JP2021150621A - R−t−b系希土類焼結磁石およびr−t−b系希土類焼結磁石の製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
Rは希土類元素、Tは鉄族元素、Bはホウ素であるR−T−B系希土類焼結磁石であって、
RとしてNdおよびPrから選択される1種以上を含み、
MおよびCを含有し、
MはZr,TiおよびNbから選択される1種以上であり、
前記R−T−B系希土類焼結磁石は主相粒子および粒界を含み、前記粒界にM−C化合物、M−B化合物および6−13−1相が共存する共存組織が含まれる。
Nd,Pr,DyおよびTbの合計含有量が28.00質量%以上34.00質量%以下、
Coの含有量が0.05質量%以上3.00質量%以下、
Bの含有量が0.70質量%以上0.95質量%以下、
Cの含有量が0.07質量%以上0.25質量%以下、
Cuの含有量が0.10質量%以上0.50質量%以下、
Gaの含有量が0.20質量%以上1.00質量%以下、
Alの含有量が0.10質量%以上0.50質量%以下、
Mの合計含有量が0.20質量%以上2.00質量%以下、
重希土類元素の合計含有量が0.10質量%以下(0を含む)であってもよく、
Feが実質的な残部であってもよい。
原料合金を粉砕して粒径が数μm程度の合金粉末を得る工程と、
前記合金粉末にMの単体を含む粉末を添加する工程と、を含み、
MはZr,TiおよびNbから選択される1種以上である。
本実施形態に係るR−T−B系希土類焼結磁石について説明する。
以下、本実施形態に係るR−T−B系希土類焼結磁石を製造する方法の一例について説明する。R−T−B系希土類焼結磁石(R−T−B系焼結磁石)を製造する方法は、以下の工程を有する。
(b)原料合金を粉砕する粉砕工程
(c)得られた合金粉末にM粉末を添加・混合する工程
(d)得られた合金粉末を成形する成形工程
(e)成形体を焼結し、R−T−B系永久磁石を得る焼結工程
(f)R−T−B系永久磁石を時効処理する時効処理工程
(g)R−T−B系永久磁石を冷却する冷却工程
(h)R−T−B系永久磁石を加工する加工工程
(i)R−T−B系永久磁石の粒界に重希土類元素を拡散させる粒界拡散工程
(j)R−T−B系永久磁石に表面処理する表面処理工程
R−T−B系希土類焼結磁石用合金を準備する(合金準備工程)。以下、合金準備方法の一例としてストリップキャスティング法について説明するが、合金準備方法はストリップキャスティング法に限定されない。
原料合金を作製した後、原料合金を粉砕する(粉砕工程)。粉砕工程は、粒径が数百μm〜数mm程度になるまで粉砕する粗粉砕工程と、粒径が数μm程度になるまで微粉砕する微粉砕工程との2段階で行ってもよいが、微粉砕工程のみの1段階で行ってもよい。
原料合金を粒径が数百μm〜数mm程度になるまで粗粉砕する(粗粉砕工程)。これにより、原料合金の粗粉砕粉末を得る。粗粉砕は、例えば原料合金に水素を吸蔵させた後、異なる相間の水素吸蔵量の相違に基づいて水素を放出させ、脱水素を行なうことで自己崩壊的な粉砕を生じさせること(水素吸蔵粉砕)によって行うことができる。脱水素の条件には特に制限はないが、例えば300〜650℃、アルゴンフロー中または真空中で脱水素を行う。
原料合金を粗粉砕した後、得られた原料合金の粗粉砕粉末を平均粒子径が数μm程度になるまで微粉砕する(微粉砕工程)。これにより、原料合金の微粉砕粉末を得ることができる。微粉砕粉末に含まれる粒子のD50には特に制限はない。例えば、D50が2.0μm以上4.5μm以下であってもよく、2.5μm以上3.5μm以下であってもよい。D50が小さいほどR−T−B系希土類焼結磁石のHcjが向上しやすくなる。しかし、焼結工程で異常粒成長が発生しやすくなり、焼結温度幅の上限が低くなる。D50が大きいほど焼結工程で異常粒成長が発生しにくくなり、焼結温度幅の上限が高くなる。しかし、R−T−B系希土類焼結磁石のHcjが低下しやすくなる。
微粉砕粉末を目的の形状に成形する(成形工程)。成形工程では、微粉砕粉末を、磁場中に配置された金型内に充填して加圧することによって、微粉砕粉末を成形し、成形体を得る。このとき、磁場を印加しながら成形することで、微粉砕粉末の結晶軸を特定の方向に配向させた状態で成形することができる。得られる成形体は、特定方向に配向するので、より磁性の強い異方性を有するR−T−B系希土類焼結磁石が得られる。成形時に、成形助剤を添加してもよい。成形助剤の種類には特に制限はない。粉砕助剤と同一の潤滑剤を用いてもよい。また、粉砕助剤が成形助剤を兼ねてもよい。
得られた成形体を真空または不活性ガス雰囲気中で焼結し、R−T−B系希土類焼結磁石を得る(焼結工程)。焼結時の保持温度は、組成、粉砕方法、粒度と粒度分布の違い等、諸条件により調整する必要がある。保持温度は、異常粒成長が生じず、かつ、Hk/Hcjが十分に高くなる温度とする。保持温度には特に制限はないが、例えば、1000℃以上1150℃以下としてもよく、1050℃以上1130℃以下としてもよい。保持時間には特に制限はないが、例えば2時間以上10時間以下としてもよく、2時間以上8時間以下としてもよい。保持時間が短いほど生産効率が向上する。保持時の雰囲気には特に制限はない。例えば、不活性ガス雰囲気としてもよく、100Pa未満の真空雰囲気としてもよく、10Pa未満の真空雰囲気としてもよい。保持温度までの加熱速度には特に制限はない。焼結により、微粉砕粉末が液相焼結を生じ、R−T−B系希土類焼結磁石(R−T−B系磁石の焼結体)が得られる。成形体を焼結して焼結体を得た後の冷却速度には特に制限はないが、生産効率を向上させるために焼結体を急冷してもよい。30℃/分以上の速度で急冷してもよい。
成形体を焼結した後、R−T−B系希土類焼結磁石を時効処理する(時効処理工程)。焼結後、得られたR−T−B系希土類焼結磁石を焼結時よりも低い温度で保持することなどによって、R−T−B系希土類焼結磁石に時効処理を施す。以下、時効処理を第1時効処理と第2時効処理との2段階に分ける場合について説明するが、いずれか一つの時効処理のみを行ってもよく、3段階以上の時効処理を行ってもよい。
R−T−B系希土類焼結磁石に時効処理(第1時効処理または第2時効処理)を施した後、R−T−B系希土類焼結磁石は不活性ガス雰囲気中で急冷を行う(冷却工程)。これにより、R−T−B系希土類焼結磁石を得ることができる。冷却速度は、特に限定されるものではない。30℃/分以上としてもよい。
得られたR−T−B系希土類焼結磁石は、必要に応じて所望の形状に加工してもよい(加工工程)。加工方法は、例えば切断、研削などの形状加工や、バレル研磨などの面取り加工などが挙げられる。
加工されたR−T−B系希土類焼結磁石の粒界に対して、さらに重希土類元素を拡散させてもよい(粒界拡散工程)。粒界拡散の方法には特に制限はない。例えば、塗布または蒸着等により重希土類元素を含む化合物をR−T−B系希土類焼結磁石の表面に付着させた後に熱処理を行うことで実施してもよい。また、重希土類元素の蒸気を含む雰囲気中でR−T−B系希土類焼結磁石に対して熱処理を行うことで実施してもよい。粒界拡散により、R−T−B系希土類焼結磁石のHcjをさらに向上させることができる。
以上の工程により得られたR−T−B系希土類焼結磁石は、めっきや樹脂被膜や酸化処理、化成処理などの表面処理を施してもよい(表面処理工程)。これにより、耐食性をさらに向上させることができる。
原料合金として表1に示す組成の合金1、合金2を準備した。なお、T.REは、Nd,Pr,DyおよびTbの合計含有量を意味する。各合金組成におけるDyおよびTbの合計含有量は0.01質量%未満である。
合金準備工程により得られた原料合金を粉砕し、合金粉末を得た。粗粉砕と微粉砕との2段階で粉砕を行った。粗粉砕は、水素吸蔵粉砕により行った。原料合金に対して水素を600℃で吸蔵させた後、アルゴンフロー中または真空中、600℃で3時間、脱水素を行った。粗粉砕により、数百μm〜数mm程度の粒径の合金粉末を得た。
粉砕工程により得られた混合粉末を磁場中で成形して成形体を得た。混合粉末を電磁石の間に配置された金型内に充填した後に、電磁石により磁場を印加しながら加圧して成形した。具体的には、混合粉末を20g秤量し、3Tの磁場中、40kNの圧力で圧粉成形した。
得られた成形体を焼結して焼結体を得た。焼結時の保持温度を各実施例および各比較例について1070℃として焼結体を得た。保持温度まで昇温させるときの昇温速度は8.0℃/分、保持時間は4.0時間、保持温度から室温まで冷却させるときの冷却速度は50℃/分とした。焼結時の雰囲気は真空雰囲気または不活性ガス雰囲気化とした。
得られた焼結体に時効処理を行いR−T−B系希土類焼結磁石を得た。第1時効処理と第2時効処理との2段階で時効処理を行った。
各実施例および比較例において最終的に得られたR−T−B系希土類焼結磁石の組成が表2に示す組成となっていることは、蛍光X線分析法、誘導結合プラズマ質量分析法(ICP法)、およびガス分析により組成分析することで確認した。特に炭素の含有量は、酸素気流中燃焼−赤外線吸収法により測定した。
3・・・主相粒子
13・・・M−C化合物
15・・・M−B化合物
17・・・6−13−1相
19・・・Rリッチ相
100・・・共存組織含有部
Claims (8)
- Rは希土類元素、Tは鉄族元素、Bはホウ素であるR−T−B系希土類焼結磁石であって、
RとしてNdおよびPrから選択される1種以上を含み、
MおよびCを含有し、
MはZr,TiおよびNbから選択される1種以上であり、
前記R−T−B系希土類焼結磁石は主相粒子および粒界を含み、前記粒界にM−C化合物、M−B化合物および6−13−1相が共存する共存組織が含まれるR−T−B系希土類焼結磁石。 - R−T−B系希土類焼結磁石を100質量%として、
Nd,Pr,DyおよびTbの合計含有量が28.00質量%以上34.00質量%以下、
Coの含有量が0.05質量%以上3.00質量%以下、
Bの含有量が0.70質量%以上0.95質量%以下、
Cの含有量が0.07質量%以上0.25質量%以下、
Cuの含有量が0.10質量%以上0.50質量%以下、
Gaの含有量が0.20質量%以上1.00質量%以下、
Alの含有量が0.10質量%以上0.50質量%以下、
Mの合計含有量が0.20質量%以上2.00質量%以下、
重希土類元素の合計含有量が0.10質量%以下(0を含む)であり、
Feが実質的な残部である請求項1に記載のR−T−B系希土類焼結磁石。 - 前記R−T−B系希土類焼結磁石の一つの断面における前記共存組織の面積割合が0.10%以上15.00%以下である請求項1または2に記載のR−T−B系希土類焼結磁石。
- 前記共存組織におけるM−B化合物とM−C化合物との合計面積割合が40%以上75%以下であり、6−13−1相の面積割合が25%以上60%以下である請求項1〜3のいずれかに記載のR−T−B系希土類焼結磁石。
- M−C化合物の面積割合が30%以上70%以下、M−B化合物の面積割合が5%以上10%以下である請求項4に記載のR−T−B系希土類焼結磁石。
- 原料合金を粉砕して粒径が数μm程度の合金粉末を得る工程と、
前記合金粉末にMの単体を含む粉末を添加する工程と、を含み、
MはZr,TiおよびNbから選択される1種以上であるR−T−B系希土類焼結磁石の製造方法。 - Mの合計添加量が前記合金粉末100質量部に対して0.50質量部以上1.40質量部以下である請求項6に記載のR−T−B系希土類焼結磁石の製造方法。
- 前記原料合金におけるCの含有量が0.01質量%以上である請求項6または7に記載のR−T−B系希土類焼結磁石の製造方法。
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