JP2021508597A - 液体の塩を取り出すための排出部を有する装置及び方法 - Google Patents

液体の塩を取り出すための排出部を有する装置及び方法 Download PDF

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Abstract

特に廃水を清浄する設備のための、液体の塩を取り出す装置が、加熱室を有する。加熱室は、塩含有物質を導入するための入口を有し、加熱室は、溶融塩のための排出部に接続されており、排出部は、排出部通路と排出部通路端部とを有し、排出部通路端部の下流側に、溶融塩を冷却する冷却領域が設けられている。排出部通路は、少なくとも一部分に沿って、排出部壁によって周りを包囲されており、排出部は、加熱要素を有する。

Description

本発明は、加熱室を有する、特に廃水を清浄する設備のための、液体の塩を取り出す装置及び方法であって、加熱室は、塩含有物質を導入するための入口を有し、加熱室は、溶融塩のための排出部に接続されており、排出部は、排出部通路と排出部通路端部とを有し、排出部通路端部の下流側に、溶融塩を冷却する冷却領域が設けられている、装置及び方法に関する。
欧州特許出願第0340616号明細書には、冒頭で述べた装置が記載されている。廃水の形態の塩含有物質が、加熱室に導入され、加熱室内には、含まれた塩の溶融点を上回る温度が作用する。その際、水の成分が急激に蒸発し、これに対して塩の成分は、液体となる。急激な蒸発によって、水蒸気が、塩霧の形態の、液体となった塩を連行する。後続の燃焼プロセスで、可燃性の又は有機の、環境に有害なことが多い化合物が、その個々の元素に分解され、これにより、清浄が行われる。加熱室の壁において塩霧が凝縮し、そこに溶融塩が形成される。次いで、溶融塩は、排出部が設けられた槽内に降下する。排出部は、排出部通路と排出部通路端部とを有する。排出部通路端部を介して、溶融塩は、移動可能な収容容器に落下する。フードが、送風機とともに、排出部通路端部の上で、同様に排出部から退出するガス混合物を取り出す。ただしこれにより、排出部は、連続的な空気流にさらされており、これにより、排出部は、塩の堆積に基づいて漸次閉塞し、定期的に清浄しなければならなくなる。したがって、公知の方法では、保守に著しく手間がかかる又は運転稼働率が低下する。
欧州特許出願第0340616号明細書
したがって、本発明の根底をなす技術的課題は、保守にかかる手間を減らす又は高い運転稼働率をもたらす、液体の塩を取り出す装置又は方法を提供することである。特に、排出部の領域における塩の堆積を回避することが、本発明の課題である。
この技術的課題を解決するために、本発明の思想によれば、加熱室を有する、特に廃水を清浄する設備のための、液体の塩を取り出す装置であって、加熱室は、塩含有物質を導入するための入口を有し、加熱室は、溶融塩のための排出部に接続されており、排出部は、排出部通路と排出部通路端部とを有し、排出部通路端部の下流側に、溶融塩を冷却する冷却領域が設けられており、排出部通路は、少なくとも一部分に沿って、排出部壁によって周りを包囲されており、排出部は、加熱要素を有する。
有利には、排出部壁が、排出部通路を、その周りを、排出部通路の全長に沿って包囲する。「移動」という表現は、特に、バルク材又は塊・バルク材・混合物又は固体の物質の動きを意味する。これに対して、溶融塩の動きは、好適には「流れ」と表される。例えば、加熱室は、排出部の上流側に配置されている。合目的的には、送り装置は、排出部の下流側に位置する。「排出部通路」という用語は、特に排出部壁によって包囲された中空室を意味する。「加熱要素」という用語は、特に、溶融塩における塩の溶融温度を上回るように排出部又は排出部通路内の温度を保持するために用いられるあらゆる構造要素を意味する。例えば、空気供給通路は、高温の空気を排出部通路に供給することができる加熱要素と考えられる。さらに、加熱要素として、誘導ヒータ又はバーナなどが考えられる。加熱要素は、好適には、バーナ(排出部バーナ)である。合目的的には、排出部バーナは、排出部バーナノズルが排出部壁によって少なくとも部分的に包囲されるように、排出部通路内に突出する。有利には、排出部バーナノズルの先端は、これが、流動性の溶融塩の上に、好適には排出部通路端部又は排出部トラフの下流側の端部又は落下開口の上に配置されるように、排出部通路内に突出する。
本発明の根底をなす認識によれば、特に排出部通路端部が、塩の堆積に関して特に問題である。同様に本発明の根底をなす認識によれば、排出部を通って加熱室に入る空気流が、排出部通路端部に塩が堆積する問題を一層深刻化する。加熱要素は、単独では塩が堆積する問題をせいぜい局所的に解決するだけであり、排出部壁と加熱要素との組み合わせでしか排出部に塩が堆積する問題が解決されないことが分かった。ゆえに、排出部通路がさらに排出部壁によって、排出部通路の少なくとも一部分に沿って周りを包囲されていると、加熱要素の熱は、排出部通路に沿って極めて良好に分配される。加熱要素は、排出部壁によって、溶融塩における塩の溶融温度を上回るように排出部通路全体の温度を保持することができるので、凝固した塩を除去するための保守作業に基づいて装置の運転を中断しなくてよい。これにより、保守にかかる手間を減らすという本発明の課題が満たされ、特に装置の運転稼働率が増加する。
その上特に好適な実施形態によれば、排出部が、排出部トラフを有する。排出部トラフは、好適には金属、さらに好適には鋼板、特に好適にはステンレス鋼板を含む。排出部トラフは、好適には、加熱室壁の壁開口と排出部通路端部との間に延在する。合目的的には、排出部トラフは、排出部壁によって、少なくとも部分的に、好適には完全に周りを包囲されている。有利には、排出部トラフは、排出部通路内に配置されている。合目的的には、排出部トラフは、加熱室の加熱室壁の壁開口と排出部通路端部又は冷却領域との間の溶融塩の流れのための流体連通部を形成する。好適には、排出部トラフは、流れ方向に、好ましくは排出部通路端部へ向けて先細りになっている。有利には、排出部トラフは、湾曲した横断面を有する。
著しく有利には、排出部は、排出部通路内で、排出部通路内を流れる溶融塩の下を、加熱要素から出発する加熱されたガスが流れることができるように構成されている。好適には、排出部は、排出部通路の床と溶融塩又は排出部トラフの下面との間に間隔又は中空室が存在するように構成されている。有利には、例えば金属板からなる支持部材が、間隔又は中空室を形成するために、排出部通路の床と排出部トラフの下面との間に配置されている。好適には、排出部トラフに懸架部材が配置されていて、排出部の天井又はカバーに取り付けられている。合目的的には、支持部材が、排出部トラフのより下流側の半部に対応付けられた領域に配置されている。好適には、懸架部材は、排出部トラフのより上流側の半部に対応付けられた、排出部の領域に位置する。著しく好適には、排出部トラフは、この排出部トラフを、排出部トラフの少なくとも一部分に沿って、好ましくは全長に沿って、加熱要素によって加熱されたガスが、横断面で見て全面的に通過することができるように、排出部又は排出部通路内に配置されている。もちろん、「排出部トラフの全長に沿って全面的に通過する」という表現は、懸架部材又は支持部材を除外しない。
特に好適には、排出部又は排出部通路又は排出部通路端部が、排出部通路への外気の進入を回避するために、サイホンを有する。好適には、サイホンは、排出部通路端部に配置されている。合目的的には、排出部壁は、サイホンが中に嵌め込まれる開口を有する。排出部壁に設けられた開口は、好適には、排出部の下面に位置する。特に好適な実施形態によれば、サイホンは加熱可能であり、さらに好ましくは、電気的に加熱可能である。著しく好適には、サイホンは、誘導ヒータによって電気的に加熱される。サイホンは、電気的な抵抗ヒータを有することができる。サイホンは、好適には、入口領域と出口領域とを有する。合目的的には、サイホンの入口領域は、溶融塩を捕集するための捕集槽を介してサイホンの出口領域から分離されている。有利には、排出部通路又は排出部トラフ又はサイホンは、溶融塩がサイホンの入口領域に流入し、これにより、捕集槽を満たすように構成されている。合目的的には、捕集槽は、出口側に溢流壁を有するので、捕集槽が、溢流壁によって規定されるレベルまで溶融塩によって満たすことができる。サイホンは、有利には、溶融塩が溢流壁を越えて溢流すると、溶融塩が、溢流壁に沿って降下し、好適にはその後で自由落下するように構成されている。サイホンは、好適には、天井壁を有し、天井壁は、捕集槽又は捕集槽内に存在する溶融塩とともに、サイホンの入口領域を出口領域から分離する。天井壁は、好適には、下縁を有し、下縁は、溢流壁の上縁よりも低い高さレベルを有する。天井壁は、合目的的には、溢流壁の上端の高さレベルによって規定される浸漬部分と、その上に位置するガス分離部分とを有する。溢流壁は、その下側端部で、好適にはサイホンの床壁に取り付けられている。合目的的には、サイホンは、外壁を有し、外壁は、排出部の開口の縁に接する。合目的的には、床壁と外壁と溢流壁とが、捕集槽を形成する。好適には、外壁は、天井壁と溢流壁と床壁とを包囲する。
冷却領域がハウジングによって包囲されており、この場合、排出部又は排出部通路端部がハウジングに接続されていることが可能である。好適には、排出部又は排出部通路端部は、接続要素を介して、特に下降管を介して、ハウジングに接続されている。好適には、ハウジングは、散布開口、送り装置、仕切り壁及び/又は分離装置を包囲する。ハウジングは、好適には、排出部又は排出部通路端部の下に配置されている。ハウジング又は接続要素は、好適には、例えば送風機によって加熱室内に生成される負圧を冷却領域に実現することができるように構成されている。
その上特に好適な実施形態によれば、排出部壁が、セラミック層を有する。セラミック層は、合目的的には、最小で15cm又は20cmの厚さを有する。セラミック層は、最大で40cm又は35cm又は30cmの厚さを有することが可能である。好適には、セラミック層は、排出部壁の内層を形成する。好適には、排出部壁は、例えば鋼からなる金属製の外層を有する。金属製の外層は、合目的的には最小で3mm/4mm/5mmで、合目的的には最大で12mm/10mm/8mmの厚さを有する。排出部壁のセラミック層は、例えば組積造で構成されても、一体的に構成されてもよい。セラミック層は、好適には、最低で800℃/900℃/1000℃/1100℃の温度に対して構成されている。
好適には、排出部又は排出部通路端部又は排出部トラフが、落下開口を有する。「落下開口」という用語は、特に、この開口以降、溶融塩がもはや排出部又は排出部通路又は排出部トラフに接触するのではなく、さらに自由落下状態となることを意味する。好適には、排出部通路の主要部分は、その内側で、落下開口の方へ先細りになっている。合目的的には、先細りは、両方の水平方向で行われる。落下開口の下に降下管を配置することが可能であり、この場合、降下管は、有利には金属を含む。合目的的には、降下管は、その下側端部に、冷却領域を囲繞するためのハウジングに接続するためのフランジを有する。
有利には、排出部が、加熱室の側方の加熱室壁又は側方の加熱室壁の外面に配置されている。有利には、排出部は、側方の加熱室壁に対して突出する。合目的的には、排出部は、側方の加熱室壁の下側端部に取り付けられている。加熱室の床が排出部へ向けて傾斜して構成されていることは、本発明の範疇に含まれる。合目的的には、加熱室又は加熱室の床は、側方の加熱室壁に設けられた壁開口を介して、排出部又は排出部通路又は排出部トラフに流体連通されている。合目的的には、壁開口は、加熱室の床に対して高い位置に配置されている。
冷却領域又はハウジングに、冷却領域内の負圧を保持するために少なくとも1つの圧力ゲートを対応付けることができる。好適には、圧力ゲートは、ロータリフィーダとして構成されている。合目的的には、冷却領域又はハウジングは、好ましくは固体の物質が1つ又は複数の圧力ゲートを介して冷却領域から外へ導くことが可能であるように構成されている。ハウジング又は冷却領域が、少なくとも、バルク材のための出口圧力ゲートに接続されていることは、本発明の範疇に含まれる。好適には、凝固した溶融塩の塊に対して第2の出口圧力ゲートが設けられている。好適には、冷却領域又はハウジング又は散布開口が、ハウジングにバルク材を導入するための、又は送り装置に散布するためのロータリフィーダを有する。
好適には、排出部又は排出部の天井が、取外し可能なカバーを有する。カバーが組み付けられた状態で、カバーは、特に少なくとも部分的に主要部分又は排出部通路端部の落下開口を覆う。カバーは、組み付けられた状態で、合目的的には、排出部トラフの少なくとも一部分、好適には下流側の部分を覆う。著しく好適には、カバーに、1つ又は複数の装置が配置されている。この装置は、例えば検査用開口、加熱要素、センサ又は清浄装置であってよい。好適には、カバーは、金属製の外層を有し、外層は、例えば鋼からなり、好適には鋼板からなる。好適には、カバーは、セラミック層、好適にはセラミック内層を有する。このカバーのセラミック内層は、例えば組積造で構成されてよい、又は一体的に構成されてよい。
有利な実施形態によれば、排出部が、少なくとも1つの温度センサ、好適には2つの温度センサを有する。少なくとも1つの温度センサは、好適には、加熱要素又は排出部バーナに連結されているので、少なくとも1つの温度センサと加熱要素とが、制御ループを形成する。好適には、排出部は、排出部壁の温度、特に排出部壁の床の温度を検出するための壁温度センサを有する。好適には、排出部は、排出部通路内の温度を検出するための通路温度センサを有する。合目的的には、排出部は、排出部通路内のガス圧を求めるために、圧力センサを有する。有利には、通路温度センサ及び/又は圧力センサは、排出部の天井を貫通する。
排出部が清浄装置を有することは、本発明の範疇に含まれる。清浄装置は、好適には、清浄プロセスが純粋に機械式であるように構成されている。好適には、清浄装置は、押し棒を有し、押し棒は、排出部通路の領域における、特に排出部通路端部の領域における塩の堆積物を破砕する又は塩の堆積を予防的に阻止するように構成されている。好適には、清浄装置は、排出部壁を貫通して、好適には排出部壁の天井を貫通して突出する。有利には、清浄装置は、排出部通路端部の方へ向けられている。好適には、清浄装置は、モータ駆動されている。合目的的には、清浄装置は、規則的な時間間隔を置いて、排出部通路端部又は落下開口又は排出部トラフの端部の領域に突き入れられるように構成されている。有利には、清浄装置は、排出部通路端部又は主要領域又は落下開口の領域に突き入れられるとき、より粘性のある溶融塩による機械抵抗を検出するように構成されている。好適には、清浄装置は、より粘性のある溶融塩のときには、機械抵抗がもはや検出されなくなるまで突き入れられるように構成されている。
有利には、排出部が、少なくとも1つの検査用開口、好適には2つの検査用開口を有する。好適には、少なくとも1つの検査用開口は、排出部通路を、特に排出部通路端部を観察することができるように構成されている。少なくとも1つの検査用開口は、好適には、排出部壁の天井に、好適には排出部通路端部の上に配置されている。好適には、排出部は、排出部トラフの好ましくは中央の領域を観察するための第2の検査用開口を有する。合目的的には、第2の検査用開口は、排出部の天井又は排出部壁に配置されている。第3の検査用開口が、降下管の内側を観察するために降下管の1つの側に配置されてよい。
加熱室が加熱室バーナを有することは、本発明の範疇に含まれる。加熱室バーナ又は塩含有物質を導入するための入口は、塩含有物質のジェットが加熱室バーナの燃焼炎の方へ向けられるように構成されている。加熱室バーナは、好適には、特に塩含有物質における可燃性成分によって、最低で600℃/700℃/800℃/900℃の温度に達するように構成されている。合目的的には、加熱室バーナは、最高で1600℃/1400℃/1200℃の温度に達する。好適には、バーナは、加熱室の、上流側の端部に配置されている。
加熱室は、合目的的には、加熱室壁を有する。好適には、加熱室又は少なくとも1つもしくは複数の加熱室壁が、壁管を有する。1つもしくは複数の加熱室壁又は壁管は、著しく好適には、1つ又は複数の加熱室壁に最高で320℃/300℃/280℃の温度が発生するように構成されている。好適には、1つ又は複数の加熱室壁の温度は、最低で150℃/175℃である。壁管は、例えば1つ又は複数の加熱室壁の外面に配置されてよいし、また1つ又は複数の加熱室壁自体を形成してよい。
その上特に好適な実施形態によれば、加熱室が、出口側に、加熱室からガス又はガス混合物を吸い出すために送風機を有する。好適には、送風機又は装置又は加熱室又は冷却領域は、加熱室又は排出部又は冷却領域に負圧が形成されるように構成されている。
著しく好適には、排出部通路端部の下に送り装置が配置されているので、溶融塩が送り装置上に落下することができる。送り装置は、好適には冷却領域の構成部材である。合目的的には、送り装置は、好適には水平の方向成分を有する移動方向を決定する。有利には、排出部通路端部の上流側で、送り装置の上に、送り装置にバルク材料を散布するための散布開口が配置されている。合目的的には、装置又は散布開口又は送り装置は、バルク材が送り装置上にバルク材床を形成するように構成されている。合目的的には、送り装置上でバルク材又はバルク材床は、所定の温度を有し、これにより、バルク材床上に落下する溶融塩が、まだなお送り装置上においてバルク材床内で凝固して塊が形成される。好適には、送り装置の下流側に、好ましくはロータリフィーダを有するハウジングの塊・バルク材・混合物・出口が設けられている。塊・バルク材・混合物・出口の下流側に、好適には、分離装置が配置されている。分離装置は、好適には、バルク材が凝固した溶融塩の塊から少なくとも部分的に、好ましくは大部分で分離可能であるように構成されている。好適には、送り装置の下に、バルク材捕集装置が配置されており、この場合、バルク材捕集装置は、例えばスクリューコンベアである。バルク材捕集装置の下流側の端部と散布開口の入口側との間に、バルク材を戻し送るための戻し送りラインを配置することが可能である。戻し送りラインは、例えば空圧式に運転することができる。戻し送りラインが、バルク材を冷却するための冷却装置を有することが可能である。有利には、装置が、バルク材を収容するためのバルク材貯蔵装置を有し、この場合、好適には、バルク材貯蔵装置は、出口側で、散布開口に接続されている。好適には、バルク材貯蔵装置と散布開口部との間に、バルク材の移動速度を制御/調整するための要素、好適にはロータリフィーダが配置されている。戻し送りラインは、好適には、一方ではバルク材捕集装置又はハウジングと、他方ではバルク材貯蔵装置との間に配置されている。
技術的課題を解決するために、本発明の思想によれば、特に本発明に係る装置を用いて、液体の塩を取り出す方法であって、溶融塩が、排出部の排出部通路に沿って、排出部の排出部通路端部にまで流れ、排出部通路端部の下流側で、溶融塩が、冷却領域において少なくとも凝固するまで冷却され、排出部は、加熱要素を有し、加熱要素は、塩の堆積を回避するために、好適には必要な場合に、さらに好適には必要な場合にのみ、排出部または排出部通路に熱を供給する。
合目的的には、装置が、加熱室を有する。有利には、加熱室が、塩含有物質を導入するための入口を有する。好適には、排出部通路が、少なくとも一部に沿って、排出部壁によって周りを包囲されている。
著しく好適には、溶融塩が、排出部通路内で排出部トラフに沿って導かれ、排出部トラフの周りを、少なくとも一部分に沿って、好適にはその全長に沿って、全周にわたって加熱要素によって加熱されたガスが通過する。有利には、排出部トラフが、金属、好適には鋼、特に好適にはステンレス鋼を含む。金属の良好な熱伝導率に基づいて、加熱されたガスが周りを通過することによって、溶融塩に素早く熱効果が得られる。
以下、本発明を、一実施形態を示す図面に基づいて詳説する。
排出部を具備する加熱室を有する、本発明に係る装置の上側部分の縦断面図である。 本発明に係る装置の下側部分を記号化された図で示す。 本発明による、図1の排出部の拡大縦断面図である。 図1の排出部の断面図である。 図1、図3及び図4の排出部の平面図である。
図1には、産業廃水の形態の塩含有物質3を清浄するための加熱室1が示されている。塩含有物質3は、塩含有物質3を導入するための複数の入口2を介して加熱室1に噴入される。入口2は、塩含有物質3がバーナ9の燃焼炎20へ導かれるように方向付けられている。塩含有物質3は、水と塩と可燃性成分とを含む。可燃性成分は、燃焼炎20によって燃焼されるのに対して、水の成分は、急激に蒸発する。800℃超の温度に基づいて、塩は、液体になり、急激な水の蒸発により、塩霧として、水蒸気によって連行される。
加熱室1は、水蒸気によって充填される壁管15を具備する加熱室壁21を有する。壁管15は、加熱室壁21を、約200℃〜300℃の温度に保持する。これにより、加熱室壁21の内側で塩が凝縮して凝固するので、塩壁18が形成される。塩壁18の断熱性が大きく、塩壁18の表面が持続的に液体のまま保持されるまでは、塩壁18は、約20mm〜30mm内側へ成長する。このようにして、継続的に、溶融塩17が、塩壁18を流れ落ち、加熱室1の、わずかに傾斜した床39に集まる。加熱室1の出口側の端部には、図示されていない送風機が配置されており、送風機は、そこでごく少量の塩を含む水蒸気流を吸い出すので、加熱室1内にわずかな負圧が作用する。
加熱室壁21が壁開口36を有するので、溶融塩17が排出部4を介して加熱室1から外へ流出することができる。排出部4は、中空室の形態の排出部通路19を規定する排出部壁14を有する。排出部通路19内に、排出部トラフ33が配置されており、排出部トラフ33は、壁開口36から、落下開口を有する排出部通路端部5にまで達する。溶融塩17は、壁開口36から、排出部トラフ33に沿って、排出部通路端部5に流れる。そこにはサイホン13が存在する。サイホン13は、排出部通路端部5への外気の進入を阻止するが、それと同時に溶融塩17の退出を可能にする。このようにすると、排出部4には、加熱室1と同等のわずかな負圧が作用するので、排出部4を通って加熱室1に入り込む持続的な空気流が阻止され、そこに塩が堆積する確率が低減される。次いで、溶融塩17は、サイホン13から退出した後で、装置の下側部分に落下する。
図2には、液体の塩を取り出す装置の下側部分が記号化されて示されている。下側部分の中央の領域は、冷却領域23である。というのも、冷却領域23内で溶融塩17が凝固するまで冷却されるからである。冷却領域23は、主に送り装置6を有する。排出部4は、図2では示唆されているにすぎず、送り装置6の上に配置されている。エンドレスコンベヤベルトの形態の送り装置6は、本実施形態では単に水平に延在する移動方向を規定する。排出部通路端部5の上流側に、散布開口7が配置されており、散布開口7から、例えば砂であるバルク材8が送り装置6上に散布される。その際、落下するバルク材8の移動速度は、送り装置6上に十分な高さ(例えば10cm)のバルク材床が形成されるように設定されている。そのために、送り装置6は、図示されていない2つの側壁を有し、側壁は、不動であって、バルク材床を定着させる。この場合、排出部通路端部5の下でバルク材床上に流れる又は滴下する溶融塩17は、まだなおバルク材床内で凝固し、送り装置6の床に達することはない。バルク材床内で凝固した溶融塩17は、バルク材床内で、凝固した溶融塩の塊を形成する。
図2においてさらに看取されるように、スクリューコンベアの形態の、送り装置6の下に配置されたバルク材捕集装置12が、送り装置6から流れ落ちるバルク材8を捕集し、バルク材8は、そこから、必要に応じて、送風機27を用いて、空圧式の戻し送りライン25を介して、バルク材貯蔵装置16に送り戻すことができる。戻し送りライン25に沿ったところには、さらに冷却装置26も存在し、冷却装置26は、必要に応じて、バルク材を供給温度へと冷却する。バルク材貯蔵装置16は、出口側で、ロータリフィーダ24に接続されており、その回転数は、制御可能であり、これにより、バルク材8の移動速度も調整可能である。バルク材貯蔵装置16の出口側の端部に設けられたロータリフィーダ24は、散布開口7に対応付けられていて、したがってバルク材床の特性を大きく決定する。
送り装置6の端部では、塊及びバルク材8が、分離装置10に落下する。仕切り壁31が、塊がバルク材捕集装置12に落下するのを阻止する。本実施形態の分離装置10は、底部ふるいを有するわずかに傾斜して配置された振動トラフであり、この場合、底部ふるいの孔は、バルク材8は通過して落下するするが、凝固した溶融塩の塊は通過しないように寸法付けられている。分離装置10の左側端部で、凝固した溶融塩の塊が、例えばコンテナ又は大きな袋である塊容器11内に落下する。これに対して、分離装置10を通過して落下するバルク材8は、ホッパにより捕集され、戻し送りライン25に供給される。
図3には、排出部4の拡大縦断面図が示されている。排出部壁14が、金属製の外層29を有し、外層29は、好適には鋼板からなる。さらに排出部壁14は、耐熱性のセラミックス製の内層28を有し、内層28は、例えば25cmの厚さを有する。鋼板からなる外層29は、例えば6mmの厚さを有する。排出部トラフ33は、排出部4の主要部分30に通じる。主要部分30は、下向きに先細りになっている。排出部トラフ33は、排出部通路19の天井と排出部トラフ33との間の懸架部材40と、排出部通路19の床と排出部トラフ33との間の支持部材41とによって支持される。これにより、排出部トラフ33は、排出部通路19の床に接しない。その結果、加熱要素22によって加熱されたガスが、全ての側から排出部トラフ33の周りを通過することができる。ゆえにその結果、塩の堆積の可能性が低減される。さらに、排出部トラフ33は、過度に強く腐食されたら容易に交換することができる。
図3においてさらに看取されるように、排出部バーナの形態の加熱要素22が、排出部4の天井を貫通し、排出部バーナのノズルが、排出部通路端部5の方へ向けられている。同様に、温度センサ34が、排出部4の天井を貫通するので、温度センサ34の先端が、排出部通路19内に又は主要領域30内に突出する。別の温度センサ34が、排出部トラフ33の下で排出部壁14の一部に位置する。この温度センサ34は、排出部壁14を貫通しないので、この温度センサ34の先端は、排出部通路19の床の領域で排出部壁14の温度を検出する。排出部4又は排出部4の天井は、取外し可能なカバー42を有する。排出部4の天井を通過する温度センサ34及び加熱要素22の両方が、カバー42に配置されている。さらにカバー42には、2つの検査用開口37が存在し、この場合、第1の検査用開口37は、排出部通路端部5の方へ向けられており、第2の検査用開口37は、排出部トラフ33の中央部分の方へ向けられている。
さらに図3は、サイホン13の構造を示している。サイホン13は、排出部の下面に設けられた開口内に存在し、この場合、サイホンの外壁32は、排出部壁14の開口の内面に接する。外壁32の上縁に天井壁44が取り付けられており、この場合、天井壁44は、下側の浸漬部分45と上側のガス分離部分46とを有する。外壁32の下縁には、床壁43が取り付けられており、床壁43から上方へ溢流壁47が延在する。溢流壁47の上縁は、天井壁44又は浸漬部分45の下縁よりも高い位置にある。溶融塩17が、排出部トラフ33に沿って流れ、次いで、天井壁44のガス分離部分46上に落下する。そこから、溶融塩は、外壁32と床壁43と溢流壁47とによって規定された、サイホンの捕集槽に流れ落ちる。サイホンの捕集槽は、溶融塩17のレベルが捕集槽内で溢流壁47の上縁に達するまで、溶融塩17によって満たされる。次いで、溶融塩17は、溢流壁47の外面に沿って、溢流壁47を降下し、そこから下方へ送り装置6上に落下する。浸漬部分45の下縁が溢流壁47の上縁よりも低い位置にあり、そしてガス分離部分46が排出部通路19へのガスの進入又は外気の進入を阻止するので、溶融塩17がサイホンから退出するが、外気が排出部通路19に進入し得ないことが保証されている。サイホン13内での塩の堆積を回避するために、サイホン13は、図示されていない誘導ヒータによって電気的に加熱される。
図4には、図3の排出部4が断面図で示されており、この場合、この断面図の観察方向は、加熱室壁21から離れる方向を向いたものである。加熱要素22は、この断面でも、排出部通路端部5の方へ向けられているので、加熱要素22は、これが排出部通路端部5の真上に配置されていることに基づいて、排出部4の天井又はカバー42を略垂直に貫通する。この断面図には、さらに機械的な清浄装置35が認められ、この清浄装置35は、加熱要素22の傍に位置するとともに、同様に排出部通路端部5の方へ向けられており、したがって、加熱要素22に対して傾斜した配置となる。清浄装置35は、モータ駆動式の押し棒として構成されている。この押し棒は、粘性のある溶融塩17が排出部通路端部5の領域で凝固するのを阻止することができる。さらに、清浄装置35は、粘性のある溶融塩17に起因するわずかな機械抵抗を検出することができる。例えば1時間に1度、清浄装置35は、排出部通路端部5内へ移動する。抵抗があるとき、清浄装置35は、抵抗がなくなるまで突き直される。その際、清浄装置35は、加熱要素22によって支持することができる。
直径方向で清浄装置35に対向して配置されるように、図4では良好に認められる第1の検査用開口37が位置し、第1の検査用開口37は、排出部通路端部5又は排出部トラフ33の端部を見渡せる。さらに、塩の堆積物又は粘性のある溶融塩を認めることができ、加熱要素22及び/又は清浄装置35の作動を観察することができる。さらに、この図では、排出部トラフ33が横断面で湾曲して構成されていることが具体的に示されている。その上、温度センサ34の他に、圧力センサ38がさらに認められる。圧力センサ38は、同様に排出部4の天井又はカバー42を貫通し、ゆえに排出部通路路19内のガス圧を検出することができる。図4には、その上さらにサイホン13が認められる。ここでは、浸漬部分45とガス分離部分46とを有する天井壁44を見ている。さらに、溢流壁47の上縁は、天井壁44によって覆われていることに基づいて、破線で示唆されている。
最後に、図5には、溢流部4が平面図で描画されている。この図では、加熱素子22、清浄装置35、第1及び第2の検査用開口37、温度センサ34及び圧力センサ38が相互にどのようにカバー42に配置されているのか特に良好に分かる。さらに、排出部トラフ33が、排出部通路端部5の方へ先細りになっており、本実施形態のサイホン13が、横断面で円形に構成されていることが看取される。天井壁44の溢流壁47及び浸漬部分45は、破線で示唆されている。

Claims (15)

  1. 加熱室(1)を有する、特に廃水を清浄する設備のための、液体の塩を取り出す装置であって、前記加熱室(1)は、塩含有物質(3)を導入するための入口(2)を有し、前記加熱室(1)は、溶融塩(17)のための排出部(4)に接続されており、該排出部(4)は、排出部通路(19)と排出部通路端部(5)とを有し、該排出部通路端部(5)の下流側に、溶融塩(17)を冷却する冷却領域(23)が設けられている、装置において、
    前記排出部通路(19)は、少なくとも一部分に沿って、排出部壁(14)によって周りを包囲されており、前記排出部(4)は、加熱要素(22)を有することを特徴とする、液体の塩を取り出す装置。
  2. 前記排出部(4)は、排出部トラフ(33)を有する、請求項1に記載の装置。
  3. 前記排出部(4)は、前記排出部通路(19)内で、前記排出部通路(19)内を流れる溶融塩(17)の下を、前記加熱要素(22)から出発する加熱されたガスが流れることができるように構成されている、請求項1又は2に記載の装置。
  4. 前記排出部(4)、前記排出部通路(19)又は前記排出部通路端部(5)が、前記排出部通路(19)への外気の進入を回避するために、サイホン(13)を有する、請求項1から3のいずれか1項に記載の装置。
  5. 前記排出部壁(14)は、セラミック層(28)を有する、請求項1から4のいずれか1項に記載の装置。
  6. 前記排出部通路端部(5)は、落下開口を有する、請求項1から5のいずれか1項に記載の装置。
  7. 前記排出部(4)は、前記加熱室(1)の側方の加熱室壁(21)に配置されている、請求項1から6のいずれか1項に記載の装置。
  8. 前記排出部(4)は、少なくとも1つの検査用開口(37)を有する、請求項1から7のいずれか1項に記載の装置。
  9. 前記排出部(4)は、取外し可能なカバー(42)を有する、請求項1から8のいずれか1項に記載の装置。
  10. 前記排出部(4)は、少なくとも1つの温度センサ(34)を有する、請求項1から9のいずれか1項に記載の装置。
  11. 前記排出部(4)は、清浄装置(35)を有する、請求項1から10のいずれか1項に記載の装置。
  12. 前記加熱室(1)は、壁管(15)を有する、請求項1から11のいずれか1項に記載の装置。
  13. 前記排出部通路端部(5)の下に、送り装置(6)が配置されており、これにより、溶融塩(17)が前記送り装置(6)上に落下することができる、請求項1から12のいずれか1項に記載の装置。
  14. 特に請求項1から13のいずれか1項に記載の装置を用いて、液体の塩を取り出す方法であって、溶融塩(17)が、排出部(4)の排出部通路(19)に沿って、前記排出部(4)の排出部通路端部(5)にまで流れ、前記排出部通路端部(5)の下流側で、溶融塩(17)が、冷却領域(23)において少なくとも凝固するまで冷却される、方法において、
    前記排出部(4)は、加熱要素(22)を有し、該加熱要素(22)は、塩の堆積を回避するために、前記排出部通路(19)に熱を供給することを特徴とする、液体の塩を取り出す方法。
  15. 前記溶融塩(17)が、前記排出部通路(19)内で排出部トラフ(33)に沿って導かれ、該排出部トラフ(33)の周りを、少なくとも一部分に沿って、全周にわたって前記加熱要素(22)によって加熱されたガスが通過する、請求項14に記載の方法。
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Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN115177970B (zh) * 2022-08-08 2023-08-08 上海交通大学 连续多级区域结晶控制装置
CN115253363B (zh) * 2022-08-09 2024-02-27 上海交通大学 流动的区域结晶控制装置

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4926665B1 (ja) * 1970-11-02 1974-07-11
JPS50130266A (ja) * 1974-04-01 1975-10-15
JPS5547954B2 (ja) * 1975-12-10 1980-12-03
JPH07251161A (ja) * 1994-03-15 1995-10-03 Tsukishima Kikai Co Ltd アルカリ含有廃液の燃焼方法
JP2003329225A (ja) * 2002-05-07 2003-11-19 Ebara Corp 溶融炉装置、その運転方法及びガス化溶融システム
JP2008232582A (ja) * 2007-03-23 2008-10-02 Metawater Co Ltd スラグ出湯口の清掃装置

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB360140A (en) * 1930-09-29 1931-11-05 Henri Maurice Brillie Process and apparatus for the production of soft water on board ship and for other purposes
US2033985A (en) * 1932-09-27 1936-03-17 Celanese Corp Method of separating substantially anhydrous solids from solutions
US2876182A (en) * 1952-06-21 1959-03-03 Int Salt Co Method and apparatus for treating salts
DE1268850C2 (de) * 1965-07-16 1974-10-03 Vorrichtung zur reinigung der abgase, die beim entfernen des wasserstoffes aus aluminiumschmelzen durch einleiten von chlor entstehen
DE1729232B1 (de) * 1967-12-20 1971-07-15 Knapsack Ag Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von Salzen aus letztere enthaltenden Duennloesungen oder -suspensionen
FR2094595A6 (ja) * 1970-02-02 1972-02-04 Azote & Prod Chim
US3870585A (en) * 1973-02-15 1975-03-11 Pureco Systems Inc Apparatus and method for evaporative concentration of aqueous solutions and slurries
DE2352701A1 (de) * 1973-10-20 1975-06-12 Hoechst Ag Verfahren zum aufkonzentrieren salzhaltiger, verduennter schwefelsaeure
DD120762A3 (ja) * 1974-07-31 1976-07-05
DE3815503C2 (de) 1988-05-06 1996-02-22 Miljoevern Umwelt Technik Inge Vorrichtung zur Aufarbeitung industrieller Abwässer, die umweltschädliche Verunreinigungen und Schadstoffe enthalten
CA2094571C (en) * 1993-04-21 2001-08-14 Robert L. Solomon Improved salt basket for crystallizer and method of use in zero liquid discharge industrial facilities
DE4319828A1 (de) * 1993-06-16 1994-12-22 Henkel Kgaa Modifiziertes Trocknungsverfahren unter Mitverwendung von Heißdampf im Trocknungsmedium und seine Anwendung
JP3611024B2 (ja) * 1999-12-22 2005-01-19 株式会社クボタ 汚泥分析計の排水装置
KR20110101234A (ko) * 2008-12-29 2011-09-15 테이트 앤드 라일 테크놀러지 리미티드 용융염 처리 시스템 및 공정
ES2355911B1 (es) * 2010-03-24 2012-02-08 Herlogas, S.A. Horno para la fusión de sales inorg�?nicas.
EP2671626B1 (de) * 2012-06-04 2018-10-24 Hitachi Zosen Inova AG Verfahren zur Reinigung von Abgasen der Müllverbrennung mit einer Rückführung eines Sorbens, die einen Wärmetauscher zur Kühlung des Sorbens umfasst
CN104548634B (zh) * 2013-10-28 2016-08-17 南通醋酸纤维有限公司 一种多效蒸发结合搅拌蒸发的固液分离工艺
CN106807098A (zh) * 2016-12-27 2017-06-09 中山市中环环保废液回收有限公司 一种低温蒸发设备

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4926665B1 (ja) * 1970-11-02 1974-07-11
JPS50130266A (ja) * 1974-04-01 1975-10-15
JPS5547954B2 (ja) * 1975-12-10 1980-12-03
JPH07251161A (ja) * 1994-03-15 1995-10-03 Tsukishima Kikai Co Ltd アルカリ含有廃液の燃焼方法
JP2003329225A (ja) * 2002-05-07 2003-11-19 Ebara Corp 溶融炉装置、その運転方法及びガス化溶融システム
JP2008232582A (ja) * 2007-03-23 2008-10-02 Metawater Co Ltd スラグ出湯口の清掃装置

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