JP2021513641A - マイケルソン型フリービーム干渉計を用いる2次元インターフェログラムの作成方法 - Google Patents
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- マイケルソン型フリービーム干渉計を用いて2次元インターフェログラムを作成するための方法であって、前記マイケルソン型フリービーム干渉計は、拡張型の部分空間コヒーレント光源と、2次元光検出器とを備え、前記光源からの光は、半透明のビームスプリッタミラーを備えるビームスプリッタによりサンプル光ビームと参照光ビームとに分割されて、サンプルアームおよび参照アームへ取り込まれ、サンプルから戻る前記サンプル光ビームは、前記ビームスプリッタミラーによって前記光検出器上へ方向づけられ、前記参照アームから出現する前記参照光ビームは、前記サンプル光ビームと共に前記光検出器上でゼロより大きい予め決められた角度を作り、かつ前記参照アームの長さは、可変であり、前記参照光ビームは、各反射面における奇数回の反射により少なくとも1つの参照アームセクション内へ方向づけられ、よって、前記参照光ビームは、前記参照光ビーム自体に対して横方向へ変位され、かつ前記参照アームの出口に固定される、屈折または回折により機能する光偏向素子を介して逆平行へ移動することを特徴とする、マイケルソン型フリービーム干渉計を用いて2次元インターフェログラムを作成するための方法。
- 前記少なくとも1つの参照アームセクションにおける前記参照アームの長さは、前記参照光ビームが前記参照光ビーム自体から横方向へ変位されて進み、かつ逆平行に延びることにおいて変更されることを特徴とする、請求項1に記載の方法。
- 前記参照光は、可変長の前記参照アーム部分の背後のプリズムまたは格子を介して方向づけられることを特徴とする、請求項2に記載の方法。
- 前記参照ビームは、3つのミラーを横切って共通の反射面内に方向づけられることを特徴とする、請求項1〜請求項3の1項に記載の方法。
- 前記参照ビームは、一平面内のプリズムおよびミラーによって少なくとも2回屈折され、かつ正確に1回反射されることを特徴とする、請求項1〜請求項3の1項に記載の方法。
- 少なくとも1つの側面に反射コーティングを有するプリズムが使用されることを特徴とする、請求項5に記載の方法。
- マイケルソン型フリービーム干渉計を備える、先行する請求項の1項に記載の方法のうちの1つを実装するためのデバイスであって、前記マイケルソン型フリービーム干渉計は、拡張型の部分空間コヒーレント光源と、2次元光検出器とを備え、前記光源からの光は、半透明のビームスプリッタミラーを備えるビームスプリッタによりサンプル光ビームと参照光ビームとに分割されて、サンプルアームおよび参照アームへ取り込まれ、サンプルから戻る前記サンプル光ビームは、前記ビームスプリッタミラーによって前記光検出器上へ方向づけられ、前記参照アームから出現する前記参照光ビームは、前記サンプル光ビームと共に前記光検出器上でゼロより大きい予め決められた角度を作り、前記参照アームの長さは、可変であり、この配置は、さらに屈折または回折により機能する光偏向素子を備え、前記参照光ビームは、各反射面における奇数回の反射により少なくとも1つの参照アームセクション内へ方向づけられ、よって、前記参照光ビームは、前記参照光ビーム自体に対して横方向へ変位され、かつ前記参照アームの出口に固定される、屈折または回折により機能する前記光偏向素子を介して逆平行へ移動することを特徴とする、デバイス。
- 前記デバイスは、さらに、少なくとも3つのミラーを備え、前記参照ビームは、前記少なくとも3つのミラーによって共通の反射面内へ方向づけられることを特徴とする、請求項7に記載のデバイス。
- 前記デバイスは、さらに、プリズムとミラーとを備え、前記参照ビームは、一平面内の前記プリズムおよび前記ミラーによって少なくとも2回屈折され、かつ正確に1回反射されることを特徴とする、請求項7および請求項8の1項に記載のデバイス。
- 前記プリズムは、少なくとも1つの側面に反射コーティングを有することを特徴とする、請求項9に記載のデバイス。
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