JP2021522449A - 接合部構成 - Google Patents

接合部構成 Download PDF

Info

Publication number
JP2021522449A
JP2021522449A JP2020557293A JP2020557293A JP2021522449A JP 2021522449 A JP2021522449 A JP 2021522449A JP 2020557293 A JP2020557293 A JP 2020557293A JP 2020557293 A JP2020557293 A JP 2020557293A JP 2021522449 A JP2021522449 A JP 2021522449A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wall
component
space
land
vent
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2020557293A
Other languages
English (en)
Other versions
JPWO2019204481A5 (ja
Inventor
ラダクリシュナン・シュリラム
リード・デイビッド・エイチ・ジュニア
リード・アールネ・エイチ
ローチ・ピーター
トーマス・ウィリアム
ルドゥー・ジョージ
マーレイ・マイケル・クライン
Original Assignee
コンセプト グループ エルエルシー
コンセプト グループ エルエルシー
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by コンセプト グループ エルエルシー, コンセプト グループ エルエルシー filed Critical コンセプト グループ エルエルシー
Publication of JP2021522449A publication Critical patent/JP2021522449A/ja
Publication of JPWO2019204481A5 publication Critical patent/JPWO2019204481A5/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16L—PIPES; JOINTS OR FITTINGS FOR PIPES; SUPPORTS FOR PIPES, CABLES OR PROTECTIVE TUBING; MEANS FOR THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16L59/00—Thermal insulation in general
    • F16L59/06—Arrangements using an air layer or vacuum
    • F16L59/065—Arrangements using an air layer or vacuum using vacuum
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01M—TESTING STATIC OR DYNAMIC BALANCE OF MACHINES OR STRUCTURES; TESTING OF STRUCTURES OR APPARATUS, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • G01M7/00—Vibration-testing of structures; Shock-testing of structures
    • G01M7/08—Shock-testing
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N3/00—Investigating strength properties of solid materials by application of mechanical stress
    • G01N3/30—Investigating strength properties of solid materials by application of mechanical stress by applying a single impulsive force, e.g. by falling weight
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N2203/00—Investigating strength properties of solid materials by application of mechanical stress
    • G01N2203/0001—Type of application of the stress
    • G01N2203/0005—Repeated or cyclic
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N2203/00—Investigating strength properties of solid materials by application of mechanical stress
    • G01N2203/0001—Type of application of the stress
    • G01N2203/001—Impulsive

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Thermal Insulation (AREA)
  • Table Devices Or Equipment (AREA)
  • Apparatus Associated With Microorganisms And Enzymes (AREA)
  • Micromachines (AREA)

Abstract

それらの間に断熱空間を画定する壁の間のシールされた接合部を含む断熱構成要素が提供される。開示された構成要素を形成および使用する関連する方法も提供される。
【選択図】図２３

Description

関連アプリケーション
本出願は、米国特許出願第６２／６５８，７９４号（２０１８年４月１７日提出）、同第６２／７００，４４９号（２０１８年７月１９日提出）、同第６２／７７３，８１６号（２０１８年１１月３０日提出）、同第６２／８１１，２１７号（２０１９年２月２７日提出）、および第６２／８２５，１２３号（２０１９年３月２８日出願）の優先権および利益を主張し、これらの出願はすべて、あらゆる目的のためにその全体が参照により本明細書に組み込まれる。
本開示は、断熱材として使用するためのシールされた排気空間を形成する分野に関する。
断熱構成要素は、例えば、流体輸送、流体貯蔵などの幅広い用途で必要とされている。しかしながら、既存の断熱構成要素は組み立てが難しい場合があり、断熱能力の観点からユーザのニーズを常に満たすとは限らない。特に、既存の断熱構成要素を組み立てるために使用される壁から壁の接合部は、製造と処理が難しい場合がある。したがって、当技術分野では、改善された断熱構成要素、ならびにそのような構成要素を使用する関連する方法が長い間必要とされてきた。
上記の長い間感じられてきたニーズを満たすにあたって、本開示は、最初に、分子励起チャンバであって、内部容積を境界付ける第１の壁であって、第１の壁が長さを有する主要部分と長さを有する突出部分とを備え、主要部分が任意選択で突出部分に対して垂直に延在する、第１の壁と、内部容積を境界付ける第２の壁であって、第２の壁が長さを有する主要部分を備え、任意選択で長さを有する突出部分を備える、第２の壁と、を備え、（ａ）第１の壁の突出部分と第２の壁とが、その間に第１のベントを画定するか、または（ｂ）第２の壁と第１の壁とが、その間に第２のベントを画定するか、または（ｃ）（ａ）および（ｂ）の両方であり、かつ、第１の壁の突出部分に対する第１の壁の主要部分の長さの比率は、約１０００：１〜約１：１であり、かつ、任意選択で、分子励起チャンバの内部容積内に配設された分子の加熱をもたらすように構成された熱源と、を備える、分子励起チャンバを提供する。
また、本開示による分子励起チャンバの第１のベントを開くことを含む方法も提供されている。
さらに、（ａ）長さを有する主部分と長さを有する突出部分とを備える第１の壁であって、主部分が任意選択で突出部分に垂直に延在し、第１の壁の突出部分に対する第１の壁の主部分の長さの比率が、約１０００：１〜約１：１である、第１の壁と、（ｂ）長さを有する主要部分を備え、任意選択で長さを有する突出部分を備える第２の壁と、を組み立てることであって、組み立ては、第１の壁の突出部分と第２の壁とによって画定される第１のベントを画定するように行われる、組み立てることと、第１の壁と第２の壁との間の空間をシールするように第１のベントをシールすることと、を含む、方法が提供されている。
また、内部容積を境界付ける第１の壁と、第１の壁と第２の壁との間に断熱空間を画定するように、第１の壁から距離を置いて離間された第２の壁と、断熱空間に面する第２の壁の内面と、断熱空間に面する第１の壁の外面と、を備え、（ａ）第１の壁が、（ｉ）第１の壁の第１の端部から第２の壁の内面に向かって延在し、任意選択で第２の壁の内面に本質的に垂直である、および／もしくは（ｉｉ）第１の壁の第２の端部に向かって延在する、延長部分を備え、第１の壁の延長部分が、任意選択で第２の壁の内面に本質的に平行であるランド部分をさらに備えるか、または、（ｂ）第２の壁が、（ｉ）第２の壁の第１の端部から第１の壁の外面に向かって延在し、任意選択で第１の壁の外面に本質的に垂直である、および／もしくは（ｉｉ）第２の壁の第２の端部に向かって延在する、延長部分を備え、第２の壁の延長部分が、任意選択で第１の壁の表面の外面に本質的に平行であるランド部分をさらに備えるか、または（ａ）および（ｂ）の両方であり、かつ、断熱空間と連通して、断熱空間からの気体分子のための出口経路を提供する第１のベント、を備え、ベントが、ベントからの気体分子の流出に続いて断熱空間をシーリングするためにシール可能である、断熱構成要素が開示されている。
加えて、本開示による、断熱構成要素の内部容積内で流体を伝達することを含む方法が提供されている。
また、本開示による、断熱構成要素の内部容積内に少なくとも部分的に配設された材料を加熱することを含む方法も開示されている。
さらに、内部容積を境界付ける第１の壁と、第１の壁から距離を置いて間隔を置いて離間された第２の壁とを備え、容積が、第１の壁と第２の壁との間に画定され、（ａ）第１の壁が、第２の壁に向かって延在し、任意選択で第２の壁の内面に本質的に垂直である延長部分を備え、第１の壁の延長部分が、任意選択で第２の壁の内面に本質的に平行であるランド部分をさらに備えるか、（ｂ）第２の壁が、第１の壁の外面に向かって延在し、任意選択で第１の壁の外面に本質的に垂直である延長部分を備え、第２の壁の延長部分が、任意選択で第１の壁の外面に本質的に平行であるランド部分をさらに備えるか、または（ａ）および（ｂ）の両方であり、かつ（ｃ）第１の壁のランド部分が、第１の壁と第２の壁との間の容積を画定するように第２の壁に接触し、（ｄ）第２の壁のランド部分が、第１の壁と第２の壁との間の容積を画定するように第１の壁に接触し、または（ｃ）および（ｄ）の両方であり、第１の壁に対して第２の壁の熱膨張をもたらすのに有効な条件下で第１の壁および第２の壁を加熱すること、含み、熱膨張が、第１の壁のランド部分と第２の壁との間の空間を生じさせるかまたは増大させ、および／もしくは第２の壁のランド部分と第１の壁との間の空間を生じさせるかまたは増大させ、それにより、気体分子が第１の壁と第２の壁との間に画定された容積を出ること可能にする、方法が提供されている。
加えて、内部容積を境界付ける第１の壁と、第１の壁と第２の壁との間に断熱空間を画定するように、第１の壁から距離を置いて離間された第２の壁と、第１のキャップであって、第１のキャップが、第１の壁と第２の壁との間に画定された断熱空間を少なくとも部分的にシールし、第１のキャップが第１のランドを備え、第１のランドが任意選択で第１の壁にシールされ、かつ、第１のキャップが第２のランドをさらに備え、第２のランドが任意選択で第２の壁にシールされる、第１のキャップと、断熱空間と連通して、断熱空間からの気体分子のための出口経路を提供する第１のベントと、を備え、第１のベントが、ベントからの気体分子の流出に続いて断熱空間をシールするためにシール可能である、断熱構成要素が提供されている。
内部容積を境界付ける第１の壁と、第１の壁と第２の壁との間に断熱空間を画定するように、第１の壁から距離を置いて離間された第２の壁と、湾曲したプロファイルを画定する第１のキャップであって、第１のキャップが、第１の壁と第２の壁との間に画定される断熱空間を少なくとも部分的にシールする、第１のキャップと、湾曲したプロファイルを画定する第２のキャップであって、第２のキャップが、第１の壁にシールされた第１の部分を備え、第２のキャップが、第２の壁にシールされた第２の部分をさらに備える、第２のキャップと、を備え、第１の壁の湾曲したプロファイルおよび第２の壁の湾曲したプロファイルが、互いに離れて凹状である、断熱構成要素がさらに提供されている。
本開示はまた、構成要素を試験する方法を提供する。これらの方法では、ユーザは、構成要素（例えば、断熱材）を振動および／もしくは打撃にさらすことができる。次いでに、ユーザは、構成要素が振動および／もしくは打撃にさらされることに関連する情報（例えば、音）を収集し、情報のさらなる処理を実行することができる。
また、試験システムが提供されている。本開示によるシステムは、バイブレータ装置および構成要素マウントを含むことができる。システムは、構成要素マウントに固定された構成要素をさらに含むことができ、構成要素はある量のセラミックを含み、構成要素は構成要素内のシールされた排気領域を含み、またはその両方であり、構成要素は、構成要素がバイブレータ装置と機械的に連通するか、バイブレータ装置と流体連通するか、またはその両方になるように固定されている。
本開示はまた、打撃プレートと、打撃プレートへの構成要素の衝突から発したエネルギーを受け取るように構成されたトランスデューサと、を備える、試験システムを提供する。
第１の境界構成要素の表面の少なくとも一部を調整することによって、第１の境界構成要素の表面の調整された領域を形成することと、第２の境界構成要素の表面の少なくとも一部を調整することによって、第２の境界構成要素の表面の調整された領域を形成することと、第１の境界構成要素と第２の境界構成要素との間にシールされた排気領域を生じさせるのに十分な条件下で第１の境界構成要素および第２の境界構成要素を処理することであって、シールされた排気領域が、第１の境界構成要素の表面の調整された領域および第２の境界構成要素の表面の調整された領域によって少なくとも部分的に確定されている、処理することと、を含む、断熱構成要素を調製する方法がさらに提供されている。
また、（ａ）第１の境界構成要素の対向面および（ｂ）第２の境界構成要素の対向面を調整することと、第１の境界構成要素の対向面と第２の境界構成要素の対向面との間にシールされた排気領域を生じさせるのに十分な条件下で、第１の境界構成要素および第２の境界構成要素をさらに処理することと、を含む、断熱構成要素を調製する方法が提供されている。
開示された方法に従って製造された断熱構成要素がさらに提供されている。
加えて、第１の境界構成要素の表面領域と第２の境界構成要素の表面領域との間にシールされた断熱空間を形成するように第１の境界構成要素および第２の境界構成要素を組み立てることを含み、第１の境界構成要素の表面領域および第２の境界構成要素の表面領域が不純物（例えば、水分および／もしくは他の分子種）を除去するために処理される、断熱構成要素を構築する方法が提供されている。
第１の境界構成要素の表面領域と第２の境界構成要素の表面領域との間にシールされた断熱空間を形成するように配設された第１の境界構成要素および第２の境界構成要素を備え、第１の境界構成要素の表面領域および第２の境界構成要素の表面領域が不純物を除去するために処理される、断熱構成要素がさらに提供されている。
また、ワークピース上に調整領域をもたらすように構成されたシステムであって、エンクロージャの内部内に１つ以上のワークピースをシール可能に囲むように構成されたエンクロージャ、（ａ）（ｉ）エンクロージャの内部への流体の流れ、および（ｉｉ）エンクロージャの内部からの流体の流れ、のうちの少なくとも１つを調整するように構成された構成要素、（ｂ）エンクロージャの内部内の温度を調整するように構成された要素、任意選択で（ｃ）熱源（任意選択で、エンクロージャの内部内に配設されたワークピースに向けて放射を向けるように構成された要素を備える）、（ｄ）エンクロージャの内部と流体連通できる流体源、または（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、および（ｄ）の任意の組み合わせ、を備える、システムが提供されている。
本明細書で提供される方法を実行するように構成されたシステムがさらに提供されている。
加えて、（ａ）領域内に第１の流体が包含されている第１の境界と第２の境界との間の界面に影響を与えるように温度および／もしくは圧力を変えることと、（ｂ）領域から第１の流体の少なくとも一部を除去することと、（ｃ）前記領域に第２の流体を導入することと、（ｄ）領域内に第２の流体を包含することと、を含む、方法が提供されている。
図面では、それらは必ずしも縮尺どおりに描かれておらず、同様の数字は、異なる図で類似の構成要素を表す場合がある。異なる文字の接尾辞を有する同様の数字は、類似の構成要素の異なる事例を表す場合がある。これらの図面は、本文書で論じられている様々な態様を、限定ではなく例として一般的に図示している。
本開示による例示的な構成要素の断面図を提供し、例証的な壁構成を示す。 本開示による例示的な構成要素の断面図を提供し、例証的な壁構成を示す。 本開示による例示的な構成要素の断面図を提供し、例証的な壁構成を示す。 本開示による例示的な構成要素の断面図を提供し、例証的な壁構成を示す。 本開示による例示的な構成要素の断面図を提供し、例証的な壁構成を示す。 本開示による例示的な構成要素の断面図を提供し、例証的な壁構成を示す。 本開示による例示的な構成要素の断面図を提供し、例証的な壁構成を示す。 本開示による例示的な構成要素の断面図を提供し、例証的な壁構成を示す。 本開示による例示的な構成要素の断面図を提供し、例証的な壁構成を示す。 本開示による例示的な構成要素の断面図を提供し、例証的な壁構成を示す。 本開示による例示的な構成要素の断面図を提供し、例証的な壁構成を示す。 本開示による例示的な構成要素の断面図を提供し、例証的な壁構成を示す。 本開示による例示的な構成要素の断面図を提供し、例証的な壁構成を示す。 本開示による例示的な構成要素の断面図を提供し、例証的な壁構成を示す。 図１５Ａ〜図１５Ｃは本開示による例示的な構成要素の断面図を提供し、例証的な壁構成を示す。 本開示による例示的な構成要素の断面図を提供し、例証的な壁構成を示す。 本開示による例示的な構成要素の断面図を提供し、例証的な壁構成を示す。 本開示による例示的な構成要素の断面図を提供し、例証的な壁構成を示す。 本開示による例示的な構成要素の断面図を提供し、例証的な壁構成を示す。 本開示による例示的な構成要素の断面図を提供し、例証的な壁構成を示す。 本開示による例示的な構成要素の断面図を提供し、例証的な壁構成を示す。 本開示による例示的な構成要素の断面図を提供し、例証的な壁構成を示す。 本開示による例示的な構成要素の断面図を提供し、例証的な壁構成を示す。 本開示による例示的な構成要素の断面図を提供し、例証的な壁構成を示す。 本開示による例示的な構成要素の断面図を提供し、例証的な壁構成を示す。 本開示による例示的な構成要素の断面図を提供し、例証的な壁構成を示す。 本開示による例示的な構成要素の断面図を提供し、例証的な壁構成を示す。 本開示による例示的な構成要素の接合部領域の拡大断面図を提供する。 本開示による例示的な構成要素の断面図を提供し、例証的な壁構成を示す。 本開示による例示的な構成要素の接合部領域の拡大断面図を提供する。 本開示による例示的な構成要素の断面図を提供し、例証的な壁構成を示す。 本開示による例示的な構成要素の断面図を提供し、例証的な壁構成を示す。 本開示による例示的な構成要素の接合部領域の断面図を提供する。 本開示による構成要素内のろう付け材料のリングの端部の拡大図を提供する。 本開示による接合された２つの管セクションの断面図を提供する。 本開示による例示的な構成要素の断面図を提供し、例証的な壁構成を示す。 本開示による例示的な構成要素の断面図を提供し、例証的な壁構成を示す。 本開示による例示的な構成要素の断面図を提供し、例証的な壁構成を示す。 本開示による例示的な構成要素の断面図を提供し、例証的な壁構成を示す。 本開示による例示的な構成要素の断面図を提供し、例証的な壁構成を示す。 本開示による例示的な構成要素の断面図を提供し、例証的な壁構成を示す。 本開示による例示的な構成要素の断面図を提供し、例証的な壁構成を示す。 本開示による例示的な構成要素の断面図を提供し、例証的な壁構成を示す。 本開示による例示的な構成要素の断面図を提供し、例証的な壁構成を示す。 本開示による例示的な構成要素の断面図を提供し、例証的な壁構成を示す。 本開示による例示的な構成要素の断面図を提供し、例証的な壁構成を示す。 本開示による例示的なキャップの図を提供する。 図４７に示すキャップの断面図を提供する。 本開示による例示的な物品の断面図を提供する。 本開示による例示的な物品の断面図を提供する。 本開示による例示的な物品の断面図を提供する。 本開示による例示的な物品の断面図を提供する。 本開示による例示的なプロセスフローを提供する。 本開示によるシステムの断面図を提供する。 図５５Ａおよび図５５Ｂは本開示による物品の断面図を提供する。 本開示による例示的なプロセスのフローチャートを提供する。
本開示は、本開示の一部を形成する添付の図および例に関連して取られた以下の詳細な説明を参照することによって、より容易に理解され得る。本発明は、本明細書に記載および／もしくは示される特定のデバイス、方法、用途、条件またはパラメータに限定されず、本明細書で使用される用語は、例としてのみ特定の実施形態を説明することを目的としており、請求された発明を限定することを意図するものではないことを理解されたい。
また、添付の特許請求の範囲を含めて明細書で使用されるように、単数形「ある（ａ）」、「ある（ａｎ）」、および「その（ｔｈｅ）」は複数形を含み、特定の数値への言及は、文脈が明確に指示しない限り、少なくともその特定の値を含む。本明細書で使用される「複数（ｐｌｕｒａｌｉｔｙ）」という用語は、１つより多いことを意味する。値の範囲が表される場合、もう一つの実施形態は、１つの特定の値からおよび／もしくは他の特定の値までを含む。同様に、値が近似値として表される場合、先行詞「約」を使用することにより、特定の値がもう一つの実施形態を形成することが理解されるであろう。すべての範囲は包括的で組み合わせ可能であり、ステップは任意の順序で実行できることを理解されたい。
明確にするために、別個の実施形態の文脈で本明細書に記載されている本発明の特定の特徴はまた、単一の実施形態で組み合わせて提供されてもよいことが理解されるべきである。逆に、簡潔にするために、単一の実施形態の文脈で説明される本発明の様々な特徴はまた、別個にまたは任意のサブコンビネーションで提供されてもよい。本書に引用されているすべての文書は、あらゆる目的のためにその全体が本書に組み込まれている。
さらに、範囲に記載されている値への参照には、その範囲内のすべての値が含まれる。加えて、「備える（ｃｏｍｐｒｉｓｉｎｇ）」という用語は、その標準的な制限のない意味を有すると理解されるべきであるが、「からなる（ｃｏｎｓｉｓｔｉｎｇ）」も同じように包含すると理解されるべきである。例えば、パートＡおよびパートＢを備えるデバイスは、パートＡおよびパートＢに加えてパーツを含み得るが、パートＡおよびパートＢからのみ形成されてもよい。
例示的な壁、シーリングプロセス、および断熱スペースは、例えば、ＵＳ２０１８／０１０６４１４、ＵＳ２０１７／０２５３４１６、ＵＳ２０１７／０２２５２７６、ＵＳ２０１７／０１２０３６２、ＵＳ２０１７／００６２７７４、ＵＳ２０１７／００４３９３８、ＵＳ２０１６／００８４４２５、ＵＳ２０１５／０２６０３３２、ＵＳ２０１５／０１１０５４８、ＵＳ２０１４／００９０７３７、ＵＳ２０１２／００９０８１７、ＵＳ２０１１／０２６４０８４、ＵＳ２００８／０１２１６４２、ＵＳ２００５／０２１１７１１、ＷＯ／２０１９／０１４４６３、ＷＯ／２０１９／０１０３８５、ＷＯ／２０１８／０９３７８１、ＷＯ／２０１８／０９３７７３、ＷＯ／２０１８／０９３７７６、ＰＣＴ／ＵＳ２０１８／０４７９７４、ＷＯ／２０１７／１５２０４５、ＵＳ６２／７７３，８１６およびＵＳ６，１３９，５７１、に見いだすことができ、これらの文書の全体は、あらゆる目的のために本明細書に組み込まれる。
図
添付の非限定的な図は、開示された技術の様々な態様を図示している。これらの図は単なる例示であり、本開示の範囲または添付の特許請求の範囲を限定するものではないことを理解されたい。
図１は、本開示による構成要素１０の例示的な描写を提供する。示されるように、構成要素１０は、第１の壁１００を含み、その第１の壁は、主要部分１０２を画定することができる。第１の壁は、任意選択で主要部分から垂直に突出することができる突出部分１０８を含むことができるが、これは必須ではない。突出部分は長さ１０４を定義することができる。第１の壁はまた、ランド部分１０６を含むことができる。
示されるように、ベント１１８は、第１の壁１００と第２の壁１１０との間に画定することができる。第２の壁１１０は、主要部分（ラベル付けされていない）を含むことができ、第２の壁１１０はまた、例えば、第２の壁１１０が構成において管状である場合、その中の容積を画定することができる。第２の壁１１０はまた、任意選択で第２の壁１１０から垂直に突出することができる突出部分１１２を含むことができる。第２の壁１１０はまた、ランド部分１１４を含むことができる。第２のベント１１６は、第１の壁と第２の壁との間に画定することができる。示されるように、第１の壁１００と第２の壁１１０との間に画定された空間の主軸に平行な線１５０を引くことができる。いくつかの実施形態では、そのような平行線は、第１のベント１１６および第２のベント１１８の両方と交差しない。壁１００および壁１１０は、それらの間に空間／容積１０２ａを画定することができる。（「第１の壁」および「第２の壁」という用語は、単に便宜上のものであり、限定するものではないことを理解されたい。一例として、「第１の壁」は、二重壁管構成要素の内壁またはその二重壁管構成要素の外壁であることができる。）
壁１００および１１０の一方または両方は、構成において円筒形であり得ることを理解されたい。このようにして、壁は、壁１１０内に容積（１０２ｃ）を画定することができ、その容積１０２ｃは、形状が円筒形であり得、中心線を有することができる（図１に示される）。壁１００および１１０のいずれかまたは両方が、そこから延在する１つ以上のフィンを含むことができることも理解されたい。フィンは、ヒートシンクとしておよび／もしくは熱交換面として機能することができる。
図２は、本開示による構成要素の代替の実施形態の描写を提供する。示されるように、第１の壁１００は、任意選択で主要部分から垂直に突出することができる突出部分１０８を含むが、これは必須ではない。第２の壁１１０は、主要部分（ラベル付けされていない）を含むことができる。第２の壁１１０はまた、任意選択で第２の壁１１０から垂直に突出することができる突出部分１１２を含むことができる。第２の壁１１０はまた、ランド部分１１４を含むことができる。第２のベント１１６は、第１の壁と第２の壁との間に画定することができる。示されるように、図２の実施形態は、単一のベント、すなわちベント１１４のみを含む。壁１００および壁１１０は、それらの間に空間／容積１０２ａを画定することができ、これは、排気することができる。
図３は、開示された技術の実施形態のさらなる描写を提供し、この場合は図１のシールされたバージョンである。より具体的には、描写された構成要素は、第１の壁１００を含む。第１の壁は、任意選択で主要部分から垂直に突出することができる突出部分１０８を含むことができるが、これは必須ではない。第１の壁はまた、ランド部分１０６を含むことができ、そのランド部分は、第２の壁１１０にシールすることができる。第２の壁１１０はまた、任意選択で第２の壁１１０から垂直に突出することができる突出部分１１２を含むことができる。第２の壁１１０はまた、第１の壁１００にシールすることができるランド部分１１４を含むことができる。第１の壁１００と第２の壁１１０との間に画定された空間の主軸に平行線を描くことができる。いくつかの実施形態では、そのような平行線は、ランド１０６および１１４での第１の壁と第２の壁との間のシールと交差しない。壁１００および壁１１０は、それらの間に空間／容積１０２ａを画定することができる。
図４は、開示された技術の実施形態のさらなる描写を提供し、この場合は図１のシールされたバージョンである。より具体的には、描写された構成要素は、第１の壁１００を含む。第１の壁は、任意選択で主要部分から垂直に突出することができる突出部分１０８を含むことができるが、これは必須ではない。第１の壁はまた、ランド部分１０６を含むことができ、そのランド部分は、シーラント１５４によって第２の壁１１０にシールすることができる。第２の壁１１０はまた、任意選択で第２の壁１１０から垂直に突出することができる突出部分１１２を含むことができる。第２の壁１１０はまた、シーラント１５２によって第１の壁１００にシールすることができるランド部分１１４を含むことができる。第１の壁１００と第２の壁１１０との間に画定された空間の主軸に平行線を描くことができる。いくつかの実施形態では、そのような平行線は、ランド１０６および１１４での第１の壁と第２の壁との間のシールと交差しない。壁１００および壁１１０は、それらの間に空間／容積１０２ａを画定することができる。
添付の図は、ある場合には壁の間の空間／ベントが開いていることを示しているが、これらのベントのすべてをシールすることができることを理解すべきである。
図５は、開示された技術の実施形態のさらなる描写を提供し、この場合、図５の構成要素のバージョンは完全に組み立てられていない。より具体的には、描写された構成要素は、第１の壁１００を含む。第１の壁は、任意選択で主要部分から垂直に突出することができる突出部分１０８を含むことができるが、これは必須ではない。第１の壁はまた、ランド部分１０６を含むことができ、そのランド部分は、シーラント１５４によって第２の壁１１０にシールすることができる。第２の壁１１０はまた、任意選択で第２の壁１１０から垂直に突出することができる突出部分１１２を含むことができる。第２の壁１１０はまた、シーラント１５２によって第１の壁１００にシールすることができるランド部分１１４を含むことができる。第１の壁１００と第２の壁１１０との間に画定された空間の主軸に平行線を描くことができる。いくつかの実施形態では、そのような平行線は、ランド１０６および１１４での第１の壁と第２の壁との間のシールと交差しない。壁１００および壁１１０は、それらの間に空間／容積１０２ａを画定することができる。
図６は、開示された技術の実施形態のさらなる描写を提供する。示されるように、描写された構成要素は、第１の壁１００を含む。第１の壁は、第１の壁１００からある角度θ１で突出することができる突出部分１０８を含むことができる。角度θ１は、約９０度〜約１度までであることができ、すなわち、壁１００を折り返して角度付けられた突出部分１０８を有する。示されているように、ランド１０６は、突出部分１０８から延在することができる。ランド１０６は、突出部分１０８から角度θ２であることができ、その角度は、すべての中間値および値の範囲を含めて、約１度〜約１８０度までであることができる。示されるように、ランド１０６および壁１１０は、それらの間に開口部またはベントを画定することができる。壁１００は、特徴部１６０を含むことができ、その特徴部は、例えば、リッジ、バンプ、リングなどであり得る。
特定の理論に拘束されることなく、そのような特徴部は、壁１００と壁１１０との間に画定された空間内の分子の動きを妨げるように作用することができる。壁１１０は、特徴部１６２を含むことができ、その特徴部は、例えば、リッジ、バンプ、リングなどであり得る。特定の理論に拘束されることなく、そのような特徴部は、壁１００と壁１１０との間に画定された空間内の分子の動きを妨げるように作用することができる。壁１１０は、第２の壁１１０からある角度θ３で突出することができる突出部分１１２を含むことができる。角度θ３は、約９０度〜約１度までであることができ、すなわち、第２の壁１１０を折り返して角度付けられた突出部分１１２を有する。第２の壁１１０はまた、ランド１０６を含むことができる。ランド１０６は、突出部分１１２から角度θ４で突出することができ、その角度は、すべての中間値および値の範囲を含めて、約１度〜約１８０度までであることができる。示されるように、壁１００およびランド１１４は、それらの間に開口部（またはベント）を画定することができる。壁１００および壁１１０は、それらの間に空間／容積１０２ａを画定することができる。
図７は、開示された技術の実施形態のさらなる描写を提供する。示されるように、描写された構成要素は、第１の壁１００を含む。第１の壁は、突出部分１０８を含むことができる。壁１００は、特徴部１６０を含むことができ、その特徴部は、例えば、リッジ、バンプ、リングなどであり得る。
特定の理論に拘束されることなく、そのような特徴部は、壁１００と壁１１０との間に画定された空間内の分子の動きを妨げるように作用することができる。壁１１０は、特徴部１６２を含むことができ、その特徴部は、例えば、リッジ、バンプ、リングなどであり得る。
特定の理論に拘束されることなく、そのような特徴部は、壁１００と壁１１０との間に画定された空間内の分子の動きを妨げるように作用することができる。壁１１０は、第２の壁１１０からある角度θ３で突出することができる突出部分１１２を含むことができる。角度θ３は、約９０度〜約１度までであることができ、すなわち、第２の壁１１０を折り返して角度付けられた突出部分１１２を有する。第２の壁１１０はまた、ランド１０６を含むことができる。ランド１０６は、突出部分１１２から角度θ４で突出することができ、その角度は、すべての中間値および値の範囲を含めて、約１度〜約１８０度までであることができる。壁１００および壁１１０は、それらの間に空間／容積１０２ａを画定することができる。
図８は、開示された技術の実施形態のさらなる描写を提供する。示されるように、描写された構成要素は、第１の壁１００を含む。第１の壁は、突出部分１０８を含むことができる。壁１１０は、突出部分１１２を含むことができる。示されるように、経路１７０は、第１の壁１００および第２の壁１１０に衝突する分子がたどるジグザグ経路を示し、中心線１７２は、構成要素の中心線にほぼ沿って移動する分子の経路を示すために使用されている。壁１００および壁１１０は、それらの間に空間／容積１０２ａを画定することができる。
図９は、開示された技術の実施形態のさらなる描写を提供する。示されるように、描写された構成要素は、第１の壁１００を含む。第１の壁は、突出部分１０８を含むことができる。壁１１０は、突出部分１１２を含むことができる。示されるように、経路１７０は、第１の壁１００および第２の壁１１０に衝突する分子がたどるジグザグ経路を示し、中心線１７２は、構成要素の中心線にほぼ沿って移動する分子の経路を示すために使用されている。
示されるように、経路１７０および経路１７２は、経路のそれぞれの分子が位置１７８で衝突するときに交差し、示されるように、衝突する分子の経路は、衝突によって変えられ、経路１７２は、軌道１７４に沿ってわずかに上方に偏向されており、経路１７０は、経路１７６に偏向されている。壁１００および壁１１０は、それらの間に空間／容積１０２ａを画定することができる。
図１０は、開示された技術の実施形態のさらなる描写を提供する。示されるように、描写された構成要素は、第１の壁１００を含む。第１の壁は、突出部分１０８を含むことができる。壁１１０は、突出部分１１２を含むことができる。示されるように、経路１８０および１８２は、壁１００と壁１１０との間に画定された容積内の分子がたどる線形の平行な経路を示す。
示されているように、平行な分子経路は互いに交差せず、容積からの出口がないため、分子はそれらの経路上に残る。壁１００および壁１１０は、それらの間に空間／容積１０２ａを画定することができる。
図１１は、開示された技術の実施形態のさらなる描写を提供する。示されるように、描写された構成要素は、第１の壁１００を含む。第１の壁は、突出部分１０８を含むことができる。壁１１０は、突出部分１１２を含むことができる。示されるように、経路１８０および１８２は、ここでベント１１８を指し、このベントは、ランド１０６と第１の壁１００との間に画定されている。壁１００および壁１１０は、それらの間に空間／容積１０２ａを画定することができる。
図１２は、開示された技術の実施形態のさらなる描写を提供する。示されるように、描写された構成要素は、第１の壁１００を含む。第１の壁は、突出部分１０８を含むことができる。壁１１０は、突出部分１１２を含むことができる。示されるように、経路１８０および１８２は、ここでベント１１８を指し、このベントは、ランド１０６と第１の壁１００との間に画定されている。
第２のベント１１６は、第１の壁１００のランド（図示せず）と第２の壁１１０との間に画定されており、第１のベントは、第２の壁１１０のランド１０６と第１の壁１００との間に画定されている。壁１００および壁１１０は、それらの間に空間／容積１０２ａを画定することができる。
図１３は、開示された技術の実施形態のさらなる描写を提供する。より具体的には、描写された構成要素は、第１の壁１００を含む。第１の壁は、第１の壁の主要部分からある角度θａで突出することができる突出部分１０８を含むことができる。角度θａは、約１度〜約１８０度までであることができ、その中のすべての値および範囲であることができる。
壁１１０は、第２の壁１１０からある角度θｂで突出することができる突出部分１１２を含むことができる。角度θｂは約１度〜約１８０度であることができる。特定の理論に拘束されることなく、角度θａおよび角度θｂは、突出部分１０８および１１２が、壁１００と壁１１０との間に画定された空間内を移動する分子を、突出部分の反対側に位置するベントに向かって偏向させるように作用するように選択することができる。壁１００および壁１１０は、それらの間に空間／容積１０２ａを画定することができる。
図１４は、開示された技術の実施形態のさらなる描写を提供する。より具体的には、描写された構成要素は、第１の壁１００を含む。第１の壁は、第１の壁の主要部分からある角度θａ（図示せず）で突出することができる突出部分１０８を含むことができる。角度θａは、約１度〜約１８０度までであることができ、その中のすべての値および範囲であることができる。
壁１１０は、第２の壁１１０からある角度θｂで突出することができる突出部分１１２を含むことができる。角度θｂは約１度〜約１８０度であることができる。特定の理論に拘束されることなく、角度θａおよび角度θｂは、突出部分１０８および１１２が、壁１００と壁１１０との間に画定された空間内を移動する分子を、突出部分の反対側に位置するベントに向かって偏向させるように作用するように選択することができる。
示されるように、経路１８０ａをたどる分子は、突出部分１０８または１１２によって少なくとも部分的に画定されるベントに向けることができる。同様に、経路１８０ｂをたどる分子は、突出部分１０８または１１２によって少なくとも部分的に画定されるベントに向けることができる。領域１８２は、従来の技法を使用してシールされた容積を排気するときに最も効率的に排気されない「デッドスペース」の領域を説明するために示されている。壁１００および壁１１０は、それらの間に空間／容積１０２ａを画定することができる。
図１５Ａ、図１５Ｂ、および図１５Ｃは、様々な壁の実施形態の描写を提供する。図１５Ａに示されるように、壁２００は、壁の端部で外向きにフレアすることができる第１の発散性部分２００ａを含むことができる。壁はまた、端部部分２００ｂを含むことができ、その部分は、発散性部分２００ａから内側にテーパすることができる。壁はまた、端部部分２００ｂからカールして戻ることができるカール部分２００ｃを含むことができる。
図１５Ｂは、壁の実施形態の描写を提供する。示されるように、壁２００は、端部部分２００ｂおよびカール部分２００ｄを含み、そのカール部分は、壁２００に対して（例えば、ピンチングによって）カールして戻る。
図１５Ｃは、壁の実施形態のさらなる描写を提供する。示されるように、壁２００は、端部部分２００ｂおよびカール部分２００ｄを含む。第２の壁２１０は、壁２１０から角度θｘを付けて外向きにフレアするフレア部分２１０ａを含む。（角度θｘは、１度から１８０度であり得るが、好ましくは約９０度である。
示されるように、壁２１０は、壁２００とカール部分２００ｄとの間の空間に挿入することができるシール部分２１０ｂを含むことができ、続いて、カール部分２００ｄをシール部分２１０ａに対して挟むか、さもなければ行使して、壁２００と壁２１０との間に画定されるシール空間を作ることができる。特定の実施形態に拘束されることなく、壁２００および２１０は、互いに摩擦嵌合することができる。そのような一実施形態では、壁２１０は、カール部分２００ｄに対してスプリングバックを及ぼすことができる。
図１６は、本開示による、シールされた環状空間を含む構成要素の断面図を提供する。
図１７は、図１６からの領域「Ｂ」の拡大断面を提供する。示されるように、第１の壁１００は、第２の壁１１０のカール部分１１０ａにシールすることができ、カール部分１１０ａは、端部部分１１２から適切に延在する。高さ１１２ａは、カール部分１１０ａと壁１１０との間に定義することができる。高さ１１２ａは、適切には、壁１００と１１０との間に画定された空間１０２ａの長さの約１：１０００〜約１：２である。
いくつかの実施形態では、カール部分１１０ａは、壁１００に対してスプリングバックを及ぼすことができる。他の実施形態では、壁１００は、例えば、壁１００の内径がカール部分１１０ａの外径よりも小さいときに、カール部分１１０ａに対して圧縮を及ぼすことができる。
図１８は、図１６からの領域「Ｃ」の拡大断面を提供する。示されるように、第１の壁１００は、「ランド」と呼ばれることもできる突出１０８およびカール部分１１０ａを含むことができる。壁１１０は、カール部分１０８ａに適切にシールされている。高さ１０８ａは、カール部分１０８ａと壁１１０との間に定義することができる。高さ１０８ａは、適切には、壁１００と１１０との間に画定された空間１０２ａの長さの約１：１０００〜約１：２である。
いくつかの実施形態では、カール部分１１０ａは、壁１１０に対してスプリングバックを及ぼすことができる。他の実施形態では、壁１１０は、例えば、壁１００の内径がカール部分１１０ａの外径よりも小さいときに、カール部分１１０ａに対して圧縮を及ぼすことができる。
図１９は、本開示による、シールされた環状空間を含む構成要素の断面図を提供する。
図２０は、図１９からの領域「Ｅ」の拡大断面を提供する。示されるように、第１の壁１００は、第２の壁１１０のカール部分１１０ａにシールすることができ、カール部分１１０ａは、端部部分１１２から適切に延在する。
高さ１１２ａは、カール部分１１０ａと壁１１０との間に定義することができる。高さ１１２ａは、適切には、壁１００と１１０との間に画定された空間１０２ａの長さの約１：１０００〜約１：２である。
いくつかの実施形態では、壁１００は、カール部分１１０ａに対してスプリングバックすることができる。他の実施形態では、カール部分１１０ａは、例えば、カール部分１１０ａの内径が壁１００の外径よりも小さいときに、壁１００に対して圧縮を及ぼすことができる。
図２１は、図１６からの領域「Ｆ」の拡大断面を提供する。示されるように、第１の壁１００は、「ランド」と呼ばれることもできる突出１０８およびカール部分１１０ａを含むことができる。壁１１０は、カール部分１０８ａに適切にシールされている。高さ１０８ａは、カール部分１０８ａと壁１１０との間に定義することができる。高さ１０８ａは、適切には、壁１００と１１０との間に画定された空間１０２ａの長さの約１：１０００〜約１：２である。
いくつかの実施形態では、壁１１０は、カール部分１００ａに対してスプリングバックすることができる。他の実施形態では、カール部分１００ａは、例えば、カール部分１００ａの内径が壁１１０の外径よりも小さいときに、壁１１０に対して圧縮を及ぼすことができる。
図２２は、本開示による構成要素の断面図を提供する。示されるように、壁１００および１１０は、それらの間の空間１０２ａを画定する。第１のキャップ１９０は、ランド１９０ａおよび１９０ｂを含むことができる。ランド１９０ａおよび１９０ｂは、それぞれ、壁１００および壁１１０にシールすることができる。
図２２に示されるように、第１のキャップ１９０は、壁１００と１１０との間の距離未満であるかまたはほぼ等しい高さを画定する。図２２に示されるように、ランド１９０ａおよび１９０ｂは、互いに対して反対方向に延在することができる。構成要素は、第２のキャップ１９２を含むことができ、その第２のキャップは、ランド１９２ａおよび１９２ｂを含むことができる。ランド１９２ａおよび１９２ｂは、それぞれ、壁１００および１１０にシールすることができる。
シーリングは、例えば、ろう付け、接着剤、溶接、音波溶接などを含む、当技術分野で知られている様々な技法によって達成することができる。シーリングは、例えば、ろう付け材料の周方向のリボンを処理することによって達成することができる。シーリングはまた、例えば、多孔質セラミックなどの多孔質支持材料内に配設されたある量のシーリング材料（例えば、ろう付け材料）を処理することによって達成することができる。シーリング材料は、少なくとも部分的に軟化または液化するまで加熱することができる。その軟化／液化形態において、シーリング材料は、例えば、ウィッキングおよび／もしくは毛管作用によって、多孔質支持材料内に引き込むことができる。シーリング材料はまた、支持材料内へのシーリング材料の移動に影響を与える圧力勾配の適用によって、支持材料内に引き込まれ、および／もしくは強制され得る。これの例は、非限定的な図２６〜図２８に見られる。
示されているように、ランド１９２ａおよび１９２ｂは、互いに対して反対方向に延在することができる。空間１０２ａは、大気圧以下であり得る。また、図２２に示されるように、ランド１９０ａ、１９０ｂ、１９２ａ、および１９２ｂは、壁１００および１１０の一方または両方によって重なり合うことができる。図２２に示されるように、ランド１９０ａは壁１００とベントを画定し、ランド１９０ｂは壁１１０とベントを画定し、ランド１９２ａは壁１００とベントを画定し、ランド１９２ｂは壁１１０とベントを画定する。
ベントは同時にシールすることができるが、順番にシールすることもできる。一例として、ユーザは、最初に、ランド１９０ａおよび壁１００ならびにランド１９２ｂおよび壁１１０によって画定されるベントをシールすることができる。このようにして、ランド１９０ｂと壁１００およびランド１９２ａと壁１００によって画定されるベントは開いたままであり、互いに対角線上（空間１０２ａ内）に位置付けされる。キャップ１９０および１９２のいずれかまたは両方が、壁１００および１１０の一方または両方に対して摩擦嵌合することができることを理解されたい。
特定の理論に拘束されることなく、図２２（および他の開示された実施形態）の構成は、壁（例えば、１００および１１０）の間の空間１０２ａに存在する分子がその空間から通過することができる複数の道を可能にする。示されるように、ベント１１６ａは、壁１００とキャップ１９０のランド１９０ａとで形成され、ベント１１６ｃは、壁１１０とキャップ１９０のランド１９０ｂとで形成され、ベント１１６ｂは、壁１００とキャップ１９２のランド１９２ａとで形成され、ベント１１６ｄは、ランド１９２ｂと壁１１０とによって形成されている。このようにして、空間１０２ａに存在する分子は、出口のための複数の道を有する。
図２３は、本開示による構成要素の断面図を提供する。示されるように、壁１００および１１０は、それらの間の空間１０２ａを画定する。第１のキャップ１９０は、ランド１９０ａおよび１９０ｂを含むことができる。ランド１９０ａおよび１９０ｂは、それぞれ、壁１００および壁１１０にシールすることができる。図２に示されるように、第１のキャップ１９０は、壁１００と１１０との間の距離未満であるかまたはほぼ等しい高さを画定する。
図２３に示されるように、ランド１９０ａおよび１９０ｂは、互いに対して、同じ方向に、またはほぼ同じ方向に延在することができる。構成要素は、第２のキャップ１９２を含むことができ、その第２のキャップは、ランド１９２ａおよび１９２ｂを含むことができる。ランド１９２ａおよび１９２ｂは、それぞれ、壁１００および１１０にシールすることができる。
図２３に示されるように、キャップ１９２は、壁１００と１１０との間の距離未満であるか、またはほぼ等しい高さを画定することができる。シーリングは、例えば、ろう付け、接着剤、溶接、音波溶接などを含む、当技術分野で知られている様々な技法によって達成することができる。キャップ１９０は、ランド１９０ａおよび１９０ｂが壁１００および１１０の外側と重なるように構築することができる。
示されているように、ランド１９２ａおよび１９２ｂは、互いに対して、同じ方向に、またはほぼ同じ方向に延在することができる。空間１０２ａは、大気圧以下であり得る。図２３に示されるように、キャップ１９０および１９２の一方または両方は、空間１０２ａに対して凸状であり得る。
また、図２３に示されるように、ランド１９０ａ、１９０ｂ、１９２ａ、および１９２ｂは、壁１００および１１０の一方または両方によって重なり合うことができる。図２３に示されるように、ランド１９０ａは壁１００とベントを画定し、ランド１９０ｂは壁１１０とベントを画定し、ランド１９２ａは壁１００とベントを画定し、ランド１９２ｂは壁１１０とベントを画定する。ベントは同時にシールすることができるが、順番にシールすることもできる。一例として、ユーザは、最初に、ランド１９０ａおよび壁１００ならびにランド１９２ｂおよび壁１１０によって画定されるベントをシールすることができる。このようにして、ランド１９０ｂと壁１００およびランド１９２ａと壁１００によって画定されるベントは開いたままであり、互いに対角線上（空間１０２ａ内）に位置付けされる。キャップ１９０および１９２のいずれかまたは両方が、壁１００および１１０の一方または両方に対して摩擦嵌合することができることを理解されたい。
特定の理論に拘束されることなく、図２３（および他の開示された実施形態）の構成は、壁（例えば、１００および１１０）の間の空間１０２ａに存在する分子がその空間から通過することができる複数の道を可能にする。示されるように、ベント１１６ａは、壁１００とキャップ１９０のランド１９０ａとで形成され、ベント１１６ｃは、壁１１０とキャップ１９０のランド１９０ｂとで形成され、ベント１１６ｂは、壁１００とキャップ１９２のランド１９２ａとで形成され、ベント１１６ｄは、ランド１９２ｂと壁１１０とによって形成されている。このようにして、空間１０２ａに存在する分子は、出口のための複数の道を有する。
図２４は、本開示による構成要素の断面図を提供する。示されるように、壁１００および１１０は、それらの間の空間１０２ａを画定する。第１のキャップ１９０は、ランド１９０ａおよび１９０ｂを含むことができる。ランド１９０ａおよび１９０ｂは、それぞれ、壁１００および壁１１０にシールすることができる。
図２４に示されるように、第１のキャップ１９０は、壁１００と１１０との間の距離未満であるかまたはほぼ等しい高さを画定する。図２４に示されるように、ランド１９０ａおよび１９０ｂは、互いに対して、同じ方向に、またはほぼ同じ方向に延在することができる。構成要素は、第２のキャップ１９２を含むことができ、その第２のキャップは、ランド１９２ａおよび１９２ｂを含むことができる。ランド１９２ａおよび１９２ｂは、それぞれ、壁１００および１１０にシールすることができる。
図２４に示されるように、第１のキャップ１９０は、壁１００と１１０との間の距離未満であるか、またはほぼ等しい高さを画定することができる。シーリングは、例えば、ろう付け、接着剤、溶接、音波溶接などを含む、当技術分野で知られている様々な技法によって達成することができる。
示されているように、ランド１９２ａおよび１９２ｂは、互いに対して、同じ方向に、またはほぼ同じ方向に延在することができる。空間１０２ａは、大気圧以下であり得る。図２４に示されるように、キャップ１９０および１９２の一方または両方は、空間１０２ａに対して凸状であり得る。また、図２４に示すように、ランドおよび壁（例えば、ランド１９０ａおよび壁１００）は、ランドと重なっている壁（例えば、ランド１９０ｂおよび壁１１０）ではなく、ランドが壁と重なるように配置することができる。
キャップ１９０および１９２のいずれかまたは両方が、壁１００および１１０の一方または両方に対して摩擦嵌合することができることを理解されたい。
特定の理論に拘束されることなく、図２２（および他の開示された実施形態）の構成は、壁（例えば、１００および１１０）の間の空間１０２ａに存在する分子がその空間から通過することができる複数の道を可能にする。示されるように、ベント１１６ａは、壁１００とキャップ１９０のランド１９０ａとで（つまり、その間に）形成され、ベント１１６ｃは、壁１１０とキャップ１９０のランド１９０ｂとで形成され、ベント１１６ｂは、壁１００とキャップ１９２のランド１９２ａとで形成され、ベント１１６ｄは、ランド１９２ｂと壁１１０とで形成される。このようにして、空間１０２ａに存在する分子は、出口のための複数の道を有する。
図２４に示されるように、空間１０２ａを出る分子は、Ｐ出口によって示される出口経路をたどることができる。示されているように、出口経路は、壁１００の端部に向かってまたはその方向にあり、ランド１９０ａの端部から離れてゆく。この経路は図２４の状況において示されているが、図２４での図示は例示であり、本開示はそのような出口経路（すなわち、構成要素の１つの壁（またはランド）の端部に向かう方向で、かつ構成要素の別の壁（またはランド）の端部から離れてゆく）を企図していることが理解されるべきである。
図２５は、本開示による構成要素１０の例示的な描写を提供する。示されるように、構成要素１０は、第１の壁１００を含み、その第１の壁は、主要部分１０２を画定することができる。第１の壁は、任意選択で主要部分から垂直に突出することができる突出部分１０８を含むことができるが、これは必須ではない。突出部分は長さ１０４を定義することができる。第１の壁はまた、ランド部分１０６を含むことができ、そのランド部分は、主要部分１０２と同じ方向に延在することができる。示されるように、ベント１１８は、ランド部分１０６と第２の壁１１０との間に画定することができる。ランド１０６はまた、第２の壁１１０と距離１０５ｂだけ重なることができる。
示されるように、ベント１１８は、突出部分１０８から距離を置いて配設することができ、すなわち、ベント１１８は、構成要素の端部にある必要はなく、壁１１０に沿った本質的に任意の場所に位置することができる。
第２の壁１１０は、主要部分１１０ｃを含むことができる。第２の壁１１０はまた、任意選択で第２の壁１１０から垂直に突出することができる突出部分１１２を含むことができる。第２の壁１１０はまた、ランド部分１１４を含むことができ、示されるように、ランド部分１１４は、主要部分１１０ｃと同じ方向に延在することができる。第２のベント１１６は、第１の壁と第２の壁との間に画定することができる。
ランド１１４はまた、第１の壁１００と距離１０５ａだけ重なることができる。示されるように、第１の壁１００と第２の壁１１０との間に画定された空間の主軸に平行な線１５０を引くことができる。
いくつかの実施形態では、そのような平行線は、第１のベント１１６および第２のベント１１８の両方と交差しない。壁１００および壁１１０は、それらの間に空間／容積１０２ａを画定することができる。示されるように、ベント１１６は、突出部分１１２から距離を置いて配設することができ、すなわち、ベント１１８は、構成要素の端部にある必要はなく、壁１００に沿った本質的に任意の場所に位置することができる。
複数のベントを使用することもできるが、本開示による構成要素は、１つのベントのみを含むことができることを理解されたい。ベントは、当業者に知られている技法、例えば、ろう付け、溶接、接着剤などを介してシールすることができることも理解されたい。特定の理論に拘束されることなく、構成要素の端部からさらに遠く、構成要素の中間点に近くベントを位置付けることにより、分子をベントに近づけることが容易になるため、構成要素の壁の間に画定された空間をより効果的に排気することができる。特定の実施形態に拘束されることなく、壁１００および１１０は、例えば、ランド１１４および壁１００の一方または両方が他方に対して作用する場合、互いに摩擦嵌合することができる。同様に、ランド部分１０６および壁１１０の一方または両方は、他方に対して作用することができる。
図２６は、本開示による例示的な構成要素１０の断面図を提供し、例証的な壁構成を示す。図２６に示されるように、第１の壁１００は、任意選択で壁１００から垂直に突出することができる突出部分１０８を含むことができるが、これ（任意選択の垂直の突出）は必須ではない。壁１００はまた、ランド部分１０６を含むことができ、このランド部分は、任意選択で突出部分１０８から垂直に突出することができる。
第２の壁１１０は、任意選択で壁１１０から垂直に突出することができる突出部分１１２を含むことができるが、これ（任意選択の垂直の突出）は必須ではない。壁１１０はまた、ランド部分１１４を含むことができ、このランド部分は、任意選択で突出部分１１２から垂直に突出することができる。壁１００および１１０は、それらの間に空間／容積１０２ａを画定することができる。
示されるように、材料１９４を、壁１００とランド部分１１４との間に配設することができる。セラミック材料は、粒子状形態であり得る。材料１９４は、セラミック材料であり得る。材料１９４はまた、例えば、多孔質材料のリボンまたはリングとして、多孔質形態であることもできる。ある量１９４ａのろう付け材料を、材料１９４に隣接して配設することができる。ろう付け材料は、リング、リボン、または他の形態で存在することができる。ろう付け材料は、壁１００とランド部分１１４との間の空間（ラベル付けされていない）の一部またはすべての周りに周方向に配設され得る。
示されるように、材料１９４ｃを、壁１１０とランド部分１０６との間に配設することができる。セラミック材料は、粒子状形態であり得る。材料１９４ｃは、セラミック材料であり得る。材料１９４ｃはまた、例えば、多孔質材料のリボンまたはリングとして、多孔質形態であることもできる。ある量１９４ｂのろう付け材料を、材料１９４ｃに隣接して配設することができる。ろう付け材料は、リング、リボン、または他の形態で存在することができる。ろう付け材料は、壁１１０とランド部分１０６との間の空間（ラベル付けされていない）の一部またはすべての周りに周方向に配設され得る。
図２７は、図２６に示される構成要素１０の断面図を提供する。図２７に示されるように、ろう付け材料１９４ａおよび１９４ｂは、材料１９４および１９４ｃ内に配設されるように（例えば、加熱によって）処理されている。ろう付け材料１９４ａおよび材料１９４を参照して（また、特定の理論に拘束されることなく）、ろう付け材料１９４ａは、少なくとも部分的に軟化するか、または液化するように加熱することができる。その軟化／液化形態において、ろう付け材料１９４ａは、例えば、ウィッキングおよび／もしくは毛管作用によって、材料１９４内に引き込まれる。ろう付け材料１９４ａはまた、ろう付け材料１９４ａの材料１９４内への移動に影響を与える圧力勾配の適用によって、材料１９４内に引き込まれ、および／もしくは強制され得る。
再びろう付け材料１９４ａおよび材料１９４を参照すると、ろう付け材料１９４ａが材料１９４内に配設された後、ろう付け材料１９４ａ（例えば、再硬化後の）は、ろう付け材料１９４ａが材料１９４ａ内の空間／空隙を埋めるので、構成要素１２の外部の環境に対して空間１０２ａをシールするように作用する。
非限定的な例として、ろう付け材料１９４ａは、それが特定の温度ＴＬで液化するように選択することができる。構成要素１０は、空間１０２ａ内に配設された分子が励起されて空間１０２ａを出るように、ＴＬよりも低い温度にある環境で加熱することができる。空間１０２ａから少なくとも一部の分子が出ることに続いて、構成要素１０が経験する温度は、ろう付け材料１９４ａが液化し、材料１９４内に配設されるように、約ＴＬの温度に上昇させることができる。
図２８は、図２６および図２７の例示的な構成要素の接合部領域の拡大断面図を提供する。図２８に示すように、ろう付け材料１９４ａは、材料１９４内に配設されている。図２８の例示的な実施形態では、材料１９４は球体として存在し、ろう付け材料１９４ａは球体間の空間内に配設されている。また、図２８に示されるように、ろう付け材料１９４ａと材料１９４との複合物は、空間１０２ａを外部環境に対してシールするように、壁１００とランド部分１１４との間の空間をシールする。
図２８の経路１９５は、特定の理論に拘束されることなく、熱が壁１００とランド部分１１４との間でとる経路を示している。示されるように、経路１９５は曲がりくねって非線形であり、熱が壁１００とランド部分１１４との間を通過するとき、比較的断熱性の材料１９４を直接通過できず、代わりに、比較的伝導性のろう付け材料１９４内を移動しなければならない。このようにして、ろう付け材料１９４ａおよび材料１９４によって形成されたシールの相対的な断熱能力は、完全にろう付け材料１９４ａから形成されたシールよりも大きい（すなわち、より断熱性が高い）。特定の理論に拘束されることなく、開示されたアプローチは、熱が壁１００とランド部分１１４との間を移動するためにとらなければならない経路を長くするように作用する。
加えて、壁１００とランド部分１１４との間の空間の容積の一部が材料１９４によって占められているので、その空間に他の材料が配設されておらず、空間がろう付け材料のみでシールされている場合よりも、ユーザは、比較的少ないろう付け材料１９４ａを使用して、壁１００とランド部分１１４との間の空間をシールすることができる。
図２９は、本開示による例示的な構成要素の断面図を提供し、例証的な壁構成を示す。図２９に示されるように、壁１００および１１０は、その間に空間１０２ａを画定する。図の左側を参照して、シーリング材料１９５が、壁１００と１１０との間の空間に配設され得る。シーリング材料は、リング、例えばトロイドの形態で存在することができる。シーリング材料１９５の断面は円形として示されているが、これは例証にすぎず、シーリング材料として、円形、卵形、多角形であることができ、または他のいくつかの断面を有することができる。ある量１９４ａのろう付け材料を、材料１９４に隣接して配設することができる。ろう付け材料は、リング、リボン、または他の形態で存在することができる。ろう付け材料は、壁１００と壁１１０との間の空間（ラベル付けされていない）の一部またはすべての周りに周方向に配設することができる。シーリング材料１９５は、壁１００と壁１１０とを隔てる距離よりわずかに小さい断面寸法（例えば、直径）を有するようにサイズ決定することができる。
シーリング材料、はセラミックを含むことができる。シーリング材料は、所与の構成要素で使用されるろう付け材料よりも低い熱伝導率を有する材料にすることができる。
図の右側を参照して、シーリング材料１９５ａが、壁１００と１１０との間の空間に配設され得る。シーリング材料は、リング、例えばトロイドの形態で存在することができる。シーリング材料１９５ａの断面は円形として示されているが、これは例証にすぎず、シーリング材料として、円形、卵形、多角形であることができ、または他のいくつかの断面を有することができる。ある量１９４ｂのろう付け材料を、材料１９５ａに隣接して配設することができる。ろう付け材料は、リング、リボン、または他の形態で存在することができる。ろう付け材料は、壁１００と壁１１０との間の空間（ラベル付けされていない）の一部またはすべての周りに周方向に配設することができる。シーリング材料１９５ａは、壁１００と壁１１０とを隔てる距離よりわずかに小さい断面寸法（例えば、直径）を有するようにサイズ決定することができる。ろう付け材料１９４ａおよび１９４ｂは、ろう付け材料がシーリング材料１９５および１９５ａと壁１００および１１０との間の任意の空間に入る、および／もしくはその中に促進されるような温度に加熱することができる。その後、ろう付け材料は固化し、それにより、空間１０２ａを外部環境に対してシールするように、シーリング材料１９５および１９５ａでシールを形成する。（本明細書の他の場所で説明されているように、空間１０２ａは、少なくとも部分的に排気することができる。）
図３０は、図３０によるシールの拡大断面図を提供する。示されるように、ろう付け材料１９４ａは、外部環境に対して空間１０２ａをシールするように、壁１００および１１０とシーリング材料１９５との間の空間に配設されている。開示されたアプローチを使用することによって、ユーザは、シーリング材料１９５が存在しない場合よりも少ないろう付け材料を使用する壁１００と１１０との間のシールを形成することができる。さらに、シーリング材料１９５は、ろう付け材料１９４ａよりも熱伝導率が低くなり得るので、本開示に従って形成されたシールは、完全にろう付け材料で形成されたシールよりも壁１００と１１０との間のより少ない熱流をサポートする。さらに、本開示によるシールは、壁１００と１１０との間で（比較的伝導性の）ろう付け材料を通る完全な経路を提供しない。このようにして、本開示によるシールは、完全にろう付け材料で形成されたシールよりも、壁１００と１１０との間のより少ない熱流をサポートすることができる。
図３１は、本開示による例示的な構成要素の断面図を提供し、例証的な壁構成を示す。図の左側を参照して、シーリング材料１９５が、壁１００と１１０との間の空間に配設され得る。壁１００および１１０の一方または両方は、フレア部分（例えば、壁１１０のフレア部分１９６）を含むことができ、そのフレア部分は、シーリング材料１９５に隣接することができる。特定の理論に拘束されることなく、壁のフレア部分は、ろう付け材料（図示せず）がより容易に適合し、シーリング材料と壁との間の空間に流れ込むことができる空間を提供することができる。
壁はまた、カールした部分（例えば、壁１１０のカールした部分１９７）を含むことができる。カールした部分は、図３１において１９７として示されるように、シーリング材料を少なくとも部分的に囲むことができる。特定の理論に拘束されることなく、カールした部分は、シーリング材料を所定の位置に維持するのを助けることができる。また、特定の理論に拘束されることなく、カールした部分は、ろう付け材料（図示せず）がより容易に適合し、シーリング材料と壁との間の空間に流れ込むことができる空間を提供することができる。
図３２は、本開示による例示的な構成要素の断面図を提供し、例証的な壁構成を示す。示されるように、壁１１０は、カップ部分シーリング材料１９５をはめ込むことができるカップ部分１９８を含むことができる。壁１００はまた、カップ部分シーリング材料１９５ａをはめ込むことができるカップ部分１９８ａを含むことができる。特定の理論に拘束されることなく、カップ部分は、シーリング材料を位置付けること、および／もしくはシーリング材料を所定の位置に維持するのを助けることができる。ろう付け材料（図示せず）を使用して、シーリング材料とカップ部分との間の空間を含めて、シーリング材料と隣接する壁との間の空間をシールすることができる。
図３３は、本開示による例示的な構成要素の接合部領域の断面図を提供する。より具体的には、図３３は、図２８による構成要素の端面図を提供する。示されるように、壁１００と１１０との間の空間（ラベル付けされていない）は、材料１９４とろう付け材料１９４との組み合わせによってシールされている。シールは、図３３では、環状の形態である。
図３４は、本開示による構成要素内のろう付け材料のリングの端部の拡大図を提供する。示されるように、ろう付け材料１９４ａは、互いに近くに配設され、ろう付け材料のリングが完全な円を通って延在するように重なり合っている端部１９４ｘおよび１９４ｙを有する、リング形態で存在することができる。示されていないが、端部１９４ｘおよび１９４ｙは、互いに向き合うことができる。ろう付け材料は、ろう付け材料が液化された後に周方向のシールを形成することもできるので、ろう付け材料が完全な円である必要はない。
図３５は、図４４と同様の、本開示による構成要素の断面図を提供する。示されるように、構成要素は、壁１００を含むことができ、その壁は、傾斜部分（壁１００に接続されたラベル付けされていない傾斜部分４４０２、およびランド４４０２）を含むことができ、構成要素はまた、壁１００、傾斜部分４４０６、およびランド４４０４を含むことができる。シールされた接合部は、例えば、シーリング材料（ろう付け材料などの）４４５０によって形成することができ、それは接合して、次に、壁１００、１１０、４４００、および４４１０の間に形成されたシールされた空間／容積１０２ａをもたらす。（空間／容積１０２ａは、排気され得る。）
図３６は、本開示による例示的な構成要素の断面図を提供する。示されるように、キャップ１９０は、壁１００と壁１１０との間の空間１０２ａをシールすることができる。キャップ１９０は、第１のランド１９０ａと第２のランド１９０ｂとを含むことができとる。示されるように、第１のランド１９０ａは、壁１００の外側に配設することができ、第２のランド１９０ｂは、壁１００と壁１１０との間に配設することができる。ランド１９０ａは、例えば、ろう付け、溶接など、事実上任意の方法で壁１００にシールすることができる。ランド１９０ｂは、この開示で提供される方法のいずれかを含む、ろう付けを介して壁１１０にシールすることができる。図示されていないが、壁１００、壁１１０、およびキャップ１９０のうちの１つ以上は、壁１００および１１０の一方または両方に対してキャップ１９０を所定の位置に位置付けまたは維持することを容易にするように構成された１つ以上のロケータ特徴部（例えば、リッジ、溝、くぼみ、バンプ）を含むことができる。
図３７は、本開示による構成要素の断面図を提供する。示されるように、壁１００および１１０は、それらの間の空間１０２ａを画定する。第１のキャップ１９０は、ランド１９０ａおよび１９０ｂを含むことができる。ランド１９０ａおよび１９０ｂは、それぞれ、壁１００および壁１１０にシールすることができる。図２に示されるように、第１のキャップ１９０は、壁１００と１１０との間の距離未満であるかまたはほぼ等しい高さを画定する。
図３７に示されるように、ランド１９０ａおよび１９０ｂは、互いに対して、同じ方向に、またはほぼ同じ方向に延在することができる。示されるように、ランド１９０ａは長さＤ１を定義する。
また、図３７に示されるように、ランド１９０ａおよび１９０ｂは、壁１００および１１０の端部と重なることができる。図３７に示されるように、ランド１９０ａは壁１００とベントを画定し、ランド１９０ｂは壁１１０とベントを画定する。ベントは同時にシールすることができるが、順番にシールすることもできる。示されていないが、キャップ１９０と同じ形状を有する第２のキャップ（図示せず）を、壁１００および１１０の他の端部にシールすることができる。第２のキャップはまた、キャップ１９０とは異なる形状を有することもできる。
一例として、ユーザは、ランド１９０ａおよび壁１００ならびにランド１９２ｂおよび壁１１０によって画定されるベントを順番にシールすることができる。ユーザはまた、壁１００および１１０の他の端部にある他のベント（図示せず）を順番にシールすることもできる。ベントは、同時に、順次に、またはそれらの組み合わせでシールすることができる。
キャップ１９０は、壁１００および１１０の一方または両方に対して摩擦嵌合（例えば、締まりばめ）することができる。キャップ１９０は、例えば、ろう付け、接着剤、溶接、音波溶接などを含む、当技術分野で知られている様々な技法によって壁１００および１００にシールすることができる。
図３７に示すように、ろう付け材料１９０ｅを使用して、キャップ１９０を壁１００および１１０にシールすることができる。（本明細書の他の場所で論じられるように、ろう付けは、このシーリングを達成するための１つの方法に過ぎず、溶接、接着剤、音波溶接なども使用できる。）ろう付け材料は、キャップ１９０の端部から距離Ｄｂに位置付けることができる。示されているように、ＤｂはＤ１より小さくすることができる。いくつかの実施形態では、ランド１９０ａおよび１９０ｂの一方または両方の一部は、ろう付け材料１９０ｅを超えて（キャップ１９０から離れて）延在する。他の実施形態では、ろう付け材料１９０ｅは、ランド１９０ａおよび１９０ｂの一方または両方の端部と本質的に同一平面上にある。示されるように、ろう付け材料１９０ｅは、ベント、例えば、第１のベントをシールするために使用することができる。
特定の理論に拘束されることなく、構成要素１０の端部（およびキャップ１９０）から距離Ｄｂにろう付け材料１９０ｅを位置付けるすることにより、壁１１０内に画定された容積（ラベルなし）への（またはそれからの）熱伝達が減少する。この場合も、特定の理論に拘束されることなく、熱を壁１１０内に画定された容積から伝達するためには、熱は、ランド１９０ｂに沿って、キャップ１９０の端部１９０ｆに沿って、およびランド１９０ａの少なくとも一部に沿って、シーリング（例えば、ろう付け材料）１９０ｅを通過する必要がある。そのような比較的長い熱経路は、壁１１０内で画定された容積と壁１００の外部の環境との間で伝達される熱の速度および／もしくは量を低減することができる。さらに（特定の理論に拘束されることなく）、距離Ｄｂを長くすることにより、図示の構成は、接合部および関連する接続材料（１９０ｅ）をアセンブリの端部（１９０）から遠ざけるので、ユーザは、伝達される熱の速度および／もしくは量を低減することができる。
図３７のキャップ１９０の形状は例証に過ぎず、キャップの形状を制限するものではないことを理解されたい。一例として、キャップの一部分を、テーパ状に形成するか、そうでなければ、一部または特定の面積に適合するように構成することができる。キャップは対称にすることができるが、これは必須ではない。
特定の理論に拘束されることなく、端部１９０ｆの厚さは、１９０ｂ、１９０ｅ、および１１０によって形成される接合部よりも薄くすることができる。このようにして、端部は熱抵抗器として作用して、デバイスの端部での熱伝達を制限することができる。これは、デバイスの端部を通る伝導を１９０の壁の熱特性に制限する。（キャップは、本質的に任意の材料、例えば、ステンレス鋼セラミックなどから作ることができる。）
さらに、熱エネルギーが１００、１９０ｂ、および１９０ｆによって形成された熱ダムを通って移動すると、第２の熱ダムは、１９０ａ、１９０ｅ、および１１０によって形成された接合部の形で遭遇する。熱エネルギーは、第２の熱ダムに遭遇する前に壁１９０ｆの熱抵抗器に遭遇したため、熱エネルギーを壁１００に伝達する前に第２の熱ダムを満たすための熱エネルギーは少ない。
図３７に示されるように、空間１０２ａを出る分子は、Ｐ出口によって示される出口経路をたどることができる。（Ｐ出口は説明の目的で提供されており、分子は必ずしもろう付け材料１９０ｅを通過するとは限らないことを理解されたい。
示されているように、出口経路は、壁１００の端部に向かってまたはその方向にあり、ランド１９０ａの端部から離れてゆく。この経路は図３７の状況において示されているが、図３７での図示は例示であり、本開示はそのような出口経路（すなわち、構成要素の１つの壁（またはランド）の端部に向かう方向で、かつ構成要素の別の壁（またはランド）の端部から離れてゆく）を企図していることが理解されるべきである。空間１０２ａを離れる分子の出口経路は、ダブルバック、または少なくとも部分的にその方向に反転するものとしてこれを説明することができる。図３７（および本明細書の他の場所）において示されるように、第１の方向に延在する第１の壁と、第１の方向と反対の（または実質的に反対の）方向に延在する第２の壁との間に接合部を形成することができる。
図３８は、開示された技術の代替の実施形態を提供する。図１は、本開示による構成要素１０の例示的な描写を提供する。示されるように、構成要素１０は、第１の壁１００を含む。
ベントは、第１の壁１００と第２の壁１１０のランド部分１１４との間に画定することができる。第２の壁１１０はまた、任意選択で第２の壁１１０から垂直に突出することができる突出部分１１２を含むことができる。第２の壁１１０はまた、ランド部分１１４を含むことができる。ランド部分１１４は、壁１００に（例えば、ろう付けを介して）シールすることができ、図をわかりやすくするために、シールは示されていない。壁１００および壁１１０は、それらの間に空間／容積１０２ａを画定することができる。（「第１の壁」および「第２の壁」という用語は、単に便宜上のものであり、限定するものではないことを理解されたい。一例として、「第１の壁」は、二重壁管構成要素の内壁またはその二重壁管構成要素の外壁であることができる。）
壁１００および１１０の一方または両方は、構成において円筒形であり得ることを理解されたい。このようにして、壁は、壁１１０内に容積（１０２ｃ）を画定することができ、その容積１０２ｃは、形状が円筒形であり得、中心線を有することができる（図１に示される）。
図３８に示されるように、構成要素は、１４０ａおよび１４０ｂとして示される１つ以上のフィンを含むことができる。フィンは、ヒートシンクおよび／もしくは放熱装置として作用することができる。特定の理論に拘束されることなく、フィンは、容積１０２ｃと構成要素の外部の環境との間で伝達する可能性のある熱を保持するように作用することができる。図３８に示されるように、１つ以上のフィンは、構成要素の端部、例えば、壁１００の端部に配設することができる。フィンは、図３８に示すように、ランド１１４の上にないように配設することができる。フィン構成は、内管セクションから外管セクションへ、または外管セクションから内管セクションへの熱伝達を軽減することができるという利点を有する。この様態において、フィン構成は、対流冷却を使用してエネルギーを周囲環境に放出するか、または周囲環境から装置に熱エネルギーを受け取ることによって、熱エネルギーの制御を可能にする。フィン／ヒートシンクはまた、熱ダムとしても使用され得る。この構成では、熱ダムを満たすために熱エネルギーが必要であるため、アプリケーションに応じて、内壁または外壁を加熱（または冷却）するために利用できる熱エネルギーの量が減少する。
図３９は、フィン１４０ａおよび１４０ｂが、壁１００の端部から距離を置いて壁１００上に位置付けされていることを除いて、図３８と同様の構成要素を提供する。図３９に示される実施形態では、フィンは、ランド１１４の上にある。この構成では、フィンは、それらが係合している壁の全体的な温度を制御することができる。真空空間の内側セクションと外側セクションとを接続するエンド接合部から離れて配置されたヒートシンクは、フィン構成でのまたはその近くの温度の影響を軽減しながら、デバイスの外向きセクションを長さに沿って加熱または冷却することを可能にするという利点を有する。この構成は、アプリケーションにおいてエネルギーの保存が必要とされ、皮膚温度の低下も望ましい場合に、望ましい場合がある。この構成はまた、外管から形成された第１のフィン（接合部からフィンに行くセクションの番号が必要）が、冷却デバイスとして作用することを可能にする。この構成は、アセンブリの端部が管を取り付けまたは保持するために係合され、この場所での熱プロファイルが重要である場合に、特に有用である。
図３９は、突出部分１１２が、水平から測定して、９０度を超える角度θで壁１１０から延在することを除いて、図３８と同様の構成要素を提供する。角度θは、９０．０１〜約１７９度であり得、例えば、約９１〜約１７９度、約９５〜約１７５度、約１００〜約１７０度、約１０５〜約１６５度、約１１０〜約１６０度、約１１５〜約１５５度、約１２０〜約１５０度、約１２５〜約１４５度であってもよく、または約１３０〜約１３５度でさえあってもよい。図４０に示されるように、１つ以上のフィンは、構成要素の端部、例えば、壁１００の端部に配設することができる。フィンは、図４０に示すように、ランド１１４の上にないように配設することができる。
図４１は、フィン１４０ａおよび１４０ｂが、壁１００の端部から距離を置いて壁１００上に位置付けされていることを除いて、図３８と同様の構成要素を提供する。図４１に示される実施形態では、フィンは、ランド１１４の上にある。この構成は、ヒートシンクをろう付け接合部に近接することを可能にする。これは、ヒートシンクが、通常アセンブリの残りの部分よりも厚いアセンブリの部分と相互作用することを可能にする。この様態において、ヒートシンクは、材料の接合部によって作成された熱ダムを排出させるのに役立つ。
図４２は、フィン１４０ａおよび１４０ｂが、壁１００の端部から距離を置いて壁１００上に位置付けされ、ランド１１４の上にないことを除いて、図４１と同様の構成要素を提供する。この構成では、フィンは、それらが係合している壁の全体的な温度を制御するのに役立つ。真空空間の内側セクションと外側セクションとを接続するエンド接合部から離れて配置されたヒートシンクは、フィン構成でのまたはその近くの温度の影響を軽減しながら、デバイスの外向きセクションを長さに沿って加熱または冷却することを可能にするという利点を有する。この構成は、アプリケーションにおいてエネルギー保存が必要とされる場合に望ましい場合があり、しかしながら、皮膚温度の低下もまた望ましい。多数のフィンのセットを、フィンのセット間の熱エネルギーを制御するために装置の壁に構成することができる。この構成は、取り付けデバイスを分離する必要があるアプリケーション、敏感な機器が近くに位置し得るアプリケーション、消費者向けアプリケーション、または他のアプリケーションにおいて熱エネルギーを制御および／もしくはルーティングするためのアプリケーションにおいて特に有用であり得る。
図４３は、フィン１４０ａおよび１４０ｂが、壁１１０上に位置付けされ、ランド１１４の上にないことを除いて、図４２と同様の構成要素を提供する。この実装のこの利点は、図４２と同様であり、ただ熱エネルギーはデバイスの内部管腔で制御される。これは、敏感な電子機器を保護したり、機器を隔離したり、などのために必要になる場合がある。
これらの前述のフィン構成はすべて、個別に使用することも、単一のデバイスに組み合わせて使用することもできる。フィンの数と構成は、アプリケーションおよびユーザの熱要件に基づいて選択することができる。
図４４は、本開示による接合部を含む構成要素の断面図を提供する。示されるように、構成要素は、壁１００、壁１００に接続された傾斜部分４４０２、およびランド４４０２を含むことができ、構成要素はまた、壁１００、傾斜部分４４０６、およびランド４４０４を含むことができる。シールされた接合部は、例えば、シーリング材料（ろう付け材料などの）４４５０によって形成することができ、それは接合して、次に、壁１００、１１０、４４００、および４４１０の間に形成されたシールされた空間／容積１０２ａをもたらす。（空間／容積１０２ａは排気され得る。）示されるように、壁１１０および４４１０は空間１０２ｃを囲むことができる。
構成要素は、スプリングバック方向Ａ１およびＡ２によって示されるように、ランド４４０２および４４０２の一方または両方が壁４４００および／もしくは壁４４１０に対してスプリングバックするように構成することができる。スプリングバックは規則や要件ではないが、壁の相対的な位置を維持する、および／もしくは壁を相互に固定するのを助けるために使用することができる。特定の理論または構成に拘束されることなく、ランド４４０２および４４０４は、壁４４００と４４１０との間の空間に挿入されていないとき、（例えば、トランペットの様態で）外側に広がることができる。このようにして、構成要素の２つのセグメントは、空間／容積１０２ａのシール（および減圧）を維持もしながら、互いに接合することができる。
図４５および図４６は、図３７に示される構成要素の代替の実施形態を提供する。図４５に示されるように、距離Ｄ１は、距離Ｄｂよりも大きくなり得る。図４６に示されるように、距離Ｄｂは、距離Ｄ１よりも大きくなり得る。
図４７は、本開示によるキャップ１９０の端面図を提供する。（例示的なそのようなキャップは図４５に示されている。）示されているように、キャップ１９０は、ランド１９０ａ（ｗキャップの外壁とも見なすことができる）、端部１９０ｆ、およびランド１９０ｂ（キャップの内壁と見なすこともできる）を含む。端部１９０ｆは、ランド１９０ａおよびランド１９０ｂを接続する役割を果たすことができる。図４７はまた、キャップの円周の周りに異なる角度（θＡおよび θＢ）で配設された２つの場所（すなわち、場所Ａおよび場所Ｂ）を画定する。図４８に示されるように、キャップの内壁および外壁は、キャップの円周の周りの異なる位置で異なる高さであり得る。
図４８は、図４７に示されるキャップの断面図を提供する。示されているように、キャップのランドの高さは、キャップの円周の周りで異なる場合がある。例えば、場所Ａ（θＡ）において、外壁／ランド１９０ａは、高さＤ外部Ａを画定する。場所Ｂ（θＢ）において、外壁／ランド１９０ａは、高さＤ外部Ｂを画定し、これは、Ｄ外部Ａと同じか、それよりも大きいか、またはそれよりも小さい場合があり得る。同様に、場所Ａ（θＡ）において、内壁／ランド１９０ｂは、高さＤ内部Ａを画定する。場所Ｂ（θＢ）において、内壁／ランド１９０ｂは、高さＤ内部Ｂを画定し、これは、Ｄ内部Ａと同じか、それよりも大きいか、またはそれよりも小さい場合があり得る。このようにして、キャップは、キャップが嵌合されている内壁に沿ってさらに延在するその円周の周りの領域を提供することができる。キャップはまた、キャップが嵌合されている外壁に沿ってさらに延在するその円周の周りの領域を提供することができる。
図４９は、本開示による例示的な物品の断面図を提供する。示されるように、物品は、第１の壁１００および第２の壁１１０を含むことができる。第１のキャップ１９０は、第１の壁１００および第２の壁１１０にシールすることができ、例示的なシーリングプロセスは、ろう付け、溶接などを含む。示されるように、第１のキャップ１９０は、構成において湾曲またはカップ形状であり得る。第１のキャップ１９０は、第１の壁１００および第２の壁１１０の対向する表面にシールされるように嵌合され得る。示されているように、第１のカップは高さＤＣを画定することができる。図４９の物品によって示されるように、第１のキャップ１９０は、第１のキャップ１９０と第１の壁１００との間の重なりの長さである重なり長ＯＣｉを画定することができる。ＤＣ対ＯＣｉ１の比率は、例えば、約２００：１〜約１：２００、または約１００：１〜約１：１００、または５０：１〜約１：５０、または１０：１〜約１：１０、または約５：１〜約１：５であり得る。
同様に、第１のキャップ１９０は、それ自体と第２の壁１１０との間の重なり長ＯＣｉ２（ラベル付けされていない）を画定することができる。ＤＣ対ＯＣｉ２の比率は、例えば、約２００：１〜約１：２００、または約１００：１〜約１：１００、または５０：１〜約１：５０、または１０：１〜約１：１０、または約５：１〜約１：５であり得る。
第２のキャップ１９２は、第１の壁１００および第２の壁１１０にシールすることができ、例示的なシーリングプロセスは、ろう付け、溶接などを含む。示されるように、第２のキャップ１９２は、構成において湾曲またはカップ形状であり得る。第２のキャップ１９２は、第１の壁１００および第２の壁１１０の非対向表面にシールされるように嵌合され得る。示されているように、第２の最初のカップは高さＤＣ２を画定することができる。図４９の物品によって示されるように、第２のキャップ１９２は、第２のキャップ１９２と第１の壁１００との間の重なりの長さである重なり長ＯＣｏ１を画定することができる。ＤＣ２対ＯＣｏ１の比率は、例えば、約２００：１〜約１：２００、または約１００：１〜約１：１００、または５０：１〜約１：５０、または１０：１〜約１：１０、または約５：１〜約１：５であり得る。
同様に、第２のキャップ１９２は、それ自体と第２の壁１１０との間の重なり長ＯＣｉ２（ラベル付けされていない）を画定することができる。ＤＣ２対ＯＣｉ２の比率は、例えば、約２００：１〜約１：２００、または約１００：１〜約１：１００、または５０：１〜約１：５０、または１０：１〜約１：１０、または約５：１〜約１：５であり得る。図４９に示すように、シールされた空間１０２ａは、第１のキャップ１９０、第２のキャップ１９２、第１の壁１００、および第２の壁１１０によって画定することができる。管腔または他の空間１０２ｃは、第２の壁１１０によって画定することができ、管腔は中心線を画定することができる（図を参照）。
図５０は、本開示による例示的な構成要素の断面図を提供し、第１の壁１００および第２の壁１１０の非対向表面にシールされている第１のキャップ１９０および第２のキャップ１９２の両方を示す。経路１９９によって示されるように、空間１０２ａ内に配設された分子は、分子が励起、例えば熱励起、を受けるときに、第１のキャップ１９０、第２のキャップ１９２、第１の壁１００、および第２の壁１１０のいずれかまたはすべてに対して偏向することができる。
図５１は、本開示による構成要素の断面図を提供する。経路１９９によって図示されるように（そして特定の理論に拘束されることなく）、第１の要素１９０は、格納庫または他の要素として作用することができる。
図５２は、本開示による例示的な構成要素の断面図を提供する。示されるように、経路１９９をたどる分子は、凹面の第２のキャップ１９２から偏向する。その偏向に続いて、分子は、第１の壁１００と第２の壁１１０との間に画定された空間１０２ａの周辺に向かって自然に向けられる。経路１９９に沿って進むと、偏向された分子は、凹面の第１のキャップ１９０に対して（再び）偏向し、次いで、第１のキャップ１９０と第１の壁１００との間のギャップ（ラベルなし）を通って空間１０２ａから出る。同様に、経路１９９ａをたどる分子は、第２のキャップ１９２から偏向する。経路１９９ａに沿って進むと、その分子は、次いで第１のキャップ１９０から偏向し、次に、第１のキャップ１９０と第１の壁１００との間のギャップ（ラベルなし）を通って空間１０２ａから出る。
試験システム
図５３は、開示された技術の例証的実施形態を提供する。図５３に示されるように、ステージ５３１０において、構成要素を打撃および／もしくは振動させることができる。打撃および振動技法の例は、当業者に知られている。
ステージ５３２０において、打撃／振動に関連する情報（例えば、音の周波数、音の強さ、音の持続時間）を収集することができる。ステージ５３１０およびステージ５３２０のいずれかを何度でも繰り返すことができることを理解されたい。構成要素の複数の打撃／振動を実行し、そのような各行為から情報を収集することもできる。
ステージ５３３０において、収集された情報を処理することができる。これは、例えば、音の強さの判定、音の周波数の判定、音の持続時間の判定、収集された情報の統計値（平均、帯域／間隔、など）の判定の形をとることができる。処理は、収集された情報を他の情報、例えば、ベースライン周波数に対して比較する（または処理されたそのような情報を比較する）という形を取ることもできる。処理はまた、収集された情報（または処理されたそのような情報）が特定の範囲内、例えば、周波数の所望の「帯域幅」または音の持続時間の所望の「帯域幅」、にあるかどうかを判定する形をとることができる。
ステージ５３４０において、前述のステージに基づいて構成要素のさらなる処理を実行することができる。一例として、（打撃に応答して）所望の特性を有する構成要素の特徴である特定の「ベースライン」範囲外にある周波数を有する構成要素を廃棄することができる。別の例として、（打撃に応答して）特定の「ベースライン」範囲内にある周波数を有する構成要素を、プロセスのさらなるステージ（例えば、包装、販売）に進めることができる。
処理
図５４は、本開示によるシステム５４０の例証図を提供する。システムは、エンクロージャ５４１２を含むことができる。エンクロージャは、例えば、金庫扉または他のドアあるいはハッチによってシール可能であり得る。エンクロージャには１つ、２つ、またはそれより多いドアを設けることができ、複数のドアを使用すると、エンクロージャへの製品の挿入と取り外しとが容易になる。いくつかの実施形態では、エンクロージャは、炉として特徴付けることができる。
システムは、流体リザーバであり得るリザーバ５４０１を含むことができる。流体は、液体、気体であり得、または液体と気体の間の遷移点にあり得る。流体は、加熱、冷却され得、または周囲温度で使用できる。流体は、液相から気体に移行する可能性がある。流体は、加圧（大気圧以上）することもできるが、大気圧または減圧にすらすることもできる。リザーバ５４０１は、ライン５４０２を介して入口５４０３に接続することができ、その入口は、リザーバ５４０１をエンクロージャ５４１２の内部と流体連通するように配置することができる。弁または他の流量制御デバイスを使用して、リザーバ５４０１からエンクロージャ５４１２への流体の流れを調整することができる。弁はまた、エンクロージャ５４１２から容器５４０１に流体が流れるのを制限するために使用することができる。コントローラ（図示せず）を使用して、入口５４０３を通る流体の流れを監視および／もしくは調整することができる。
いくつかの実施形態では、１つ以上の流体分配器（５４０７、５４０８、および５４０９によって示される）を使用して、流体をエンクロージャ５４１２の内部に分配することができる。リザーバ５４０１は、１つ以上の流体分配器と流体連通することができ、１つ以上のマニホルドを使用して、１つ以上の流体分配器間で流体を分配することができる。入口５４０６は、コントローラ５４０４と通信することができ、また、１つ以上の流体分配器と流体連通することができる。流体分配器は、例えば、マニホルド、噴霧器ヘッド、または他の分散構造であり得る。本開示によるシステムは、単一の流体源（例えば、リザーバ５４０１）と流体連通する複数の流体分配器を有することができるが、複数の流体源と流体連通する複数の流体分配器を有することもできる。同様に、単一の流体分配器は、単一の流体源と流体連通することができるが、複数の流体源と流体連通することもできる。
システムはまた、１つ以上の出口５４２５を含むことができる。出口は、例えば、通信ライン５４２３を介して、コントローラ５４２２と通信することができる。出口はまた、例えば、出口ラインを介して、タンクまたはドレン５４２４と流体連通することができる。出口は、出口を通る流体の流れを調整するように構成された弁または他のモダリティを備えることができる。一例として、出口は、エンクロージャ５４１２において特定の加熱時間が経過するまで閉じたままであるように構成することができ、出口はまた、エンクロージャの内部の床にある特定の重量の流体が検出されるまで閉じたままであるように構成することもできる。
システム５４０はまた、１つ以上の加熱要素５４１０を含むことができる。加熱要素は、エンクロージャ５４１２の内部内の任意の場所に位置付けることができる。例えば、加熱要素は、エンクロージャの頂部、底部、または側面の近くに、またはそれらに押し当ててさえ位置付けることができる。いくつかの実施形態では、加熱要素は、エンクロージャの内部内の中間の位置、例えば、エンクロージャの内壁間の中間、またはエンクロージャの内部の任意の壁から距離を置いて位置付けされる。システムはまた、格納庫として作用できる１つ以上の要素（５４２７、５４２６、５４３１、５４３０、５４２９、および５４２８で示される）を含むこともできる。要素は対称的に配置することができるが、これは必須ではない。
システムは、１つ以上のポンプ５４２０、例えば、１つ以上の真空ポンプを含むことができる。ポンプは、例えば、ポート５４２１を介して、エンクロージャ５４１２の内部と流体連通している。
システムはまた、１つ以上の監視デバイス５４１１を含むことができ、監視デバイスは、温度、圧力、湿度、分子種の存在（例えば、気体のレベル）、などのうちの１つ以上を監視するように構成することができる。監視デバイスの例には、例えば、熱電対、圧力モニター、湿度モニター、などが含まれる。監視デバイスは、エンクロージャの内部内の状態（例えば、温度、圧力）を調整するコントローラまたは他のデバイスと電子通信することができる。
システムはまた、システムによって処理されるワークピース（５４１５、５４１６、５４１７、５４１８、および５４１９）を支持するために利用される１つ以上のラック（５４１４）を含むことができる。ラックは、１つ以上の脚または他のサポート（５４１３ａ、５４１３ｂ、および５４１３ｃ）によって支持され得る。
ワークピースは、任意のサイズおよび形状にすることができる。ワークピースは、例えば、円筒形、多面体、球形、円錐形、円錐台形、卵形、または他の形状であることができる。ワークピースのサイズは、ユーザのニーズおよびワークピースが処理されるエンクロージャの寸法に依存し得る。ワークピースは、例えば、それらの間に排気された断熱空間を形成するように互いに接合された同心円管であり得る。しかしながら、ワークピースは同心円管である必要はなく、非管状境界（例えば、凹面プレート、など）を含むことができる。
本開示によるシステムは、ワークピースを単一の場所および／もしくは位置に維持するように構成することができる。システムはまた、システムによるワークピースの処理中にワークピースを移動するように（例えば、電動ローラを介して）構成することができる。一例として、システムは、ワークピースがエンクロージャ５４１２の内部内で処理されている間（例えば、熱、真空、または他の条件に曝すことを介して）ワークピースを回転させるように構成することができる。システムは、エンクロージャ５４１２の内部からワークピースを導入および／もしくは取り除くための１つ以上のモダリティを含むことができる。ワークピースの導入は手動で行うことができるが、自動化することもできる。コンベヤ、ボート、ベルト、可動バスケット、などはすべて、ワークピースをエンクロージャに導入し、またワークピースをエンクロージャから取り除くために使用することができる。ワークピースは、バッチアプローチでエンクロージャに導入することができるが、またセミバッチまたは連続アプローチであっても導入することができる。
図５５Ａは、ワークピースが、本開示に従って処理される前の例証的ワークピースの断面図を提供する。（図５５Ａの例証的ワークピースは、同心の内壁および外壁から形成され、内壁と外壁との間にスペーサ材料が配設されている。）示されるように、ワークピースは、外壁５５００を含むことができ、その外壁は外面５５０２と内面５５０４とを有する。不純物２０６が、外壁２００の内面５５０４上に示されている。
内管５５１２の外面５５１４上の不純物５５０８も示されている。（内管はまた、内面５５１６、およびその中の管腔５５１８を画定する。）また、外管５５００の内面５５０４と内管５５１２の外面５５１４との間の空間５５１０に配設されたスペーサ材料５５２２も示されている。不純物５５２４は、スペーサ材料５５２２の表面に存在する。
処理５５２０に続いて、不純物５５０６、５５０８、および５５２４は、少なくとも部分的にワークピースから取り除かれる。例示的な処理ステップは、本明細書の他の場所に記載されており、加熱、冷却、減圧、流体適用、増圧、化学処理、などのうちの１つ以上を含むことができる。一例として、低圧の適用を実行して、第１の流体を、内壁および外壁とスペーサ材料との間の１つ以上の空間、ならびに内壁および外壁の一方または両方に引き込むことができる。次に、異なる圧力および／もしくは温度を適用して、その空間から流体を取り除くことができ、流体は、流体が接触する不純物を少なくとも部分的に取り除くように作用する（例えば、不純物との運動および／もしくは反応を介して）。不純物の除去を助けるために熱を使うことができる。
図５６は、本開示による例示的なプロセス５６０のフローチャートタイプの概要を提供する。示されているように、１つ以上のワークピースが、第１のステップ５６００を受けることができる。第１のステップ５６００は、例えば、ワークピースをエンクロージャに導入することを含むことができる。示されているように、ワークピースは第２のステップ５６０２を受けることができる。第２のステップ５６０２は、評価５６０４によって調整することができる。一例として、第２のステップは、熱の適用であることができ、その熱は、熱電対、コントローラ、プロセッサ、または熱適用の強度および／もしくは持続時間を制御する他のモダリティによって調節することができる。ワークピースは、第３のステップ５６０６を受けることもでき、第４のステップ５６０６を受けることもできる。第３のステップ５６０６は、１つ以上の点で第２のステップ５６０２と異なることができる。一例として、第３のステップは、５００度Ｃの熱の１０分間の適用であり得、一方、第２のステップ５６０２は、３５０度Ｃの熱の３００分間の適用であり得る。ステップ５６００、５６０２、５６０６、および／もしくは５６０８のうちの１つ以上は、加熱、冷却、減圧の適用、増圧の適用、流体の適用、流体の回収、などのうちの１つ以上を含むことができる。また、流体を蒸気に変換し、次いで結果として生じる気体を除去することによる相対的な冷却を含むこともできる。任意の処理ステップは、繰り返しの様態、例えば、熱のサイクルとそれに続く流体の導入、それに続く別の熱のサイクル、で実行され得ることを理解されたい。
実施形態
以下の非限定的な実施形態は、例示にすぎず、本開示または添付の特許請求の範囲を限定するものではない。
実施形態１．分子励起チャンバであって、内部容積を境界付ける第１の壁であって、第１の壁が、長さを有する主要部分と長さを有する突出部分とを備え、主要部分が任意選択で突出部分に対して垂直に延在する、第１の壁と、内部容積を境界付ける第２の壁であって、第２の壁が、長さを有する主要部分を備え、任意選択で長さを有する突出部分を備える、第２の壁と、を備え、（ａ）第１の壁の突出部分と第２の壁とが、それらの間に第１のベントを画定するか、または（ｂ）第２の壁と第１の壁とが、それらの間に第２のベントを画定するか、または（ｃ）（ａ）および（ｂ）の両方であり、かつ、第１の壁の突出部分に対する第１の壁の主要部分の長さの比率が、約１０００：１〜約１；１であり、かつ、任意選択で、分子励起チャンバの内部容積内に配設された分子の加熱をもたらすように構成された熱源と、を備える、分子励起チャンバ。
実施形態２．第２の壁が、第２の壁と衝突する分子を第１のベントに向けて偏向させるように構成されている、実施形態１に記載の分子励起チャンバ。この偏向は、例えば、壁が角度を付けられ、および／もしくは湾曲されることによって達成することができる。第１の壁はまた、第１の壁と衝突する分子を第２のベントに向けて偏向させるように構成することができる。
実施形態３．分子励起チャンバが、第２のベントを備える、実施形態１また２に記載の分子励起チャンバ。
実施形態４．第２のベントが、第１の壁と第２の壁の突出部分とによって画定されている、実施形態３に記載の分子励起チャンバ。
実施形態５．第２のベントが、第１のベントの反対側に配設されている、実施形態３または４に記載の分子励起チャンバ。
実施形態６．空間が主軸を画定し、主軸に平行に引かれた線が第１のベントおよび第２のベントの両方と交差しない、実施形態５に記載の分子励起チャンバ。
実施形態７．空間がシールされ、さらに、空間が約０．０００１〜約７００トル、例えば、約０．００１〜約７０トル、約０．０１〜約７トル、またはさらに約１トルの圧力に排気されている、実施形態１〜６のいずれか１つに記載の分子励起チャンバ。
実施形態８．空間が、約０．００５〜約５トルの圧力に排気されている、実施形態７に記載の分子励起チャンバ。
実施形態９．実施形態１〜８のいずれかに記載の分子励起チャンバの第１のベントを開くことを含む、方法。開口部は、例えば、ベントを画定する壁または他の構成要素の熱膨張をもたらすように加熱することによってもたらされ得る。
実施形態１０．（ａ）長さを有する主部分と長さを有する突出部分とを備える第１の壁であって、主部分が任意選択で突出部分に垂直に延在し、第１の壁の突出部分に対する第１の壁の主部分の長さの比率が、約１０００：１〜約１：１である、第１の壁と、（ｂ）長さを有する主要部分を備え、任意選択で長さを有する突出部分を備える、第２の壁と、を組み立てることであって、組み立ては、第１の壁の突出部分と第２の壁とによって画定される第１のベントを画定するように行われる、組み立てることと、第１の壁と第２の壁との間の空間をシールするように第１のベントをシールすることと、を含む、方法。
実施形態１１．シールすることが、シーリング材料を用いて達成される、実施形態１０に記載の方法。適切なシーリング材料には、例えば、ろう付け材料、溶接材料、などが含まれる。シーリングは加熱下でもたらされ得、ろう付け材料が流入できる空間を開くために一方または両方の壁が熱膨張するように加熱を加えることができる。壁、ろう付け材料、および加熱は、加熱下で、壁の間に空間が形成され、次にろう付け材料が空間に流れ込んで空間を満たすように達成することができる。加熱はまた、壁の間の空間を閉じるように調整することもできる。
実施形態１２．シーリング材料が、シーリング中に第１のベントを少なくとも部分的に閉塞するように作用する、実施形態１１に記載の方法。
実施形態１３．シーリング材料が、シーリング中にメニスカスを形成する、実施形態１２に記載の方法。
実施形態１４．第１の壁および第２の壁が、それらの間に第２のベントを画定する、実施形態１０に記載の方法。
実施形態１５．第２のベントが、第１の壁と第２の壁の突出部分とによって画定される、実施形態１４に記載の方法。
実施形態１６．空間が主軸を画定し、主軸に平行に引かれた線が第１のベントおよび第２のベントの両方と交差しない、実施形態１４または１５に記載の方法。これの非限定的な例が図１に提供されており、ここで線１５０に平行な線は、ベント１１６およびベント１１８の両方と交差しない。
実施形態１７．約０．０００１〜約５０トルの空間内の圧力を生じさせるのに十分な条件下で熱を加えることをさらに含む、実施形態１０〜１６のいずれかに記載の方法。
実施形態１８．約０．００５〜約５トルの空間内の圧力を生じさせるように熱が加えられる、実施形態１７に記載の方法。
実施形態１９．内部容積を境界付ける第１の壁と、第１の壁と第２の壁との間に断熱空間を画定するように、第１の壁から距離を置いて離間された、第２の壁と、断熱空間に面する第２の壁の内面と、断熱空間に面する第１の壁の外面と、を備え、（ａ）第１の壁が、（ｉ）第１の壁の第１の端部から第２の壁の内面に向かって延在し、任意選択で第２の壁の内面に本質的に垂直である、および／もしくは（ｉｉ）第１の壁の第２の端部に向かって延在する、延長部分を備え、第１の壁の延長部分が、任意選択で第２の壁の内面に本質的に平行であるランド部分をさらに備えるか、または、（ｂ）第２の壁が、（ｉ）第２の壁の第１の端部から第１の壁の外面に向かって延在し、任意選択で第１の壁の外面に本質的に垂直である、および／もしくは（ｉｉ）第２の壁の第２の端部に向かって延在する、延長部分を備え、第２の壁の延長部分が、任意選択で第１の壁の表面の外面に本質的に平行であるランド部分をさらに備えるか、または（ａ）および（ｂ）の両方であり、かつ、断熱空間と連通して、断熱空間からの気体分子のための出口経路を提供する第１のベント、を備え、ベントが、ベントからの気体分子の流出に続いて断熱空間をシーリングするためにシール可能である、断熱構成要素。
実施形態２０．第１および第２の壁が、それぞれ、第１の管および第２の管として特徴付けられている、実施形態１９に記載の断熱構成要素。本明細書の任意の実施形態において、一方または両方の壁は、構成において管状であり得ることが理解されるべきである。
実施形態２１．第１および第２の管が互いに同軸に配置されている、実施形態２０に記載の断熱構成要素。
実施形態２２．第１の壁の延長部分が、第１の壁に垂直な線によって測定されるとき、長さＬＥ１を画定する、実施形態１９〜２１のいずれか１つに記載の断熱構成要素。
実施形態２３．第１の壁が、長さＷＬ１を画定し、ＬＥ１対ＷＬ１の比率が、約１：１０００〜約１：２である、実施形態２２に記載の断熱構成要素。
実施形態２４．ＬＥ１対ＷＬ１の比率が、約１：１０〜約１：５である、実施形態２３に記載の断熱構成要素。
実施形態２５．第２の壁の延長部分が、第２の壁に垂直な線によって測定されるとき、長さＬＥ２を画定する、実施形態１９〜２４のいずれか１つに記載の断熱構成要素。
実施形態２６．第２の壁が、長さＷＬ２を画定し、ＬＥ２対ＷＬ２の比率が、約１：１０００〜約１：２である、実施形態２５に記載の断熱構成要素。
実施形態２７．ＬＥ２対ＷＬ２の比率が、約１：１００〜約１：５である、実施形態２６に記載の断熱構成要素。
実施形態２８．第２の壁が、第１のベントが開かれるように、有効な条件が第１の壁に対する第２の壁の熱膨張に影響を与えるように構成されている、実施形態１９〜２７のいずれかに記載の断熱構成要素。
実施形態２９．第１のベントが、第１の壁のランド部分によって少なくとも部分的に画定されている、実施形態１９〜２８のいずれか１つに記載の断熱構成要素。
実施形態３０．第２のベントをさらに含み、第２のベントが、第２の壁のランド部分によって少なくとも部分的に画定されていている、実施形態２９に記載の断熱構成要素。
実施形態３１．第２の壁の内面に平行に延在する線に沿って、第１のベントおよび第２のベントが互いに重なり合わない、実施形態３０に記載の断熱構成要素。
実施形態３２．断熱空間をシールするように第１のベントをシールするシーラントをさらに含み、シーラントが、任意選択で第１のベントを少なくとも部分的に閉塞するように配設されている、実施形態１９〜３１のいずれか１つに記載の断熱構成要素。シーラントは、例えば、ろう付け材料であり得る。断熱構成要素は、１つ以上の熱交換機能を含むことができ、例えば、第１の壁および第２の壁の一方または両方から延在するフィンを含むことができる。
実施形態３３．実施形態１９〜３２のいずれか１つに記載の断熱構成要素の内部容積内で流体を連通することを含む、方法。
実施形態３４．実施形態１９〜３２のいずれか１つに記載の断熱構成要素の内部容積内で少なくとも部分的に配設された材料を加熱することを含む、方法。本明細書の他の場所に記載されているように、材料は、本開示による任意の構成要素内で加熱することができる。本明細書の他の場所に記載されているように、材料は、本開示による任意の構成要素内で加熱することができる。
実施形態３５．加熱は、材料を燃焼させずに材料を加熱することを含む、実施形態３４に記載の方法。本明細書の他の場所に記載されているように、材料は、本開示による任意の構成要素内で加熱することができる。
実施形態３６．材料が、喫煙可能な材料、例えば植物ベースの材料を含む、実施形態３４〜３６のいずれか１つに記載の方法。
実施形態３７．内部容積を境界付ける第１の壁と、第１の壁から距離を置いて間隔を置いて離間された第２の壁と、を備え、容積が、第１の壁と第２の壁との間に画定され、（ａ）第１の壁が、第２の壁に向かって延在し、任意選択で第２の壁の内面に本質的に垂直である延長部分を備え、第１の壁の延長部分が、任意選択で第２の壁の内面に本質的に平行であるランド部分をさらに備えるか、（ｂ）第２の壁が、第１の壁の外面に向かって延在し、任意選択で第１の壁の外面に本質的に垂直である延長部分を備え、第２の壁の延長部分が、任意選択で第１の壁の外面に本質的に平行であるランド部分をさらに備えるか、または（ａ）および（ｂ）の両方であり、かつ（ｃ）第１の壁のランド部分が、第１の壁と第２の壁との間の容積を画定するように第２の壁に接触し、（ｄ）第２の壁のランド部分が、第１の壁と第２の壁との間の容積を画定するように第１の壁に接触し、または（ｃ）および（ｄ）の両方であり、第１の壁に対して第２の壁の熱膨張をもたらすのに有効な条件下で第１の壁および第２の壁を加熱すること、を含み、熱膨張が、第１の壁のランド部分と第２の壁との間の空間を生じさせるかまたは増大させ、および／もしくは第２の壁のランド部分と第１の壁との間の空間を生じさせるかまたは増大させ、それにより、気体分子が第１の壁と第２の壁との間に画定された容積を出ること可能にする、方法。
実施形態３８．加熱が、大気圧未満で行われる、実施形態３７に記載の方法。
実施形態３９．熱膨張が、第１の壁のランド部分と第２の壁との間の空間を生じさせるかまたは増大させる、実施形態３７または３８に記載の方法。
実施形態４０．熱膨張が、第２の壁のランド部分と第１の壁との間にの間を生じさせるかまたは増大させる、実施形態３７〜３９のいずれか１つに記載の方法。
実施形態４１．熱膨張が、第１の壁のランド部分と第２の壁との間の空間を生じさせるかまたは増大させ、かつ、第２の壁のランド部分と第１の壁との間の空間を生じさせるかまたは増大させる、実施形態３７〜４０のいずれか１つに記載の方法。
実施形態４２．加熱が、第１の壁のランド部分と第２の壁との間の空間および／もしくは第２の壁のランド部分と第１の壁との間の空間のシーラントによってシーリングをもたらすのに有効である、実施形態３７〜４１のいずれか１つに記載の方法。
実施形態４３．内部容積を境界付ける第１の壁と、第１の壁と第２の壁との間に断熱空間を画定するように、第１の壁から距離を置いて離間された第２の壁と、第１のキャップであって、第１のキャップが、第１の壁と第２の壁との間に画定された断熱空間を少なくとも部分的にシールし、第１のキャップが第１のランドを備え、第１のランドが任意選択で第１の壁にシールされ、かつ、第１のキャップが第２のランドをさらに備え、第２のランドが任意選択で第２の壁にシールされる、第１のキャップと、断熱空間と連通して、断熱空間からの気体分子のための出口経路を提供する第１のベントと、を備え、第１のベントが、ベントからの気体分子の流出に続いて断熱空間をシールするためにシール可能である、断熱構成要素。
実施形態４４．第１のベントが、第１のランドおよび第１の壁によって画定されている、実施形態４３に記載の断熱構成要素。第１のベントは、いくつかの実施形態では、第２のランドと第２の壁との間に画定することができる。
本明細書の他の場所で説明するように、キャップは、例えば、ろう付け、溶接、接着剤、音波溶接、などによって壁にシールすることができる。シーリング材料（例えば、ろう付け材料のリボン）は、キャップの端部から距離を置いて配設することができる（例えば、本明細書に添付された図３７および関連する説明を参照されたい）。特定の理論に拘束されることなく、キャップの端部からシーリング材料までの距離が長いほど（壁に沿って、キャップから離れる方向に）、内部容積と断熱構成要素の外部の環境との間の熱伝達が少なくなる。この場合も、特定の理論に拘束されることなく、熱伝達の低下は、キャップの端部からシーリング材料までの距離が比較的長い構成要素によって提示される比較的長い熱経路の結果であり得る。
実施形態４５．第２のキャップをさらに備え、第２のキャップが、第１の壁と第２の壁との間に画定された断熱空間を少なくとも部分的にシールする、実施形態４３または４４に記載の断熱構成要素。
実施形態４６．第２のキャップが、第１のランドおよび第２のランドを備える、実施形態４５に記載の断熱構成要素。
実施形態４７．第２のキャップの第１のランドおよび第２のランドが、概して同じ方向に延在する、実施形態４５に記載の断熱構成要素。
実施形態４８．第２のキャップの第１のランドおよび第２のランドが、概して反対方向に延在する、実施形態４５に記載の断熱構成要素。
実施形態４９．第１のキャップの第１のランドおよび第２のランドが、概して同じ方向に延在する、実施形態４３〜４８のいずれか１つに記載の断熱構成要素。
実施形態５０．第１のキャップの第１のランドおよび第２のランドが、概して反対方向に延在する、実施形態４３〜４８のいずれか１つに記載の断熱構成要素。断熱構成要素は、１つ以上の熱交換機能を含むことができ、例えば、第１の壁および第２の壁の一方または両方から延在するフィンを含むことができる。
実施形態５１．（ａ）第１のキャップの第１のランドが、キャップの周囲の周りで変化する高さを画定するか、（ｂ）第１のキャップの第２のランドが、キャップの周囲で変化する高さを画定するか、または（ａ）および（ｂ）である、実施形態４３〜５０のいずれか１つに記載の断熱構成要素。特定の理論または実施形態に拘束されることなく、図４７または図４８は、実施形態５１の例証である。
実施形態５２：実施形態４３〜５１のいずれか１つに記載の断熱構成要素を用いて、内部容積内で流体を連通することを含む、方法。
実施形態５３：実施形態４３〜５１のいずれか１つに記載の断熱構成要素を用いて、第１のキャップの第１のランドを第１の壁にシールすることを含む、方法。
実施形態５４：第１の壁と、第２の壁と、を備え、第１の壁が第２の壁を囲み、第１の壁が、第２の壁に向かって延在する（例えば、収束または発散することによって）傾斜部分を備え、第１の壁がまた、傾斜部分から延在するランド部分を備え、第２の壁が、第１の壁に向かって延在する（例えば、収束または発散することによって）傾斜部分を備え、第２の壁がまた、傾斜部分から延在するランド部分を備え、第３の壁と、第４の壁と、を備え、第３の壁が第４の壁を囲み、第１の壁のランドが第３の壁にシールされ、第２の壁のランドが第４の壁にシールされ、それにより、第３の壁と第４の壁との間の空間と流体連通している第１の壁と第２の壁との間の空間を少なくとも部分的にシールする、断熱構成要素。
例は、本明細書の他の場所で説明されている図４４によって提供されている。また、本明細書の他の場所（例えば、図４４）に説明されているように、第１の壁のランドおよび／もしくは第２の壁のランドは、第３の壁および第４の壁の一方または両方に対してスプリングバックをもたらすように形成することができる。
本明細書に開示される任意の構成要素は、分子励起チャンバとして使用することができることを理解されたい。一例として、熱源を使用して、構成要素内の分子（すなわち、構成要素の壁の間の空間に位置する分子）を励起することができる。加熱を加えると、分子の少なくとも一部は、それらの動きによって、構成要素の壁の間に配設されたベントを経由して空間を出る。
分子自体および／もしくは壁（または壁の間の空間の他の特徴部）の間の衝突により、移動する分子は、統計的に、ベントを経由して空間を出る確率を有する。空間からの分子の少なくとも一部の流出は、次に空間内の圧力を下げるように作用し、ユーザは続いで、分子流出に続いて空間をシールすることによって、恒久的に排気空間を生じさせることができる。ユーザは、いわゆるゲッタ材料を壁の間の空間に配置することができるが、ゲッタは必須ではなく、開示された構成要素は、ゲッタがなくても動作することができる、すなわち、ゲッタフリーであることができる。
開示された構成要素は、医療機器、消費者製品、計装（例えば、分光機器）、火器、排気システム、流体処理、燃焼装置、凍結装置、極低温剤、電池（エネルギー貯蔵）、自動車、航空宇宙、消費財、およびその他多く、を含むが、これらに限定されない、様々な用途で使用することができる。開示された構成要素は、固体および／もしくは液体の消耗品を使用して動作するものを含めて、例えば、電子タバコを吸うまたは電子タバコデバイスで使用することができる。材料は構成要素内で加熱することができ、加熱は、燃焼によって材料を加熱するように実行することができるが、材料は燃焼しない加熱方式で加熱することもできる。喫煙可能な材料は、本開示による構成要素内で加熱することができる。固体、液体、さらには気体でさえ、本開示による構成要素内に配設することができる。
実施形態５５：内部容積を境界付ける第１の壁と、第１の壁と第２の壁との間に断熱空間を画定するように、第１の壁から距離を置いて離間された第２の壁と、湾曲したプロファイルを画定する第１のキャップであって、第１のキャップが、第１の壁と第２の壁との間に画定される断熱空間を少なくとも部分的にシールする、第１のキャップと、湾曲したプロファイルを画定する第２のキャップであって、第２のキャップが、第１の壁にシールされた第１の部分を備え、第２のキャップが、第２の壁にシールされた第２の部分をさらに備える、第２のキャップと、を備え、第１の壁の湾曲したプロファイルおよび第２の壁の湾曲したプロファイルが、互いに離れて凹状である、断熱構成要素。
実施形態５６．第１のキャップが、第１の壁および第２の壁の対向面にシールされている、実施形態５３に記載の断熱構成要素。
実施形態５７．第１のキャップが、第１の壁および第２の壁の非対向面にシールされている、実施形態５３に記載の断熱構成要素。
実施形態５８．第２のキャップが、第１の壁および第２の壁の対向面にシールされている、実施形態５３に記載の断熱構成要素。
実施形態５９．第２のキャップが、第１の壁および第２の壁の非対向面にシールされている、実施形態５３に記載の断熱構成要素。
試験方法
実施形態６０．構成要素を打撃、振動、またはその両方にさらすことであって、構成要素が、構成要素内のシールされた排気領域を含む、さらすことと、さらすことに関連する１つ以上の情報の項目を処理することと、１つ以上の情報の項目を構成要素の物理的特性に関連付けることと、を含む、試験方法。
構成要素は、例えば、断熱管、断熱板、断熱球、などであり得る。開示された方法は、事実上任意の形状またはサイズの構成要素に適用することができる。
打撃は、例えば、構成要素を打つことによってもたらされ得る。一例として、フェルトで覆われたハンマーで構成要素を叩くことができる。打撃はまた、構成要素を表面上にある距離落下させることによってもたらすこともできる（その距離は、例えば、数ミリメートルまたは１メートルの距離でもあり得る）。表面は硬質（例えば、ステンレス鋼）であることができるが、緩衝層、例えば、ゴム化の層を含むこともできる。
振動は、構成要素を振動装置、例えば、モータと機械的に連通している振動ヘッドと接触させることによって実行することができる。適切なそのようなモータには、例えば、偏心回転質量（ＥＲＭ）モータおよび線形共振アクチュエータ（ＬＲＡ）モータが含まれる。構成要素はまた、振動装置と機械的に連通することもできる。一例として、剛性のロッドまたはアームを使用して、振動装置から構成要素に振動を伝達することができる。
情報処理は、例えば、マイクロフォンまたは他のトランスデューサによって収集された情報（例えば、音）を処理することによって達成することができる。処理は、例えば、情報または情報の特徴をベースライン情報またはそのベースライン情報の特徴と比較すること、情報または情報の特徴を他の構成要素の試験から受け取った１つ以上の他の情報の項目（またはそれらの１つ以上の情報の項目の特徴）と比較すること、情報の項目の母集団に情報を含めること（例えば、統計計算の一部として情報または情報の特徴を含めること）、情報または情報の特徴を固定または一時的な媒体に保存すること、などを含むことができる。
１つの非限定的な例として、ユーザは試験構成要素を叩き、その打撃から発した音を録音することができる。次いで、ユーザは、その音の１つ以上の特徴（例えば、周波数、強度）をモデル音と比較し、試験構成要素によって発せられた音が、特定の仕様に準拠する構成要素によって発せられる音と十分に類似しているかどうかを判断することができる。
例えば、ユーザは５０個の構成要素が特定の製造仕様に準拠していることを確認することができる。次いで、ユーザは、本開示に従って、各構成要素を振動にさらし、各構成要素試験から音を収集することによって、これらの５０個の構成要素の各々を試験することができる。これらの５０の音を処理（例えば、平均化）して、ベースラインの音の結果（５０の構成要素の音の合成であることができる）を生成することができ、そのベースラインに対して、将来の試験構成要素からの音は、それらの試験構成要素が本開示に従って試験されるときに比較することができる。将来試験される構成要素からの音がベースライン音の結果と十分に類似している場合、将来試験される対応するものは、問題の製造仕様に準拠していると見なすことができ、製造プロセスの後のステップに進むことができる。将来試験される構成要素からの音がベースライン音の結果と十分に類似していない場合、その将来試験される構成要素を、さらなる評価のために製造プロセスからわきへそらすことができる。前述のステップのいずれかまたはすべては、自動化された方法で達成することができる。試験は、さまざまな年齢の構成要素またはさまざまな時の構成要素で実行することもできる。例えば、構成要素がベースラインを確立するために製造されるときに、本開示に従って構成要素を試験することができる。次いで、構成要素を他のさまざまな時間（例えば、６か月、１年、２年、など）に試験して（例えば、打撃を介して）、構成要素の打撃から発せられた音が時間の経過とともに変化するか、同じままであるかを判断することができる。時間の経過とともに音が一定量を超えて変化する場合は、構成要素をさらに評価することができる。
実施形態６１．打撃が、自動化された方法でもたらされる、実施形態６０に記載の試験方法。これは、例えば、構成要素が製造ラインのステージを離れるときにストライカーを構成要素に接触させることによって達成することができる。これはまた、構成要素をストライカープレート上に設定された距離だけ落下させることによって達成することもできる。
実施形態６２．打撃が、手動でもたらされる、実施形態６０に記載の試験方法。これは、ゴムハンマーで構成要素を叩く（例えば、タッピングする）ことで達成することができる。これはまた、例えば、構成要素を表面上に落とすことによっても達成することもできる。
実施形態６３．打撃が、構成要素を基板上に落下させることによってもたらされ、基板は任意選択でストライカープレートである、実施形態６０に記載の試験方法。
実施形態６４．振動が、構成要素と機械的に連通しているバイブレータ装置によってもたらされる、実施形態６０に記載の試験方法。
実施形態６５．振動が、構成要素と流体連通しているバイブレータ装置によってもたらされる、実施形態６０に記載の試験方法。
実施形態６６．処理される１つ以上が、構成要素の第１の表面からのものであり、さらすことが構成要素の第２の表面上でもたらされる、実施形態６０〜６５のいずれかに記載の試験方法。一例として、管状部品を管の外面で叩くことができ、打撃からの音は、管の内面に配置されたトランスデューサによって記録することができる。いくつかの実施形態では、打撃および／もしくは振動は、トランスデューサからシールされた囲まれた領域を横切って配設された構成要素の表面にもたらされる。このようにして、シールされた排気領域を横切る振動を評価することができる。
構成要素は、１つ以上の材料を含むことができる。構成要素は、金属、セラミック、サーメット、またはそれらの任意の組み合わせを含むことができる。ステンレス鋼が特に適していると考えられているが、構成要素にステンレス鋼が含まれている必要はない。
実施形態６７．構成要素を、構成要素の第１の表面で固定することをさらに含み、さらすことが構成要素の第２の表面上でもたらされる、実施形態６０〜６６のいずれかに記載の試験方法。一実施形態では、構成要素は、例えば、構成要素の外面上の吸盤または他のアタッチメントによって固定され、トランスデューサは、構成要素の内面に位置付けされている。
実施形態６８．構成要素を打撃、振動、またはその両方にさらしている間、構成要素をある方向に維持することをさらに含む、実施形態６０〜６７のいずれかに記載の試験方法。これは、例えば、構成要素の向きを維持するジグに構成要素を保持することによって行うことができる。この方法は、試験される各構成要素が同じ方向に保持されるように実施することができる。試験される各構成要素は、構成要素の同じ場所で叩いたり／振動させたりすることができ、検出器（例えば、トランスデューサ）は、
実施形態６９．構成要素を、環境振動から少なくとも部分的に振動分離して維持することをさらに含む、実施形態６０〜６８のいずれかに記載の試験方法。これは、構成要素を隔離テーブル（例えば、流体、スプリング、またはその他のダンパの上に配設された表面）に配置することによって達成することができる。いくつかの実施形態では、ユーザは、構成要素をダンパ、例えば、パテまたは他のダンピング材料と接触させることができる。
実施形態７０．物理的特性が、構成要素の断熱特性を含む、実施形態６０〜６９のいずれかに記載の試験方法。開示された方法は、例えば、構成要素の物理的特徴の存在および／もしくは程度を推定するために使用することができる。例えば、均一な厚さの断熱領域を有する構成要素を振動にさらすことから発した音は、可変の厚さの断熱領域を有する構成要素をさらすことから発した音とは異なる場合がある。物理的特性は、例えば、含水量、多孔性、または厚さであり得る。
実施形態７１．構成要素内のシールされた排気領域が、環状の構成として特徴付けられる、実施形態６０〜７０のいずれかに記載の試験方法。シールされた排気領域は平面状であり得、平面または曲面であり得る。シールされた排気領域はまた、円筒形であり得る。シールされた排気領域は、軸に沿って一定の断面を有することができるが、軸に沿って可変の断面を有することもできる。
実施形態７２．構成要素が、ある量の１つ以上のセラミックを含む、実施形態６０〜７１のいずれかに記載の試験方法。
実施形態７３．バイブレータ装置と、構成要素マウントと、構成要素マウントに固定された構成要素であって、構成要素がある量のセラミックを含み、構成要素が構成要素内のシールされた排気領域を含み、またはその両方であり、構成要素は、構成要素がバイブレータ装置と機械的に連通するか、バイブレータ装置と流体連通するか、またはその両方になるように固定されている、構成要素と、を備える、試験システム。
実施形態７４．構成要素の表面に配設されたトランスデューサをさらに備える、実施形態７３に記載の試験システム。マイクロフォンは、適切なトランスデューサの例である。
実施形態７５．システムは、トランスデューサが、バイブレータ装置から振動を受け取る構成要素の表面とは異なる構成要素の表面に配設されるように構成されている、実施形態７４に記載の試験システム。
実施形態７６．システムが、構成要素を振動装置からのエネルギーにさらすことに関連する構成要素から発した１つ以上の情報の項目を受け取るように構成され、任意選択で、システムが、１つ以上の情報の項目を構成要素の物理的特性に関連付けるように構成されている、実施形態７３〜７５のいずれかに記載の試験システム。
実施形態７７．打撃プレートと、打撃プレートへの構成要素の衝突から発したエネルギーを受け取るように構成されたトランスデューサと、を備える、試験システム。
実施形態７８．トランスデューサが、構成要素の打撃プレートへの衝突時に構成要素から発したエネルギーを受け取るように構成されている、実施形態７７に記載の試験システム。
本開示によるシステムは、構成要素を振動および／もしくは打撃にさらすことから発した音の１つ以上の特徴（例えば、周波数、強度、持続時間）を分離するように構成されたプロセッサを含むことができる。プロセッサはまた、１つ以上の特徴を１つ以上の対応するベースライン特徴と比較し得る。
実施形態７９．システムが、構成要素の打撃プレートへの衝突に関連する１つ以上の情報の項目を受け取るように構成され、任意選択で、システムが、１つ以上の情報の項目を構成要素の物理的特性に関連付けるように構成されている、実施形態７７または７８に記載の試験システム。
実施形態８０．バイブレータ装置と、構成要素マウントと、プロセッサと、を備える、試験システム。プロセッサは、構成要素への振動の適用から発した情報を分析するように構成することができる。分析は、例えば、１つ以上の特徴の情報の項目を１つ以上のベースライン特徴と比較することを含むことができる。
別の例として、試験構成要素は、振動および／もしくは打撃にさらされ得る。振動および／もしくは打撃にさらすと、試験構成要素から音（必ずしも人間に可聴ではない）を発する。その後、音が処理され得る。次いで、音の１つ以上の特徴（例えば、周波数、強度、持続時間）を、所望の構成要素を示す１つ以上のベースライン特徴と比較することができる（例えば、プロセッサによって）。プロセッサは、試験構成要素の指定された特徴または複数の特徴が、ベースライン特徴と比較して特定の範囲（例えば、＋／−１０％）内であるか、または特定の範囲（例えば、＋／−１０％）外である場合にユーザに通知するように構成され得る。ユーザは、例えば、ベースライン特徴の特定の範囲内にある特徴を示さない構成要素を破棄することを選択し得る。
処理の実施形態
実施形態８１．断熱構成要素を調製する方法であって、第１の境界構成要素の表面の少なくとも一部を調整することによって、第１の境界構成要素の表面の調整された領域を形成することと、第２の境界構成要素の表面の少なくとも一部を調整することによって、第２の境界構成要素の表面の調整された領域を形成することと、第１の境界構成要素と第２の境界構成要素との間にシールされた排気領域を生じさせるのに十分な条件下で第１の境界構成要素および第２の境界構成要素を処理することであって、シールされた排気領域が、第１の境界構成要素の表面の調整された領域および第２の境界構成要素の表面の調整された領域によって少なくとも部分的に確定されている、処理することと、を含む、方法。
調整された領域の形成は、例えば、洗浄、乾燥、スクラビング（化学的または機械的）、などによって達成することができる。乾燥は、例えば、流体の流れ、加熱、機械的乾燥、化学的乾燥、などによってもたらすことができる。乾燥はまた、除湿によってもたらすこともできる。調整された領域の形成は、流体の流れによって達成することができる。調整された領域の形成は、加熱された流体の流れ、冷却された流体の流れ、または交互の流体の流れによって達成することができる。調整された領域の形成はまた、最初の温度および圧力で流体を導入し、次に温度および圧力の一方または両方を変更することによって達成することもできる。例として、流体を第１の境界構成要素に導入し、次に温度を変化させて、流体を第１の境界構成要素上で凍結させることができる。
調整された領域の形成は、境界構成要素に接触する流体を変更することによって（例えば、ある流体を別の流体に置き換えることによって）さらに達成することができる。
調整された領域の形成は、圧力下（例えば、１気圧を超える）、または減圧下（例えば、１気圧未満）で達成することができる。調整された領域の形成は、真空チャンバ内または真空炉内でさえ達成することができる。調整は、除湿環境で行うことができる。調整は、例えば、第１および／もしくは第２の境界構成要素に存在する水分を低減または除去すらするために実行することができる。調整を実行して、第１の境界および第２の境界内またはその上に存在する可能性のある油またはその他の残留物もしくは種を除去することができる。調整された領域の形成は、シールされたチャンバ、例えば、真空チャンバまたは炉内で実行することができる。あるいは、調整された領域の形成は、によって達成することができる
境界（すなわち、第１および／もしくは第２の境界）は、構成において管状であり得る。一例として、第１および第２の境界は、それらの間に空間を有する同心円管であり得、その空間は、次いで、シールされた排気領域を形成するようにシールされ得る。第１および第２の境界はまた、例えば、内側缶の円周壁と外側缶の円周壁との間に画定された空間が存在するように缶が配設されるような缶であることができる。
いくつかの実施形態では、境界が配設されているチャンバ内の圧力を変化させることは、一種のポンプとして作用することができる。特定の理論に拘束されることなく、処理チャンバ内の圧力を下げて、２つの同心円管の間の空間から空気を引き出すことができる。これは、例えば、同心円管のうちの１つを差別的に膨張させる温度変化によって達成することができる。ユーザはまた、第２の流体をチャンバに導入することができ、同心管間の空間への第２の流体の処理をもたらすようにチャンバ内の圧力および／もしくは温度を変更することができる。例として、同心の内管と外管との間のシールされた空間内に空気を配設することができる。真空チャンバ内の温度を上げることにより、外管を膨張させることができる。その除去に続いて、ユーザは、流体をチャンバに導入することができ、それによって、管の間の空間に流体を配設するように作用する。
調整された領域は、円形にすることができるが、これは必須ではない。調整された領域は、多角形の形状、例えば、正方形または長方形、にすることができる。調整された領域は、境界構成要素の表面の約１〜１００％を表すことができる。一例として、調整された領域は、管状境界構成要素の外面全体であり得る。いくつかの実施形態では、シールされた排気領域全体は、境界構成要素の調整された領域によって完全に画定されるが、これは必須ではない。境界構成要素は、１つ、２つ、またはそれより多い調整された領域を含むことができる。一例として、境界構成要素の一部（例えば、長さの２５％〜７５％）のみが、調節された領域、例えば、両側で調節されていない領域によって隣接された中央の調節された領域、であり得る。
境界構成要素は、異なって調整された領域を含むことができることも理解されたい。一例として、境界領域は、所与の第１の温度および第１の流体への曝露によって調整された第１の領域と、第２の温度での第２の流体への曝露を介して調整されたおよび第２の領域とを含むことができる。異なる領域の調整は、例えば、構成要素の第１の領域を調整している間、境界構成要素の第２の領域をマスキングし、続いてその領域のマスキングを解除し、第２の処理を適用することによってもたらすことができる。（第２の領域のマスキング解除に続いて、第１の調整される領域を任意選択でマスキングすることができる。）
第１の境界および第２の境界は、互いに接続されて、例えば、接続境界によってシールされた排気領域を形成することができ、その接続境界は、直線、曲線、波状、ひだ状、またはその他の非線形であり得る。接続境界は、第１または第２の境界の領域であり得る。接続境界はまた、別個の構成要素、例えば、第１および第２の境界構成要素をブリッジするリングにすることもできる。１つの非限定的な例として、内側および外側の同心円管は、内側および外側の同心円管の一方または両方のテーパ状の領域によって、それらの端部で互いに接続することができる。いくつかの非限定的な例は、本明細書で引用されている様々な特許出願で提供されている。
第１の境界構成要素および第２の境界構成要素を処理して、シールされた排気領域を形成することは、例えば、ろう付け、溶接、接着、などによって達成することができる。これは、真空断熱されたベントおよび構造を生じさせ得、非限定的で例示的な真空断熱されたベントおよび構造（およびそのような構造を形成および使用するための関連する技法）は、すべてＡ．Ｒｅｉｄによる，米国特許出願公開第２０１７／０２５３４１６号、同第２０１７／０２２５２７６号、同第２０１７／０１２０３６２号、同第２０１７／００６２７７４号、同第２０１７／００４３９３８号、同第２０１６／００８４４２５号、同第２０１５／０２６０３３２号、同第２０１５／０１１０５４８号、同第２０１４／００９０７３７号、同第２０１２／００９０８１７号、同第２０１１／０２６４０８４号、同第２００８／０１２１６４２号、および同第２００５／０２１１７１１号に見いだすことができ、あらゆる目的のためにその全体が参照により、すべてが本明細書に組み込まれる。真空（すなわち、開示されたデバイスおよび方法内の任意の真空）は、前述の用途の方法によって、または当技術分野で知られている他の任意の方法によってもたらされ得ることが理解されるべきである。
ろう付け材料または他の接合材料に対して（本明細書の他の場所で説明されているように）調整を実行できることも理解されたい。これは、ろう付けまたは他の接合材料が適用されるときに実行することができるが、ろう付けまたは他の材料を使用して所望の表面を接合する前、または、ろう付けまたは他の接合材料を使用して所望の表面を接合した後に実行することができる。例として、ろう付け材料を内管に適用し、ろう付け材料を介して内管と外管との間でろう付けをもたらし、次に、適用されたろう付け材料を調整することができる。適切な調整は、本明細書の他の場所で説明されており、例えば、第１の流体の環境での加熱、それに続くその第１の気体（およびその第１の流体に存在し得る不純物）の除去、および任意選択で、その第１の流体を第２の流体に置き換えること、を含むことができる。
調整は、境界の表面上に材料を形成するように行うことができる。例えば、境界の表面上に酸化物を成長させるように調整を行うことができる。調整は、第１の境界の表面上に１つの材料（例えば、第１の酸化物）を形成するように行うことができ、次いで、第２の境界の表面上に材料（例えば、第２の酸化物）を形成するように行うことができる。
調整はまた、境界の表面を流体と接触させることを意味する場合もある。例として、ユーザは、境界を流体、例えば油と接触させることによって第１の境界の調整された領域を形成することができ、次いで、第１および第２の境界の間のシールされた空間で油が含有されるように、第１および第２の境界を処理することができる。調整はまた、第１および第２の境界の間の空間に流体を引き込むように環境圧力を低下させることによって、第１および第２の境界の間の空間に流体（例えば、油）を配設することを含むことができる。第１および第２の境界の間の空間から流体を少なくとも部分的に排出するように圧力を上げることもできる。流体はまた、加熱によって、重力によって、または減圧によってさえ、境界間の空間から少なくとも部分的に除去することもできる。ユーザは、圧力、熱、重力、または前述の任意の組み合わせ（またはシーケンス）を利用して、第１および第２の境界の間の空間から流体を吸引および／もしくは除去することができる。
実施形態８２．調整が、第１の境界構成要素の調整された領域から、第２の境界構成要素の調整された領域から、またはその両方から不純物（例えば、水分）を低減するように行われる、実施形態８１に記載の方法。不純物の例には、例えば、潤滑剤、酸化物、揮発性物質、または他のそのような種が含まれる。
実施形態８３．調整が、第１の境界構成要素と第２の境界構成要素との間の空間に流体を引き込むことを含む、実施形態８１または８２に記載の方法。流体は気体であることができる。流体は、第１と第２の間の空間を通して脈動するように引き込むことができる。流体は、交互に空間から引き込むことができる。
ユーザは、例えば、第１の流体を空間に行使し、次に第２の流体を空間に行使することができる。ユーザはまた、流体を空間に行使し、かつ、例えば、往復または出入りの様態で、空間から流体を行使／除去することもできる。流体は、約１秒〜１０時間、３０秒〜５時間、１分〜１時間、さらには約５分〜３０分間、空間内を流すことができる。
実施形態８４．調整加熱が、加熱することを含む、実施形態８１〜８３のいずれかに記載の方法。加熱は、対流、放射、または他の技法によって行うことができる。加熱は１００度Ｃを超える温度にすることができ、例えば、約１２０、約１５０、約２００、約２５０、約３００、約３５０、または４００度Ｃもしくはそれより大きくすることができる。
例示的なプロセスでは、温度および圧力は、プロセスの過程の間、一定に保たれるか、または変化させられ得る。例えば、流体は、第１および第２の境界を含むチャンバに導入することができる。第１および第２の境界の間の空間に気体を引き込むように、チャンバ内の圧力を下げることができる。次いで、境界間の空間内の流体の動きをもたらすように、温度および／もしくは圧力を変化させることができる。
例として、第１および第２の境界は、発生した可能性がある、または第１および第２の境界に存在していた可能性がある不純物を除去するために、チャンバ内で（例えば、真空下で）加熱することができ、かつ、チャンバ内の気体を交換することができる。別の例として、第１および／もしくは第２の境界は、第１の流体の存在における温度および圧力条件（例えば、真空）の第１のセットの下で、第１の期間処理チャンバ内で加熱することができる。その期間の後、流体を処理チャンバから引き出すことができ、処理チャンバを、選択した「新鮮な」流体で再充填することができる。
実施形態８５．スペーサ材料がシールされた排気領域内に留まるように、第１の境界構成要素と第２の境界構成要素との間にスペーサ材料を配設することをさらに含む、実施形態８１〜８４のいずれかに記載の方法。スペーサ材料は、例えば、シートまたは巻線として存在することができる。スペーサ材料は、例えば、糸として存在することができる。
実施形態８６．スペーサ材料が、セラミックを含む、実施形態８５に記載の方法。
実施形態８７．スペーサ材料が、窒化ホウ素を含む、実施形態８５に記載の方法。
実施形態８８．スペーサ材料の少なくとも一部を調整すること、スペーサ材料の少なくとも一部を加熱すること、またはその両方をさらに含む、実施形態８５〜８７のいずれかに記載の方法。（適切な調整方法は、本書の他の場所で説明されている。）
実施形態８９．第１の境界構成要素および第２の境界構成要素の一方または両方が、セラミックを含む、実施形態１〜８のいずれかに記載の方法。
実施形態９０．第１の境界構成要素および第２の境界構成要素の一方または両方が、金属を含む、実施形態８１〜８９のいずれかに記載の方法。金属の例には、例えば、ステンレス鋼が含まれる。
実施形態９１．処理が、ろう付けを含む、実施形態８１〜９０のいずれかに記載の方法。
実施形態９２。処理が、第１の境界構成要素および第２の境界構成要素の一方または両方をシーラー構成要素にシールすることを含む、実施形態８１〜９１のいずれかに記載の方法。
実施形態９３．シーラー構成要素が、リングを含む、実施形態９２に記載の方法。リングは、例えば、金属、セラミック、サーメット、または他の適切な材料であり得る。リング自体は、ろう付け材料または他の接合材料にすることができる。
実施形態９４．リングが、セラミックを含む、実施形態９３に記載の方法。
実施形態９５．シールされた排気空間が、約０．１〜約１０００分子／ｃｍ３の分子密度を画定する、実施形態８１〜８４のいずれかに記載の方法。
実施形態９６．実施形態８１〜９５のいずれかに従って調製された断熱構成要素。このような構成要素は、例えば、管状の構成であり得る。
実施形態９７．（ａ）第１の境界構成要素の対向面および（ｂ）第２の境界構成要素の対向面を調整することと、第１の境界構成要素の対向面と第２の境界構成要素の対向面との間にシールされた排気領域を生じさせるのに十分な条件下で、第１の境界構成要素および第２の境界構成要素をさらに処理することと、を含む、断熱構成要素を調製する方法。
適切な調整および処理技法は、本明細書の他の場所に記載されている。一例として、処理は、流動性ろう付け材料を使用して、第１の境界構成要素と第２の境界構成要素とを接合することを含むことができる。
実施形態９８．スペーサ材料がシールされた排気領域内に留まるように、第１の境界構成要素と第２の境界構成要素との間にスペーサ材料を配設することをさらに含み、方法は、任意選択でスペーサ材料を洗浄すること、加熱すること、または洗浄および加熱することを含む、実施形態９７に記載の方法。
実施形態９９．シールされた排気空間が、約１〜約１０００分子／ｃｍ３の分子密度を画定する、実施形態９７または９８に記載の方法。
実施形態１００．処理が、第１の境界構成要素および第２の境界構成要素の一方または両方をシーラー構成要素にシールすることを含む、実施形態９７〜９９のいずれかに記載の方法。
実施形態１０１．シーラー構成要素が、リングを含む、実施形態１００に記載の方法。
実施形態１０２．リングが、セラミックを含む、実施形態１０１に記載の方法。
実施形態１０３．実施形態９７〜１０２のいずれかに従って調製された断熱構成要素。
実施形態１０４．第１の境界構成要素の表面領域と第２の境界構成要素の表面領域との間にシールされた断熱空間を形成するように第１の境界構成要素および第２の境界構成要素を組み立てることを含み、第１の境界構成要素の表面領域および第２の境界構成要素の表面領域が不純物を除去するために処理される、断熱構成要素を構築する方法。
実施形態１０５．第１の境界構成要素の表面領域と第２の境界構成要素の表面領域との間にシールされた断熱空間を形成するように配設された第１の境界構成要素および第２の境界構成要素を備え、第１の境界構成要素の表面領域および第２の境界構成要素の表面領域が不純物を除去するために処理される、断熱構成要素。
実施形態１０６．ワークピース上に調整領域をもたらすように構成されたシステムであって、エンクロージャの内部内に１つ以上のワークピースをシール可能に囲むように構成されたエンクロージャ、（ａ）（ｉ）エンクロージャの内部への流体の流れ、および（ｉｉ）エンクロージャの内部からの流体の流れ、のうちの少なくとも１つを調整するように構成された構成要素、（ｂ）エンクロージャの内部内の温度を調整するように構成された要素、任意選択で（ｃ）熱源（任意選択で、エンクロージャの内部内に配設されたワークピースに向けて放射を向けるように構成された要素を備える）、（ｄ）エンクロージャの内部と流体連通できる流体源、または（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、および（ｄ）の任意の組み合わせ、を備える、システム。
エンクロージャは、例えば、キャビネット、反応装置、ケース、などとして特徴付けることができる。
実施形態１０７．ワークピースをエンクロージャの内部に導入するか、ワークピースをエンクロージャの内部から除去するか、またはその両方であるように構成された１つ以上の構成要素をさらに備える、実施形態１０６に記載のシステム。そのような構成要素は、例えば、コンベヤ、ボート（例えば、回転テーブルまたはベルトに取り付けられたボート）、回転ドアタイプのアセンブリ、などであり得る。
実施形態１０８．流体をエンクロージャの内部に分配するように構成されたマニホルドをさらに備える、実施形態１０６または１０７に記載のシステム。システムは、スプレーヘッド（「シャワーヘッド」と呼ばれることもある）、アパーチャ、ホース、噴霧器、などを含むことができる。
実施形態１０９．（ｉ）エンクロージャの内部内の圧力を低下させるか、（ｉｉ）エンクロージャの内部の圧力を上昇させるか、または（ｉ）および（ｉｉ）の両方をもたらすように構成されたポンプをさらに備える、実施形態１０６〜１０８のいずれかに記載のシステム。システムは、エンクロージャの内部内の圧力を低下させるように構成された第１のポンプと、エンクロージャの内部内の圧力を上昇させるように構成された第２のポンプと、を含むことができる。
実施形態１１０．温度、圧力、湿度、分子種の存在、またはそれらの任意の組み合わせのうちの１つ以上を監視するように構成された監視デバイスをさらに備える、実施形態１０６〜１０９のいずれかに記載のシステム。監視デバイスの例には、例えば、熱電対、圧力トランスデューサ、湿度モニター、化学検出器（例えば、紫外線および／もしくは赤外線吸収または反射率モニター、電気モニター）、などが含まれる。
実施形態１１１．ワークピースと機械的に連通してワークピースを動かすように構成された構成要素をさらに備える、実施形態２６〜３０のいずれかに記載のシステム。そのような構成要素は、例えば、ローラ、回転テーブル、リフト、爪、などであり得る。
実施形態１１２．システムが、複数のワークピースを処理するように構成されている、実施形態１０６〜１１１のいずれかに記載のシステム。これは、複数のワークピースを包含するように構成された内部を有するエンクロージャによって達成することができる。システムは、処理中により多くのワークピースを支持するように構成されたラック（例えば、高くしたプラットフォーム、吊り下げられたプラットフォーム、など）を含むことができる。
実施形態１１３．システムが、バッチ方式で動作するように構成されている、実施形態１０６〜１１２のいずれかに記載のシステム。一例として、システムは、１つ以上のワークピースを含み、前記１つ以上のワークピースを処理し、次いで、１つ以上のワークピースの後続のバッチを処理するように構成することができる。
実施形態１１４．システムが、連続的な様態で動作するように、例えば、ワークピースをエンクロージャの内部に運ぶコンベヤ上にあるワークピースを処理するように、構成される、実施形態１０６〜１１２のいずれかに記載のシステム。
実施形態１１５．流体源が、液体および／もしくは気体を含む、実施形態１０６〜１１４のいずれかに記載のシステム。例示的な液体には、例えば、油、酸、塩基、炭化水素、キレート剤、電解質、などが含まれる。
実施形態１１６．流体が、気体を含む、実施形態１０６〜１１４のいずれかに記載のシステム。
実施形態１１７．気体が、炭化水素を含む、実施形態１１６に記載のシステム。
実施形態１１８．実施形態８０〜１０２および１０４のいずれかによる方法を実行するように構成されたシステム。
開示されたシステムは、例えば、熱、流体、および／もしくは増加または減少した圧力の適用を介して、断熱構成要素の１つ以上の境界構成要素を調整するように構成され得る。システムはまた、第１の境界構成要素と第２の境界構成要素との間に排気領域を生じさせるのに十分な条件下で第１の境界構成要素および第２の境界構成要素を処理するように構成され得、排気領域は、第１の境界構成要素の表面の調整された領域と第２の境界の表面の調整された領域とによって、少なくとも部分的に画定されている。
実施形態１１９．（ａ）領域内に第１の流体が包含されている第１の境界と第２の境界との間の界面を少なくとも部分的に分裂させるように温度および／もしくは圧力を変えることと、（ｂ）領域から第１の流体の少なくとも一部を除去することと、（ｃ）前記領域に第２の流体を導入することと、（ｄ）領域内に第２の流体を包含することと、を含む、方法。
一例として（そして本明細書の他の場所で説明されているように）、境界が配設されているエンクロージャ（チャンバと呼ばれることもある）内の圧力および／もしくは温度を変えることができる。特定の理論に拘束されることなく、処理チャンバ内の圧力を下げて、ワークピースの２つの同心円管の間の空間から空気を引き出すことができる。これは、例えば、同心円管の１つを差別的に膨張させる温度変化によって達成することができ、こうして、管の間に配設された流体（例えば、空気）の少なくとも部分的な除去を可能にする。
ユーザはまた、第２の流体（例えば、炭化水素、酸、塩基、エッチャント）をチャンバに導入することができ、同心管の間の空間への第２の流体の処理をもたらすように、チャンバ内の圧力および／もしくは温度を変えることができる。
例として、同心の内管と外管との間の空間に空気を配設することができる。真空チャンバ内の温度を上げることにより、外管は膨張して内管と外管との間の界面を分裂させ、それにより内管と外管との間の空間から空気分子を除去もたらすことができる。その除去に続いて、ユーザは、流体をチャンバに導入することができ、それによって、管の間の空間に流体を配設するように作用する。
チャンバ内の温度および／もしくは圧力を変えることによって、以前に界面に寄与していた材料を凝固または他の方法で再構成することによって、界面に影響を与えることができる。例として、２つの同心円管の間のろう付け材料を少なくとも部分的に液化または軟化するような条件を適用することができる。次いで、その空間から空気を取り除き、その空気を第２の液体に置き換えることができる。
本開示はまた、開示された方法を実行するように構成されたシステムを提供する。システムは、シールされたエンクロージャ（例えば、真空チャンバ）、流体源、およびエンクロージャ内の温度および／もしくは圧力を変更するように構成された１つ以上のモジュールを備えることができる。
前述の開示は例示に過ぎず、本明細書に添付された特許請求の範囲を制限するものではなく、または関連する出願に添付された特許請求の範囲を制限するものでもない。
〔実施の態様〕
（１） 内部容積を境界付ける第１の壁であって、
前記第１の壁が、長さを有する主要部分と長さを有する突出部分とを備え、
前記主要部分は、任意選択で前記突出部分に対して垂直に延在する、第１の壁と、
前記内部容積を境界付ける第２の壁であって、
前記第２の壁が、長さを有する主要部分を備え、任意選択で長さを有する突出部分を備える、第２の壁と、を備え、
（ａ）前記第１の壁の前記突出部分と前記第２の壁とが、それらの間に第１のベントを画定するか、または（ｂ）前記第２の壁と前記第１の壁とが、それらの間に第２のベントを画定するか、または（ｃ）（ａ）および（ｂ）の両方であり、かつ
前記第１の壁の前記突出部分に対する前記第１の壁の前記主要部分の前記長さの比率が、約１０００：１〜約１：１であり、かつ、任意選択で、
前記分子励起チャンバの前記内部容積内に配設された分子の加熱をもたらすように構成された熱源と、を備える、分子励起チャンバ。
（２） 前記第２の壁が、前記第２の壁と衝突する分子を前記第１のベントに向けて偏向させるように構成されている、実施態様１に記載の分子励起チャンバ。
（３） 前記分子励起チャンバが、第２のベントを備える、実施態様１または２に記載の分子励起チャンバ。
（４） 前記第２のベントが、前記第１の壁と前記第２の壁の前記突出部分とによって画定されている、実施態様３に記載の分子励起チャンバ。
（５） 前記第２のベントが、前記第１のベントの反対側に配設されている、実施態様３または４に記載の分子励起チャンバ。
（６） 前記空間が主軸を画定し、前記主軸に平行に引かれた線が前記第１のベントおよび前記第２のベントの両方と交差しない、実施態様５に記載の分子励起チャンバ。
（７） 前記空間がシールされ、さらに、前記空間が約０．０００１〜約５０トルの圧力に排気されている、実施態様１〜６のいずれかに記載の分子励起チャンバ。
（８） 前記空間が、約０．００５〜約５トルの圧力に排気されている、実施態様７に記載の分子励起チャンバ。
（９） 実施態様１〜８のいずれかに記載の分子励起チャンバの前記第１のベントを開くことを含む、方法。
（１０） （ａ）長さを有する主要部分と長さを有する突出部分とを備える第１の壁であって、前記主要部分が、任意選択で前記突出部分に垂直に延在し、前記第１の壁の前記突出部分に対する前記第１の壁の前記主要部分の前記長さの比率が、約１０００：１〜約１：１である、第１の壁と、
（ｂ）長さを有する主要部分を備え、任意選択で長さを有する突出部分を備える、第２の壁と、を組み立てることであって、
前記組み立てが、前記第１の壁の前記突出部分と前記第２の壁とによって画定される第１のベントを画定するように行われる、組み立てることと、
前記第１の壁と前記第２の壁との間の空間をシールするように前記第１のベントをシールすることと、を含む、方法。
（１１） 前記シールすることが、シーリング材料を用いて達成される、実施態様１０に記載の方法。
（１２） 前記シーリング材料が、シーリング中に前記第１のベントを少なくとも部分的に閉塞するように作用する、実施態様１１に記載の方法。
（１３） 前記シーリング材料が、シーリング中にメニスカスを形成する、実施態様１２に記載の方法。
（１４） 前記第１の壁および前記第２の壁が、それらの間に第２のベントを画定する、実施態様１０に記載の方法。
（１５） 前記第２のベントが、前記第１の壁と前記第２の壁の突出部分とによって画定される、実施態様１４に記載の方法。
（１６） 前記空間が主軸を画定し、前記主軸に平行に引かれた線が前記第１のベントおよび前記第２のベントの両方と交差しない、実施態様１４または１５に記載の方法。
（１７） 約０．０００１〜約５０トルの前記空間内の圧力を生じさせるように熱を加えることをさらに含む、実施態様１０〜１６のいずれかに記載の方法。
（１８） 前記熱が、約０．００５〜約５トルの前記空間内の圧力を生じさせるように加えられる、実施態様１７に記載の方法。
（１９） 内部容積を境界付ける第１の壁と、
第２の壁であって、前記第１の壁と前記第２の壁との間に断熱空間を画定するように、前記第１の壁から距離を置いて離間された、第２の壁と、
前記断熱空間に面する前記第２の壁の内面と、前記断熱空間に面する前記第１の壁の外面と、を備え、
（ａ）前記第１の壁が、（ｉ）前記第１の壁の第１の端部から前記第２の壁の前記内面に向かって延在し、任意選択で前記第２の壁の前記内面に本質的に垂直である、および／もしくは（ｉｉ）前記第１の壁の第２の端部に向かって延在する、延長部分を備え、前記第１の壁の前記延長部分が、任意選択で前記第２の壁の前記内面に本質的に平行であるランド部分をさらに備えるか、または、
（ｂ）前記第２の壁が、（ｉ）前記第２の壁の第１の端部から前記第１の壁の前記外面に向かって延在し、任意選択で前記第１の壁の前記外面に本質的に垂直である、および／もしくは（ｉｉ）前記第２の壁の第２の端部に向かって延在する、延長部分を備え、前記第２の壁の前記延長部分が、任意選択で前記第１の壁の前記外面に本質的に平行であるランド部分をさらに備えるか、または、
（ａ）および（ｂ）の両方であり、かつ、
前記断熱空間と連通して、前記断熱空間からの気体分子のための出口経路を提供する第１のベント、を備え、
前記ベントが、前記ベントからの気体分子の流出に続いて前記断熱空間をシーリングするためにシール可能である、断熱構成要素。
（２０） 前記第１および第２の壁が、それぞれ、第１の管および第２の管として特徴付けられている、実施態様１９に記載の断熱構成要素。
（２１） 前記第１および第２の管が、互いに同軸に配置されている、実施態様２０に記載の断熱構成要素。
（２２） 前記第１の壁の前記延長部分が、前記第１の壁に垂直な線によって測定されるとき、長さＬＥ１を画定する、実施態様１９〜２１のいずれかに記載の断熱構成要素。
（２３） 前記第１の壁が、長さＷＬ１を画定し、ＬＥ１対ＷＬ１の比率が、約１：１０００〜約１：２である、実施態様２２に記載の断熱構成要素。
（２４） 前記ＬＥ１対ＷＬ１の比率が、約１：１０〜約１：５である、実施態様２３に記載の断熱構成要素。
（２５） 前記第２の壁の前記延長部分が、前記第２の壁に垂直な線によって測定されるとき、長さＬＥ２を画定する、実施態様１９〜２４のいずれかに記載の断熱構成要素。
（２６） 前記第２の壁が、長さＷＬ２を画定し、ＬＥ２対ＷＬ２の比率が、約１：１０００〜約１：２である、実施態様２５に記載の断熱構成要素。
（２７） 前記ＬＥ２対ＷＬ２の比率が、約１：１００〜約１：５である、実施態様２６に記載の断熱構成要素。
（２８） 前記第２の壁が、前記第１のベントが開かれるように、有効な条件が前記第１の壁に対する前記第２の壁の熱膨張に影響を与えるように構成されている、実施態様１９〜２７のいずれかに記載の断熱構成要素。
（２９） 前記第１のベントが、前記第１の壁の前記ランド部分によって少なくとも部分的に画定されている、実施態様１９〜２８のいずれかに記載の断熱構成要素。
（３０） 第２のベントをさらに含み、前記第２のベントが、前記第２の壁の前記ランド部分によって少なくとも部分的に画定されている、実施態様２９に記載の断熱構成要素。
（３１） 前記第２の壁の前記内面に平行に延在する線に沿って、前記第１のベントおよび前記第２のベントが互いに重なり合わない、実施態様３０に記載の断熱構成要素。
（３２） 前記断熱空間をシールするように前記第１のベントをシールするシーラントをさらに含み、前記シーラントが、任意選択で前記第１のベントを少なくとも部分的に閉塞するように配設されている、実施態様１９〜３１のいずれかに記載の断熱構成要素。
（３３） 実施態様１９〜３２のいずれかに記載の断熱構成要素の前記内部容積内で流体を連通することを含む、方法。
（３４） 実施態様１９〜３２のいずれかに記載の断熱構成要素の前記内部容積内で少なくとも部分的に配設された材料を加熱することを含む、方法。
（３５） 前記加熱が、前記材料を燃焼させずに前記材料を加熱することを含む、実施態様３４に記載の方法。
（３６） 前記材料が、喫煙可能な材料を含む、実施態様３４または３５に記載の方法。
（３７） 内部容積を境界付ける第１の壁と、前記第１の壁から距離を置いて離間された第２の壁と、を備え、
容積が、前記第１の壁と前記第２の壁との間に画定され、
（ａ）前記第１の壁が、前記第２の壁に向かって延在し、任意選択で前記第２の壁の内面に本質的に垂直である延長部分を備え、前記第１の壁の前記延長部分が、任意選択で前記第２の壁の前記内面に本質的に平行であるランド部分をさらに備え、
（ｂ）前記第２の壁が、前記第１の壁の外面に向かって延在し、任意選択で前記第１の壁の前記外面に本質的に垂直である延長部分を備え、前記第２の壁の前記延長部分が、任意選択で前記第１の壁の前記外面に本質的に平行であるランド部分をさらに備え、
または（ａ）および（ｂ）の両方であり、かつ
（ｃ）前記第１の壁の前記ランド部分が、前記第１の壁と前記第２の壁との間の容積を画定するように前記第２の壁に接触し、（ｄ）前記第２の壁の前記ランド部分が、前記第１の壁と前記第２の壁との間の容積を画定するように前記第１の壁に接触し、
または（ｃ）および（ｄ）の両方であり、
前記第１の壁に対して前記第２の壁の熱膨張をもたらすのに有効な条件下で前記第１の壁および前記第２の壁を加熱すること、を含み、
前記熱膨張が、前記第１の壁の前記ランド部分と前記第２の壁との間の空間を生じさせるかまたは増大させ、および／もしくは前記第２の壁の前記ランド部分と前記第１の壁との間の空間を生じさせるかまたは増大させ、それにより、気体分子が、前記第１の壁と前記第２の壁との間に画定された前記容積を出ることを可能にする、方法。
（３８） 前記加熱が、大気圧未満で行われる、実施態様３７に記載の方法。
（３９） 前記熱膨張が、前記第１の壁の前記ランド部分と前記第２の壁との間の空間を生じさせるかまたは増大させる、実施態様３７または３８に記載の方法。
（４０） 前記熱膨張が、前記第２の壁の前記ランド部分と前記第１の壁との間の空間を生じさせるかまたは増大させる、実施態様３７〜３９のいずれかに記載の方法。
（４１） 前記熱膨張が、前記第１の壁の前記ランド部分と前記第２の壁との間の空間を生じさせるかまたは増大させ、かつ、前記第２の壁の前記ランド部分と前記第１の壁との間の空間を生じさせるかまたは増大させる、実施態様３７〜４０のいずれかに記載の方法。
（４２） 前記加熱が、前記第１の壁の前記ランド部分と前記第２の壁との間の前記空間および／もしくは前記第２の壁の前記ランド部分と前記第１の壁との間の前記空間のシーラントによってシーリングをもたらすのに有効である、実施態様３７〜４１のいずれかに記載の方法。
（４３） 内部容積を境界付ける第１の壁と、
第２の壁であって、前記第１の壁と前記第２の壁との間に断熱空間を画定するように、前記第１の壁から距離を置いて離間された、第２の壁と、
第１のキャップであって、前記第１のキャップが、前記第１の壁と前記第２の壁との間に画定された前記断熱空間を少なくとも部分的にシールし、
前記第１のキャップが第１のランドを備え、前記第１のランドが任意選択で前記第１の壁にシールされ、かつ、前記第１のキャップが第２のランドをさらに備え、前記第２のランドが任意選択で前記第２の壁にシールされる、第１のキャップと、
前記断熱空間と連通して、前記断熱空間からの気体分子のための出口経路を提供する第１のベントと、を備え、
前記第１のベントが、前記ベントからの気体分子の流出に続いて前記断熱空間をシーリングするためにシール可能である、断熱構成要素。
（４４） 前記第１のベントが、前記第１のランドおよび前記第１の壁によって画定されている、実施態様４３に記載の断熱構成要素。
（４５） 第２のキャップをさらに備え、前記第２のキャップが、前記第１の壁と前記第２の壁との間に画定された前記断熱空間を少なくとも部分的にシールする、実施態様４３または４４に記載の断熱構成要素。
（４６） 前記第２のキャップが、第１のランドおよび第２のランドを備える、実施態様４５に記載の断熱構成要素。
（４７） 前記第２のキャップの前記第１のランドおよび前記第２のランドが、概して同じ方向に延在する、実施態様４５に記載の断熱構成要素。
（４８） 前記第２のキャップの前記第１のランドおよび前記第２のランドが、概して反対方向に延在する、実施態様４５に記載の断熱構成要素。
（４９） 前記第１のキャップの前記第１のランドおよび前記第２のランドが、概して同じ方向に延在する、実施態様４３〜４８のいずれかに記載の断熱構成要素。
（５０） 前記第１のキャップの前記第１のランドおよび前記第２のランドが、概して反対方向に延在する、実施態様４３〜４８のいずれかに記載の断熱構成要素。
（５１） （ａ）前記第１のキャップの前記第１のランドが、前記キャップの周囲の周りで変化する高さを画定するか、（ｂ）前記第１のキャップの前記第２のランドが、前記キャップの周囲の周りで変化する高さを画定するか、または（ａ）および（ｂ）である、実施態様４３〜５０のいずれかに記載の断熱構成要素。
（５２） 実施態様４３〜５１のいずれかに記載の断熱構成要素を用いて、前記内部容積内で流体を連通することを含む、方法。
（５３） 実施態様４３〜５１のいずれかに記載の断熱構成要素を用いて、前記第１のキャップの前記第１のランドを前記第１の壁にシールすることを含む、方法。
（５４） 第１の壁と、
第２の壁と、を備え、
前記第１の壁が前記第２の壁を囲み、
前記第１の壁が、前記第２の壁に向かって延在する傾斜部分を備え、前記第１の壁がまた、前記傾斜部分から延在するランド部分を備え、
前記第２の壁が、前記第１の壁に向かって延在する傾斜部分を備え、前記第２の壁がまた、前記傾斜部分から延在するランド部分を備え、
第３の壁と、
第４の壁と、を備え、前記第３の壁が前記第４の壁を囲み、
前記第１の壁の前記ランドが前記第３の壁にシールされ、前記第２の壁の前記ランドが前記第４の壁にシールされ、それにより、前記第３の壁と前記第４の壁との間の空間と流体連通している前記第１の壁と前記第２の壁との間の空間を少なくとも部分的にシールする、断熱構成要素。
（５５） 内部容積を境界付ける第１の壁と、
第２の壁であって、前記第１の壁と前記第２の壁との間に断熱空間を画定するように、前記第１の壁から距離を置いて離間された、第２の壁と、
湾曲したプロファイルを画定する第１のキャップであって、
前記第１のキャップが、前記第１の壁と前記第２の壁との間に画定された前記断熱空間を少なくとも部分的にシールする、第１のキャップと、
湾曲したプロファイルを画定する第２のキャップであって、
前記第２のキャップが、前記第１の壁にシールされた第１の部分を備え、
前記第２のキャップが、前記第２の壁にシールされた第２の部分をさらに備える、第２のキャップと、を備え、
第１の壁の前記湾曲したプロファイルおよび前記第２の壁の前記湾曲したプロファイルが、互いに離れて凹状である、断熱構成要素。
（５６） 前記第１のキャップが、前記第１の壁および前記第２の壁の対向面にシールされている、実施態様５３に記載の断熱構成要素。
（５７） 前記第１のキャップが、前記第１の壁および前記第２の壁の非対向面にシールされている、実施態様５３に記載の断熱構成要素。
（５８） 前記第２のキャップが、前記第１の壁および前記第２の壁の対向面にシールされている、実施態様５３に記載の断熱構成要素。
（５９） 前記第２のキャップが、前記第１の壁および前記第２の壁の非対向面にシールされている、実施態様５３に記載の断熱構成要素。
（６０） 構成要素を打撃、振動、またはその両方にさらすことであって、
前記構成要素が、前記構成要素内にシールされた排気領域を含む、さらすことと、
前記さらすことに関連する１つ以上の情報の項目を処理することと、
前記１つ以上の情報の項目を前記構成要素の物理的特性に関連付けることと、を含む、試験方法。
（６１） 前記打撃が、自動化された方法でもたらされる、実施態様６０に記載の試験方法。
（６２） 前記打撃が、手動でもたらされる、実施態様６０に記載の試験方法。
（６３） 前記打撃が、前記構成要素を基板上に落下させることによってもたらされ、前記基板は、任意選択でストライカープレートである、実施態様５８に記載の試験方法。
（６４） 前記振動が、前記構成要素と機械的に連通しているバイブレータ装置によってもたらされる、実施態様６０に記載の試験方法。
（６５） 前記振動が、前記構成要素と流体連通しているバイブレータ装置によってもたらされる、実施態様６０に記載の試験方法。
（６６） 前記１つ以上の情報の項目が、前記構成要素の第１の表面から受け取られ、前記さらすことが前記構成要素の第２の表面上でもたらされる、実施態様６０〜６５のいずれかに記載の試験方法。
（６７） 前記構成要素を、前記構成要素の第１の表面で固定することをさらに含み、前記さらすことが前記構成要素の第２の表面上でもたらされる、実施態様６０〜６６のいずれかに記載の試験方法。
（６８） 前記構成要素の前記打撃、振動、またはその両方への前記さらすことの間、前記構成要素をある方向に維持することをさらに含む、実施態様６０〜６７のいずれかに記載の試験方法。
（６９） 前記構成要素を、環境振動から少なくとも部分的に振動分離して維持することをさらに含む、実施態様６０〜６８のいずれかに記載の試験方法。
（７０） 前記物理的特性が、前記構成要素の断熱特性を含む、実施態様６０〜６９のいずれかに記載の試験方法。
（７１） 前記構成要素内の前記シールされた排気領域が、環状の構成として特徴付けられる、実施態様６０〜７０のいずれかに記載の試験方法。
（７２） 前記構成要素が、ある量の１つ以上のセラミックを含む、実施態様６０〜７１のいずれかに記載の試験方法。
（７３） バイブレータ装置と、
構成要素マウントと、
前記構成要素マウントに固定された構成要素であって、前記構成要素がある量のセラミックを含み、前記構成要素が前記構成要素内のシールされた排気領域を含み、またはその両方であり、
前記構成要素は、前記構成要素が前記バイブレータ装置と機械的に連通するか、前記バイブレータ装置と流体連通するか、またはその両方になるように固定されている、構成要素と、を備える、試験システム。
（７４） 前記構成要素の表面に配設されたトランスデューサをさらに備える、実施態様７３に記載の試験システム。
（７５） 前記システムは、前記トランスデューサが、前記バイブレータ装置から振動を受け取る前記構成要素の表面とは異なる前記構成要素の表面に配設されるように構成されている、実施態様７４に記載の試験システム。
（７６） 前記システムが、前記構成要素を前記振動装置からのエネルギーにさらすことに関連する前記構成要素から発した１つ以上の情報の項目を受け取るように構成され、任意選択で、前記システムが、前記１つ以上の情報の項目を前記構成要素の物理的特性に関連付けるように構成されている、実施態様７３〜７５のいずれかに記載の試験システム。
（７７） 打撃プレートと、
前記打撃プレートへの構成要素の衝突から発したエネルギーを受け取るように構成されたトランスデューサと、を備える、試験システム。
（７８） 前記トランスデューサが、前記構成要素の前記打撃プレートへの衝突時に前記構成要素から発したエネルギーを受け取るように構成されている、実施態様７７に記載の試験システム。
（７９） 前記システムが、前記構成要素の前記打撃プレートへの衝突に関連する１つ以上の情報の項目を受け取るように構成され、任意選択で、前記システムが、前記１つ以上の情報の項目を前記構成要素の物理的特性に関連付けるように構成されている、実施態様７７または７８に記載の試験システム。
（８０） バイブレータ装置と、構成要素マウントと、プロセッサと、を備える、試験システム。
（８１） 断熱構成要素を調製する方法であって、
第１の境界構成要素の表面の少なくとも一部を調整することによって、前記第１の境界構成要素の前記表面の調整された領域を形成することと、
第２の境界構成要素の表面の少なくとも一部を調整することによって、前記第２の境界構成要素の前記表面の調整された領域を形成することと、
前記第１の境界構成要素と前記第２の境界構成要素との間にシールされた排気領域を生じさせるのに十分な条件下で前記第１の境界構成要素および前記第２の境界構成要素を処理することであって、
前記シールされた排気領域が、前記第１の境界構成要素の前記表面の前記調整された領域および前記第２の境界構成要素の前記表面の前記調整された領域によって少なくとも部分的に画定されている、処理することと、を含む、方法。
（８２） 前記調整が、前記第１の境界構成要素の前記調整された領域、前記第２の境界構成要素の前記調整された領域、またはその両方の不純物を低減するように行われる、実施態様８１に記載の方法。
（８３） 前記調整が、前記第１の境界構成要素と前記第２の境界構成要素との間の空間に流体を引き込むことを含む、実施態様８１または８２に記載の方法。
（８４） 前記調整が、加熱することを含む、実施態様８１〜８３のいずれかに記載の方法。
（８５） スペーサ材料が前記シールされた排気領域内に留まるように、前記第１の境界構成要素と前記第２の境界構成要素との間に前記スペーサ材料を配設することをさらに含む、実施態様８１〜８４のいずれかに記載の方法。
（８６） 前記スペーサ材料が、セラミックを含む、実施態様８５に記載の方法。
（８７） 前記スペーサ材料が、窒化ホウ素を含む、実施態様８５に記載の方法。
（８８） 前記調整が、前記スペーサ材料の少なくとも一部を調整すること、前記スペーサ材料の少なくとも一部を加熱すること、またはその両方を含む、実施態様８５〜８７のいずれかに記載の方法。
（８９） 前記第１の境界構成要素および前記第２の境界構成要素の一方または両方が、セラミックを含む、実施態様８１〜８８のいずれかに記載の方法。
（９０） 前記第１の境界構成要素および前記第２の境界構成要素の一方または両方が、金属を含む、実施態様８０〜８９のいずれかに記載の方法。
（９１） 前記処理が、ろう付けを含む、実施態様８０〜９０のいずれかに記載の方法。
（９２） 前記処理が、前記第１の境界構成要素および前記第２の境界構成要素の一方または両方をシーラー構成要素にシールすることを含む、実施態様８０〜９１のいずれかに記載の方法。
（９３） 前記シーラー構成要素が、リングを含む、実施態様９２に記載の方法。
（９４） 前記リングが、セラミックを含む、実施態様９３に記載の方法。
（９５） 前記シールされた排気空間が、約１〜約１０００分子／ｃｍ３の分子密度を画定する、実施態様８０〜９４のいずれかに記載の方法。
（９６） 実施態様８０〜９５のいずれかに従って調製された、断熱構成要素。

Claims (96)

  1. 内部容積を境界付ける第１の壁であって、
    前記第１の壁が、長さを有する主要部分と長さを有する突出部分とを備え、
    前記主要部分は、任意選択で前記突出部分に対して垂直に延在する、第１の壁と、
    前記内部容積を境界付ける第２の壁であって、
    前記第２の壁が、長さを有する主要部分を備え、任意選択で長さを有する突出部分を備える、第２の壁と、を備え、
    （ａ）前記第１の壁の前記突出部分と前記第２の壁とが、それらの間に第１のベントを画定するか、または（ｂ）前記第２の壁と前記第１の壁とが、それらの間に第２のベントを画定するか、または（ｃ）（ａ）および（ｂ）の両方であり、かつ
    前記第１の壁の前記突出部分に対する前記第１の壁の前記主要部分の前記長さの比率が、約１０００：１〜約１：１であり、かつ、任意選択で、
    前記分子励起チャンバの前記内部容積内に配設された分子の加熱をもたらすように構成された熱源と、を備える、分子励起チャンバ。
  2. 前記第２の壁が、前記第２の壁と衝突する分子を前記第１のベントに向けて偏向させるように構成されている、請求項１に記載の分子励起チャンバ。
  3. 前記分子励起チャンバが、第２のベントを備える、請求項１または２に記載の分子励起チャンバ。
  4. 前記第２のベントが、前記第１の壁と前記第２の壁の前記突出部分とによって画定されている、請求項３に記載の分子励起チャンバ。
  5. 前記第２のベントが、前記第１のベントの反対側に配設されている、請求項３または４に記載の分子励起チャンバ。
  6. 前記空間が主軸を画定し、前記主軸に平行に引かれた線が前記第１のベントおよび前記第２のベントの両方と交差しない、請求項５に記載の分子励起チャンバ。
  7. 前記空間がシールされ、さらに、前記空間が約０．０００１〜約５０トルの圧力に排気されている、請求項１〜６のいずれか一項に記載の分子励起チャンバ。
  8. 前記空間が、約０．００５〜約５トルの圧力に排気されている、請求項７に記載の分子励起チャンバ。
  9. 請求項１〜８のいずれかに記載の分子励起チャンバの前記第１のベントを開くことを含む、方法。
  10. （ａ）長さを有する主要部分と長さを有する突出部分とを備える第１の壁であって、前記主要部分が、任意選択で前記突出部分に垂直に延在し、前記第１の壁の前記突出部分に対する前記第１の壁の前記主要部分の前記長さの比率が、約１０００：１〜約１：１である、第１の壁と、
    （ｂ）長さを有する主要部分を備え、任意選択で長さを有する突出部分を備える、第２の壁と、を組み立てることであって、
    前記組み立てが、前記第１の壁の前記突出部分と前記第２の壁とによって画定される第１のベントを画定するように行われる、組み立てることと、
    前記第１の壁と前記第２の壁との間の空間をシールするように前記第１のベントをシールすることと、を含む、方法。
  11. 前記シールすることが、シーリング材料を用いて達成される、請求項１０に記載の方法。
  12. 前記シーリング材料が、シーリング中に前記第１のベントを少なくとも部分的に閉塞するように作用する、請求項１１に記載の方法。
  13. 前記シーリング材料が、シーリング中にメニスカスを形成する、請求項１２に記載の方法。
  14. 前記第１の壁および前記第２の壁が、それらの間に第２のベントを画定する、請求項１０に記載の方法。
  15. 前記第２のベントが、前記第１の壁と前記第２の壁の突出部分とによって画定される、請求項１４に記載の方法。
  16. 前記空間が主軸を画定し、前記主軸に平行に引かれた線が前記第１のベントおよび前記第２のベントの両方と交差しない、請求項１４または１５に記載の方法。
  17. 約０．０００１〜約５０トルの前記空間内の圧力を生じさせるように熱を加えることをさらに含む、請求項１０〜１６のいずれかに記載の方法。
  18. 前記熱が、約０．００５〜約５トルの前記空間内の圧力を生じさせるように加えられる、請求項１７に記載の方法。
  19. 内部容積を境界付ける第１の壁と、
    第２の壁であって、前記第１の壁と前記第２の壁との間に断熱空間を画定するように、前記第１の壁から距離を置いて離間された、第２の壁と、
    前記断熱空間に面する前記第２の壁の内面と、前記断熱空間に面する前記第１の壁の外面と、を備え、
    （ａ）前記第１の壁が、（ｉ）前記第１の壁の第１の端部から前記第２の壁の前記内面に向かって延在し、任意選択で前記第２の壁の前記内面に本質的に垂直である、および／もしくは（ｉｉ）前記第１の壁の第２の端部に向かって延在する、延長部分を備え、前記第１の壁の前記延長部分が、任意選択で前記第２の壁の前記内面に本質的に平行であるランド部分をさらに備えるか、または、
    （ｂ）前記第２の壁が、（ｉ）前記第２の壁の第１の端部から前記第１の壁の前記外面に向かって延在し、任意選択で前記第１の壁の前記外面に本質的に垂直である、および／もしくは（ｉｉ）前記第２の壁の第２の端部に向かって延在する、延長部分を備え、前記第２の壁の前記延長部分が、任意選択で前記第１の壁の前記外面に本質的に平行であるランド部分をさらに備えるか、または、
    （ａ）および（ｂ）の両方であり、かつ、
    前記断熱空間と連通して、前記断熱空間からの気体分子のための出口経路を提供する第１のベント、を備え、
    前記ベントが、前記ベントからの気体分子の流出に続いて前記断熱空間をシーリングするためにシール可能である、断熱構成要素。
  20. 前記第１および第２の壁が、それぞれ、第１の管および第２の管として特徴付けられている、請求項１９に記載の断熱構成要素。
  21. 前記第１および第２の管が、互いに同軸に配置されている、請求項２０に記載の断熱構成要素。
  22. 前記第１の壁の前記延長部分が、前記第１の壁に垂直な線によって測定されるとき、長さＬＥ１を画定する、請求項１９〜２１のいずれか一項に記載の断熱構成要素。
  23. 前記第１の壁が、長さＷＬ１を画定し、ＬＥ１対ＷＬ１の比率が、約１：１０００〜約１：２である、請求項２２に記載の断熱構成要素。
  24. 前記ＬＥ１対ＷＬ１の比率が、約１：１０〜約１：５である、請求項２３に記載の断熱構成要素。
  25. 前記第２の壁の前記延長部分が、前記第２の壁に垂直な線によって測定されるとき、長さＬＥ２を画定する、請求項１９〜２４のいずれか一項に記載の断熱構成要素。
  26. 前記第２の壁が、長さＷＬ２を画定し、ＬＥ２対ＷＬ２の比率が、約１：１０００〜約１：２である、請求項２５に記載の断熱構成要素。
  27. 前記ＬＥ２対ＷＬ２の比率が、約１：１００〜約１：５である、請求項２６に記載の断熱構成要素。
  28. 前記第２の壁が、前記第１のベントが開かれるように、有効な条件が前記第１の壁に対する前記第２の壁の熱膨張に影響を与えるように構成されている、請求項１９〜２７のいずれかに記載の断熱構成要素。
  29. 前記第１のベントが、前記第１の壁の前記ランド部分によって少なくとも部分的に画定されている、請求項１９〜２８のいずれか一項に記載の断熱構成要素。
  30. 第２のベントをさらに含み、前記第２のベントが、前記第２の壁の前記ランド部分によって少なくとも部分的に画定されている、請求項２９に記載の断熱構成要素。
  31. 前記第２の壁の前記内面に平行に延在する線に沿って、前記第１のベントおよび前記第２のベントが互いに重なり合わない、請求項３０に記載の断熱構成要素。
  32. 前記断熱空間をシールするように前記第１のベントをシールするシーラントをさらに含み、前記シーラントが、任意選択で前記第１のベントを少なくとも部分的に閉塞するように配設されている、請求項１９〜３１のいずれか一項に記載の断熱構成要素。
  33. 請求項１９〜３２のいずれか一項に記載の断熱構成要素の前記内部容積内で流体を連通することを含む、方法。
  34. 請求項１９〜３２のいずれか一項に記載の断熱構成要素の前記内部容積内で少なくとも部分的に配設された材料を加熱することを含む、方法。
  35. 前記加熱が、前記材料を燃焼させずに前記材料を加熱することを含む、請求項３４に記載の方法。
  36. 前記材料が、喫煙可能な材料を含む、請求項３４または３５に記載の方法。
  37. 内部容積を境界付ける第１の壁と、前記第１の壁から距離を置いて離間された第２の壁と、を備え、
    容積が、前記第１の壁と前記第２の壁との間に画定され、
    （ａ）前記第１の壁が、前記第２の壁に向かって延在し、任意選択で前記第２の壁の内面に本質的に垂直である延長部分を備え、前記第１の壁の前記延長部分が、任意選択で前記第２の壁の前記内面に本質的に平行であるランド部分をさらに備え、
    （ｂ）前記第２の壁が、前記第１の壁の外面に向かって延在し、任意選択で前記第１の壁の前記外面に本質的に垂直である延長部分を備え、前記第２の壁の前記延長部分が、任意選択で前記第１の壁の前記外面に本質的に平行であるランド部分をさらに備え、
    または（ａ）および（ｂ）の両方であり、かつ
    （ｃ）前記第１の壁の前記ランド部分が、前記第１の壁と前記第２の壁との間の容積を画定するように前記第２の壁に接触し、（ｄ）前記第２の壁の前記ランド部分が、前記第１の壁と前記第２の壁との間の容積を画定するように前記第１の壁に接触し、
    または（ｃ）および（ｄ）の両方であり、
    前記第１の壁に対して前記第２の壁の熱膨張をもたらすのに有効な条件下で前記第１の壁および前記第２の壁を加熱すること、を含み、
    前記熱膨張が、前記第１の壁の前記ランド部分と前記第２の壁との間の空間を生じさせるかまたは増大させ、および／もしくは前記第２の壁の前記ランド部分と前記第１の壁との間の空間を生じさせるかまたは増大させ、それにより、気体分子が、前記第１の壁と前記第２の壁との間に画定された前記容積を出ることを可能にする、方法。
  38. 前記加熱が、大気圧未満で行われる、請求項３７に記載の方法。
  39. 前記熱膨張が、前記第１の壁の前記ランド部分と前記第２の壁との間の空間を生じさせるかまたは増大させる、請求項３７または３８に記載の方法。
  40. 前記熱膨張が、前記第２の壁の前記ランド部分と前記第１の壁との間の空間を生じさせるかまたは増大させる、請求項３７〜３９のいずれか一項に記載の方法。
  41. 前記熱膨張が、前記第１の壁の前記ランド部分と前記第２の壁との間の空間を生じさせるかまたは増大させ、かつ、前記第２の壁の前記ランド部分と前記第１の壁との間の空間を生じさせるかまたは増大させる、請求項３７〜４０のいずれか一項に記載の方法。
  42. 前記加熱が、前記第１の壁の前記ランド部分と前記第２の壁との間の前記空間および／もしくは前記第２の壁の前記ランド部分と前記第１の壁との間の前記空間のシーラントによってシーリングをもたらすのに有効である、請求項３７〜４１のいずれか一項に記載の方法。
  43. 内部容積を境界付ける第１の壁と、
    第２の壁であって、前記第１の壁と前記第２の壁との間に断熱空間を画定するように、前記第１の壁から距離を置いて離間された、第２の壁と、
    第１のキャップであって、前記第１のキャップが、前記第１の壁と前記第２の壁との間に画定された前記断熱空間を少なくとも部分的にシールし、
    前記第１のキャップが第１のランドを備え、前記第１のランドが任意選択で前記第１の壁にシールされ、かつ、前記第１のキャップが第２のランドをさらに備え、前記第２のランドが任意選択で前記第２の壁にシールされる、第１のキャップと、
    前記断熱空間と連通して、前記断熱空間からの気体分子のための出口経路を提供する第１のベントと、を備え、
    前記第１のベントが、前記ベントからの気体分子の流出に続いて前記断熱空間をシーリングするためにシール可能である、断熱構成要素。
  44. 前記第１のベントが、前記第１のランドおよび前記第１の壁によって画定されている、請求項４３に記載の断熱構成要素。
  45. 第２のキャップをさらに備え、前記第２のキャップが、前記第１の壁と前記第２の壁との間に画定された前記断熱空間を少なくとも部分的にシールする、請求項４３または４４に記載の断熱構成要素。
  46. 前記第２のキャップが、第１のランドおよび第２のランドを備える、請求項４５に記載の断熱構成要素。
  47. 前記第２のキャップの前記第１のランドおよび前記第２のランドが、概して同じ方向に延在する、請求項４５に記載の断熱構成要素。
  48. 前記第２のキャップの前記第１のランドおよび前記第２のランドが、概して反対方向に延在する、請求項４５に記載の断熱構成要素。
  49. 前記第１のキャップの前記第１のランドおよび前記第２のランドが、概して同じ方向に延在する、請求項４３〜４８のいずれか一項に記載の断熱構成要素。
  50. 前記第１のキャップの前記第１のランドおよび前記第２のランドが、概して反対方向に延在する、請求項４３〜４８のいずれか一項に記載の断熱構成要素。
  51. （ａ）前記第１のキャップの前記第１のランドが、前記キャップの周囲の周りで変化する高さを画定するか、（ｂ）前記第１のキャップの前記第２のランドが、前記キャップの周囲の周りで変化する高さを画定するか、または（ａ）および（ｂ）である、請求項４３〜５０のいずれか一項に記載の断熱構成要素。
  52. 実施形態４３〜５１のいずれか１つに記載の断熱構成要素を用いて、前記内部容積内で流体を連通することを含む、方法。
  53. 実施形態４３〜５１のいずれか１つに記載の断熱構成要素を用いて、前記第１のキャップの前記第１のランドを前記第１の壁にシールすることを含む、方法。
  54. 第１の壁と、
    第２の壁と、を備え、
    前記第１の壁が前記第２の壁を囲み、
    前記第１の壁が、前記第２の壁に向かって延在する傾斜部分を備え、前記第１の壁がまた、前記傾斜部分から延在するランド部分を備え、
    前記第２の壁が、前記第１の壁に向かって延在する傾斜部分を備え、前記第２の壁がまた、前記傾斜部分から延在するランド部分を備え、
    第３の壁と、
    第４の壁と、を備え、前記第３の壁が前記第４の壁を囲み、
    前記第１の壁の前記ランドが前記第３の壁にシールされ、前記第２の壁の前記ランドが前記第４の壁にシールされ、それにより、前記第３の壁と前記第４の壁との間の空間と流体連通している前記第１の壁と前記第２の壁との間の空間を少なくとも部分的にシールする、断熱構成要素。
  55. 内部容積を境界付ける第１の壁と、
    第２の壁であって、前記第１の壁と前記第２の壁との間に断熱空間を画定するように、前記第１の壁から距離を置いて離間された、第２の壁と、
    湾曲したプロファイルを画定する第１のキャップであって、
    前記第１のキャップが、前記第１の壁と前記第２の壁との間に画定された前記断熱空間を少なくとも部分的にシールする、第１のキャップと、
    湾曲したプロファイルを画定する第２のキャップであって、
    前記第２のキャップが、前記第１の壁にシールされた第１の部分を備え、
    前記第２のキャップが、前記第２の壁にシールされた第２の部分をさらに備える、第２のキャップと、を備え、
    第１の壁の前記湾曲したプロファイルおよび前記第２の壁の前記湾曲したプロファイルが、互いに離れて凹状である、断熱構成要素。
  56. 前記第１のキャップが、前記第１の壁および前記第２の壁の対向面にシールされている、請求項５３に記載の断熱構成要素。
  57. 前記第１のキャップが、前記第１の壁および前記第２の壁の非対向面にシールされている、請求項５３に記載の断熱構成要素。
  58. 前記第２のキャップが、前記第１の壁および前記第２の壁の対向面にシールされている、請求項５３に記載の断熱構成要素。
  59. 前記第２のキャップが、前記第１の壁および前記第２の壁の非対向面にシールされている、請求項５３に記載の断熱構成要素。
  60. 構成要素を打撃、振動、またはその両方にさらすことであって、
    前記構成要素が、前記構成要素内にシールされた排気領域を含む、さらすことと、
    前記さらすことに関連する１つ以上の情報の項目を処理することと、
    前記１つ以上の情報の項目を前記構成要素の物理的特性に関連付けることと、を含む、試験方法。
  61. 前記打撃が、自動化された方法でもたらされる、請求項６０に記載の試験方法。
  62. 前記打撃が、手動でもたらされる、請求項６０に記載の試験方法。
  63. 前記打撃が、前記構成要素を基板上に落下させることによってもたらされ、前記基板は、任意選択でストライカープレートである、請求項５８に記載の試験方法。
  64. 前記振動が、前記構成要素と機械的に連通しているバイブレータ装置によってもたらされる、請求項６０に記載の試験方法。
  65. 前記振動が、前記構成要素と流体連通しているバイブレータ装置によってもたらされる、請求項６０に記載の試験方法。
  66. 前記１つ以上の情報の項目が、前記構成要素の第１の表面から受け取られ、前記さらすことが前記構成要素の第２の表面上でもたらされる、請求項６０〜６５のいずれかに記載の試験方法。
  67. 前記構成要素を、前記構成要素の第１の表面で固定することをさらに含み、前記さらすことが前記構成要素の第２の表面上でもたらされる、請求項６０〜６６のいずれかに記載の試験方法。
  68. 前記構成要素の前記打撃、振動、またはその両方への前記さらすことの間、前記構成要素をある方向に維持することをさらに含む、請求項６０〜６７のいずれかに記載の試験方法。
  69. 前記構成要素を、環境振動から少なくとも部分的に振動分離して維持することをさらに含む、請求項６０〜６８のいずれかに記載の試験方法。
  70. 前記物理的特性が、前記構成要素の断熱特性を含む、請求項６０〜６９のいずれかに記載の試験方法。
  71. 前記構成要素内の前記シールされた排気領域が、環状の構成として特徴付けられる、請求項６０〜７０のいずれかに記載の試験方法。
  72. 前記構成要素が、ある量の１つ以上のセラミックを含む、請求項６０〜７１のいずれかに記載の試験方法。
  73. バイブレータ装置と、
    構成要素マウントと、
    前記構成要素マウントに固定された構成要素であって、前記構成要素がある量のセラミックを含み、前記構成要素が前記構成要素内のシールされた排気領域を含み、またはその両方であり、
    前記構成要素は、前記構成要素が前記バイブレータ装置と機械的に連通するか、前記バイブレータ装置と流体連通するか、またはその両方になるように固定されている、構成要素と、を備える、試験システム。
  74. 前記構成要素の表面に配設されたトランスデューサをさらに備える、請求項７３に記載の試験システム。
  75. 前記システムは、前記トランスデューサが、前記バイブレータ装置から振動を受け取る前記構成要素の表面とは異なる前記構成要素の表面に配設されるように構成されている、請求項７４に記載の試験システム。
  76. 前記システムが、前記構成要素を前記振動装置からのエネルギーにさらすことに関連する前記構成要素から発した１つ以上の情報の項目を受け取るように構成され、任意選択で、前記システムが、前記１つ以上の情報の項目を前記構成要素の物理的特性に関連付けるように構成されている、請求項７３〜７５のいずれかに記載の試験システム。
  77. 打撃プレートと、
    前記打撃プレートへの構成要素の衝突から発したエネルギーを受け取るように構成されたトランスデューサと、を備える、試験システム。
  78. 前記トランスデューサが、前記構成要素の前記打撃プレートへの衝突時に前記構成要素から発したエネルギーを受け取るように構成されている、請求項７７に記載の試験システム。
  79. 前記システムが、前記構成要素の前記打撃プレートへの衝突に関連する１つ以上の情報の項目を受け取るように構成され、任意選択で、前記システムが、前記１つ以上の情報の項目を前記構成要素の物理的特性に関連付けるように構成されている、請求項７７または７８に記載の試験システム。
  80. バイブレータ装置と、構成要素マウントと、プロセッサと、を備える、試験システム。
  81. 断熱構成要素を調製する方法であって、
    第１の境界構成要素の表面の少なくとも一部を調整することによって、前記第１の境界構成要素の前記表面の調整された領域を形成することと、
    第２の境界構成要素の表面の少なくとも一部を調整することによって、前記第２の境界構成要素の前記表面の調整された領域を形成することと、
    前記第１の境界構成要素と前記第２の境界構成要素との間にシールされた排気領域を生じさせるのに十分な条件下で前記第１の境界構成要素および前記第２の境界構成要素を処理することであって、
    前記シールされた排気領域が、前記第１の境界構成要素の前記表面の前記調整された領域および前記第２の境界構成要素の前記表面の前記調整された領域によって少なくとも部分的に画定されている、処理することと、を含む、方法。
  82. 前記調整が、前記第１の境界構成要素の前記調整された領域、前記第２の境界構成要素の前記調整された領域、またはその両方の不純物を低減するように行われる、請求項８１に記載の方法。
  83. 前記調整が、前記第１の境界構成要素と前記第２の境界構成要素との間の空間に流体を引き込むことを含む、請求項８１または８２に記載の方法。
  84. 前記調整が、加熱することを含む、請求項８１〜８３のいずれかに記載の方法。
  85. スペーサ材料が前記シールされた排気領域内に留まるように、前記第１の境界構成要素と前記第２の境界構成要素との間に前記スペーサ材料を配設することをさらに含む、請求項８１〜８４のいずれかに記載の方法。
  86. 前記スペーサ材料が、セラミックを含む、請求項８５に記載の方法。
  87. 前記スペーサ材料が、窒化ホウ素を含む、請求項８５に記載の方法。
  88. 前記調整が、前記スペーサ材料の少なくとも一部を調整すること、前記スペーサ材料の少なくとも一部を加熱すること、またはその両方を含む、請求項８５〜８７のいずれかに記載の方法。
  89. 前記第１の境界構成要素および前記第２の境界構成要素の一方または両方が、セラミックを含む、請求項８１〜８８のいずれかに記載の方法。
  90. 前記第１の境界構成要素および前記第２の境界構成要素の一方または両方が、金属を含む、請求項８０〜８９のいずれかに記載の方法。
  91. 前記処理が、ろう付けを含む、請求項８０〜９０のいずれかに記載の方法。
  92. 前記処理が、前記第１の境界構成要素および前記第２の境界構成要素の一方または両方をシーラー構成要素にシールすることを含む、請求項８０〜９１のいずれかに記載の方法。
  93. 前記シーラー構成要素が、リングを含む、請求項９２に記載の方法。
  94. 前記リングが、セラミックを含む、請求項９３に記載の方法。
  95. 前記シールされた排気空間が、約１〜約１０００分子／ｃｍ３の分子密度を画定する、請求項８０〜９４のいずれかに記載の方法。
  96. 請求項８０〜９５のいずれかに従って調製された、断熱構成要素。
JP2020557293A 2018-04-17 2019-04-17 接合部構成 Pending JP2021522449A (ja)

Applications Claiming Priority (11)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US201862658794P 2018-04-17 2018-04-17
US62/658,794 2018-04-17
US201862700449P 2018-07-19 2018-07-19
US62/700,449 2018-07-19
US201862773816P 2018-11-30 2018-11-30
US62/773,816 2018-11-30
US201962811217P 2019-02-27 2019-02-27
US62/811,217 2019-02-27
US201962825123P 2019-03-28 2019-03-28
US62/825,123 2019-03-28
PCT/US2019/027918 WO2019204481A1 (en) 2018-04-17 2019-04-17 Joint configurations

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2021522449A true JP2021522449A (ja) 2021-08-30
JPWO2019204481A5 JPWO2019204481A5 (ja) 2022-04-21

Family

ID=68239849

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2020557293A Pending JP2021522449A (ja) 2018-04-17 2019-04-17 接合部構成

Country Status (7)

Country Link
US (1) US20210062957A1 (ja)
EP (1) EP3781058A4 (ja)
JP (1) JP2021522449A (ja)
KR (1) KR20210005086A (ja)
CN (1) CN112165913A (ja)
CA (1) CA3097373A1 (ja)
WO (1) WO2019204481A1 (ja)

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003042388A (ja) * 2001-07-27 2003-02-13 Matsuda Gijutsu Kenkyusho:Kk 断熱パネル及びそれを用いたコンテナ
JP2012021615A (ja) * 2010-07-16 2012-02-02 Matsuda Gijutsu Kenkyusho:Kk 真空断熱パネル及びこれを用いた輸送用コンテナ

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3630399A1 (de) * 1986-09-06 1988-03-17 Messerschmitt Boelkow Blohm Vakuum-waermeisolation
FR2801367B1 (fr) * 1999-11-22 2002-02-08 Bouygues Offshore Complexe tubulaire isolant pour conduites coaxiales
US20090031659A1 (en) * 2005-01-24 2009-02-05 Rami Abraham Kalfon Evacuated Thermal Insulation Panel
US20080169037A1 (en) * 2007-01-17 2008-07-17 Cryotech International, Inc. Cryogenic bayonet connection
US20110264084A1 (en) * 2010-04-23 2011-10-27 Concept Group, Inc. Vacuum insulated cooling probe with heat exchanger
WO2012088299A2 (en) * 2010-12-21 2012-06-28 Savsu Technologies Llc Insulated storage and transportation containers
JP5879435B2 (ja) * 2011-09-06 2016-03-08 ブリティッシュ アメリカン タバコ （インヴェストメンツ） リミテッドＢｒｉｔｉｓｈ Ａｍｅｒｉｃａｎｔｏｂａｃｃｏ （Ｉｎｖｅｓｔｍｅｎｔｓ） Ｌｉｍｉｔｅｄ 喫煙材の加熱
CN103608619B (zh) * 2011-09-06 2015-12-02 英美烟草(投资)有限公司 绝热构件
US9243726B2 (en) * 2012-10-03 2016-01-26 Aarne H. Reid Vacuum insulated structure with end fitting and method of making same
GB2515992A (en) * 2013-03-22 2015-01-14 British American Tobacco Co Heating smokeable material
US9463918B2 (en) * 2014-02-20 2016-10-11 Aarne H. Reid Vacuum insulated articles and methods of making same
EP3423854A4 (en) * 2016-03-04 2020-01-01 Concept Group LLC IMPROVED VACUUM INSULATING ARTICLES WITH REFLECTIVE MATERIAL

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003042388A (ja) * 2001-07-27 2003-02-13 Matsuda Gijutsu Kenkyusho:Kk 断熱パネル及びそれを用いたコンテナ
JP2012021615A (ja) * 2010-07-16 2012-02-02 Matsuda Gijutsu Kenkyusho:Kk 真空断熱パネル及びこれを用いた輸送用コンテナ

Also Published As

Publication number Publication date
WO2019204481A8 (en) 2020-12-17
EP3781058A1 (en) 2021-02-24
US20210062957A1 (en) 2021-03-04
CN112165913A (zh) 2021-01-01
KR20210005086A (ko) 2021-01-13
WO2019204481A1 (en) 2019-10-24
EP3781058A4 (en) 2022-02-23
CA3097373A1 (en) 2019-10-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101986159B1 (ko) 극저온 펌프
JP6857687B2 (ja) 半導体工程の反応副産物捕集装置
JP5221421B2 (ja) シャワーヘッド及びプラズマ処理装置
CN100369187C (zh) 湿处理盘状基片的部件和方法
KR102147615B1 (ko) 기판 적재대
US20220042641A1 (en) Joint configurations
US9842746B2 (en) Purge gas spraying plate and fume removing apparatus having the same
JP2020004975A (ja) 基板支持とバッフルの装置
TWI749403B (zh) 具有多級冷卻的熱交換器
JP2021522449A (ja) 接合部構成
TW201908514A (zh) 固體組合物昇華器裝置、系統及使用彼之方法
KR101117098B1 (ko) 반도체 제조 장비의 반응 부산물 포집장치
JP2020531788A (ja) 使い捨て式噴霧乾燥構成要素及びその使用方法
WO2016042252A1 (fr) Ensemble pour le broyage d'echantillons biologiques
US11160892B2 (en) Ultrasonic standing wave nebulization system
CN114341398A (zh) 温控吊灯型喷头
JP6061944B2 (ja) 加熱管を冷却する熱交換器、蒸発器の加熱管、加熱管を備える蒸発器および蒸発器の加熱管を冷却する方法
US9664598B2 (en) Microfluidic contaminant trap for trapping contaminants in gas chromatography
JP5448456B2 (ja) 円板状の基板の脱ガスをする装置
KR20170108856A (ko) 트랩 장치 및 이것을 사용한 배기계, 그리고 기판 처리 장치
TW201346205A (zh) 箱室裝置及隔熱板
CN101411884B (zh) 净化方法和实现该方法的系统
WO2007140432A2 (en) Vibration test system enclosure
JP3827040B2 (ja) 円筒型多板式再生器
JPH1126564A (ja) 静電チャック

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20220413

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20220413

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20230523

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20230823

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20231023

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20240130