子ビーム装置。 - 前記差動排気装置の外側を取り囲むように、前記被処理面にガスを吹き付ける第１浮上パッドが設けられ、
前記局所陰圧機構の外側を取り囲むように、前記被処理基板の下面にガスを吹き付ける第２浮上パッドが設けられている
請求項１に記載の集束荷電粒子ビーム装置。 - 前記差動排気装置は、前記被処理基板の前記被処理面に対向するヘッド部を備え、
前記ヘッド部における、前記被処理面と対向する対向面に、当該対向面の中心部を周回するように取り囲んで吸気部が設けられ、
前記ヘッド部における前記中心部に、前記被処理面に対する処理を可能にする処理用空間を形成する開口部が設けられ、
前記吸気部に真空ポンプが連結され、前記被処理面に前記対向面を対向させた状態で、前記吸気部からの吸気作用により、前記処理用空間を高真空にする
請求項１または請求項２に記載の集束荷電粒子ビーム装置。 - 集束エネルギービームカラムは、前記ヘッド部における前記対向面と反対側に配置され、前記開口部に連結して前記処理用空間に連通可能な鏡筒を備え、前記鏡筒内に集束エネルギービーム系を内蔵して集束エネルギービームが前記開口部内を通るように出射する
請求項３に記載の集束荷電粒子ビーム装置。 - 集束エネルギービーム系は、集束イオンビームを出射する集束イオンビーム系である
請求項４に記載の集束荷電粒子ビーム装置。 - 前記対向面における前記吸気部よりも前記中心部に近い位置に成膜用ガスを供給する成膜用ガス供給部が設けられている
請求項３から請求項５のいずれか一項に記載の集束荷電粒子ビーム装置。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2020154036A JP7473195B2 (ja) | 2020-09-14 | 2020-09-14 | 集束荷電粒子ビーム装置 |
| KR1020237009889A KR20230067628A (ko) | 2020-09-14 | 2021-07-27 | 집속 하전입자 빔 장치 |
| US18/025,809 US20230335369A1 (en) | 2020-09-14 | 2021-07-27 | Focused charged particle beam apparatus |
| PCT/JP2021/027703 WO2022054431A1 (ja) | 2020-09-14 | 2021-07-27 | 集束エネルギービーム装置 |
| CN202180054193.7A CN116034448A (zh) | 2020-09-14 | 2021-07-27 | 聚焦能量束装置 |
| TW110128653A TW202223963A (zh) | 2020-09-14 | 2021-08-04 | 聚束能量射束裝置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2020154036A JP7473195B2 (ja) | 2020-09-14 | 2020-09-14 | 集束荷電粒子ビーム装置 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2022047965A JP2022047965A (ja) | 2022-03-25 |
| JP2022047965A5 true JP2022047965A5 (ja) | 2023-06-16 |
| JP7473195B2 JP7473195B2 (ja) | 2024-04-23 |
Family
ID=80632482
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2020154036A Active JP7473195B2 (ja) | 2020-09-14 | 2020-09-14 | 集束荷電粒子ビーム装置 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20230335369A1 (ja) |
| JP (1) | JP7473195B2 (ja) |
| KR (1) | KR20230067628A (ja) |
| CN (1) | CN116034448A (ja) |
| TW (1) | TW202223963A (ja) |
| WO (1) | WO2022054431A1 (ja) |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4524261A (en) * | 1983-09-19 | 1985-06-18 | Varian Associates, Inc. | Localized vacuum processing apparatus |
| US4837443A (en) * | 1987-10-15 | 1989-06-06 | The Perkin-Elmer Corporation | Guard ring for a differentially pumped seal apparatus |
| JPH0922110A (ja) * | 1995-07-06 | 1997-01-21 | Hitachi Ltd | 荷電ビーム処理方法及びその装置並びにフォトマスクの加工方法及びその装置 |
| JP5114960B2 (ja) | 2006-10-03 | 2013-01-09 | ソニー株式会社 | 加工装置、及び配線基板の製造装置 |
| JP2010040990A (ja) | 2008-08-08 | 2010-02-18 | Nsk Ltd | 真空チャンバー |
-
2020
- 2020-09-14 JP JP2020154036A patent/JP7473195B2/ja active Active
-
2021
- 2021-07-27 US US18/025,809 patent/US20230335369A1/en active Pending
- 2021-07-27 CN CN202180054193.7A patent/CN116034448A/zh active Pending
- 2021-07-27 WO PCT/JP2021/027703 patent/WO2022054431A1/ja active Application Filing
- 2021-07-27 KR KR1020237009889A patent/KR20230067628A/ko active Search and Examination
- 2021-08-04 TW TW110128653A patent/TW202223963A/zh unknown
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR101195628B1 (ko) | 편평한 물체의 대향면상에 광학 장치를 포커싱하는 방법 | |
| JP4920209B2 (ja) | 板状ワークの移載装置 | |
| JP5667451B2 (ja) | ステージ装置 | |
| TW200527154A (en) | Lithographic apparatus and device manufacturing method | |
| US20160260631A1 (en) | Holding and rotating apparatus for flat objects | |
| CN110291610A (zh) | 被配置为用于增强的真空紫外(vuv)光谱辐射通量的设备以及具有该设备的系统 | |
| JP2022047965A5 (ja) | 集束荷電粒子ビーム装置 | |
| TW202010037A (zh) | 靜電卡盤、具有靜電卡盤的附接設備以及附接方法 | |
| JP2009130011A (ja) | 基板位置決め装置 | |
| US8278623B2 (en) | High-vacuum variable aperture mechanism and method of using same | |
| KR101737241B1 (ko) | 광학 장치, 광학 모듈, 및 하우징에 광학 모듈을 정확하게 위치 결정시키기 위한 방법 | |
| KR101687591B1 (ko) | 하전 입자 빔 묘화 장치 | |
| JP5140010B2 (ja) | 基板ホルダー | |
| JP7473195B2 (ja) | 集束荷電粒子ビーム装置 | |
| JP7430909B2 (ja) | 集束イオンビーム装置 | |
| US20150325402A1 (en) | Method and System for Inspecting an EUV Mask | |
| EP1768118A3 (en) | Optical pickup device | |
| US20220172922A1 (en) | Vacuum apparatus | |
| JP2008146890A (ja) | 照射ヘッド及びこれを備えた電子顕微鏡 | |
| JP2019179748A (ja) | 荷電粒子装置、計測システム、及び、荷電粒子ビームの照射方法 | |
| JP2019179747A (ja) | 荷電粒子装置、計測システム、及び、荷電粒子ビームの照射方法 | |
| TWM638936U (zh) | 曝光機之萬向定位裝置之整平機構 | |
| WO2022004229A1 (ja) | 差動排気装置および集束エネルギービーム装置 | |
| JP2012060141A (ja) | 転写用の型 | |
| JPH03214554A (ja) | 電子ビーム加工装置 |