JP2021165420A - 真空成膜装置及び真空成膜方法 - Google Patents
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Description
Claims (3)
- シート状の基材を走行させる基材走行手段と、シート状のマスク材を走行させるマスク材走行手段と、シート状の基材にシート状のマスク材を連続して密着させる密着手段と、真空処理室内でマスク材を密着させた基材の部分が巻き掛けられるキャンローラと、真空処理室内でキャンローラに対峙して設けられ、キャンローラに巻き掛けられた基材の部分に対してマスク材越しに成膜する成膜ユニットとを有する真空成膜装置において、
真空処理室内に少なくとも1個の成膜ユニットが設けられ、一の成膜ユニットによるシート状の基材に対する成膜終了位置から次の成膜ユニットによるシート状の基材に対する成膜開始位置までシート状の基材が案内される間に、シート状の基材からシート状のマスク材を一旦剥離する剥離手段を更に備えることを特徴とする真空成膜装置。 - 請求項1記載の真空成膜装置であって、真空処理室内に、夫々の回転軸をXY平面上に平行に位置させて複数個のキャンローラが並設されるものにおいて、
XY平面に直交する方向をZ軸方向とし、剥離手段が、互いに隣接するキャンローラの間でZ軸方向上下に間隔を置いて設けられる一対のガイドローラを有し、上方に位置するガイドローラにシート状基材が、下方に位置するガイドローラにシート状のマスク材が夫々巻き掛けられるように構成したことを特徴とする真空成膜装置。 - 真空処理室内でシート状の基材とシート状のマスク材とを走行させ、シート状の基材にシート状のマスク材を密着させた後、キャンローラに巻き掛けて周回させ、このキャンローラに対峙して設けられた成膜ユニットによりキャンローラに巻き掛けられたシート状の基材の部分に対してマスク材越しに成膜する真空成膜方法において、
シート状の基材に成膜しようとする薄膜の膜厚を目標膜厚とし、同一のキャンローラを複数回または異なるキャンローラを順次周回したときに目標膜厚に達するように成膜する工程と、一の成膜ユニットによるシート状の基材に対する成膜終了位置から次の成膜ユニットによるシート状の基材に対する成膜開始位置までシート状の基材が案内される間に、シート状の基材からシート状のマスク材を一旦剥離する工程を含むことを特徴とする真空成膜方法。
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