JP2021511621A - 放射線源のターゲット、侵襲的電磁放射線を生成する放射線源、放射線源の使用、及び放射線源のターゲットの製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
−粒子ビームをターゲットの端面の第一の表面領域に向けるステップと、
−ターゲットと粒子ビームの相対的な向きを、粒子ビームがターゲットの端面の第二の表面領域に向けられるように変化させるステップと、
を含み、
端面の第一及び第二の表面領域は、1つ又は複数のターゲット要素の露出側面の領域を有し、これらは異なる厚さを有する。ステップのシーケンスはこの場合、時間の経過により変化させることができる。言うまでもなく、例えば、これら2つのステップは逆の順序で、及び/又は時間的に重複して実行することもできる。
−粒子が照射されると侵襲的電磁放射線を生成するように構成された少なくとも1つのターゲット要素が提供され、
−ターゲット要素は、ターゲット要素の外面の第一の部分を形成する周辺面を有し、
−周辺面は、ターゲット要素から熱を散逸させるために基板装置と接触させられ、
−ターゲット要素の外面は追加的に、ターゲット要素の側面により形成され、側面の範囲はターゲット要素の厚さを画定し、側面の外周線は周辺面の限界線を形成し、
−ターゲット要素の側面は粒子の照射のために露出して配置され、ターゲットの端面の一部を形成する。
Claims (12)
- 侵襲的電子放射線の放射線源(1)のためのターゲット(10)であって、
少なくとも1つのターゲット要素(20)であって、粒子が照射されると侵襲的電磁放射線を生成するように構成され、前記ターゲット要素(20)からの熱を散逸させるための基板装置(28)に連結されるターゲット要素(20)を含み、
前記ターゲット要素(20)は、前記ターゲット要素(20)の外面の第一の部分を形成する周辺面を有し、前記ターゲット要素(20)の前記外面はさらに、前記ターゲット要素(20)の側面(38)によっても形成され、前記側面(38)の範囲は前記ターゲット要素(20)の厚さ(D;D1、D2、D3)を画定し、前記側面(38)の外周線は前記周辺面の限界線を形成し、
前記ターゲット(10)は端面(22)を有し、その一部として前記ターゲット要素(20)の前記側面(38)は前記粒子の照射のために露出して配置され、前記基板装置(28)は前記周辺面と接触し、前記ターゲット要素(20)は層状に具現化され、前記厚さ(D)と比較してより大きい幅(B)を有し、前記外周線の全長は前記厚さ(D)と前記幅(B)によって画定され、前記基板装置は、前記周辺面と前記厚さ(D)の方向に相互に反対のその辺において接触するターゲット(10)において、
前記層状のターゲット要素(20)の前記厚さ(D)は、前記側面(38)において、前記幅(B)の方向に進むにつれて増大することを特徴とするターゲット(10)。 - 前記周辺面は前記側面(38)より大きい、請求項1に記載のターゲット(10)。
- 前記ターゲット要素(20)は、異なる辺長を有する多角形の基本輪郭を有し、前記側面(38)は前記基本輪郭のうち、最大の辺長を持たない辺を画定する、請求項1又は2に記載のターゲット(10)。
- 前記ターゲット要素(20)は円柱形に具現化され、前記側面(38)は前記ターゲット要素の長円又は円形の端面を形成する、請求項1〜3の何れか1項に記載のターゲット(10)。
- 前記ターゲット(10)は、異なる厚さ(D1、D2、D3)を有する複数のターゲット要素(20)を含み、前記露出側面(38)は共通の線に沿って配置される、請求項1〜4の何れか1項に記載のターゲット(10)。
- 前記基板装置(28)は前記ターゲット要素(20)を少なくとも部分的に取り囲む、請求項1〜5の何れか1項に記載のターゲット(10)。
- 前記基板装置(28)は、それらの間に前記ターゲット要素(20)の少なくとも1部分を受ける第一の基板要素(30)と第二の基板要素(32)とを有する、請求項1〜6の何れか1項に記載のターゲット(10)。
- 前記基板装置(28)は、冷却装置に接続された、又は接続可能な放熱要素又は放熱装置(34)の中に受けられる、請求項1〜7の何れか1項に記載のターゲット(10)。
- 前記基板装置(28)はダイヤモンド又はダイヤモンド含有材料を含み、及び/又は前記ターゲット要素(20)はタングステンを含む、請求項1〜8の何れか1項に記載のターゲット(10)。
- 侵襲的電磁放射線を生成するための放射線源(1)において、
−請求項1〜9の何れか1項に記載のターゲット(10)と、
−粒子ビームを前記ターゲット(10)に対して放射するように構成された粒子ビーム源(12)と、
−前記ターゲット(10)と前記粒子ビームを相互に関して可変的な方法で向き付け、前記ターゲット(10)のうち、前記粒子ビームが向けられる表面領域が可変的となるように構成された位置決め装置(26)と、
を含む放射線源(1)。 - 請求項10に記載の放射線源(1)の使用であって、
前記放射線源(1)は、侵襲的電磁放射線を生成するための放射線源(1)であり、
−ターゲット(10)であって、少なくとも1つのターゲット要素(20)であって、粒子が照射されると侵襲的電磁放射線を生成するように構成され、前記ターゲット要素(20)からの光を散逸させるための基板装置(28)に連結されるターゲット要素(20)を含み、
前記ターゲット要素(20)は、前記ターゲット要素(20)の外面の第一の部分を形成する周辺面を有し、前記ターゲット要素(20)の前記外面はさらに、前記ターゲット要素(20)の側面(38)によっても形成され、前記側面(38)の範囲は前記ターゲット要素(20)の厚さ(D;D1、D2、D3)を画定し、前記側面(38)の外周線は前記周辺面の限界線を形成し、
前記ターゲット(10)は端面(22)を有し、その一部として前記ターゲット要素(20)の前記側面(38)は前記粒子の照射のために露出して配置され、
前記基板装置(28)は前記周辺面と接触するターゲット(10)と、
−粒子ビームを前記ターゲット(10)に照射するように構成された粒子ビーム源(12)と、
−前記ターゲット(10)と前記粒子ビームを相互に関して可変的に向き付けて、前記ターゲット(10)のうち、前記粒子ビームが向けられる表面領域が可変的となるように構成された位置決め装置(26)と、
を含む使用において、
−粒子ビームを前記ターゲット(10)の端面(22)の第一の表面領域に向けるステップと、
−前記ターゲット(10)と前記粒子ビームの相対的な向きを、前記粒子ビームが前記ターゲット(10)の前記端面(22)の第二の表面領域に向けられる方法で変化させるステップと、
を含み、
前記端面(22)の前記第一及び第二の表面領域は、前記ターゲット(10)の1つ又は複数のターゲット要素(22)の露出側面(38)の、異なる厚さを有する領域を有する使用。 - 侵襲的電磁放射線の放射線源(1)のためのターゲット(10)の製造方法であって、
−粒子が照射されると侵襲的電子放射線を生成するように構成される少なくとも1つのターゲット要素(20)が提供され、
−前記ターゲット要素(20)は、前記ターゲット要素(20)の外面の第一の部分を形成する周辺面を有し、
−前記周辺面は、前記ターゲット要素(20)からの熱を散逸させるための基板装置(28)と接触させられ、
−前記ターゲット要素(20)の前記外面はさらに、前記ターゲット要素(20)の側面(38)によっても形成され、前記側面(38)の範囲は前記ターゲット要素(20)の厚さ(D)を画定し、前記側面(38)の外周線は前記周辺面の限界線(R)を形成し、
−前記ターゲット要素(20)の前記側面(38)は、前記粒子の照射のために露出して配置され、前記ターゲット(10)の前記端面(22)の一部を形成し、
前記ターゲット要素(20)は層状に具現化され、それは前記厚さ(D)と比較してより大きい幅(B)を有し、
外周線の全長は、前記厚さ(D)と前記幅(B)によって画定され、前記基板装置は、前記厚さ(D)の方向に相互に反対のその辺において前記周辺面と接触する方法において、
前記層状のターゲット要素(20)の前記厚さ(D)は、前記側面(38)において前記幅(B)の方向に進むにつれて増大することを特徴とする方法。
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