JP2021162246A - 連続焼成炉 - Google Patents
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Abstract
Description
図2は、加熱処理設備200の全体構成が示された模式図である。加熱処理設備200は、図2に示されているように、連続焼成炉1を含んでいる。また、加熱処理設備200は、複数の領域201〜206に分けられる。領域201〜206では、連続焼成炉1に向けて、図2に示されているように、加熱処理用の容器Tが順に搬送される。容器Tには、被処理物が収容され、かつ、複数段重ねられ、搬送台16に載置される。搬送台16は「セッター」とも称される。
次に、連続焼成炉1の全体構成を説明する。連続焼成炉1は、図1から図3に示されているように、焼成炉本体10とプッシャー30とを備えている。焼成炉本体10は、被処理物を加熱処理する処理室12を内部に有している。
搬送経路15R,15Lの底部には、複数のフリーローラー20が搬送方向に沿って順に並べられている。段積みされた容器Tdが載置された搬送台16は、搬送方向に沿って並べられた複数のフリーローラー20上に載置される。本実施形態では、複数(図1では9段)の容器Tが積み重ねられた状態で、搬送経路15R,15Lを搬送される。このため、容器Tが積み重ねられずに一段で搬送される場合に比べて、処理室12において多くの被処理物が効率よく加熱処理される。
図1を参照して、プッシャー30の構成について説明する。処理室12の搬入口13にはプッシャー30が設けられている。プッシャー30は、押し出し装置31と押し込み部材32とを備えている。押し込み部材32は、搬送経路15L,15Rの搬入口13側において、処理室12の外に設けられている。押し出し装置31は、押し込み部材32を、搬送経路15L,15Rに向けて押し出す装置である。プッシャー30は、複数のフリーローラー20上において搬送方向(図1の左右方向)に連なる複数の搬送台16を、搬送方向の下流側(図1の左側)に押し込む。本実施形態では、プッシャー30の押し込み部材32は、複数列の搬送経路15L,15Rの搬入口13にそれぞれ対向しており、複数列の搬送経路15L,15Rに向けて搬送物を纏めて押すように構成されている。
焼成炉本体10は、各々の搬送経路15R,15Lにおける搬送台16の搬送を案内するガイド40R,40C,40Lを備えている。従って、搬送台16の搬送方向が一時的に乱れた場合でも、搬送台16の搬送がガイド40R,40C,40Lによって案内される。このため、搬送台16は搬送経路15R,15L上を正常に搬送される。図6は、ガス供給管60、ヒータ50およびガイド40Cを示す斜視図である。図6では、ガス供給管60、ヒータ50およびガイド40Cの配置が模式的に示されている。
図4を参照して、処理室12の内部で容器Tdが搬送される空間について説明する。処理室12の内部において、搬送経路15R,15Lの各々を挟んで対向して配置された一対のガイドの間の幅を、w1とする。処理室12内の、フリーローラー20よりも上方の高さを、h1とする。処理室12の内部で、段積みされた容器Tdが搬送可能な空間は、h1/w1>1の条件を満たす。ここで、ガイドの間の幅w1は、換言すると、搬送方向に直交する方向における、一対のガイド間の距離である。搬送経路15Lのガイドの間の幅w1は、ガイド40Lとガイド40Cとの間の距離である。搬送経路15Rのガイドの間の幅w1は、ガイド40Cとガイド40Rの間の距離である。フリーローラー20よりも上方の高さh1は、換言すると、処理室12の内部において、フリーローラー20よりも上方で、搬送物の搬送が許容される高さ制限までの高さでありうる。h1/w1は、搬送経路15L,15Rで搬送物が搬送される搬送空間を搬送方向に向けて正面から見たときの縦横比でありうる。h1/w1>1の条件を満たすので、本実施形態の連続焼成炉1では、多数の容器Tが高さ方向に積み重ねられた状態であっても、段積みされた容器Tdが、処理室12内の空間を適切に搬送される。なお、搬送空間の縦横比h1/w1は、例えば、2以上でもよく、3以上でもよい。
焼成炉本体10は、図1、図2および図4に示されているように、複数のヒータ50、複数のガス供給管60、および複数の排気口70を備えている。ヒータ50は、処理室12内を加熱する装置である。ヒータ50は、少なくとも放熱部が処理室12内に設けられているとよい。搬送台16に段積みされた容器Tdに収容された被処理物は、ヒータ50によって加熱された処理室12内で加熱される。ガス供給管60は、雰囲気ガスを処理室12内に供給する配管である。本実施形態では雰囲気ガスは、酸素である。排気口70は、被処理物が加熱処理されることで発生する不要な反応ガスを、処理室12内から外部に排出するための開口である。本実施形態では、反応ガスは加熱されて処理室12内を上方へ移動する。このため、排気口70は、焼成炉本体10の上壁11Uに設けられている。
ヒータ50は、図4に示されているように、側部ヒータ50R,50C,50Lを備えている。側部ヒータ50R,50C,50Lは、処理室12の内部で、かつ、ガイド40R,40C,40Lによって設定された搬送経路15L,15Rの両側の規制領域に配置されている。側部ヒータ50R,50C,50Lが、搬送経路15L,15Rの両側の規制領域に配置されていることによって、搬送経路15L,15Rの搬送空間の温度を均一に保つことが容易になる。ここで、搬送経路15L,15Rの両側の規制領域は、ガイド40R,40C,40Lによって設定される。つまり、搬送経路15L,15Rの両側は、ガイド40R,40C,40Lの接触部41によって規定される。規制領域は、側部ヒータ50R,50C,50Lは、ガイド40R,40C,40Lの接触部41によって、搬送経路15L,15Rを搬送される搬送物が規制される領域である。側部ヒータ50R,50C,50Lは、処理室12内において、かかる規制領域の上方空間に設けられているとよい。ここで、搬送物は、搬送台16および搬送台16に載せられた段積みされた容器Tdである。側部ヒータ50R,50C,50Lが、搬送経路15L,15Rの両側の規制領域に配置されていることによって、搬送台16に載せられた段積みされた容器Tdは、搬送経路15L,15Rの両側から加熱される。
ガス供給管60は、側部供給管60R,60C,60Lを備えている。処理室12の内部で、かつ、ガイド40R,40C,40Lによって設定された搬送経路15L,15Rの両側の規制領域に配置されている。側部ヒータ50R,50C,50Lが、搬送経路15L,15Rの両側の規制領域に配置されていることによって、搬送経路15L,15Rの搬送空間の雰囲気ガスの濃度を調整することが容易になる。本実施形態の連続焼成炉1は、図1に示されているように、側部供給管60R,60C,60Lを備えている。側部ヒータ50R,50C,50Lは、処理室12内において、ガイド40R,40C,40Lによって定められる規制領域の上方空間に設けられているとよい。ここで、搬送物は、搬送台16および搬送台16に載せられた段積みされた容器Tdである。側部供給管60R,60C,60Lが、搬送経路15L,15Rの両側の規制領域に配置されていることによって、搬送台16に載せられた段積みされた容器Tdには、搬送経路15L,15Rの両側から、焼成に要する所要の雰囲気ガスが供給される。ここで供給されるガスは、例えば、酸素など、種々のガスでありうる。
10 焼成炉本体
12 処理室
13 搬入口
14 搬出口
15R,15L 搬送経路
20 フリーローラー
22R,22L 回転支持部材
24R,24L 遮断部
30 プッシャー
31 押し出し装置
32 押し込み部材
40R,40C,40L ガイド
41 接触部
42 ローラー挿通穴
50 ヒータ
50R,50L 側方ヒータ(側部ヒータ(ヒータ))
50C 中間ヒータ(側部ヒータ(ヒータ))
50U 上部ヒータ(ヒータ)
50D 下部ヒータ(ヒータ)
60 ガス供給管
60R,60L 側方供給管(側部供給管(ガス供給管))
60C 中間供給管(側部供給管(ガス供給管))
60U 上部供給管(ガス供給管)
60D 下部供給管(ガス供給管)
Claims (20)
- 処理室を内部に有する焼成炉本体と、
プッシャーと、
ヒータと、
ガス供給管と
を備え、
前記処理室は、
搬入口と、
前記搬入口から直線に沿って延びた搬送経路と、
前記搬送経路の搬入口とは反対側の端部に設けられた搬出口と
を備え、
前記焼成炉本体は、
前記搬送経路に沿って前記搬送経路の底部に順に並べられた複数のフリーローラーと、
平面視において前記搬送経路の両側にそれぞれ設けられたガイドと
を備え、
前記プッシャーは、
前記搬送経路の前記搬入口側において、前記処理室の外に設けられた押し込み部材と、
前記押し込み部材を、前記搬送経路に向けて押し出す押し出し装置と
を備え、
前記ヒータは、
少なくとも放熱部が前記処理室内に設けられ、
前記ガス供給管は、
前記処理室の内部で、かつ、前記ガイドによって設定された前記搬送経路の両側の規制領域に配置された側部供給管を備えた、
連続焼成炉。 - 前記ガス供給管は、
前記処理室の内部で、かつ、前記搬送経路に設定された搬送物の高さ制限よりも上方の上部領域に配置された上部供給管をさらに備えた、
請求項1に記載された連続焼成炉。 - 前記ガス供給管は、
前記処理室の内部で、かつ、前記フリーローラーによって前記搬送経路に設定された搬送物が搬送される領域よりも下方の下部領域に配置された下部供給管をさらに備えた、
請求項1または2に記載された連続焼成炉。 - 前記ガイドは、
前記フリーローラーよりも高い位置において、前記搬送経路の下部の両側で前記搬送経路に沿って平行に連続して延びている、
請求項1から3までの何れか一項に記載された連続焼成炉。 - 前記ガス供給管が側周面に開口を有するセラミックチューブである、請求項1から4までの何れか一項に記載された連続焼成炉。
- 前記ガス供給管は、
複数のガス供給孔が側周面に形成されている、
請求項1から5までの何れか一項に記載された連続焼成炉。 - 前記ガス供給孔は、前記搬送経路によって搬送物が搬送される搬送空間に向けられている、請求項6に記載された連続焼成炉。
- 前記側部供給管は、直管型チューブであり、
前記側部供給管は、前記搬送経路の両側に複数配置されており、複数の側部供給管の直管型チューブは、前記処理室の内部において前記搬送経路の両側に前記搬送経路に沿って間欠的に配置されている、
請求項1から7に記載された連続焼成炉。 - 前記複数の側部供給管の直管型チューブは、上下方向に沿って配置されている、請求項8に記載された連続焼成炉。
- 前記側部供給管は、前記処理室を貫通し、前記処理室の外において、雰囲気ガスの供給管に接続されている、請求項1から9までの何れか一項に記載された連続焼成炉。
- 前記処理室は、
それぞれ間隔を空けて平行に延びた複数列の搬送経路を備え、
前記ガイドは、
前記複数列の搬送経路の間、および、前記複数列の搬送経路の両側にそれぞれ配置されており、
前記側部供給管は、
前記複数列の搬送経路のそれぞれの間および前記複数列の搬送経路の両側のそれぞれに配置されている、
請求項1から10までの何れか一項に記載された連続焼成炉。 - 前記複数列の搬送経路のそれぞれの間および前記複数列の搬送経路の両側のそれぞれに配置された側部供給管は、隣接する規制領域において、前記搬送経路に沿ってずらして配置されている、請求項11に記載された連続焼成炉。
- 前記複数列の搬送経路の間に配置された側部供給管は、当該側部供給管が配置された規制領域の両側の搬送経路に向けてそれぞれガス供給孔が形成されている、請求項11または12に記載された連続焼成炉。
- 前記複数列の搬送経路の両外側の規制領域に配置された側部供給管は、前記複数列の搬送経路のうち最外列の搬送経路に向けてガス供給孔が形成されている、請求項11から13までの何れか一項に記載された連続焼成炉。
- 前記複数列の搬送経路の間に配置された側部供給管は、前記処理室の上部において前記焼成炉本体を貫通している、請求項11から14までの何れか一項に記載された連続焼成炉。
- 前記複数列の搬送経路の両外側の規制領域に配置された側部供給管は、前記処理室の上部または側部において前記焼成炉本体を貫通している、請求項11から15までの何れか一項に記載された連続焼成炉。
- 前記複数のフリーローラーの各々は、継ぎ目のない円柱状の軸部材であり、かつ、前記複数列の搬送経路を搬送方向に対して垂直に交差する方向に沿って横断しており、
前記複数のフリーローラーの両端は、それぞれ前記処理室を貫通し、前記処理室の外において回転自在に支持されている、請求項11から15までの何れか一項に記載された連続焼成炉。 - 前記プッシャーの前記押し込み部材は、前記複数列の搬送経路の搬入口にそれぞれ対向しており、前記複数列の搬送経路に向けて搬送物を纏めて押すように構成された、請求項11から17までの何れか一項に記載された連続焼成炉。
- 前記フリーローラーが、炭化ケイ素を含むSiC系材料からなる、請求項11から18までの何れか一項に記載された連続焼成炉。
- 前記処理室の内部で、前記搬送経路において前記フリーローラーの上に形成された搬送物が搬送可能な空間は、前記搬送経路を挟んで対向して配置された一対の前記ガイド間の幅w1と、前記フリーローラーよりも上方の高さh1との比h1/w1が、h1/w1>1を満足する、請求項1から19までの何れか一項に記載された連続焼成炉。
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WO2019052674A1 (de) * | 2017-09-13 | 2019-03-21 | Eisenmann Se | Vorrichtung und verfahren zur thermischen oder thermo-chemischen behandlung von material |
-
2020
- 2020-03-31 JP JP2020064901A patent/JP7319219B2/ja active Active
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JPS544262U (ja) * | 1977-06-13 | 1979-01-12 | ||
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