JP2021189453A - 可視スペクトル範囲での高いソラリゼーション耐性を有するビームガイド要素を含む結像システム - Google Patents
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Abstract
【課題】可視スペクトル範囲、特に青色スペクトル範囲での高いソラリゼーション耐性を有し、プロジェクターに好適なだけでなく、材料加工の用途にも使用することができる、ビームガイド要素を備えた結像システムを提供すること。【解決手段】可視スペクトル範囲の波長を有する少なくとも1つのレーザー光源と、高いビーム出力密度での高いソラリゼーション耐性を有するビームガイド要素と、を含む結像システム。DLPプロジェクターの実施形態例では、レーザー光源1によって生成された青色、緑色および赤色の3色(矢印5)は、ビームガイド要素2に到達し、ビームガイド要素2は、光を結像チップ3に偏向させ(矢印6)、次いで、結像チップ3によって生成された画像は、ビームガイド要素2に到達(矢印7)し、次いで、ビームガイド要素2は、合成カラー画像を投影光学系4に到達させる(矢印8)。【選択図】図1
Description
本発明は、可視スペクトル範囲の波長を有する少なくとも1つのレーザー光源と、高いビーム出力密度での高いソラリゼーション耐性を有するビームガイド要素と、を含む結像システムに関する。本発明は、結像システムの特にプロジェクターおよび材料加工での使用方法にも関する。
プロジェクター用の光源は、目下、キセノンからレーザー蛍光器、ならびに光束および電力密度が一定に増加する純粋なRGBレーザー光源への変遷を経ている。例えば、レーザー光源を備えた今日のシネマプロジェクターでは、75,000ルーメンまでの光束と、50W/cm2までのもしくはそれ以上の面積電力密度とが達成される。光束および電力密度の増加に伴い、光学コンポーネントの熱負荷が増加し、これによって、投影品質と長期的な安定性とが損なわれる。シネマプロジェクターの光学系は、通常、大容量のプリズムアレイと映写レンズとからなっている。特に、プリズムアレイは、高い熱負荷にさらされる。それゆえ、低い吸収損失に関する光学ガラスの要件、すなわち最大透過率と低ソラリゼーション傾向、つまり適用中の低誘導吸収損失に関する光学ガラスの要件は絶えず増加する。
従来のキセノンベースのシネマプロジェクターは、で45,000ルーメンの最大光束を有している。しかしながら、最新のレーザーベースのプロジェクターでは、75,000ルーメンまでの光束と、50W/cm2までのもしくはそれ以上の面積電力密度とが達成される。強い青色レーザーは、コンバーター内の黄色光の放出を励起する。緑色および黄色のチャネルは、黄色光からダイクロイックフィルターを用いて抽出される。青色光の一部は青色チャネル用に使用される。次いで、3つのチャネルすべてが投影用に使用される。
投影システムは、多くの場合、個々のカラーチャネルをDLPチップにルーティングし、画像生成用の信号を混合するための複雑なプリズムアレイからなっている。光路長は、100〜200mmを超えてもよい。プリズムアレイ内のあらゆる光吸収は、温度勾配および熱レンズ効果につながる。それゆえ、プリズムガラスは、可視波長範囲内で可及的に高い透過率を有する必要がある。プロジェクターの光束の増加に伴ってますます重要になるさらなる効果は、ガラスのソラリゼーション効果である。プリズムガラス内の吸収に起因する欠陥中心の生成は、透過率の低下につながる可能性があり、これも熱レンズ効果に伴う。
ただし、そのようなソラリゼーション効果は、最新のプロジェクターの光学系だけに関連性があるわけではない。材料加工の用途においてもこの種の現象はますます重要になる。
それゆえ、本発明の課題は、可視スペクトル範囲、特に青色スペクトル範囲での高いソラリゼーション耐性を有し、それゆえ、プロジェクターに好適なだけでなく、材料加工の用途にも使用することができる、ビームガイド要素を備えた結像システムを提供することにある。
結像システムは、特に、少なくとも1つの光源と少なくとも1つのビームガイド要素、特にレンズ、プリズム、非球面および/または光導波路を備えたシステムである。この種の光導波路は、ガラス空気境界面での全反射を活用し、典型的には、300mmを超えない長さを有する。そのような結像システムは、例えば、プロジェクター、特にシネマプロジェクターで使用される。結像システムは、この関係において、光源からの光の所期のビームガイドによって、観察者に認識可能な画像を例えばスクリーン上に生成することをもたらす。最大の電力密度は、通常、プリズム内で、特にカラーチャネルの混合をもたらすプリズム内で発生する。それゆえ、関連性のあるソラリゼーション効果を引き起こすことなく、これらの電力密度に耐え得る材料からなるそのようなプリズムビームガイド要素を提供することが特に重要である。結像システムは、材料加工の場合にも使用される。所期のビームガイドにより、光源からの光は、光ビームのエネルギー入力を材料加工に使用できるように、加工すべき材料に集束させることができる。
この課題は、特許請求の範囲の態様によって解決される。特に、この課題は、結像システムであって、
a)380nm以上490nm以下のスペクトル範囲の波長λBを有するレーザー光源Bと、490nm超585nm以下のスペクトル範囲の波長λGを有するレーザー光源Gと、585nm超750nm以下のスペクトル範囲の波長λRを有するレーザー光源Rと、からなるグループから選択される少なくとも1つのレーザー光源と、
b)ビームガイド要素と、を含み、
レーザー光源は、ビームガイド要素の少なくとも1つのポイントにおいて10W/cm2を超える平均面積電力密度を生成するのに適しており、ビームガイド要素は、品質係数F(436nm)=S(436nm)×(Ext0(436nm)+Ext1(436nm))/kを有し、F(436nm)<700ppm/Wであるガラスからなる、結像システムによって解決される。
a)380nm以上490nm以下のスペクトル範囲の波長λBを有するレーザー光源Bと、490nm超585nm以下のスペクトル範囲の波長λGを有するレーザー光源Gと、585nm超750nm以下のスペクトル範囲の波長λRを有するレーザー光源Rと、からなるグループから選択される少なくとも1つのレーザー光源と、
b)ビームガイド要素と、を含み、
レーザー光源は、ビームガイド要素の少なくとも1つのポイントにおいて10W/cm2を超える平均面積電力密度を生成するのに適しており、ビームガイド要素は、品質係数F(436nm)=S(436nm)×(Ext0(436nm)+Ext1(436nm))/kを有し、F(436nm)<700ppm/Wであるガラスからなる、結像システムによって解決される。
本発明による結像システムは、さらなるコンポーネント、例えば、結像チップ(特にDLPチップ)および/または投影光学系を含むことができる。
本発明による結像システムは、380nm以上490nm以下のスペクトル範囲の波長λBを有するレーザー光源Bを含むことができる。好適には、この結像システムは、400nm以上480nm以下、さらに好適には420nm以上470nm以下、さらに好適には425nm以上460nm以下、さらに好適には430nm以上450nm以下のスペクトル範囲の波長λBを有するレーザー光源Bを含む。
本発明による結像システムは、490nm超585nm以下のスペクトル範囲の波長λGを有するレーザー光源Gを含むことができる。好適には、この結像システムは、510nm以上580nm以下、さらに好適には520nm以上570nm以下、さらに好適には530nm以上560nm以下、さらに好適には540nm以上550nm以下のスペクトル範囲の波長λGを有するレーザー光源Gを含む。
本発明による結像システムは、585nm超750nm以下のスペクトル範囲の波長λRを有するレーザー光源Rを含むことができる。この結像システムは、好適には600nm以上720nm以下、さらに好適には610nm以上700nm以下、さらに好適には620nm以上680nm以下、さらに好適には630nm以上660nm以下、さらに好適には640nm以上650nm以下のスペクトル範囲の波長λRを有するレーザー光源Rを含む。
本発明による結像システムは、380nm以上490nm以下のスペクトル範囲の波長λBを有するレーザー光源Bと、490nm超585nm以下のスペクトル範囲の波長λGを有するレーザー光源Gと、585nm超750nm以下のスペクトル範囲の波長λRを有するレーザー光源Rと、からなるグループから選択された厳密に1つのレーザー光源を含むことができる。本発明によれば、例えば、380nm以上490nm以下のスペクトル範囲の波長λBを有するレーザー光源Bのみ、または490nm超585nm以下のスペクトル範囲の波長λGを有するレーザー光源Gのみ、または585nm超750nm以下のスペクトル範囲の波長λRを有するレーザー光源Rのみを含む結像システムである。
本発明による結像システムは、他の実施形態では、380nm以上490nm以下のスペクトル範囲の波長λBを有するレーザー光源Bと、490nm超585nm以下のスペクトル範囲の波長λGを有するレーザー光源Gと、585nm超750nm以下のスペクトル範囲の波長λRを有するレーザー光源Rと、からなるグループから選択された厳密に2つのレーザー光源を含むことができる。本発明によれば、例えば、380nm以上490nm以下のスペクトル範囲の波長λBを有する厳密に1つのレーザー光源Bと、490nm超585nm以下のスペクトル範囲の波長λGを有する厳密に1つのレーザー光源Gと、を含むが、585nm超750nm以下のスペクトル範囲の波長λRを有するレーザー光源Rは含まない結像システムである。本発明によれば、380nm以上490nm以下のスペクトル範囲の波長λBを有する厳密に1つのレーザー光源Bと、585nm超750nm以下のスペクトル範囲の波長λRを有する厳密に1つのレーザー光源Rと、を含むが、490nm超585nm以下のスペクトル範囲の波長λGを有するレーザー光源Gは含まない結像システムでもある。本発明によれば、585nm超750nm以下のスペクトル範囲の波長λRを有する厳密に1つのレーザー光源Rと、490nm超585nm以下のスペクトル範囲の波長λGを有する厳密に1つのレーザー光源Gと、を含むが、380nm以上490nm以下のスペクトル範囲の波長λBを有するレーザー光源Bは含まない結像システムでもある。
特に好適には、本発明による結像システムは、380nm以上490nm以下のスペクトル範囲の波長λBを有するレーザー光源Bと、490nm超585nm以下のスペクトル範囲の波長λGを有するレーザー光源Gと、585nm超750nm以下のスペクトル範囲の波長λRを有するレーザー光源Rと、からなるグループから選択された厳密に3つのレーザー光源を含む。特に極めて好適には、本発明による結像システムは、380nm以上490nm以下のスペクトル範囲の波長λBを有するレーザー光源Bと、490nm超585nm以下のスペクトル範囲の波長λGを有するレーザー光源Gと、585nm超750nm以下のスペクトル範囲の波長λRを有するレーザー光源Rと、を含む。
レーザー光源(特に、380nm以上490nm以下のスペクトル範囲の波長λBを有するレーザー光源B、490nm超585nm以下のスペクトル範囲の波長λGを有するレーザー光源Gおよび/または585nm超750nm以下のスペクトル範囲の波長λRを有するレーザー光源R)は、ビームガイド要素の少なくとも1つのポイントにおいて、好適にはビームガイド要素の少なくとも0.1cm2、さらに好適には少なくとも0.5cm2、さらに好適には少なくとも1cm2、さらに好適には少なくとも2cm2、さらに好適には少なくとも3cm2、さらに好適には少なくとも5cm2、さらに好適には少なくとも7cm2、さらに好適には少なくとも9cm2の面積上で10W/cm2を超える平均面積電力密度を生成するのに適している。レーザー光源(特に、380nm以上490nm以下のスペクトル範囲の波長λBを有するレーザー光源B、490nm超585nm以下のスペクトル範囲の波長λGを有するレーザー光源Gおよび/または585nm超750nm以下のスペクトル範囲の波長λRを有するレーザー光源R)は、ビームガイド要素の少なくとも1つのポイントにおいて、好適にはビームガイド要素の少なくとも0.1cm2、さらに好適には少なくとも0.5cm2、さらに好適には少なくとも1cm2、さらに好適には少なくとも2cm2、さらに好適には少なくとも3cm2、さらに好適には少なくとも5cm2、さらに好適には少なくとも7cm2、さらに好適には少なくとも9cm2の面積上で、10W/cm2超75W/cm2以下、さらに好適には15W/cm2以上60W/cm2以下、さらに好適には20W/cm2以上50W/cm2以下、例えば25W/cm2以上45W/cm2以下、または30W/cm2以上40W/cm2以下の平均面積電力密度を生成するのに適している。
レーザー光源Bは、好適には、ビームガイド要素の少なくとも1つのポイントにおいて、好適にはビームガイド要素の少なくとも0.1cm2、さらに好適には少なくとも0.5cm2、さらに好適には少なくとも1cm2、さらに好適には少なくとも2cm2、さらに好適には少なくとも3cm2、さらに好適には少なくとも5cm2、さらに好適には少なくとも7cm2、さらに好適には少なくとも9cm2の面積上で10W/cm2を超える平均面積電力密度を生成するのに適している。さらに好適には、レーザー光源Bは、ビームガイド要素の少なくとも1つのポイントにおいて、好適にはビームガイド要素の少なくとも0.1cm2、さらに好適には少なくとも0.5cm2、さらに好適には少なくとも1cm2、さらに好適には少なくとも2cm2、さらに好適には少なくとも3cm2、さらに好適には少なくとも5cm2、さらに好適には少なくとも7cm2、さらに好適には少なくとも9cm2の面積上で、10W/cm2超75W/cm2以下、さらに好適には15W/cm2以上60W/cm2以下、さらに好適には20W/cm2以上50W/cm2以下、例えば25W/cm2以上45W/cm2以下、または30W/cm2以上40W/cm2以下の平均面積電力密度を生成するのに適している。
レーザー光源Gは、好適には、ビームガイド要素の少なくとも1つのポイントにおいて、好適にはビームガイド要素の少なくとも0.1cm2、さらに好適には少なくとも0.5cm2、さらに好適には少なくとも1cm2、さらに好適には少なくとも2cm2、さらに好適には少なくとも3cm2、さらに好適には少なくとも5cm2、さらに好適には少なくとも7cm2、さらに好適には少なくとも9cm2の面積上で10W/cm2を超える平均面積電力密度を生成するのに適している。さらに好適には、レーザー光源Gは、ビームガイド要素の少なくとも1つのポイントにおいて、好適にはビームガイド要素の少なくとも0.1cm2、さらに好適には少なくとも0.5cm2、さらに好適には少なくとも1cm2、さらに好適には少なくとも2cm2、さらに好適には少なくとも3cm2、さらに好適には少なくとも5cm2、さらに好適には少なくとも7cm2、さらに好適には少なくとも9cm2の面積上で、10W/cm2超75W/cm2以下、さらに好適には15W/cm2以上60W/cm2以下、さらに好適には20W/cm2以上50W/cm2以下、例えば25W/cm2以上45W/cm2以下、または30W/cm2以上40W/cm2以下の平均面積電力密度を生成するのに適している。
レーザー光源Rは、好適には、ビームガイド要素の少なくとも1つのポイントにおいて、好適にはビームガイド要素の少なくとも0.1cm2、さらに好適には少なくとも0.5cm2、さらに好適には少なくとも1cm2、さらに好適には少なくとも2cm2、さらに好適には少なくとも3cm2、さらに好適には少なくとも5cm2、さらに好適には少なくとも7cm2、さらに好適には少なくとも9cm2の面積上で10W/cm2を超える平均面積電力密度を生成するのに適している。さらに好適には、レーザー光源Rは、ビームガイド要素の少なくとも1つのポイントにおいて、好適にはビームガイド要素の少なくとも0.1cm2、さらに好適には少なくとも0.5cm2、さらに好適には少なくとも1cm2、さらに好適には少なくとも2cm2、さらに好適には少なくとも3cm2、さらに好適には少なくとも5cm2、さらに好適には少なくとも7cm2、さらに好適には少なくとも9cm2の面積上で、10W/cm2超75W/cm2以下、さらに好適には15W/cm2以上60W/cm2以下、さらに好適には20W/cm2以上50W/cm2以下、例えば25W/cm2以上45W/cm2以下、または30W/cm2以上40W/cm2以下の平均面積電力密度を生成するのに適している。
レーザー光源B、レーザー光源Gおよびレーザー光源Rは、好適には、ビームガイド要素の少なくとも1つのポイントにおいて、好適にはビームガイド要素の少なくとも0.1cm2、さらに好適には少なくとも0.5cm2、さらに好適には少なくとも1cm2、さらに好適には少なくとも2cm2、さらに好適には少なくとも3cm2、さらに好適には少なくとも5cm2、さらに好適には少なくとも7cm2、さらに好適には少なくとも9cm2の面積上で10W/cm2を超える平均面積電力密度を生成するのに適している。さらに好適には、レーザー光源B、レーザー光源Gおよびレーザー光源Rは、ビームガイド要素の少なくとも1つのポイントにおいて、好適にはビームガイド要素の少なくとも0.1cm2、さらに好適には少なくとも0.5cm2、さらに好適には少なくとも1cm2、さらに好適には少なくとも2cm2、さらに好適には少なくとも3cm2、さらに好適には少なくとも5cm2、さらに好適には少なくとも7cm2、さらに好適には少なくとも9cm2の面積上で、10W/cm2超75W/cm2以下、さらに好適には15W/cm2以上60W/cm2以下、さらに好適には20W/cm2以上50W/cm2以下、例えば25W/cm2以上45W/cm2以下、または30W/cm2以上40W/cm2以下の平均面積電力密度を生成するのに適している。
本発明による結像システムは、品質係数F(436nm)=S(436nm)×(Ext0(436nm)+Ext1(436nm))/kを有し、F(436nm)<700ppm/Wであるガラスからなるビームガイド要素を含む。
高エネルギーの光子がUV範囲で照射されると、材料内で欠陥が誘発され、スペクトル透過率の変化につながる。これらが可視スペクトル範囲内にある場合、これは不所望な色変化を伴う。この現象は、特に、ガラスからなる光学コンポーネントの場合には望ましくない。驚くべきことに、ここでは、高いレーザー出力密度の場合に、可視スペクトル範囲内、例えば450nmでも、従来の光源においてUV/NUVで照射する場合にしか見つからないような欠陥中心が誘導され得ること(=ソラリゼーション)が示された。特定の説明に制限されることなく、本発明では、可視光で照射された場合のソラリゼーション効果の発生は、特に、高電力密度を伴う非線形効果に起因するものであることが前提とされる。十分な電力密度での励起の場合、2光子吸収が発生しかねず、これは、半波長(例えば450nm/2=225nm)の光子のエネルギーに相応し、したがって、ほぼUV吸収に相応する。従来のUVソラリゼーションとは対照的に、この効果は一般に、光源に面した表面近傍のガラスボリュームに限定されるのではなく、むしろ光路長全体にわたって発生する可能性がある。形成された欠陥中心は、透過強度を低下させる新しい吸収帯を誘発する。
誘発された吸収帯は、光学材料/ガラス内で温度上昇を伴わせる。なぜなら、屈折率と幾何学的経路とが温度とともに変化するからである。ここでは、波面の遅延と不所望な結像エラーとが発生する。
その結果、ビームガイド要素の少なくとも1つのポイントにおいて、10W/cm2を超える平均面積電力密度を生成するのに適したレーザー光源を含む結像システムで使用されるビームガイド要素の材料に対する特に高い要求が生じる。それゆえ、本発明の1つの課題は、不所望な結像エラーを回避するか、または少なくとも大幅に低減する結像システムを提供することにある。
図1には、本発明の結像システムの例示的な実施形態が概略的に示されている。この実施形態によれば、結像システムはDLPプロジェクターである。「DLP」という表現は、英語表記“Digital Light Processing”という用語の略語である。図1に示される本発明による結像システムは、レーザー光源1およびビームガイド要素2を含む。本発明によれば、この結像システムは、380nm以上490nm以下のスペクトル範囲の波長λBを有するレーザー光源Bと、490nm超585nm以下のスペクトル範囲の波長λGを有するレーザー光源Gと、585nm超750nm以下のスペクトル範囲の波長λRを有するレーザー光源Rと、からなるグループから選択された少なくとも1つのレーザー光源を含む。したがって、言及した複数のレーザー光源、特に1つの青色レーザー光源、1つの緑色レーザー光源および1つの赤色レーザー光源のうちの2つ以上が、本発明による結像システム内に存在する可能性もある。図1中に簡略化された単一のボックスとして示されるレーザー光源1は、例えば、3つの異なる色のダイオードレーザー、特に青色ダイオードレーザー、緑色ダイオードレーザーおよび赤色ダイオードレーザーを表すことができる。単一のレーザー光源、例えば青色レーザー光源しか存在しない可能性もある。いくつかの実施形態では、コンバーター、特にセラミックコンバーターを用いて、青色レーザー光源によって放出された青色光を、発光を介して、より高い波長の光、例えば、黄色、緑色、赤色および/または黄緑色の光に変換することができる。
図1に示されるDLPプロジェクターでは、レーザー光源1は、青色、緑色および赤色の光を放出する(矢印5によって示される)。これは、例えば、レーザー光源1が、青色、緑色および赤色のダイオードレーザーの存在を表すことによって達成することができる。青色レーザーだけが存在し、付加的に放出される緑色および赤色の光が変換材料の使用によって生成される可能性もある。レーザー光源1によって放出される3つの色5は、レーザー光源1を離れた後、ビームガイド要素2に到達する。このビームガイド要素2は、少なくとも1つのプリズムを含むが、例えば、複数のプリズムを含むプリズムアレイを表すこともできる。プリズムアレイは、例えば、2つまたは3つのプリズムからなることができる。矢印6によって、ビームガイド要素2が、レーザー光源1から放出された3つの色の光を結像チップ3に偏向させることが示されている。好適には、3つの色(青色、緑色および赤色)のうちの各々の光は、それぞれ1つの結像チップ3上に偏向される。簡単化の理由から、図1中には、結像チップ3を表す単一のボックスのみが示されている。好適には、結像チップ3は、DLPチップ3である。好適には、結像システムは、カラーチャネルごとにそれぞれ1つの結像チップ3を含む。つまり、図1中に示されるボックスは、好適には、3つの結像チップ3(青色、緑色および赤色用にそれぞれ1つ)、特に3つのDLPチップ3を表す。
次に、DLPチップ3によって生成された画像(特に、それぞれ1つの青色、緑色および赤色の画像)は、ビームガイド要素2、特にプリズム2またはプリズムアレイ2に到達する。これは、矢印7によって示される。
次いで、ビームガイド要素2は、合成カラー画像が投影光学系4に到達することをもたらす。これは矢印8によって示されている。
特にビームガイド要素2の領域では、非常に高い面積電力密度が発生する可能性がある。それゆえ、ビームガイド要素2が、本発明による品質係数を有するガラスからなることが重要である。
本課題は、特に、ビームガイド要素が、品質係数F(436nm)=S(436nm)×(Ext0(436nm)+Ext1(436nm))/kを有し、F(436nm)<700ppm/Wであるガラスからなることによって解決される。
品質係数Fは、本明細書で見出された組み合わせにおいて、結像エラーの低減につながる様々な要因を考慮に入れる。その際には、波長に依存する要因も波長に依存しない要因も考慮される。436nmの波長における品質係数F(436nm)は、380nm以上490nm以下のスペクトル範囲のガラスの特性を表している。この範囲は、可視スペクトル範囲全体でのガラスの特性も表している。本発明によれば、F(436nm)<700ppm/Wが適用される。
380nm以上490nm以下の範囲外の波長でのガラスの特性は、程度は低いもののいくつかの場合では結像エラーに寄与する可能性がある。品質係数F(436nm)は、原則的にガラスの品質を表すのには十分である。ただし、特定の場合には、436nmの波長でのガラスの特性の他に、490nm超585nm以下の波長範囲を表す546nmの波長での特性および/または585nm超750nm以下の波長範囲を表す644nmの波長での特性を考慮に入れるべきことが有意である可能性もある。好適には、ビームガイド要素は、品質係数F(546nm)=S(546nm)×(Ext0(546nm)+Ext1(546nm))/kを有し、F(546nm)<215ppm/Wであるガラスおよび/または品質係数F(644nm)=S(644nm)×(Ext0(644nm)+Ext1(644nm))/kを有し、F(644nm)<85ppm/Wであるガラスからなる。
品質係数F(RGB)は、436nm、546nmおよび644nmにおけるガラスの特性から決定することができる。好適には、ビームガイド要素は、品質係数F(RGB)=F(436nm)+F(546nm)+F(644nm)=S(436nm)×(Ext0(436nm)+Ext1(436nm))/k+S(546nm)×(Ext0(546nm)+Ext1(546nm))/k+S(644nm)×(Ext0(644nm)+Ext1(644nm))/kを有し、F(RGB)<1000ppm/Wであるガラスからなる。
品質係数Fは、熱性S(λ)、非誘導吸光度Ext0(λ)、誘導吸光度Ext1(λ)およびガラスの熱伝導率kを考慮に入れる。熱性、非誘導吸光度および誘導吸光度は、波長に依存するパラメータである。熱伝導率は、波長に依存しない。非誘導吸光度Ext0(λ)は、納入状態もしくは意図された使用前の吸光度についての尺度として用いることができる。誘導吸光度Ext1(λ)は、適切な操作によって潜在的に誘導された吸光度についての尺度として用いることができる。
本発明によれば、F(436nm)<700ppm/Wが適用される。好適には、F(436nm)は、最大で600ppm/W、さらに好適には最大で500ppm/W、さらに好適には最大で400ppm/W、さらに好適には最大で350ppm/W、さらに好適には最大で300ppm/W、さらに好適には最大で275ppm/W、さらに好適には最大で250ppm/、さらに好適には最大で225ppm/W、さらに好適には最大で210ppm/W、さらに好適には最大で200ppm/W、さらに好適には最大で150ppm/W、さらに好適には最大で100ppm/W、さらに好適には最大で75ppm/W、さらに好適には最大で50ppm/W、さらに好適には最大で25ppm/W、さらに好適には最大で20ppm/W、さらに好適には最大で15ppm/W、さらに好適には最大で10ppm/Wである。いくつかの実施形態では、F(436nm)は、少なくとも0.1ppm/W、少なくとも0.5ppm/W、少なくとも1ppm/W、または少なくとも2ppm/Wである。
好適には、F(546nm)<215ppm/Wが適用される。さらに好適にはF(546nm)は、最大で200ppm/W、さらに好適には最大で175ppm/W、さらに好適には最大で150ppm/W、さらに好適には最大で125ppm/W、さらに好適には最大で100ppm/W、さらに好適には最大で90ppm/W、さらに好適には最大で80ppm/W、さらに好適には最大で70ppm/W、さらに好適には最大で60ppm/W、さらに好適には最大で50ppm/W、さらに好適には最大で40ppm/W、さらに好適には最大で30ppm/W、さらに好適には最大で20ppm/W、さらに好適には最大で15ppm/W、さらに好適には最大で10ppm/W、さらに好適には最大で8ppm/W、さらに好適には最大で6ppm/W、さらに好適には最大で5ppm/Wである。いくつかの実施形態では、F(546nm)は、少なくとも0.001ppm/W、少なくとも0.005ppm/W、少なくとも0.01ppm/W、少なくとも0.02ppm/W、少なくとも0.1ppm/W、少なくとも0.5ppm/Wまたは少なくとも1ppm/Wである。
好適には、F(644nm)<85ppm/Wが適用される。さらに好適には、F(644nm)は、最大で80ppm/W、さらに好適には最大で75ppm/W、さらに好適には最大で70ppm/W、さらに好適には最大で65ppm/W、さらに好適には最大で60ppm/W、さらに好適には最大で55ppm/W、さらに好適には最大で50ppm/W、さらに好適には最大で45ppm/W、さらに好適には最大で40ppm/W、さらに好適には最大でそれ35ppm/W、さらに好適には最大で30ppm/W、さらに好適には最大で25ppm/W、さらに好適には最大で20ppm/W、さらに好適には最大で15ppm/W、さらに好適には最大で10ppm/W、さらに好適には最大で8ppm/W、さらに好適には最大で6ppm/W、さらに好適には最大で5ppm/Wである。いくつかの実施形態では、F(546nm)は、少なくとも0.001ppm/W、少なくとも0.005ppm/W、少なくとも0.01ppm/W、または少なくとも0.02ppm/W、少なくとも0.1ppm/W、少なくとも0.5ppm/W、または少なくとも1ppm/Wである。
それゆえ、好適には、ビームガイド要素は、品質係数F(RGB)=F(436nm)+F(546nm)+F(644nm)=S(436nm)×(Ext0(436nm)+Ext1(436nm))/k+S(546nm)×(Ext0(546nm)+Ext1(546nm))/k+S(644nm)×(Ext0(644nm)+Ext1(644nm))/kを有し、F(RGB)<1000ppm/Wであるガラスからなる。好適には、F(RGB)は、最大で900ppm/W、さらに好適には最大で800ppm/W、さらに好適には最大で700ppm/W、さらに好適には最大で600ppm/W、さらに好適には最大で500ppm/W、さらに好適には最大で400ppm/W、さらに好適には最大で350ppm/W、さらに好適には最大で300ppm/W、さらに好適には最大で250ppm/W、さらに好適には最大で200ppm/W、さらに好適には最大で150ppm/W、さらに好適には最大で100ppm/W、さらに好適には最大で80ppm/W、さらに好適には最大で60ppm/W、さらに好適には最大で50ppm/W、さらに好適には最大で40ppm/W、さらに好適には最大で30ppm/W、さらに好適には最大で25ppm/W、さらに好適には最大で20ppm/Wである。いくつかの実施形態では、F(RGB)は、少なくとも0.5ppm/W、少なくとも1ppm/W、少なくとも2ppm/W、または少なくとも5ppm/Wである。
品質係数Fへの大きな影響を有する1つの変数は、波長に依存する熱性S(λ)である。この熱性は、光路s=(n−1)×dと温度Tとの相対的な変化を表し、ただしnは、屈折率、dは、サンプル厚さである。ここでは、関係式S=1/s×ds/dTが成り立つ。d=d(T)でもあり、n=n(T)でもあるため、関係式S=1/s×(dn/dT×d+(n−1)dd/dT)が成り立つ。したがって、S=1/(n−1)×dn/dT+1/d×dd/dT=1/(n−1)×dn/dT+CTEが成り立つ。このCTEは、熱的な膨張係数または熱膨張係数(英語表記:“coefficient of thermal expansion”である。
熱膨張係数は、好適には、DIN51045−1:2005−08およびDIN ISO79911998−02に記載されているように決定される。この場合、定められた長さのガラスサンプルが準備され、温度間隔(Delta T)ごとの相対的な長さ変化(DeltaL/L)が膨張計で測定される。熱性S(λ)の計算のために、好適には、−30℃以上+70℃以下の温度間隔における平均熱膨張係数が使用される。特に、−30℃以上+70℃以下の温度範囲(CTE(−30/70))では、低い熱膨張係数が有利である。好適には、CTE(−30/70)は、3.0ppm/K以上14.0ppm/K以下、特に4.0ppm/K以上10.0ppm/K以下、4.5ppm/K以上9.5ppm/K以下、5.0ppm/K以上8.0ppm/K以下および/または5.5ppm/K以上7.5ppm/K以下、例えば5.6ppm/K以上7.3ppm/K以下、または5.7ppm/K以上7.2ppm/K以下の範囲にある。
dn/dTの決定は、温度チャンバー内にあるプリズム分光計を用いて(プリズム全体を用いて)行うことができる。測定は、総偏向角が最小である構成の場合は有利である。なぜなら、それによって、屈折率が、偏向角および既知のプリズム角のみによって計算できるからである。
ただし、dn/dTの決定は、特に好適には、ハーフプリズム法を用いて行われる。この目的のために、サンプルは、ハーフプリズムの形態で温度制御されたサンプルチャンバー内にもたらされる。プリズムは、異なる波長の光で照射され、それぞれ偏向角が定まる。その際、チャンバー内の温度が変化する。これにより、屈折値が波長と温度との関数として得られる。熱性S(λ)の計算については、好適には、+20℃以上+40℃以下の温度範囲内の平均dn/dTが使用される。熱レンズ効果の程度を可及的に低く抑えるためには、温度による屈折率の変化(dn/dT)が、特に20℃以上40℃以下の温度範囲内で可及的に小さいと有利である。好適には、20℃以上40℃以下の温度範囲内で436nm、546nmおよび/または644nmの波長での平均dn/dTは、0.1ppm/K以上8.0ppm/K以下、特に0.2ppm/K以上7.0ppm/K以下、0.3ppm/K以上6.0ppm/K以下および/または0.4ppm/K以上5.0ppm/K以下の範囲にあり、この場合、これらの情報は、平均dn/dTの絶対値(大きさ)に関連する。
上記のように、ガラス内の温度上昇は誘発された吸収帯を伴うため、屈折率と幾何学的経路とが温度とともに変化すると、波面遅延と不所望な結像エラーとが発生する。それゆえ、温度(熱度S)による光路の変化は少ない方が有利である。このようにして、誘発された吸収帯が発生しても、結像エラーを最小にすることができる。
好適には、S(436nm)は、最大で50ppm/K、さらに好適には最大で30ppm/K、さらに好適には最大で25ppm/K、さらに好適には最大で20ppm/K、さらに好適には最大で15ppm/K、さらに好適には最大で10ppm/Kである。いくつかの実施形態では、S(436nm)は、少なくとも0.1ppm/K、少なくとも0.5ppm/K、少なくとも1ppm/K、または少なくとも2ppm/Kである。
好適には、S(546nm)は、最大で50ppm/K、さらに好適には最大で30ppm/K、さらに好適には最大で25ppm/K、さらに好適には最大で20ppm/K、さらに好適には最大で15ppm/K、さらに好適には最大で10ppm/Kである。いくつかの実施形態では、S(546nm)は、少なくとも0.1ppm/K、少なくとも0.5ppm/K、少なくとも1ppm/K、または少なくとも2ppm/Kである。
好適には、S(644nm)は、最大で50ppm/K、さらに好適には最大で30ppm/K、さらに好適には最大で25ppm/K、さらに好適には最大で20ppm/K、さらに好適には最大で15ppm/K、さらに好適には最大で10ppm/Kである。いくつかの実施形態では、S(644nm)は、少なくとも0.1ppm/K、少なくとも0.5ppm/K、少なくとも1ppm/K、または少なくとも2ppm/Kである。
好適には、S(436nm)、S(546nm)およびS(644nm)は、最大で50ppm/K、さらに好適には最大で30ppm/K、さらに好適には最大で25ppm/K、さらに好適には最大で20ppm/K、さらに好適には最大で15ppm/K、さらに好適には最大で10ppm/Kである。いくつかの実施形態では、S(436nm)、S(546nm)およびS(644nm)は、少なくとも0.1ppm/K、少なくとも0.5ppm/K、少なくとも1ppm/K、または少なくとも2ppm/Kである。
さらなる重要なパラメータは、非誘導吸光度Ext0および誘導吸光度Ext1である。Ext1(λ)は、(Ext0(λ)との比較で)サンプルの照射後の波長λでのcmあたりの付加的吸光度を表す。誘導吸光度Ext1は、とりわけ、照射源の仕様に依存する。材料をソラリゼーション安定性に関して評価するために、高圧水銀ランプ(HOK4)を用いたテストが有利であることが証明されている。誘導吸光度Ext1(λ)は、本発明によれば、HOK4ランプを用いて15時間照射した後の、10mmのサンプル厚さdを有するサンプルの、波長λでのcmあたりの付加的吸光度を(Ext0(λ)との比較で)表す。それに対して、非誘導吸光度Ext0(λ)は、照射前の10mmのサンプル厚さdを有するサンプルの、波長λでのcmあたりの吸光度を表す。
好適には、フィリップス社製のHOK4/120ランプが使用される。このHOK4/120ランプのスペクトルは、図2に示されている。ランプとサンプルとの間の距離は、好適には7cmである。電力密度は、好適には25mW/cm2である。サンプルサイズは、好適には20mm×30mm×10mmである。この場合、すでに上記のように、10mmの寸法は、サンプル厚さdとも称される。
ここでは、Ext0とExt1とが低いと有利である。したがって、両方の値は、合計で品質係数Fに寄与する。
低い非誘導吸光度Ext0は有利である。なぜなら、それによって同じように低い初期吸光度がHOK4ランプによる事前照射なしで生じるからである。
低誘導吸光度Ext1も有利である。これは、照射後も過度な吸光が発生しないことを示しており、したがって、ソラリゼーション耐性についての尺度である。
吸光度Ext(λ)は、被除数としての波長λの入射ビームI0と出射ビームIとの商の自然対数と、除数としてのサンプル厚さdとの商として、すなわち、Ext(λ)=ln(I0/I)/dで表される。このようにして、Ext0もExt1も決定することができる。すでに上述したように、サンプル厚さdは、本発明によれば10mmである。
好適には、Ext0(436nm)は、0.01/cm未満、さらに好適には最大で0.008/cm、さらに好適には最大で0.005/cm、さらに好適には最大で0.004/cm、さらに好適には最大で0.003/cm、さらに好適には最大で0.002/cmである。いくつかの実施形態では、Ext0(436nm)は、少なくとも0.0001/cm、少なくとも0.0002/cm、少なくとも0.0003/cm、または少なくとも0.0005/cmである。
好適には、Ext0(546nm)は、0.01/cm未満、さらに好適には最大で0.008/cm、さらに好適には最大で0.005/cm、さらに好適には最大で0.004/cm、さらに好適には最大で0.003/cm、さらに好適には最大で0.002/cm、さらに好適には0.0015/cm未満、さらに好適には0.001/cm未満である。いくつかの実施形態では、Ext0(546nm)は、少なくとも0.0001/cm、少なくとも0.0002/cm、少なくとも0.0003/cm、または少なくとも0.0005/cmである。
好適には、Ext0(644nm)は、0.01/cm未満、さらに好適には最大で0.008/cm、さらに好適には最大で0.005/cm、さらに好適には最大で0.004/cm、さらに好適には最大で0.003/cm、さらに好適には最大で0.002/cm、さらに好適には0.0015/cm未満である。いくつかの実施形態では、Ext0(644nm)は、少なくとも0.0001/cm、少なくとも0.0002/cm、少なくとも0.0003/cm、または少なくとも0.0005/cmである。
好適には、Ext0(436nm)、Ext0(546nm)、Ext0(644nm)は、0.01/cm未満、さらに好適には最大で0.008/cm、さらに好適には最大で0.005/cm、さらに好適には最大で0.004/cm、さらに好適には最大で0.003/cm、さらに好適には最大で0.002/cmである。いくつかの実施形態では、Ext0(436nm)、Ext0(546nm)、Ext0(644nm)は、少なくとも0.0001/cm、少なくとも0.0002/cm、少なくとも0.0003/cm、または少なくとも0.0005/cmである。
好適には、Ext1(436nm)は、0.3/cm未満、さらに好適には最大で0.2/cm、さらに好適には最大で0.1/cm、さらに好適には最大で0.08/cm、さらに好適には最大で0.06/cm、さらに好適には最大で0.04/cm、さらに好適には最大で0.02/cm、さらに好適には最大で0.01/cm、さらに好適には最大で0.009/cm、さらに好適には最大で0.008/cm、さらに好適には最大で0.007/cm、さらに好適には最大で0.006/cmである。いくつかの実施形態では、Ext1(436nm)は、少なくとも0.0005/cm、少なくとも0.001/cm、少なくとも0.0015/cm、または少なくとも0.02/cmである。
好適には、Ext1(546nm)は、0.3/cm未満、さらに好適には最大で0.2/cm、さらに好適には最大で0.1/cm、さらに好適には最大で0.08/cm、さらに好適には最大で0.06/cm、さらに好適には最大で0.04/cm、さらに好適には最大で0.02/cm、さらに好適には最大で0.01/cm、さらに好適には最大で0.009/cm、さらに好適には最大で0.008/cm、さらに好適には最大で0.007/cm、さらに好適には最大で0.006/cm、さらに好適には最大で0.005/cm、さらに好適には最大で0.004/cm、さらに好適には最大で0.003/cmである。いくつかの実施形態では、Ext1(546nm)は、少なくとも0.0001/cm、少なくとも0.0002/cm、少なくとも0.0003/cm、または少なくとも0.0005/cmである。
好適には、Ext1(644nm)は、0.3/cm未満、さらに好適には最大で0.2/cm、さらに好適には最大で0.1/cm、さらに好適には最大で0.08/cm、さらに好適には最大で0.06/cm、さらに好適には最大で0.04/cm、さらに好適には最大で0.02/cm、さらに好適には最大で0.01/cm、さらに好適には最大で0.009/cm、さらに好適には最大で0.008/cm、さらに好適には最大で0.007/cm、さらに好適には最大で0.006/cm、さらに好適には最大で0.005/cm、さらに好適には最大で0.004/cm、さらに好適には最大で0.003/cmである。いくつかの実施形態では、Ext1(644nm)は、少なくとも0.0001/cm、少なくとも0.0002/cm、少なくとも0.0003/cm、または少なくとも0.0005/cmである。
好適には、Ext1(436nm)、Ext1(546nm)、Ext1(644nm)は、0.3/cm未満、さらに好適には最大で0.2/cm、さらに好適には最大で0.1/cm、さらに好適には最大で0.08/cm、さらに好適には最大で0.06/cm、さらに好適には最大で0.04/cm、さらに好適には最大で0.02/cm、さらに好適には最大で0.01/cm、さらに好適には最大で0.009/cm、さらに好適には最大で0.008/cm、さらに好適には最大で0.007/cm、さらに好適には最大で0.006/cmである。いくつかの実施形態では、Ext1(436nm)、Ext1(546nm)、Ext1(644nm)は、少なくとも0.0001/cm、少なくとも0.0002/cm、少なくとも0.0003/cm、または少なくとも0.0005/cmである。
さらなる重要なパラメータは、熱伝導率kである。この熱伝導率は、密度、比熱容量および熱拡散率の積である。密度の決定は、好適には、アルキメデスの原理(特にASTM C693:1993)に従って行われる。密度の温度依存性を求めるために、膨張特性は、好適には、DIN 51045−1:2005−08およびDIN ISO 7991:1998−02に記載されているように、膨張測定を用いて決定される。比熱容量は、好適には、DIN 51007:2019−04に従って、DSC(動的な示差走査熱量測定;英語表記:“differential scanning calorimetry”)を用いて決定される。熱拡散率は、好適には、ASTM E1461:2013に従って、フラッシュ分析を用いて決定される。
高い熱伝導率kは、ビームパス内の光学ガラスの定常状態の温度上昇を制限する。熱伝導率kは、好適には0.005W/(cm×K)を超え、さらに好適には少なくとも0.006W/(cm×K)、さらに好適には少なくとも0.007W/(cm×K)、さらに好適には少なくとも0.008W/(cm×K)、例えば少なくとも0.009W/(cm×K)または少なくとも0.010W/(cm×K)である。いくつかの実施形態では、熱伝導率kは、最大で0.050W/(cm×K)、最大で0.040W/(cm×K)、最大で0.030W/(cm×K)、最大で0.020W/(cm×K)、または最大で0.015W/(cm×K)である。
上記のように、ビームガイド要素は、特に青色スペクトル範囲において、特にソラリゼーション耐性のあるガラスからなっている。これは、プロジェクターや材料加工の対応する用途に対して有利である。なぜなら、それによって熱レンズ効果の発生が大幅に低減されるからである。さらなる側面は、熱レンズ効果の低減に対して付加的に寄与することができる。例えば、(レーザー光の吸収による)所与の局所的な堆積熱出力では、定常的に生じる温度差は、熱伝導の増加に伴い小さくなり、ひいては温度に誘発される結像エラーも少なくなる。それゆえ、高い熱伝導率kが有利である。
適用分野に応じて、屈折率も重要になり得る。好適には、屈折率は、436nm、546nmおよび/または644nmの波長では1.45以上1.65以下の範囲にある。
本発明による品質係数を有するガラスを得るために、様々なガラスファミリーを使用できることが示されている。ガラスは、好適には、フルオロリン酸ガラス、ケイ酸塩ガラス、ホウケイ酸ガラス、ニオブホスフェートおよびアルミノホウケイ酸ガラスからなるグループから選択されている。使用される精製剤は、以下で説明するように特に関連性がある。
本発明によるフルオロリン酸ガラスは、SiO2、B2O3、Li2O、Na2O、K2O、ZnO、TiO2、ZrO2、La2O3、Sb2O3、As2O3およびSnO2の成分のうちの各々を好適には0.3重量%未満、さらに好適には最大で0.2重量%、さらに好適には最大で0.1重量%含むか、または特に好適にはこれらの成分を含まないことさえある。
好適には、フルオロリン酸ガラスは、7.5重量%以上22.5重量%以下、さらに好適には10重量%以上20重量%以下、さらに好適には14重量%以上19重量%以下の割合でAl2O3を含む。
好適には、フルオロリン酸ガラスは、1.5重量%以上7.5重量%以下、さらに好適には2重量%以上5重量%以下、さらに好適には2.5重量%以上3.5重量%以下の割合でMgOを含む。
好適には、フルオロリン酸ガラスは、7.5重量%以上15重量%以下、さらに好適には9重量%以上14重量%以下、さらに好適には10重量%以上13重量%以下の割合でCaOを含む。
好適には、フルオロリン酸ガラスは、11重量%以上25重量%以下、さらに好適には12重量%以上20重量%以下、さらに好適には13重量%以上17重量%以下の割合でBaOを含む。
好適には、フルオロリン酸ガラスは、15重量%以上24重量%以下、さらに好適には16重量%以上23重量%以下、さらに好適には16.5重量%以上22重量%以下の割合でSrOを含む。
好適には、フルオロリン酸ガラスは、6重量%以上12重量%以下、さらに好適には7重量%以上11重量%以下、さらに好適には8重量%以上10重量%以下の割合でP2O5を含む。
好適には、フルオロリン酸ガラスは、20重量%以上40重量%以下、さらに好適には25重量%以上35重量%以下、さらに好適には27.5重量%以上32.5重量%以下の割合でFを含む。
本発明によるケイ酸塩ガラスは、B2O3、Al2O3、MgO、CaO、SrO、TiO2、P2O5、F、Sb2O3およびAs2O3の成分のうちの各々を好適には0.3重量%未満、さらに好適には最大で0.2重量%、さらに好適には最大で0.1重量%含むか、または特に好適にはこれらの成分を含まないことさえある。
好適には、ケイ酸塩ガラスは、35重量%以上50重量%以下、さらに好適には37.5重量%以上47.5重量%以下、さらに好適には40重量%以上45重量%以下の割合でSiO2を含む。
好適には、ケイ酸塩ガラスは、0.2重量%以上4重量%以下、さらに好適には0.4重量%以上2重量%以下、さらに好適には0.5重量%以上1.5重量%以下の割合でLi2Oを含む。
好適には、ケイ酸塩ガラスは、2重量%以上15重量%以下、さらに好適には3重量%以上10重量%以下、さらに好適には4重量%以上7.5重量%以下の割合でNa2Oを含む。
好適には、ケイ酸塩ガラスは、1重量%以上10重量%以下、さらに好適には1.5重量%以上7.5重量%以下、さらに好適には2重量%以上5重量%以下の割合でK2Oを含む。
好適には、ケイ酸塩ガラス中のアルカリ金属酸化物(R2O)の割合の合計は、1重量%以上20重量%以下、さらに好適には2重量%以上15重量%以下、さらに好適には5重量%以上12.5重量%以下の範囲にある。このガラスは、好適には、Li2O、Na2Oおよび/またはK2Oの他にさらなるアルカリ金属酸化物を含まない。
好適には、ケイ酸塩ガラスは、2重量%以上25重量%以下、さらに好適には5重量%以上20重量%以下、さらに好適には7.5重量%以上15重量%以下の割合でBaOを含む。
好適には、ケイ酸塩ガラスは、5重量%以上30重量%以下、さらに好適には10重量%以上27.5重量%以下、さらに好適には15重量%以上25重量%以下の割合でZnOを含む。
好適には、ケイ酸塩ガラスは、1.5重量%以上10重量%以下、さらに好適には2重量%以上8.5重量%以下、さらに好適には3重量%以上7重量%以下の割合でZrO2を含む。
好適には、ケイ酸塩ガラスは、2重量%以上20重量%以下、さらに好適には5重量%以上15重量%以下、さらに好適には7.5重量%以上12.5重量%以下の割合でLa2O3を含む。
好適には、ケイ酸塩ガラスは、0.05重量%以上0.4重量%以下、さらに好適には0.1重量%以上0.35重量%以下、さらに好適には0.15重量%以上0.25重量%以下の割合でSnO2を含む。
本発明によるホウケイ酸ガラスは、Al2O3、Li2O、MgO、ZnO、SrO、ZrO2、La2O3、P2O5、As2O3およびSnO2の成分のうちの各々を好適には0.3重量%未満、さらに好適には最大で0.2重量%、さらに好適には最大で0.1重量%含むか、または特に好適にはこれらの成分を含まないことさえある。
好適には、ホウケイ酸ガラスは、52.5重量%以上77.5重量%以下、さらに好適には55重量%以上75重量%以下、さらに好適には57.5重量%以上72.5重量%以下の割合でSiO2を含む。
好適には、ホウケイ酸ガラスは、5重量%以上25重量%以下、さらに好適には7.5重量%以上20重量%以下、さらに好適には9重量%以上19重量%以下の割合でB2O3を含む。
好適には、ホウケイ酸ガラスは、0重量%以上17.5重量%以下、さらに好適には0重量%以上15重量%以下、さらに好適には0重量%以上12.5重量%以下の割合でNa2Oを含む。特定の実施形態では、ガラスは、少なくとも2重量%、少なくとも5重量%のNa2Oを含み、または少なくとも8重量%のNa2Oを含むことさえある。
好適には、ホウケイ酸ガラスは、2重量%以上24重量%以下、さらに好適には4重量%以上23重量%以下、さらに好適には6重量%以上22重量%以下の割合でK2Oを含む。
好適には、ホウケイ酸ガラス中のアルカリ金属酸化物(R2O)の割合の合計は、5重量%以上30重量%以下、さらに好適には10重量%以上5重量%以下、さらに好適には15重量%以上22重量%以下の範囲にある。このガラスは、好適には、Na2Oおよび/またはK2Oの他にさらなるアルカリ金属酸化物を含まない。
好適には、ホウケイ酸ガラスは、0重量%以上5重量%以下、さらに好適には0重量%以上2重量%以下、さらに好適には0重量%以上1重量%以下の割合でCaOを含む。特定の実施形態では、ガラスは、少なくとも0.1重量%または少なくとも0.2重量%のCaOを含む。
好適には、ホウケイ酸ガラスは、0重量%以上5重量%以下、さらに好適には0重量%以上3.5重量%以下、さらに好適には0重量%以上2重量%以下の割合でBaOを含む。特定の実施形態では、ガラスは少なくとも0.1重量%のBaOを含む。
好適には、ホウケイ酸ガラスは、0重量%以上2重量%以下、さらに好適には0重量%以上1重量%以下、さらに好適には0重量%以上0.5重量%以下の割合でTiO2を含む。特定の実施形態では、ガラスは少なくとも0.1重量%のTiO2を含む。
好適には、ホウケイ酸ガラスは、0重量%以上15重量%以下、さらに好適には0重量%以上12.5重量%以下、さらに好適には0重量%以上10重量%以下のFを含む。特定の実施形態では、ガラスは、少なくとも1重量%、少なくとも2重量%のFを含み、または少なくとも5重量%のFを含むことさえある。
好適には、ホウケイ酸ガラスは、0.01重量%以上0.45重量%以下、さらに好適には0.01重量%以上0.4重量%以下、さらに好適には0.01重量%以上0.35重量%以下の割合でSb2O3を含む。
本発明によるアルミノホウケイ酸ガラスは、Li2O、MgO、CaO、SrO、TiO2、ZrO2、La2O3、P2O5、As2O3およびSnO2の成分のうちの各々を好適には0.3重量%未満、さらに好適には最大で0.2重量%、さらに好適には最大で0.1重量%含むか、または特に好適にはこれらの成分を含まないことさえある。
好適には、アルミノホウケイ酸ガラスは、62.5重量%以上77.5重量%以下、さらに好適には65重量%以上75重量%以下、さらに好適には67.5重量%以上72.5重量%以下の割合でSiO2を含む。
好適には、アルミノホウケイ酸ガラスは、7.5重量%以上25重量%以下、さらに好適には10重量%以上20重量%以下、さらに好適には12.5重量%以上17.5重量%以下の割合でB2O3を含む。
好適には、アルミノホウケイ酸ガラスは、0.2重量%以上10重量%以下、さらに好適には0.5重量%以上5重量%以下、さらに好適には1重量%以上3重量%以下の割合でNa2Oを含む。
好適には、アルミノホウケイ酸ガラスは、2重量%以上17.5重量%以下、さらに好適には5重量%以上15重量%以下、さらに好適には10重量%以上14重量%以下の割合でK2Oを含む。
好適には、アルミノホウケイ酸ガラス中のアルカリ金属酸化物(R2O)の割合の合計は、2重量%以上25重量%以下、さらに好適には5重量%以上20重量%以下、さらに好適には10重量%以上15重量%以下の範囲にある。このガラスは、好適には、Na2Oおよび/またはK2Oの他にさらなるアルカリ金属酸化物を含まない。
好適には、アルミノホウケイ酸ガラスは、0.02重量%以上5重量%以下、さらに好適には0.05重量%以上2重量%以下、さらに好適には0.1重量%以上1重量%以下の割合でBaOを含む。
好適には、アルミノホウケイ酸ガラスは、0.05重量%以上5重量%以下、さらに好適には0.1重量%以上2重量%以下、さらに好適には0.15重量%以上1重量%以下の割合でZnOを含む。
好適には、アルミノホウケイ酸ガラスは、0.1重量%以上5重量%以下、さらに好適には0.2重量%以上2重量%以下、さらに好適には0.5重量%以上1.5重量%以下の割合でFを含む。
好適には、アルミノホウケイ酸ガラスは、0.02重量%以上0.45重量%以下、さらに好適には0.05重量%以上0.4重量%以下、さらに好適には0.1重量%以上0.35重量%以下の割合でSb2O3を含む。
使用される精製剤、ならびにCeO2およびFe2O3は、詳細には使用されるガラス系に依存することなく特に関連性がある。それゆえ、以下の情報は、すべてのガラスファミリーに有効である。
好適には、ガラスは、CeO2およびFe2O3を含まない。これにより、特に低いExt0値を達成することができる。
好適には、本発明によるガラス中のAs2O3の割合は、0.3重量%未満、好適には最大で0.2重量%、さらに好適には最大で0.1重量%である。その上さらに好適には、ガラスは、As2O3を含まない。これにより、特に低いExt1値を達成することができる。
好適には、本発明によるガラス中のSb2O3の割合は、最大で0.5重量%、好適には最大で0.4重量%、さらに好適には最大で0.3重量%、例えば最大で0.2重量%、または最大で0.1重量%である。このガラスは、Sb2O3を含まないことさえあってもよい。これにより、特に低いExt1値を達成することができる。
好適には、本発明によるガラス中のSnO2の割合は、最大で0.5重量%、好適には最大で0.4重量%、さらに好適には最大で0.3重量%、例えば最大で0.2重量%、または最大で0.1重量%である。このガラスは、SnO2を含まないことさえあってもよい。これにより、特に低いExt1値を達成することができる。
好適には、As2O3+Sb2O3+SnO2の合計の割合は、最大で0.5重量%、好適には最大で0.4重量%、さらに好適には最大で0.3重量%、例えば最大で0.2重量%、または最大で0.1重量%である。このガラスは、As2O3、Sb2O3およびSnO2を含まないことさえあってもよい。これにより、特に低いExt1値を達成することができる。
このガラスは、例えば0重量%以上45重量%以下、特に0.5重量%以上42.5重量%以下、または5重量%以上40重量%以下の割合でFを含むことができる。これにより、特に低いExt1値を達成することができる。
このガラスは、特にCl精製に基づいて、Clを含むこともできる。その割合は、好適には2重量%未満、好適には1.5重量%未満、特に好適には1重量%未満である。Cl割合が過度に高いと、これはガラス上の不所望な塩析出につながる可能性がある。
この説明において、ガラスが1つの成分を含まないか、または特定の成分を含まないと述べられている場合、これは、この成分がせいぜい不純物程度のものとしてならばガラス中に存在してもよいことを意味する。つまり、これは、それが大量に添加されていないことを意味する。大量でない量とは、本発明によれば、それぞれ重量ベースで、500ppm未満、好適には300ppm未満、好適には100ppm未満、特に好適には50ppm未満、および最も好適には10ppm未満の量である。
好適には、ビームガイド要素は、レンズ、光導波路、プリズムまたは非球面であり、特に好適にはプリズムである。
本発明は、本発明による品質係数を有するガラスにも関する。
本発明は、特にプロジェクターまたは材料加工における、本発明による結像システムの使用にも関する。
本発明は、本発明による結像システムを含んだプロジェクター、特にDLPプロジェクターにも関する。
本発明による5つのガラス例1〜5のサンプルならびに本発明によるものではない比較例Aのサンプルは10mmのサンプル厚さを有し、それぞれ15時間の間、HOK4ランプを用いて照射された。ここでは、フィリップス社製のHOK4/120ランプが使用された。このHOK4/120ランプのスペクトルは、図2に示されている。ランプとサンプルとの間の距離は7cmである。電力密度は25mW/cm2である。サンプルサイズは、20mm×30mm×10mmである。ガラスの組成は、以下のテーブル1に示されている(重量%)。
品質係数F(436nm)、品質係数F(546nm)、品質係数F(644nm)および品質係数F(RGB)は、上記の式に従って算出された。この目的のために、波長436nm、546nmおよび644nmについての熱性S、非誘導吸光度Ext0、誘導吸光度Ext1の対応する値、ならびにガラスの熱伝導率kが決定された。これらの結果は、図3に示されている。以下のテーブル2は、これらの測定値および計算をまとめたものである。
本発明によるガラス1〜5は、比較例Aとは対照的に、品質係数F(436nm)<700ppm/W、品質係数F(546nm)<215ppm/W、品質係数F(644nm)<85ppm/Wおよび品質係数F(RGB)<1000ppm/Wを有することが明らかである。
ガラス例3と、比較例Aとは、非常に類似した組成を有し、比較例Aが関連性のある割合のAs2O3を含むという点で実質的に異なる。結果では、例3の性能が多岐にわたって改善されたことが示されている。驚くべきことに、この効果は、様々なガラスファミリーからなるガラスで達成することができる。そのため、例1および例5はホウケイ酸ガラスであり、例2はアルミノホウケイ酸ガラスであり、例3はケイ酸塩ガラスであり、例4はフルオロリン酸ガラスである。
1 レーザー光源
2 ビームガイド要素
3 結像チップ
4 投影光学系
5 レーザー光源からビームガイド要素に到達する光
6 ビームガイド要素から結像チップ系に偏向される光
7 結像チップによって生成され、ビームガイド要素に達する画像
8 投影光学系に到達する合成カラー画像
2 ビームガイド要素
3 結像チップ
4 投影光学系
5 レーザー光源からビームガイド要素に到達する光
6 ビームガイド要素から結像チップ系に偏向される光
7 結像チップによって生成され、ビームガイド要素に達する画像
8 投影光学系に到達する合成カラー画像
Claims (15)
- 結像システムであって、前記結像システムは、
a)380nm以上490nm以下のスペクトル範囲の波長λBを有するレーザー光源Bと、490nm超585nm以下のスペクトル範囲の波長λGを有するレーザー光源Gと、585nm超750nm以下のスペクトル範囲の波長λRを有するレーザー光源Rと、からなるグループから選択された少なくとも1つのレーザー光源と、
b)ビームガイド要素と、
を含み、
前記レーザー光源は、前記ビームガイド要素の少なくとも1つのポイントにおいて10W/cm2を超える平均面積電力密度を生成するのに適し、
前記ビームガイド要素は、品質係数F(436nm)=S(436nm)×(Ext0(436nm)+Ext1(436nm))/kを有し、
S(436nm)は、436nmの波長での熱性であり、
Ext1(436nm)は、Ext0(436nm)との比較においてHOK4ランプを用いて15時間照射した後の10mmの厚さを有するサンプルの波長436nmでの付加的な吸光度であり、
Ext0(436nm)は、HOK4ランプを用いた照射なしでの10mmの厚さを有するサンプルの波長436nmでの吸光度であり、
kは、熱伝導率であり、
F(436nm)<700ppm/Wであるガラスからなる、
結像システム。 - 前記結像システムは、380nm以上490nm以下のスペクトル範囲の波長λBを有するレーザー光源Bと、490nm超585nm以下のスペクトル範囲の波長λGを有するレーザー光源Gと、585nm超750nm以下のスペクトル範囲の波長λRを有するレーザー光源Rと、を含み、
前記レーザー光源B、前記レーザー光源Gおよび前記レーザー光源Rは、前記ビームガイド要素の少なくとも1つのポイントにおいて10W/cm2を超える平均面積電力密度を生成するのに適し、
前記ビームガイド要素は、品質係数F(RGB)=F(436nm)+F(546nm)+F(644nm)=S(436nm)×(Ext0(436nm)+Ext1(436nm))/k+S(546nm)×(Ext0(546nm)+Ext1(546nm))/k+S(644nm)×(Ext0(644nm)+Ext1(644nm))/kを有し、F(RGB)<1000ppm/Wであるガラスからなる、
請求項1記載の結像システム。 - F(RGB)は、最大で800ppm/Wである、
請求項2記載の結像システム。 - 前記レーザー光源は、ダイオードレーザーである、
請求項1から3までのいずれか1項記載の結像システム。 - 前記ビームガイド要素は、プリズムである、
請求項1から4までのいずれか1項記載の結像システム。 - 前記レーザー光源は、前記ビームガイド要素の少なくとも1つのポイントで15W/cm2以上60W/cm2以下の平均面積電力密度を生成するのに適している、
請求項1から5までのいずれか1項記載の結像システム。 - S(436nm)、S(546nm)およびS(644nm)は、最大で50ppm/Kである、
請求項1から6までのいずれか1項記載の結像システム。 - Ext0(436nm)、Ext0(546nm)およびExt0(644nm)は、0.01/cm未満である、
請求項1から7までのいずれか1項記載の結像システム。 - Ext1(436nm)、Ext1(546nm)およびExt1(644nm)は、0.3/cm未満である、
請求項1から8までのいずれか1項記載の結像システム。 - 熱伝導率kは、0.005W/(cm×K)を超える、
請求項1から9までのいずれか1項記載の結像システム。 - 20℃以上40℃以下の温度範囲内で436nm、546nmおよび/または644nmの波長での平均dn/dTは、0.1ppm/K以上8.0ppm/K以下の範囲にある、
請求項1から10までのいずれか1項記載の結像システム。 - ビームガイド要素であって、
前記ビームガイド要素は、品質係数F(436nm)=S(436nm)×(Ext0(436nm)+Ext1(436nm))/kを有し、F(436nm)<700ppm/Wであるガラスからなる、
ビームガイド要素。 - ガラスであって、
前記ガラスは、品質係数F(436nm)=S(436nm)×(Ext0(436nm)+Ext1(436nm))/kを有し、F(436nm)<700ppm/Wである、
ガラス。 - プロジェクターまたは材料加工における、請求項1から11までのいずれか1項記載の結像システムの使用方法。
- 請求項1から11までのいずれか1項記載の結像システムを含んだプロジェクター。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102020114365.6A DE102020114365B4 (de) | 2020-05-28 | 2020-05-28 | Abbildungssystem umfassend Strahlführungselement mit hoher Solarisationsbeständigkeit im sichtbaren Spektralbereich |
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