JP2021150562A - Substrate processing apparatus and substrate processing method - Google Patents

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Abstract

To inspect a state of a belt while maintaining throughput.SOLUTION: A substrate processing apparatus comprises: a processing unit which applies predetermined processing to a substrate; a transfer unit including a holding section for holding the substrate and a driving section which includes a belt and transfers the holding section in a first direction by moving the belt; a measurement unit capable of acquiring a vibration signal corresponding to vibration of the belt derived from the displacement of the holding section; and a control unit. The control unit includes: a processing control section for executing process processing including first processing in which the predetermined processing is applied successively to a plurality of substrates including the substrate by the processing unit, and second processing in which the plurality of substrates are respectively transferred into/transferred out of the processing unit by the transfer unit; a signal acquisition section for acquiring the vibration signal from the measurement unit; and a state determination section for determining a state of the belt on the basis of the vibration signal. The signal acquisition section acquires the vibration signal during an execution period of the process processing.SELECTED DRAWING: Figure 5

Description

本開示は、基板処理装置及び基板処理方法に関する。 The present disclosure relates to a substrate processing apparatus and a substrate processing method.

特許文献1には、帯状板の振動により発生する空気の圧力変動を測定する第1工程と、帯状板の固有振動数を抽出する第2工程と、抽出された固有振動数に基づいて帯状板の張力を求める第3工程とを備える帯状板の張力測定方法が開示されている。 Patent Document 1 describes a first step of measuring the pressure fluctuation of air generated by the vibration of the strip plate, a second step of extracting the natural frequency of the strip plate, and a strip plate based on the extracted natural frequency. A method for measuring the tension of a strip-shaped plate including a third step of determining the tension of the above-mentioned plate is disclosed.

特開2005−337846号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2005-337846

基板に対して所定の処理を行う基板処理装置では、ベルトを有する搬送ユニットによって基板の搬送が行われる場合がある。本開示は、スループットを維持しつつ、ベルトの状態を検査することが可能な基板処理装置及び基板処理方法を提供する。 In a substrate processing apparatus that performs a predetermined process on a substrate, the substrate may be conveyed by a transfer unit having a belt. The present disclosure provides a substrate processing apparatus and a substrate processing method capable of inspecting the state of a belt while maintaining throughput.

本開示の一側面に係る基板処理装置は、基板に対して所定の処理を施す処理ユニットと、基板を保持する保持部と、ベルトを含み且つ当該ベルトを移動させることで第1方向において保持部を変位させる駆動部とを有する搬送ユニットと、ベルトに近接した状態で設けられ、保持部の変位に由来するベルトの振動に応じた振動信号を取得可能な計測ユニットと、処理ユニット、搬送ユニット、及び計測ユニットを制御する制御ユニットと、を備える。制御ユニットは、基板を含む複数の基板に対して所定の処理を処理ユニットにより順に施す第1処理と、搬送ユニットにより処理ユニットに対する複数の基板それぞれの搬入出を行う第2処理とを含むプロセス処理を実行する処理制御部と、計測ユニットから振動信号を取得する信号取得部と、振動信号に基づいてベルトの状態を判定する状態判定部と、を有する。信号取得部は、プロセス処理の実行期間において振動信号を取得する。 The substrate processing apparatus according to one aspect of the present disclosure includes a processing unit that performs predetermined processing on a substrate, a holding portion that holds the substrate, and a holding portion that includes a belt and moves the belt in a first direction. A transport unit having a drive unit for displacing the belt, a measurement unit provided close to the belt and capable of acquiring a vibration signal corresponding to the vibration of the belt due to the displacement of the holding portion, a processing unit, a transport unit, and the like. And a control unit for controlling the measurement unit. The control unit is a process process including a first process in which predetermined processes are sequentially performed by a processing unit on a plurality of boards including a board, and a second process in which a transfer unit carries in and out each of the plurality of boards to the processing unit. It has a processing control unit for executing the above, a signal acquisition unit for acquiring a vibration signal from the measurement unit, and a state determination unit for determining the state of the belt based on the vibration signal. The signal acquisition unit acquires a vibration signal during the execution period of the process process.

本開示によれば、スループットを維持しつつ、ベルトの状態を検査することが可能な基板処理装置及び基板処理方法が提供される。 According to the present disclosure, there is provided a substrate processing apparatus and a substrate processing method capable of inspecting the state of a belt while maintaining throughput.

図1は、基板処理システムの一例を模式的に示す斜視図である。FIG. 1 is a perspective view schematically showing an example of a substrate processing system. 図2は、塗布現像装置の一例を示す模式図である。FIG. 2 is a schematic view showing an example of a coating and developing apparatus. 図3は、搬送ユニットの一例を模式的に示す平面図である。FIG. 3 is a plan view schematically showing an example of the transport unit. 図4は、搬送ユニットの一例を模式的に示す側面図である。FIG. 4 is a side view schematically showing an example of the transport unit. 図5(a)は、水平駆動部の内部の一例を示す模式図である。図5(b)は、計測ユニットの一例を示す模式図である。FIG. 5A is a schematic view showing an example of the inside of the horizontal drive unit. FIG. 5B is a schematic view showing an example of the measurement unit. 図6(a)は、昇降駆動部の内部の一例を示す模式図である。図6(b)は、水平駆動部の内部の一例を示す模式図である。FIG. 6A is a schematic view showing an example of the inside of the elevating drive unit. FIG. 6B is a schematic view showing an example of the inside of the horizontal drive unit. 図7は、制御装置の機能構成の一例を示すブロック図である。FIG. 7 is a block diagram showing an example of the functional configuration of the control device. 図8は、制御装置のハードウェア構成の一例を示すブロック図である。FIG. 8 is a block diagram showing an example of the hardware configuration of the control device. 図9は、基板処理方法の一例を示すフローチャートである。FIG. 9 is a flowchart showing an example of the substrate processing method. 図10は、搬送動作とベルト検査との処理タイミングの一例を示す図である。FIG. 10 is a diagram showing an example of processing timing between the transport operation and the belt inspection. 図11は、ベルト検査方法の一例を示すフローチャートである。FIG. 11 is a flowchart showing an example of the belt inspection method. 図12(a)は、ベルトの振動に応じた振動信号の一例を示すグラフである。図12(b)は、振動信号のスペクトル解析結果の一例を示すグラフである。FIG. 12A is a graph showing an example of a vibration signal corresponding to the vibration of the belt. FIG. 12B is a graph showing an example of the spectrum analysis result of the vibration signal.

以下、種々の例示的実施形態について説明する。 Hereinafter, various exemplary embodiments will be described.

一つの例示的実施形態に係る基板処理装置は、基板に対して所定の処理を施す処理ユニットと、基板を保持する保持部と、ベルトを含み且つ当該ベルトを移動させることで第1方向において保持部を変位させる駆動部とを有する搬送ユニットと、ベルトに近接した状態で設けられ、保持部の変位に由来するベルトの振動に応じた振動信号を取得可能な計測ユニットと、処理ユニット、搬送ユニット、及び計測ユニットを制御する制御ユニットと、を備える。制御ユニットは、基板を含む複数の基板に対して所定の処理を処理ユニットにより順に施す第1処理と、搬送ユニットにより処理ユニットに対する複数の基板それぞれの搬入出を行う第2処理とを含むプロセス処理を実行する処理制御部と、計測ユニットから振動信号を取得する信号取得部と、振動信号に基づいてベルトの状態を判定する状態判定部と、を有する。信号取得部は、プロセス処理の実行期間において振動信号を取得する。 The substrate processing apparatus according to one exemplary embodiment includes a processing unit that performs a predetermined process on the substrate, a holding portion that holds the substrate, and a belt that is held in the first direction by moving the belt. A transport unit having a drive unit that displaces the unit, a measurement unit that is provided close to the belt and can acquire a vibration signal corresponding to the vibration of the belt due to the displacement of the holding unit, a processing unit, and a transfer unit. , And a control unit that controls the measurement unit. The control unit is a process process including a first process in which predetermined processes are sequentially performed by a processing unit on a plurality of boards including a board, and a second process in which a transfer unit carries in and out each of the plurality of boards to the processing unit. It has a processing control unit for executing the above, a signal acquisition unit for acquiring a vibration signal from the measurement unit, and a state determination unit for determining the state of the belt based on the vibration signal. The signal acquisition unit acquires a vibration signal during the execution period of the process process.

この基板処理装置では、プロセス処理の実行期間においてベルトの振動に応じた振動信号が取得され、当該振動信号に基づきベルトの状態が判定される。この装置では、ベルトの状態を判定するために基板処理装置によるプロセス処理を停止させる必要がないので、スループットを維持しつつベルトの状態を検査することが可能となる。 In this substrate processing apparatus, a vibration signal corresponding to the vibration of the belt is acquired during the execution period of the process processing, and the state of the belt is determined based on the vibration signal. In this device, it is not necessary to stop the process processing by the substrate processing device in order to determine the state of the belt, so that the state of the belt can be inspected while maintaining the throughput.

上記基板処理装置は、状態判定部による判定結果に応じて、ベルトの状態が正常ではないことを示す信号を出力する出力部を更に備えてもよい。この場合、ベルトの状態が正常ではないと判定された場合に、ベルトの状態が正常である場合と異なる処理を実行することが可能となる。 The substrate processing apparatus may further include an output unit that outputs a signal indicating that the state of the belt is not normal, depending on the determination result by the state determination unit. In this case, when it is determined that the state of the belt is not normal, it is possible to execute a process different from the case where the state of the belt is normal.

処理制御部は、第2処理において、駆動部により第1方向に沿って保持部を変位させる変位処理を実行してもよい。信号取得部は、変位処理が終了した後に当該変位処理での変位によって発生するベルトの振動に応じた振動信号を取得してもよい。変位処理の終了後に振動信号を取得することで、当該振動信号に含まれる外乱の影響を低下させることが可能となる。 In the second process, the process control unit may execute a displacement process in which the holding unit is displaced along the first direction by the drive unit. The signal acquisition unit may acquire a vibration signal corresponding to the vibration of the belt generated by the displacement in the displacement process after the displacement process is completed. By acquiring the vibration signal after the displacement processing is completed, it is possible to reduce the influence of the disturbance included in the vibration signal.

状態判定部は、変位処理が終了してから所定時間が経過した後のベルトの振動に応じた振動信号に基づいて、ベルトの状態を判定してもよい。この場合、振動信号に含まれる外乱の影響を更に低下させることが可能となる。 The state determination unit may determine the state of the belt based on the vibration signal corresponding to the vibration of the belt after a predetermined time has elapsed after the displacement processing is completed. In this case, the influence of the disturbance included in the vibration signal can be further reduced.

駆動部は、ベルトの少なくとも一部が架け渡される2つのプーリを更に含んでもよい。計測ユニットは、ベルトのうちの2つのプーリの間に配置される部分に近接して設けられてもよい。所定時間は、2つのプーリのうちの計測ユニットとの距離が近い一方のプーリと、計測ユニットとの間の距離に応じて設定されていてもよい。ベルトの振動が収束するまでの時間は、固定端と計測ユニットの近接位置との間のベルトの長さに依存すると考えられるので、上記構成では、ベルトの振動に応じて適切に状態を判定することが可能となる。 The drive unit may further include two pulleys over which at least a portion of the belt is bridged. The measuring unit may be provided in close proximity to a portion of the belt that is located between the two pulleys. The predetermined time may be set according to the distance between one of the two pulleys, which is closer to the measuring unit, and the measuring unit. The time until the vibration of the belt converges is considered to depend on the length of the belt between the fixed end and the close position of the measuring unit. Therefore, in the above configuration, the state is appropriately determined according to the vibration of the belt. It becomes possible.

駆動部は、ベルトの少なくとも一部が架け渡される第1プーリ及び第2プーリと、第1プーリを回転させてベルトを移動させるモータとを更に含んでもよい。計測ユニットは、第1プーリの近傍に配置されていてもよい。処理制御部は、変位処理において、第2プーリから第1プーリに向かう方向に駆動部により保持部を変位させてもよい。この場合、保持部に連結される部材と第1プーリとの間のベルトの一部に対して、保持部の停止に伴い圧縮する力が加わると考えられる。そのため、上記ベルトの一部において振動が大きくなり、振動信号の取得が容易である。 The drive unit may further include a first pulley and a second pulley over which at least a part of the belt is bridged, and a motor that rotates the first pulley to move the belt. The measuring unit may be arranged in the vicinity of the first pulley. In the displacement process, the processing control unit may displace the holding unit by the drive unit in the direction from the second pulley to the first pulley. In this case, it is considered that a compressing force is applied to a part of the belt between the member connected to the holding portion and the first pulley as the holding portion stops. Therefore, the vibration becomes large in a part of the belt, and it is easy to acquire the vibration signal.

駆動部は、保持部と共に移動するスライダを更に含んでもよい。スライダは、第1プーリと第2プーリとの間において移動可能となるようにベルトに接続されていてもよい。ベルトの移動経路に沿って、第1プーリ、計測ユニット、スライダ、及び第2プーリがこの順で配置されていてもよい。この場合、第1プーリとスライダとの間のベルトの一部においてスライダの移動に伴う振動が大きくなるので、振動信号の取得が容易である。 The drive unit may further include a slider that moves with the holding unit. The slider may be connected to the belt so that it can move between the first pulley and the second pulley. The first pulley, the measuring unit, the slider, and the second pulley may be arranged in this order along the movement path of the belt. In this case, since the vibration accompanying the movement of the slider becomes large in a part of the belt between the first pulley and the slider, it is easy to acquire the vibration signal.

処理制御部は、第2処理において、変位処理を繰り返し実行してもよい。信号取得部は、変位処理ごとに当該変位処理での変位によって発生するベルトの振動に応じた振動信号を取得してもよい。保持部の停止位置は、変位処理ごとに異なる位置に設定されていてもよい。状態判定部は、変位処理ごとに設定された停止位置にも基づいてベルトの状態を判定してもよい。この場合、停止位置が異なっていても、変位処理ごとの停止位置が加味されるので、ベルトの状態を適切に判定することが可能となる。 The processing control unit may repeatedly execute the displacement processing in the second processing. The signal acquisition unit may acquire a vibration signal corresponding to the vibration of the belt generated by the displacement in the displacement process for each displacement process. The stop position of the holding portion may be set to a different position for each displacement process. The state determination unit may determine the state of the belt based on the stop position set for each displacement process. In this case, even if the stop position is different, the stop position for each displacement process is taken into consideration, so that the state of the belt can be appropriately determined.

搬送ユニットは、第2方向に保持部を変位させる第2駆動部を更に有してもよい。処理制御部は、第2処理において、第1方向において駆動部により保持部を変位させる第1変位処理と、第2方向において第2駆動部により保持部を変位させる第2変位処理とを実行してもよい。信号取得部は、第2変位処理の実行期間の少なくとも一部と重複する期間において、第1変位処理での変位によって発生するベルトの振動に応じた振動信号を取得してもよい。この場合、搬送ユニットによる動作とベルトの検査とが少なくとも部分的に重複して行われるので、ベルトの検査による、搬送ユニットの動作を含む処理への影響を抑制することが可能となる。 The transport unit may further include a second drive unit that displaces the holding unit in the second direction. In the second process, the processing control unit executes a first displacement process in which the holding unit is displaced by the driving unit in the first direction and a second displacement processing in which the holding unit is displaced by the second driving unit in the second direction. You may. The signal acquisition unit may acquire a vibration signal corresponding to the vibration of the belt generated by the displacement in the first displacement process during a period overlapping with at least a part of the execution period of the second displacement process. In this case, since the operation by the transfer unit and the inspection of the belt are performed at least partially overlapping, it is possible to suppress the influence of the inspection of the belt on the processing including the operation of the transfer unit.

駆動部は、ベルトの少なくとも一部が架け渡され且つ第1方向に並ぶ第1プーリ及び第2プーリと、第1プーリを回転させることで、ベルトを移動させるモータと、保持部と共に移動するスライダとを更に含んでもよい。スライダは、第1プーリと第2プーリとの間において移動可能となるようにベルトに接続されていてもよい。ベルトの移動経路に沿って、第1プーリ、計測ユニット、スライダ、及び第2プーリがこの順で配置されていてもよい。この場合、第1プーリとスライダとの間のベルトの一部においてスライダの移動に伴う振動が大きくなるので、振動信号の取得が容易である。 The drive unit includes a first pulley and a second pulley in which at least a part of the belt is bridged and lined up in the first direction, a motor that moves the belt by rotating the first pulley, and a slider that moves together with the holding unit. And may be further included. The slider may be connected to the belt so that it can move between the first pulley and the second pulley. The first pulley, the measuring unit, the slider, and the second pulley may be arranged in this order along the movement path of the belt. In this case, since the vibration accompanying the movement of the slider becomes large in a part of the belt between the first pulley and the slider, it is easy to acquire the vibration signal.

駆動部は、ベルトの少なくとも一部が架け渡され且つ第1方向に並ぶ第1プーリ及び第2プーリと、保持部と共に移動するスライダとを更に含んでもよい。スライダは、第1プーリと第2プーリとの間において移動可能となるようにベルトに接続されていてもよい。ベルトの移動経路に沿って、計測ユニット、第1プーリ、スライダ、及び第2プーリがこの順で配置されていてもよい。この場合、計測ユニットが近接するベルトの一部にスライダから加わる外乱が第1プーリを介することで軽減され、振動信号に含まれる外乱の影響を低減させることが可能となる。 The drive unit may further include a first pulley and a second pulley in which at least a part of the belt is bridged and arranged in the first direction, and a slider that moves together with the holding unit. The slider may be connected to the belt so that it can move between the first pulley and the second pulley. The measuring unit, the first pulley, the slider, and the second pulley may be arranged in this order along the movement path of the belt. In this case, the disturbance applied from the slider to a part of the belt in which the measurement unit is close is reduced by passing through the first pulley, and the influence of the disturbance included in the vibration signal can be reduced.

一つの例示的実施形態に係る基板処理方法は、複数の基板に対して所定の処理を処理ユニットにより順に施す第1処理と、ベルトを含む搬送ユニットにより処理ユニットに対する複数の基板それぞれの搬入出を行う第2処理とを含むプロセス処理を実行することと、ベルトに近接して設けられた計測ユニットから、搬送ユニットの動作に由来するベルトの振動に応じた振動信号を取得することと、振動信号に基づいてベルトの状態を判定することとを含む。振動信号を取得することは、プロセス処理の実行期間において振動信号を取得することを含む。この基板処理方法では、上述の基板処理装置と同様にスループットを維持しつつベルトの状態を検査することが可能となる。 In the substrate processing method according to one exemplary embodiment, the first processing in which predetermined processing is sequentially performed on a plurality of substrates by the processing unit, and the loading and unloading of each of the plurality of substrates to the processing unit by the transport unit including the belt are performed. Executing the process process including the second process to be performed, acquiring the vibration signal corresponding to the vibration of the belt derived from the operation of the transport unit from the measurement unit provided close to the belt, and the vibration signal. Includes determining the state of the belt based on. Acquiring the vibration signal includes acquiring the vibration signal during the execution period of the process process. In this substrate processing method, it is possible to inspect the state of the belt while maintaining the throughput in the same manner as the above-mentioned substrate processing apparatus.

以下、図面を参照して一実施形態について説明する。説明において、同一要素又は同一機能を有する要素には同一の符号を付し、重複する説明を省略する。一部の図面にはX軸、Y軸及びZ軸により規定される直交座標系が示される。以下の実施形態では、Z軸が鉛直方向に対応し、X軸及びY軸が水平方向に対応する。 Hereinafter, one embodiment will be described with reference to the drawings. In the description, the same elements or elements having the same function are designated by the same reference numerals, and duplicate description will be omitted. Some drawings show a Cartesian coordinate system defined by the X, Y and Z axes. In the following embodiments, the Z-axis corresponds to the vertical direction and the X-axis and the Y-axis correspond to the horizontal direction.

[基板処理システム]
図1に示される基板処理システム1は、ワークWに対し、感光性被膜の形成、当該感光性被膜の露光、及び当該感光性被膜の現像を施すシステムである。処理対象のワークWは、例えば基板、あるいは所定の処理が施されることで膜又は回路等が形成された状態の基板である。ワークWに含まれる基板は、一例として、シリコンを含むウェハである。ワークW(基板)は、円形に形成されていてもよい。処理対象のワークWは、ガラス基板、マスク基板、FPD(Flat Panel Display)などであってもよく、これらの基板等に所定の処理が施されて得られる中間体であってもよい。感光性被膜は、例えばレジスト膜である。
[Board processing system]
The substrate processing system 1 shown in FIG. 1 is a system for forming a photosensitive film, exposing the photosensitive film, and developing the photosensitive film on the work W. The work W to be processed is, for example, a substrate or a substrate in which a film, a circuit, or the like is formed by performing a predetermined process. The substrate included in the work W is, for example, a wafer containing silicon. The work W (substrate) may be formed in a circular shape. The work W to be processed may be a glass substrate, a mask substrate, an FPD (Flat Panel Display), or the like, or may be an intermediate obtained by subjecting these substrates or the like to a predetermined treatment. The photosensitive film is, for example, a resist film.

基板処理システム1は、塗布・現像装置2と、露光装置3とを備える。塗布・現像装置2は、ワークWにレジスト膜(感光性被膜)を形成する装置である。露光装置3は、ワークW(基板)に形成されたレジスト膜を露光する装置である。具体的には、露光装置3は、液浸露光等の方法によりレジスト膜の露光対象部分にエネルギー線を照射する。塗布・現像装置2は、露光装置3による露光処理前に、ワークWの表面にレジスト(薬液)を塗布してレジスト膜を形成する処理を行い、露光処理後にレジスト膜の現像処理を行う。 The substrate processing system 1 includes a coating / developing device 2 and an exposure device 3. The coating / developing device 2 is a device for forming a resist film (photosensitive film) on the work W. The exposure apparatus 3 is an apparatus for exposing a resist film formed on the work W (substrate). Specifically, the exposure apparatus 3 irradiates the exposed portion of the resist film with energy rays by a method such as immersion exposure. The coating / developing device 2 applies a resist (chemical solution) to the surface of the work W to form a resist film before the exposure process by the exposure device 3, and develops the resist film after the exposure process.

(基板処理装置)
以下、基板処理装置の一例として、塗布・現像装置2の構成を説明する。図1及び図2に示されるように、塗布・現像装置2は、キャリアブロック4と、処理ブロック5と、インタフェースブロック6と、制御装置100(制御ユニット)とを備える。
(Board processing equipment)
Hereinafter, the configuration of the coating / developing device 2 will be described as an example of the substrate processing device. As shown in FIGS. 1 and 2, the coating / developing device 2 includes a carrier block 4, a processing block 5, an interface block 6, and a control device 100 (control unit).

キャリアブロック4は、塗布・現像装置2内へのワークWの導入及び塗布・現像装置2内からのワークWの導出を行う。例えばキャリアブロック4は、ワークW用の複数のキャリアCを支持可能であり、受け渡しアームを含む搬送ユニットA1を内蔵している。キャリアCは、例えば円形の複数枚のワークWを収容する。搬送ユニットA1は、キャリアCからワークWを取り出して処理ブロック5に渡し、処理ブロック5からワークWを受け取ってキャリアC内に戻す。処理ブロック5は、処理モジュール11,12,13,14を有する。 The carrier block 4 introduces the work W into the coating / developing device 2 and derives the work W from the coating / developing device 2. For example, the carrier block 4 can support a plurality of carriers C for the work W, and includes a transfer unit A1 including a delivery arm. The carrier C accommodates, for example, a plurality of circular workpieces W. The transport unit A1 takes out the work W from the carrier C, passes it to the processing block 5, receives the work W from the processing block 5, and returns it to the carrier C. The processing block 5 has processing modules 11, 12, 13, and 14.

処理モジュール11は、液処理ユニットU1と、熱処理ユニットU2と、これらのユニットにワークWを搬送する搬送ユニットA3とを内蔵している。処理モジュール11は、液処理ユニットU1及び熱処理ユニットU2によりワークWの表面上に下層膜を形成する。液処理ユニットU1は、下層膜形成用の処理液をワークW上に塗布する。熱処理ユニットU2は、下層膜の形成に伴う各種熱処理を行う。 The processing module 11 includes a liquid processing unit U1, a heat treatment unit U2, and a transfer unit A3 for transporting the work W to these units. The treatment module 11 forms an underlayer film on the surface of the work W by the liquid treatment unit U1 and the heat treatment unit U2. The liquid treatment unit U1 applies a treatment liquid for forming an underlayer film onto the work W. The heat treatment unit U2 performs various heat treatments accompanying the formation of the underlayer film.

処理モジュール12は、液処理ユニットU1と、熱処理ユニットU2と、これらのユニットにワークWを搬送する搬送ユニットA3とを内蔵している。処理モジュール12は、液処理ユニットU1及び熱処理ユニットU2により下層膜上にレジスト膜を形成する。液処理ユニットU1は、レジスト膜形成用の処理液(レジスト)を下層膜上に塗布する。熱処理ユニットU2は、レジスト膜の形成に伴う各種熱処理を行う。 The processing module 12 includes a liquid processing unit U1, a heat treatment unit U2, and a transfer unit A3 for transporting the work W to these units. The treatment module 12 forms a resist film on the lower layer film by the liquid treatment unit U1 and the heat treatment unit U2. The liquid treatment unit U1 applies a treatment liquid (resist) for forming a resist film on the lower film. The heat treatment unit U2 performs various heat treatments accompanying the formation of the resist film.

処理モジュール13は、液処理ユニットU1と、熱処理ユニットU2と、これらのユニットにワークWを搬送する搬送ユニットA3とを内蔵している。処理モジュール13は、液処理ユニットU1及び熱処理ユニットU2によりレジスト膜上に上層膜を形成する。液処理ユニットU1は、上層膜形成用の処理液をレジスト膜の上に塗布する。熱処理ユニットU2は、上層膜の形成に伴う各種熱処理を行う。 The processing module 13 includes a liquid processing unit U1, a heat treatment unit U2, and a transfer unit A3 for transporting the work W to these units. The treatment module 13 forms an upper layer film on the resist film by the liquid treatment unit U1 and the heat treatment unit U2. The liquid treatment unit U1 applies a treatment liquid for forming an upper layer film onto the resist film. The heat treatment unit U2 performs various heat treatments accompanying the formation of the upper layer film.

処理モジュール14は、液処理ユニットU1と、熱処理ユニットU2と、これらのユニットにワークWを搬送する搬送ユニットA3とを内蔵している。処理モジュール14は、液処理ユニットU1及び熱処理ユニットU2により、露光処理が施されたレジスト膜の現像処理及び現像処理に伴う熱処理を行う。液処理ユニットU1は、露光済みのワークWの表面上に現像液を塗布した後、これをリンス液により洗い流すことで、レジスト膜の現像処理を行う。熱処理ユニットU2は、現像処理に伴う各種熱処理を行う。熱処理の具体例としては、現像処理前の加熱処理(PEB:Post Exposure Bake)、現像処理後の加熱処理(PB:Post Bake)等が挙げられる。 The processing module 14 includes a liquid processing unit U1, a heat treatment unit U2, and a transfer unit A3 for transporting the work W to these units. The processing module 14 is subjected to the development treatment of the exposed resist film and the heat treatment associated with the development treatment by the liquid treatment unit U1 and the heat treatment unit U2. The liquid treatment unit U1 develops a resist film by applying a developing solution on the surface of the exposed work W and then rinsing it with a rinsing solution. The heat treatment unit U2 performs various heat treatments associated with the development process. Specific examples of the heat treatment include heat treatment before development treatment (PEB: Post Exposure Bake), heat treatment after development treatment (PB: Post Bake), and the like.

処理ブロック5内におけるキャリアブロック4側には棚ユニットU10が設けられている。棚ユニットU10は、上下方向に並ぶ複数のセルに区画されている。棚ユニットU10の近傍には昇降アームを含む搬送ユニットA7が設けられている。搬送ユニットA7は、棚ユニットU10のセル同士の間でワークWを昇降させる。 A shelf unit U10 is provided on the carrier block 4 side in the processing block 5. The shelf unit U10 is divided into a plurality of cells arranged in the vertical direction. A transport unit A7 including an elevating arm is provided in the vicinity of the shelf unit U10. The transport unit A7 raises and lowers the work W between the cells of the shelf unit U10.

処理ブロック5内におけるインタフェースブロック6側には棚ユニットU11が設けられている。棚ユニットU11は、上下方向に並ぶ複数のセルに区画されている。棚ユニットU10,U11は、ワークWに次の処理を行うために当該ワークWを待機させるので(バッファとして機能するので)、これら棚ユニットU10,U11もワークWに対して処理を施す処理ユニットに該当する。 A shelf unit U11 is provided on the interface block 6 side in the processing block 5. The shelf unit U11 is divided into a plurality of cells arranged in the vertical direction. Since the shelf units U10 and U11 make the work W wait for the work W to perform the next processing (because it functions as a buffer), these shelf units U10 and U11 are also processing units that perform processing on the work W. Applicable.

インタフェースブロック6は、露光装置3との間でワークWの受け渡しを行う。例えばインタフェースブロック6は、受け渡しアームを含む搬送ユニットA8を内蔵しており、露光装置3に接続される。搬送ユニットA8は、棚ユニットU11に配置されたワークWを露光装置3に渡す。搬送ユニットA8は、露光装置3からワークWを受け取って棚ユニットU11に戻す。 The interface block 6 transfers the work W to and from the exposure apparatus 3. For example, the interface block 6 has a built-in transfer unit A8 including a transfer arm, and is connected to the exposure apparatus 3. The transport unit A8 passes the work W arranged on the shelf unit U11 to the exposure apparatus 3. The transport unit A8 receives the work W from the exposure apparatus 3 and returns it to the shelf unit U11.

(搬送ユニット)
次に、図3及び図4を参照して、処理モジュール12における搬送ユニットA3の一例について説明する。搬送ユニットA3は、処理モジュール12内において、ワークWを保持した状態で当該ワークWを搬送する。搬送ユニットA3は、処理モジュール12に含まれる複数の処理ユニットの間でワークWを搬送する。図3に例示の処理モジュール12では、水平な一方向に沿って、2つの液処理ユニットU1と2つの熱処理ユニットU2とが、この順に並んで配置されている。
(Transport unit)
Next, an example of the transport unit A3 in the processing module 12 will be described with reference to FIGS. 3 and 4. The transport unit A3 transports the work W while holding the work W in the processing module 12. The transport unit A3 transports the work W between a plurality of processing units included in the processing module 12. In the processing module 12 illustrated in FIG. 3, two liquid processing units U1 and two heat treatment units U2 are arranged side by side in this order along one horizontal direction.

本開示では、熱処理ユニットU2から液処理ユニットU1へ向かう方向を「Y軸正方向」とし、液処理ユニットU1から熱処理ユニットU2へ向かう方向を「Y軸負方向」とする。搬送ユニットA3から液処理ユニットU1(又は熱処理ユニットU2)へ向かう方向を「X軸正方向」とし、液処理ユニットU1(熱処理ユニットU2)から搬送ユニットA3へ向かう方向を「X軸負方向」とする。また、鉛直上向きを「Z軸正方向」とし、鉛直下向きを「Z軸負方向」とする。各軸の正方向及び負方向のいずれか一方を含む方向を単に「X軸方向」等と表記する。 In the present disclosure, the direction from the heat treatment unit U2 to the liquid treatment unit U1 is defined as the "Y-axis positive direction", and the direction from the liquid treatment unit U1 to the heat treatment unit U2 is defined as the "Y-axis negative direction". The direction from the transport unit A3 to the liquid treatment unit U1 (or the heat treatment unit U2) is defined as the "X-axis positive direction", and the direction from the liquid treatment unit U1 (heat treatment unit U2) to the transport unit A3 is defined as the "X-axis negative direction". do. Further, the vertically upward direction is defined as the "Z-axis positive direction", and the vertically downward direction is defined as the "Z-axis negative direction". The direction including either the positive direction or the negative direction of each axis is simply referred to as "X-axis direction" or the like.

搬送ユニットA3は、例えば、保持アーム20と、水平駆動部30,50と、昇降駆動部70とを有する。 The transport unit A3 has, for example, a holding arm 20, horizontal drive units 30 and 50, and an elevating drive unit 70.

保持アーム20(保持部)は、ワークWを保持するように構成されている。保持アーム20は、ワークWの表面Waが上方を向くように当該ワークWを保持する。表面Waは、液処理ユニットU1においてレジストの塗布膜が形成される面である。保持アーム20は、ワークWの周縁を囲み、ワークWの表面Waとは反対側の裏面の周縁部を支持するように形成されていてもよい。搬送ユニットA3は、ワークWを保持した保持アーム20を変位させることで液処理ユニットU1等の処理ユニットに対する当該ワークWの搬入出を行う。つまり、搬送ユニットA3は、保持アーム20を変位させることで一の処理ユニットにワークWを搬入し、保持アーム20を変位させることで当該処理ユニットからワークWを搬出する。搬送ユニットA3は、一の処理ユニットに対して複数のワークWについての搬入出をそれぞれ行ってもよい。 The holding arm 20 (holding portion) is configured to hold the work W. The holding arm 20 holds the work W so that the surface Wa of the work W faces upward. The surface Wa is a surface on which the resist coating film is formed in the liquid treatment unit U1. The holding arm 20 may be formed so as to surround the peripheral edge of the work W and support the peripheral edge of the back surface of the work W opposite to the front surface Wa. The transport unit A3 carries in and out the work W to a processing unit such as the liquid processing unit U1 by displacing the holding arm 20 holding the work W. That is, the transport unit A3 carries the work W into one processing unit by displacing the holding arm 20, and carries out the work W from the processing unit by displacing the holding arm 20. The transport unit A3 may carry in and out a plurality of work W with respect to one processing unit.

水平駆動部30は、保持アーム20を水平な一方向において変位させるように構成されている。水平駆動部30は、例えば、モータ等の動力源によって、水平な一方向に沿って保持アーム20を往復移動させるように構成されたアクチュエータである。搬送ユニットA3は、図4に示されるように、水平駆動部30を支持する回転駆動部46と基台48とを更に有する。回転駆動部46は、例えば、モータ等の動力源によって、水平駆動部30を鉛直な回転軸まわりに回転させるように構成された回転アクチュエータである。回転駆動部46により水平駆動部30が回転することで、水平駆動部30による保持アーム20の移動方向が変化する。 The horizontal drive unit 30 is configured to displace the holding arm 20 in one horizontal direction. The horizontal drive unit 30 is an actuator configured to reciprocate the holding arm 20 along one horizontal direction by a power source such as a motor. As shown in FIG. 4, the transport unit A3 further includes a rotary drive unit 46 that supports the horizontal drive unit 30 and a base 48. The rotary drive unit 46 is a rotary actuator configured to rotate the horizontal drive unit 30 around a vertical rotation axis by, for example, a power source such as a motor. As the horizontal drive unit 30 rotates by the rotation drive unit 46, the moving direction of the holding arm 20 by the horizontal drive unit 30 changes.

例えば、図4に示される水平駆動部30は、X軸方向に保持アーム20を往復移動させるように回転駆動部46によって配置されている。この配置では、水平駆動部30は、X軸正方向に保持アーム20を移動させ、X軸負方向に保持アーム20を移動させる。水平駆動部30が、X軸方向(X軸正方向及びX軸負方向のいずれか)に保持アーム20を移動させることにより、保持アーム20に保持されているワークWがX軸方向(第1方向)に沿って移動する。水平駆動部30は、保持アーム20を移動させる方向(例えば、X軸方向)に沿って延びるように形成されている。水平駆動部30の駆動機構の詳細については後述する。基台48は、回転駆動部46及び水平駆動部30を支持する部材である。回転駆動部46は、基台48上に設けられており、基台48は、例えば、X軸方向に沿って延びるように形成されている。基台48のX軸負方向における一端部(例えば、一端部の両側面のそれぞれ)は、昇降駆動部70に接続されている。 For example, the horizontal drive unit 30 shown in FIG. 4 is arranged by the rotary drive unit 46 so as to reciprocate the holding arm 20 in the X-axis direction. In this arrangement, the horizontal drive unit 30 moves the holding arm 20 in the positive direction of the X-axis and moves the holding arm 20 in the negative direction of the X-axis. The horizontal drive unit 30 moves the holding arm 20 in the X-axis direction (either the positive direction of the X-axis or the negative direction of the X-axis), so that the work W held by the holding arm 20 is moved in the X-axis direction (first). Move along the direction). The horizontal drive unit 30 is formed so as to extend along a direction in which the holding arm 20 is moved (for example, the X-axis direction). The details of the drive mechanism of the horizontal drive unit 30 will be described later. The base 48 is a member that supports the rotary drive unit 46 and the horizontal drive unit 30. The rotation drive unit 46 is provided on the base 48, and the base 48 is formed so as to extend along the X-axis direction, for example. One end of the base 48 in the negative direction of the X-axis (for example, each of both side surfaces of the one end) is connected to the elevating drive unit 70.

昇降駆動部70は、保持アーム20を鉛直方向(図示のZ軸方向)において変位させるように構成されている。昇降駆動部70は、例えば、モータ等の動力源によって、Z軸方向(第1方向)に沿って保持アーム20を往復移動させるように構成されたアクチュエータである。昇降駆動部70は、例えば、基台48を支持しており、Z軸正方向に基台48を移動させ、Z軸負方向に基台48を移動させる。昇降駆動部70が、Z軸方向に基台48を移動させることにより、保持アーム20(ワークW)もZ軸方向に沿って移動する。昇降駆動部70は、基台48(保持アーム20)を移動させるZ軸方向に沿って延びるように形成されている。昇降駆動部70の詳細については後述する。 The elevating drive unit 70 is configured to displace the holding arm 20 in the vertical direction (Z-axis direction in the drawing). The elevating drive unit 70 is an actuator configured to reciprocate the holding arm 20 along the Z-axis direction (first direction) by, for example, a power source such as a motor. The elevating drive unit 70 supports, for example, the base 48, moves the base 48 in the positive direction of the Z axis, and moves the base 48 in the negative direction of the Z axis. When the elevating drive unit 70 moves the base 48 in the Z-axis direction, the holding arm 20 (work W) also moves along the Z-axis direction. The elevating drive unit 70 is formed so as to extend along the Z-axis direction in which the base 48 (holding arm 20) is moved. The details of the elevating drive unit 70 will be described later.

図3に戻り、水平駆動部50は、保持アーム20を水平な一方向(図示のY軸方向)において変位させるように構成されている。水平駆動部50は、例えば、モータ等の動力源によって、Y軸方向(第1方向)に沿って保持アーム20を往復移動させるように構成されたアクチュエータである。水平駆動部50は、例えば、昇降駆動部70を支持しており、Y軸正方向に昇降駆動部70を移動させ、Y軸負方向に昇降駆動部70を移動させる。水平駆動部50が、Y軸方向に昇降駆動部70を移動させることにより、保持アーム20(ワークW)もY軸方向に沿って移動する。水平駆動部50は、Y軸方向に沿って延びるように形成されている。水平駆動部50の駆動機構の詳細については後述する。 Returning to FIG. 3, the horizontal drive unit 50 is configured to displace the holding arm 20 in one horizontal direction (Y-axis direction in the figure). The horizontal drive unit 50 is an actuator configured to reciprocate the holding arm 20 along the Y-axis direction (first direction) by, for example, a power source such as a motor. The horizontal drive unit 50 supports, for example, the elevating drive unit 70, moves the elevating drive unit 70 in the positive direction of the Y axis, and moves the elevating drive unit 70 in the negative direction of the Y axis. When the horizontal drive unit 50 moves the elevating drive unit 70 in the Y-axis direction, the holding arm 20 (work W) also moves along the Y-axis direction. The horizontal drive unit 50 is formed so as to extend along the Y-axis direction. The details of the drive mechanism of the horizontal drive unit 50 will be described later.

(計測ユニット及び各駆動部の詳細)
次に、図5及び図6も参照して、各駆動部に含まれるベルトの状態を検査するために用いられる計測ユニットについて、各駆動部の詳細構成と共に説明する。塗布・現像装置2は、計測ユニット130,150,170を更に備える。
(Details of measurement unit and each drive unit)
Next, with reference to FIGS. 5 and 6, a measurement unit used for inspecting the state of the belt included in each drive unit will be described together with a detailed configuration of each drive unit. The coating / developing device 2 further includes measuring units 130, 150, 170.

計測ユニット130は、水平駆動部30のベルトの状態を検査するために用いられる。計測ユニット150は、水平駆動部50のベルトの状態を検査するために用いられる。計測ユニット170は、昇降駆動部70のベルトの状態を検査するために用いられる。本開示において、ベルトの状態の検査とは、当該ベルトが正常に動作可能であるか否かを検査することを意味する。一例では、ベルトの経時劣化、及びベルトの調節の不具合等によって、ベルト(駆動部)が正常に動作しなくなる場合があり、これらを未然に防止するために、各計測ユニットを用いてベルトの検査が行われる。以下、駆動部と計測ユニットについて軸ごとに説明する。 The measuring unit 130 is used for inspecting the state of the belt of the horizontal drive unit 30. The measuring unit 150 is used for inspecting the state of the belt of the horizontal drive unit 50. The measuring unit 170 is used for inspecting the state of the belt of the elevating drive unit 70. In the present disclosure, the inspection of the state of the belt means inspecting whether or not the belt can operate normally. In one example, the belt (drive unit) may not operate normally due to deterioration of the belt over time, malfunction of belt adjustment, etc., and in order to prevent these, belt inspection using each measurement unit Is done. Hereinafter, the drive unit and the measurement unit will be described for each axis.

<Y軸方向>
図5(a)には、Y軸方向に保持アーム20を変位させる水平駆動部50の詳細が示されている。水平駆動部50は、少なくとも一部分がY軸方向に沿って延びるように配置されたベルトを含み、当該ベルトを移動させることでY軸方向において保持アーム20を変位させる。水平駆動部50は、例えば、筐体52と、プーリ56a,56bと、ベルト58と、モータ62と、スライダ54とを有する。
<Y-axis direction>
FIG. 5A shows details of the horizontal drive unit 50 that displaces the holding arm 20 in the Y-axis direction. The horizontal drive unit 50 includes a belt arranged so that at least a part thereof extends along the Y-axis direction, and the holding arm 20 is displaced in the Y-axis direction by moving the belt. The horizontal drive unit 50 includes, for example, a housing 52, pulleys 56a and 56b, a belt 58, a motor 62, and a slider 54.

筐体52は、水平駆動部50に含まれる各要素を収容する。筐体52は、Y軸方向に沿って延びるように形成されている。筐体52のうちの複数の処理ユニットと対向する壁には、開口52aが設けられている(図4も参照)。開口52aからは、スライダ54の一部が筐体52の外に突出している。 The housing 52 accommodates each element included in the horizontal drive unit 50. The housing 52 is formed so as to extend along the Y-axis direction. An opening 52a is provided in the wall of the housing 52 facing the plurality of processing units (see also FIG. 4). A part of the slider 54 projects from the opening 52a to the outside of the housing 52.

図5(a)に示されるように、プーリ56a(第1プーリ)及びプーリ56b(第2プーリ)は、Y軸方向に沿って並んで配置されている。プーリ56a,56bは、例えば、Y軸方向における筐体52内の各端部に配置されている。プーリ56a,56bはそれぞれ、X軸方向に沿う回転軸周りに回転可能に筐体52内に設けられている。ベルト58は、プーリ56a,56bに架け渡されている。ベルト58は、例えばタイミングベルトである。モータ62は、回転トルクを発生させる動力源である。モータ62は、例えばサーボモータである。モータ62は、プーリ56aに接続されており、プーリ56aを回転させる。モータ62によるトルク(駆動力)がプーリ56aに伝達されると、プーリ56a,56bに架け渡されたベルト58がY軸方向に沿って移動する。 As shown in FIG. 5A, the pulley 56a (first pulley) and the pulley 56b (second pulley) are arranged side by side along the Y-axis direction. The pulleys 56a and 56b are arranged at each end of the housing 52 in the Y-axis direction, for example. The pulleys 56a and 56b are respectively provided in the housing 52 so as to be rotatable around a rotation axis along the X-axis direction. The belt 58 is bridged over the pulleys 56a and 56b. The belt 58 is, for example, a timing belt. The motor 62 is a power source that generates rotational torque. The motor 62 is, for example, a servo motor. The motor 62 is connected to the pulley 56a and rotates the pulley 56a. When the torque (driving force) by the motor 62 is transmitted to the pulleys 56a, the belts 58 spanned by the pulleys 56a and 56b move along the Y-axis direction.

スライダ54は、例えば、図4に示されるように、X軸方向に延在するように形成されている。スライダ54のX軸方向における基端部(処理ユニットから遠い方の一端部)は、筐体52内においてベルト58に接続されている。スライダ54のX軸方向における先端部(処理ユニットに近い方の一端部)は、開口52aを通して筐体52外に突出している。スライダ54の先端部には、例えば、昇降駆動部70の下端部が接続されている。このように、スライダ54は、他部材を介して保持アーム20に接続されており、保持アーム20と共に移動する。モータ62によるトルクによってベルト58がY軸方向に沿って移動すると、ベルト58に接続されているスライダ54(昇降駆動部70)も、Y軸方向に沿って往復移動し、その結果、保持アーム20及びワークWもY軸方向に沿って移動する。 The slider 54 is formed so as to extend in the X-axis direction, for example, as shown in FIG. The base end portion (one end portion farther from the processing unit) of the slider 54 in the X-axis direction is connected to the belt 58 in the housing 52. The tip end portion (one end portion closer to the processing unit) of the slider 54 in the X-axis direction projects to the outside of the housing 52 through the opening 52a. For example, the lower end of the elevating drive unit 70 is connected to the tip of the slider 54. In this way, the slider 54 is connected to the holding arm 20 via another member and moves together with the holding arm 20. When the belt 58 moves along the Y-axis direction due to the torque of the motor 62, the slider 54 (elevating drive unit 70) connected to the belt 58 also reciprocates along the Y-axis direction, and as a result, the holding arm 20 And the work W also moves along the Y-axis direction.

以上の水平駆動部50では、スライダ54は、プーリ56aとプーリ56bとの間を移動可能に構成されている。スライダ54が、プーリ56a,56bの間の一の位置に配置されている状態において、ベルト58は、Y軸方向に沿って延び且つプーリ56a,56bの間を接続する第1部分58aと、Y軸方向に沿って延び且つプーリ56a,56bの間を接続する第2部分58bとを含む。第1部分58aと第2部分58bとは、Z軸方向に沿って並んで配置されており、互いに略平行である。図5(a)に示される例では、第1部分58aにスライダ54が接続されている。以下では、第1部分58aのうちの、プーリ56aとスライダ54との間を「弦64a」と称し、スライダ54とプーリ56bとの間を「弦64b」と称する。 In the above horizontal drive unit 50, the slider 54 is configured to be movable between the pulley 56a and the pulley 56b. In a state where the slider 54 is arranged at one position between the pulleys 56a and 56b, the belt 58 extends along the Y-axis direction and connects between the pulleys 56a and 56b with the first portion 58a and Y. Includes a second portion 58b that extends along the axial direction and connects between the pulleys 56a, 56b. The first portion 58a and the second portion 58b are arranged side by side along the Z-axis direction and are substantially parallel to each other. In the example shown in FIG. 5A, the slider 54 is connected to the first portion 58a. In the following, in the first portion 58a, the space between the pulley 56a and the slider 54 is referred to as "string 64a", and the space between the slider 54 and the pulley 56b is referred to as "string 64b".

計測ユニット150は、水平駆動部50のベルト58の振動に応じた信号(以下、「振動信号」という。)を取得可能に構成されている。具体的には、計測ユニット150は、水平駆動部50による保持アーム20の移動(搬送動作)に伴って発生するベルト58の振動に応じた振動信号を取得する。計測ユニット150は、例えば、ベルト58の振動によって発生する音波(空気の振動)を取得する。計測ユニット150は、ベルト58に近接した状態で搬送ユニットA3(筐体52の内部)に設けられる。計測ユニット150は、音波を計測する2つのセンサ(センサ92,94)を有してもよい。センサ92及びセンサ94は、互いに共通の機能を有する。 The measuring unit 150 is configured to be able to acquire a signal (hereinafter, referred to as “vibration signal”) corresponding to the vibration of the belt 58 of the horizontal drive unit 50. Specifically, the measurement unit 150 acquires a vibration signal corresponding to the vibration of the belt 58 generated by the movement (conveyance operation) of the holding arm 20 by the horizontal drive unit 50. The measuring unit 150 acquires, for example, a sound wave (vibration of air) generated by the vibration of the belt 58. The measuring unit 150 is provided in the transport unit A3 (inside the housing 52) in a state close to the belt 58. The measuring unit 150 may have two sensors (sensors 92 and 94) for measuring sound waves. The sensor 92 and the sensor 94 have a common function with each other.

図5(b)に示されるように、センサ92及びセンサ94は、ベルト58を挟むように配置されている。一例では、センサ92とセンサ94とは、Z軸方向に沿って並んで配置されている。すなわち、Z軸方向において、センサ92、ベルト58、及びセンサ94が、この順で並んでいる。センサ92,94のそれぞれは、ベルト58からの音波を取得可能な位置に配置されている。センサ92とベルト58との間のZ軸方向における距離は、センサ94とベルト58との間のZ軸方向における距離と略等しい。センサ92は、ベルト58からZ軸正方向に伝搬する音波SW1を取得し、センサ94は、ベルト58からZ軸負方向に伝搬する音波SW2を取得する。一例では、センサ92,94のそれぞれは、MEMS(Micro Electro Mechanical Systems)マイクロフォンである。計測ユニット150(センサ92,94のそれぞれ)は、音波SW1,SW2に応じた電気信号を制御装置100に出力する。 As shown in FIG. 5B, the sensor 92 and the sensor 94 are arranged so as to sandwich the belt 58. In one example, the sensor 92 and the sensor 94 are arranged side by side along the Z-axis direction. That is, the sensor 92, the belt 58, and the sensor 94 are arranged in this order in the Z-axis direction. Each of the sensors 92 and 94 is arranged at a position where sound waves from the belt 58 can be acquired. The distance between the sensor 92 and the belt 58 in the Z-axis direction is substantially equal to the distance between the sensor 94 and the belt 58 in the Z-axis direction. The sensor 92 acquires the sound wave SW1 propagating from the belt 58 in the positive direction of the Z axis, and the sensor 94 acquires the sound wave SW2 propagating from the belt 58 in the negative direction of the Z axis. In one example, each of the sensors 92 and 94 is a MEMS (Micro Electro Mechanical Systems) microphone. The measurement unit 150 (each of the sensors 92 and 94) outputs an electric signal corresponding to the sound waves SW1 and SW2 to the control device 100.

計測ユニット150(センサ92,94)は、モータ62が接続されるプーリ56aの近傍に配置されてもよい。一例では、計測ユニット150は、プーリ56aとの間の距離が、プーリ56aとプーリ56bとの間のY軸方向における距離の1/3以下となる位置に配置されている。計測ユニット150は、例えば、図5(a)に示されるように、第1部分58aの弦64aのうちのプーリ56a寄りの位置に配置されている。この場合、スライダ54は、計測ユニット150と干渉しない位置と、プーリ56bと干渉しない位置との間において移動可能となるように構成される。 The measuring unit 150 (sensors 92, 94) may be arranged in the vicinity of the pulley 56a to which the motor 62 is connected. In one example, the measuring unit 150 is arranged at a position where the distance between the pulley 56a and the pulley 56a is 1/3 or less of the distance between the pulley 56a and the pulley 56b in the Y-axis direction. As shown in FIG. 5A, for example, the measuring unit 150 is arranged at a position closer to the pulley 56a in the string 64a of the first portion 58a. In this case, the slider 54 is configured to be movable between a position that does not interfere with the measuring unit 150 and a position that does not interfere with the pulley 56b.

以上の構成では、ベルト58の移動経路(モータ62によるベルト58の移動に伴う当該ベルト58の移動軌跡)に沿って、プーリ56a、計測ユニット150、スライダ54、及びプーリ56bが、この順で配置されている。なお、スライダ54のY軸方向における位置に応じて、ベルト58のうちの上述した第1部分58a及び第2部分58b(弦64a,64b)のそれぞれに該当する領域は変化する。しかしながら、スライダ54が移動範囲内のいずれの位置に配置されていても、プーリ56a、計測ユニット150、スライダ54、及びプーリ56bの上述の配置関係(ベルト58の移動経路に沿った配置関係)は成立する。 In the above configuration, the pulley 56a, the measuring unit 150, the slider 54, and the pulley 56b are arranged in this order along the movement path of the belt 58 (the movement locus of the belt 58 accompanying the movement of the belt 58 by the motor 62). Has been done. The regions of the belt 58 corresponding to the first portion 58a and the second portion 58b (strings 64a and 64b) of the belt 58 change depending on the position of the slider 54 in the Y-axis direction. However, regardless of the position of the slider 54 in the movement range, the above-mentioned arrangement relationship (arrangement relationship along the movement path of the belt 58) of the pulley 56a, the measuring unit 150, the slider 54, and the pulley 56b remains. To establish.

以上に例示した水平駆動部50は、例えば、処理モジュール12の処理ユニット間においてワークWを移動する際に用いられる。一例では、Y軸正方向から数えて1番目に位置する液処理ユニットU1から3番目に位置する熱処理ユニットU2にワークWを移動する際に、水平駆動部50が用いられる(図3を参照)。具体的には、搬送ユニットA3は、保持アーム20の基端部が基台48と重なる位置に配置された状態で、水平駆動部50により、移動元の液処理ユニットU1とX軸方向において対向する位置(Y軸方向において重なる位置)から、移動先の熱処理ユニットU2とX軸方向において対向する位置まで保持アーム20を移動させる。この際、図5(a)に示されるスライダ54は、プーリ56bからプーリ56a(計測ユニット150)に向かって移動する。水平駆動部50により保持アーム20がY軸正方向に移動する場合、スライダ54は、プーリ56a(計測ユニット150)からプーリ56bに向かって移動する。 The horizontal drive unit 50 illustrated above is used, for example, when moving the work W between the processing units of the processing module 12. In one example, the horizontal drive unit 50 is used when moving the work W from the liquid treatment unit U1 located first to the heat treatment unit U2 located third from the positive direction of the Y axis (see FIG. 3). .. Specifically, the transport unit A3 faces the moving source liquid processing unit U1 in the X-axis direction by the horizontal drive unit 50 in a state where the base end portion of the holding arm 20 overlaps the base 48. The holding arm 20 is moved from the position where it is to be moved (the position where it overlaps in the Y-axis direction) to the position where it faces the heat treatment unit U2 at the destination in the X-axis direction. At this time, the slider 54 shown in FIG. 5A moves from the pulley 56b toward the pulley 56a (measurement unit 150). When the holding arm 20 is moved in the positive direction of the Y-axis by the horizontal drive unit 50, the slider 54 moves from the pulley 56a (measurement unit 150) toward the pulley 56b.

<Z軸方向>
図6(a)には、Z軸方向に保持アーム20を変位させる昇降駆動部70の詳細が示されている。図6(a)には、昇降駆動部70のうちの、Y軸方向において基台48を挟む一対の部分の一方が示されている(図3も参照)。昇降駆動部70は、少なくとも一部分がZ軸方向に沿って延びるように配置されたベルトを含み、当該ベルトを移動させることでZ軸方向において保持アーム20を変位させる。昇降駆動部70は、例えば、筐体72と、プーリ76a,76bと、ベルト78と、モータ82と、スライダ74とを有する。
<Z-axis direction>
FIG. 6A shows details of the elevating drive unit 70 that displaces the holding arm 20 in the Z-axis direction. FIG. 6A shows one of a pair of parts of the elevating drive unit 70 that sandwich the base 48 in the Y-axis direction (see also FIG. 3). The elevating drive unit 70 includes a belt arranged so that at least a part thereof extends along the Z-axis direction, and the holding arm 20 is displaced in the Z-axis direction by moving the belt. The elevating drive unit 70 includes, for example, a housing 72, pulleys 76a and 76b, a belt 78, a motor 82, and a slider 74.

筐体72は、昇降駆動部70に含まれる各要素を収容する。筐体72は、Z軸方向に沿って延びるように形成されている。筐体72のうちの基台48と対向する壁には、開口72aが設けられている。開口72aからは、スライダ74の一部が筐体72の外に突出している。 The housing 72 accommodates each element included in the elevating drive unit 70. The housing 72 is formed so as to extend along the Z-axis direction. An opening 72a is provided in the wall of the housing 72 facing the base 48. A part of the slider 74 projects from the opening 72a to the outside of the housing 72.

プーリ76a(第1プーリ)及びプーリ76b(第2プーリ)は、Z軸方向に沿って並んで配置されている。プーリ76aの高さ位置は、プーリ76bの高さ位置よりも低い。プーリ76a,76bは、例えば、Z軸方向における筐体72内の各端部に配置されている。プーリ76a,76bはそれぞれ、X軸方向に沿う回転軸周りに回転可能に筐体72内に設けられている。ベルト78は、プーリ76a,76bに架け渡されている。ベルト78は、例えばタイミングベルトである。モータ82は、回転トルクを発生させる動力源である。モータ82は、例えばサーボモータである。モータ82は、プーリ76aに接続されており、プーリ76aを回転させる。モータ82によるトルク(駆動力)がプーリ76aに伝達されると、プーリ76a,76bに架け渡されたベルト78がZ軸方向に沿って移動する。 The pulley 76a (first pulley) and the pulley 76b (second pulley) are arranged side by side along the Z-axis direction. The height position of the pulley 76a is lower than the height position of the pulley 76b. The pulleys 76a and 76b are arranged at each end of the housing 72 in the Z-axis direction, for example. The pulleys 76a and 76b are respectively provided in the housing 72 so as to be rotatable around a rotation axis along the X-axis direction. The belt 78 is bridged over the pulleys 76a and 76b. The belt 78 is, for example, a timing belt. The motor 82 is a power source that generates rotational torque. The motor 82 is, for example, a servo motor. The motor 82 is connected to the pulley 76a and rotates the pulley 76a. When the torque (driving force) by the motor 82 is transmitted to the pulleys 76a, the belt 78 spanning the pulleys 76a and 76b moves along the Z-axis direction.

スライダ74は、例えば、図6(a)に示されるように、Y軸方向に延在するように形成されている。スライダ74のY軸方向における基端部(基台48から遠い方の一端部)は、筐体72内においてベルト78に接続されている。スライダ74のY軸方向における先端部(基台48に近い方の一端部)は、開口72aを通して筐体72外に突出している。スライダ74の先端部には、例えば、基台48の一端部の側面が接続されている。このように、スライダ74は、他部材を介して保持アーム20に接続されており、保持アーム20と共に移動する。モータ82によるトルクによってベルト78がZ軸方向に沿って移動することで、ベルト78に接続されているスライダ74(基台48)も、Z軸方向に沿って往復移動する。スライダ74(基台48)がZ軸方向に沿って移動することで、保持アーム20及びワークWもZ軸方向に沿って移動する。 The slider 74 is formed so as to extend in the Y-axis direction, for example, as shown in FIG. 6A. The base end portion (one end portion farther from the base 48) of the slider 74 in the Y-axis direction is connected to the belt 78 in the housing 72. The tip of the slider 74 in the Y-axis direction (one end closer to the base 48) projects out of the housing 72 through the opening 72a. For example, the side surface of one end of the base 48 is connected to the tip of the slider 74. In this way, the slider 74 is connected to the holding arm 20 via another member and moves together with the holding arm 20. As the belt 78 moves along the Z-axis direction due to the torque of the motor 82, the slider 74 (base 48) connected to the belt 78 also reciprocates along the Z-axis direction. When the slider 74 (base 48) moves along the Z-axis direction, the holding arm 20 and the work W also move along the Z-axis direction.

以上の昇降駆動部70では、スライダ74は、プーリ76aとプーリ76bとの間を移動可能に構成されている。スライダ74が、プーリ76a,76bの間の一の位置に配置されている状態において、ベルト78は、Z軸方向に沿って延び且つプーリ76a,76bの間を接続する第1部分78aと、Z軸方向に沿って延び且つプーリ76a,76bの間を接続する第2部分78bとを含む。第1部分78aと第2部分78bとは、Y軸方向に沿って並んで配置されており、互いに略平行である。図5(a)に示される例では、第1部分78aにスライダ74が接続されている。 In the above elevating drive unit 70, the slider 74 is configured to be movable between the pulley 76a and the pulley 76b. In a state where the slider 74 is arranged at one position between the pulleys 76a and 76b, the belt 78 extends along the Z-axis direction and connects between the pulleys 76a and 76b with the first portion 78a and Z. Includes a second portion 78b that extends along the axial direction and connects between the pulleys 76a, 76b. The first portion 78a and the second portion 78b are arranged side by side along the Y-axis direction and are substantially parallel to each other. In the example shown in FIG. 5A, the slider 74 is connected to the first portion 78a.

計測ユニット170は、昇降駆動部70のベルト78の振動に応じた振動信号を取得可能に構成されている。具体的には、計測ユニット170は、昇降駆動部70による保持アーム20の移動(搬送動作)に伴って発生するベルト78の振動に応じた振動信号を取得する。計測ユニット170は、例えば、ベルト78の振動によって発生する音波を取得する。計測ユニット170は、ベルト78に近接した状態で搬送ユニットA3(筐体72の内部)に設けられる。計測ユニット170は、上述の計測ユニット150と同様に、音波を計測する2つのセンサ(センサ92,94)を有してもよい。 The measuring unit 170 is configured to be able to acquire a vibration signal corresponding to the vibration of the belt 78 of the elevating drive unit 70. Specifically, the measurement unit 170 acquires a vibration signal corresponding to the vibration of the belt 78 generated by the movement (conveyance operation) of the holding arm 20 by the elevating drive unit 70. The measuring unit 170 acquires, for example, a sound wave generated by the vibration of the belt 78. The measuring unit 170 is provided in the transport unit A3 (inside the housing 72) in a state close to the belt 78. The measuring unit 170 may have two sensors (sensors 92 and 94) for measuring sound waves, similarly to the measuring unit 150 described above.

計測ユニット170のセンサ92及びセンサ94は、ベルト78を挟むように配置される。一例では、センサ92とセンサ94とは、Y軸方向に沿って並んで配置されている。すなわち、Y軸方向において、センサ92、ベルト78、及びセンサ94が、この順で並んでいる。計測ユニット170(センサ92,94のそれぞれ)は、ベルト78からの音波SW1,SW2に応じた電気信号を制御装置100に出力する。 The sensor 92 and the sensor 94 of the measuring unit 170 are arranged so as to sandwich the belt 78. In one example, the sensor 92 and the sensor 94 are arranged side by side along the Y-axis direction. That is, the sensor 92, the belt 78, and the sensor 94 are arranged in this order in the Y-axis direction. The measuring unit 170 (each of the sensors 92 and 94) outputs an electric signal corresponding to the sound waves SW1 and SW2 from the belt 78 to the control device 100.

計測ユニット170(センサ92,94)は、モータ82が接続されるプーリ76aの近傍に配置されてもよい。計測ユニット170は、例えば、図6(a)に示されるように、スライダ74が接続されていない第2部分78bのうちのプーリ76aの近傍に配置されている。この場合、スライダ74は、計測ユニット170と干渉しないので、プーリ76aと干渉しない位置と、プーリ76bと干渉しない位置との間において移動可能となるように構成される。計測ユニット170は、プーリ76aとの間の距離が、プーリ76aとプーリ76bとの間のZ軸方向における距離の1/3以下となる位置に配置されていてもよい。計測ユニット170の配置位置(固定位置)とプーリ56aとの間の距離は、スライダ74の移動範囲のうちプーリ76aに最も接近する限界位置に位置する場合のスライダ74の上端とプーリ56aとの間の距離と同程度であってもよく、小さくてもよい。 The measuring unit 170 (sensors 92, 94) may be arranged in the vicinity of the pulley 76a to which the motor 82 is connected. The measuring unit 170 is arranged near the pulley 76a of the second portion 78b to which the slider 74 is not connected, for example, as shown in FIG. 6A. In this case, since the slider 74 does not interfere with the measuring unit 170, it is configured to be movable between a position that does not interfere with the pulley 76a and a position that does not interfere with the pulley 76b. The measuring unit 170 may be arranged at a position where the distance between the pulley 76a and the pulley 76a is 1/3 or less of the distance between the pulley 76a and the pulley 76b in the Z-axis direction. The distance between the arrangement position (fixed position) of the measuring unit 170 and the pulley 56a is between the upper end of the slider 74 and the pulley 56a when it is located at the limit position closest to the pulley 76a in the movement range of the slider 74. It may be about the same as the distance of, or it may be small.

以上の構成では、ベルト78の移動経路に沿って、計測ユニット170、プーリ76a、スライダ74、及びプーリ76bが、この順で配置されている。なお、スライダ74のZ軸方向における位置に応じて、ベルト78のうちの第1部分78a及び第2部分78bに該当する領域は変化する。しかしながら、スライダ74が移動範囲内のいずれの位置に配置されていても、計測ユニット170、プーリ76a、スライダ74、及びプーリ76bの上述の配置関係(ベルト78の移動経路に沿った配置関係)は成立する。 In the above configuration, the measurement unit 170, the pulley 76a, the slider 74, and the pulley 76b are arranged in this order along the movement path of the belt 78. The regions of the belt 78 corresponding to the first portion 78a and the second portion 78b change according to the position of the slider 74 in the Z-axis direction. However, regardless of the position of the slider 74 within the movement range, the above-mentioned arrangement relationship (arrangement relationship along the movement path of the belt 78) of the measurement unit 170, the pulley 76a, the slider 74, and the pulley 76b remains. To establish.

以上に例示した昇降駆動部70は、例えば、処理ユニットとのワークWの受け渡しにおいて保持アーム20を移動させる際に用いられる。一例では、搬送ユニットA3は、保持アーム20の基端部が基台48と重ならない位置に配置された状態(保持アーム20の先端部が処理ユニット内に位置する状態)で、昇降駆動部70により、一の高さ位置から当該高さ位置よりも低い位置まで保持アーム20を移動させる。この際、図6(a)に示されるスライダ74は、プーリ76bからプーリ76aに向かって移動する。昇降駆動部70により保持アーム20がZ軸正方向に移動する場合、スライダ74は、プーリ76aからプーリ76bに向かって移動する。 The elevating drive unit 70 illustrated above is used, for example, when moving the holding arm 20 in the transfer of the work W to and from the processing unit. In one example, the transfer unit A3 is in a state where the base end portion of the holding arm 20 is arranged at a position where it does not overlap with the base 48 (a state in which the tip end portion of the holding arm 20 is located in the processing unit), and the elevating drive unit 70 The holding arm 20 is moved from one height position to a position lower than the height position. At this time, the slider 74 shown in FIG. 6A moves from the pulley 76b toward the pulley 76a. When the holding arm 20 is moved in the positive direction of the Z axis by the elevating drive unit 70, the slider 74 moves from the pulley 76a toward the pulley 76b.

<X軸方向>
図6(b)には、X軸方向に保持アーム20を変位させる水平駆動部30が示されている。水平駆動部30は、少なくとも一部分がX軸方向に沿って配置されたベルトを含み、当該ベルトを移動させることでX軸方向において保持アーム20を変位させる。水平駆動部30は、例えば、筐体32と、プーリ36a,36b,36c,36dと、ベルト38と、モータ42と、スライダ34とを有する。
<X-axis direction>
FIG. 6B shows a horizontal drive unit 30 that displaces the holding arm 20 in the X-axis direction. The horizontal drive unit 30 includes a belt at least partially arranged along the X-axis direction, and the holding arm 20 is displaced in the X-axis direction by moving the belt. The horizontal drive unit 30 includes, for example, a housing 32, pulleys 36a, 36b, 36c, 36d, a belt 38, a motor 42, and a slider 34.

筐体32は、水平駆動部30に含まれる各要素を収容する。筐体32は、X軸方向に沿って延びるように形成されている。例えば、筐体32のうちの上壁には開口32aが設けられている。開口32aからは、スライダ34の一部が筐体32の外に突出している。 The housing 32 accommodates each element included in the horizontal drive unit 30. The housing 32 is formed so as to extend along the X-axis direction. For example, an opening 32a is provided in the upper wall of the housing 32. A part of the slider 34 projects from the opening 32a to the outside of the housing 32.

プーリ36a(第1プーリ)及びプーリ36b(第2プーリ)は、X軸方向に沿って並んで配置されている。プーリ36aと液処理ユニットU1(熱処理ユニットU2)との間のX軸方向における距離は、プーリ36bと液処理ユニットU1との距離よりも小さい。プーリ36a,36bは、例えば、X軸方向における筐体32内の各端部に配置されている。プーリ36cとプーリ36dとは、X軸方向においてプーリ36a,36bの間に配置され、Z軸方向においてプーリ36a,36bの下方に配置されている。プーリ36cの高さ位置は、プーリ36dの高さ位置よりも高い。X軸方向において、プーリ36a、プーリ36c、プーリ36d、及びプーリ36bがこの順で配置されている。プーリ36a,36b,36c,36dはそれぞれ、Y軸方向に沿う回転軸周りに回転可能に筐体32内に設けられている。 The pulley 36a (first pulley) and the pulley 36b (second pulley) are arranged side by side along the X-axis direction. The distance between the pulley 36a and the liquid treatment unit U1 (heat treatment unit U2) in the X-axis direction is smaller than the distance between the pulley 36b and the liquid treatment unit U1. The pulleys 36a and 36b are arranged at each end of the housing 32 in the X-axis direction, for example. The pulley 36c and the pulley 36d are arranged between the pulleys 36a and 36b in the X-axis direction and below the pulleys 36a and 36b in the Z-axis direction. The height position of the pulley 36c is higher than the height position of the pulley 36d. In the X-axis direction, the pulley 36a, the pulley 36c, the pulley 36d, and the pulley 36b are arranged in this order. The pulleys 36a, 36b, 36c, and 36d are each rotatably provided in the housing 32 around a rotation axis along the Y-axis direction.

ベルト38は、プーリ36a,36b,36c,36dに架け渡されている。ベルト38は、例えばタイミングベルトである。モータ42は、回転トルクを発生させる動力源である。モータ42は、例えばサーボモータである。モータ42は、プーリ36dに接続されており、プーリ36dを回転させる。モータ42によるトルク(駆動力)がプーリ36dに伝達されると、プーリ36a,36b,36c,36dに架け渡されたベルト38が、プーリ36a,36bの間においてX軸方向に沿って移動する。 The belt 38 is bridged over the pulleys 36a, 36b, 36c, 36d. The belt 38 is, for example, a timing belt. The motor 42 is a power source that generates rotational torque. The motor 42 is, for example, a servo motor. The motor 42 is connected to the pulley 36d and rotates the pulley 36d. When the torque (driving force) by the motor 42 is transmitted to the pulleys 36d, the belt 38 bridged over the pulleys 36a, 36b, 36c, 36d moves along the X-axis direction between the pulleys 36a, 36b.

スライダ34は、例えば、図6(b)に示されるように、Z軸方向に延在するように形成されている。スライダ34のZ軸方向における基端部(下方に位置する一端部)は、筐体32内においてベルト38に接続されている。スライダ34のZ軸方向における先端部(上方に位置する一端部)は、開口32aを通して筐体32外に突出している。スライダ34の先端部には、例えば、保持アーム20の基端部(保持アーム20のうちのワークWを保持しない部分)が接続されている。このように、スライダ34は、保持アーム20に接続されており、保持アーム20と共に移動する。モータ42によるトルクによってベルト38がX軸方向に沿って移動することで、ベルト38に接続されているスライダ34(保持アーム20)も、X軸方向に沿って往復移動する。スライダ34(保持アーム20)がX軸方向に沿って移動することで、保持アーム20に保持されているワークWもX軸方向に沿って移動する。 The slider 34 is formed so as to extend in the Z-axis direction, for example, as shown in FIG. 6 (b). The base end portion (one end portion located below) of the slider 34 in the Z-axis direction is connected to the belt 38 in the housing 32. The tip end portion (one end portion located above) of the slider 34 in the Z-axis direction projects to the outside of the housing 32 through the opening 32a. For example, a base end portion of the holding arm 20 (a portion of the holding arm 20 that does not hold the work W) is connected to the tip end portion of the slider 34. In this way, the slider 34 is connected to the holding arm 20 and moves together with the holding arm 20. As the belt 38 moves along the X-axis direction due to the torque generated by the motor 42, the slider 34 (holding arm 20) connected to the belt 38 also reciprocates along the X-axis direction. When the slider 34 (holding arm 20) moves along the X-axis direction, the work W held by the holding arm 20 also moves along the X-axis direction.

以上の水平駆動部30では、スライダ34は、プーリ36aとプーリ36bとの間を移動可能に構成されている。スライダ34が、プーリ36a,36bの間の一の位置に配置されている状態において、ベルト38は、X軸方向に沿って延び且つプーリ36a,36bの間を接続する第1部分38aと、プーリ36a,36dの間を接続する第2部分38bとを含む。Y軸方向から見て、第2部分38bは、第1部分38aに対して傾斜している。図6(b)に示される例では、第1部分38aにスライダ34が接続されている。 In the above horizontal drive unit 30, the slider 34 is configured to be movable between the pulley 36a and the pulley 36b. In a state where the slider 34 is arranged at one position between the pulleys 36a and 36b, the belt 38 extends along the X-axis direction and connects between the pulleys 36a and 36b with the first portion 38a and the pulley. It includes a second portion 38b connecting between 36a and 36d. The second portion 38b is inclined with respect to the first portion 38a when viewed from the Y-axis direction. In the example shown in FIG. 6B, the slider 34 is connected to the first portion 38a.

計測ユニット130は、水平駆動部30のベルト38の振動に応じた振動信号を取得可能に構成されている。具体的には、計測ユニット130は、水平駆動部30による保持アーム20の移動(搬送動作)に伴って発生するベルト38の振動に応じた振動信号を取得する。計測ユニット130は、例えば、ベルト38の振動によって発生する音波を取得する。計測ユニット130は、ベルト38に近接した状態で搬送ユニットA3(筐体32の内部)に設けられる。計測ユニット130は、上述の計測ユニット150と同様に、音波を計測する2つのセンサ(センサ92,94)を有してもよい。 The measuring unit 130 is configured to be able to acquire a vibration signal corresponding to the vibration of the belt 38 of the horizontal drive unit 30. Specifically, the measurement unit 130 acquires a vibration signal corresponding to the vibration of the belt 38 generated by the movement (conveyance operation) of the holding arm 20 by the horizontal drive unit 30. The measuring unit 130 acquires, for example, a sound wave generated by the vibration of the belt 38. The measuring unit 130 is provided in the transport unit A3 (inside the housing 32) in a state close to the belt 38. The measuring unit 130 may have two sensors (sensors 92 and 94) for measuring sound waves, similarly to the measuring unit 150 described above.

計測ユニット130のセンサ92及びセンサ94は、ベルト38を挟むように配置される。一例では、センサ92とセンサ94とは、ベルト38の第2部分38bに直交する方向に沿って並んで配置されている。すなわち、第2部分38bに直交する方向において、センサ92、ベルト38、及びセンサ94が、この順で並んでいる。計測ユニット130(センサ92,94のそれぞれ)は、ベルト38からの音波SW1,SW2に応じた電気信号を制御装置100に出力する。 The sensor 92 and the sensor 94 of the measuring unit 130 are arranged so as to sandwich the belt 38. In one example, the sensor 92 and the sensor 94 are arranged side by side along a direction orthogonal to the second portion 38b of the belt 38. That is, the sensor 92, the belt 38, and the sensor 94 are arranged in this order in the direction orthogonal to the second portion 38b. The measuring unit 130 (each of the sensors 92 and 94) outputs an electric signal corresponding to the sound waves SW1 and SW2 from the belt 38 to the control device 100.

計測ユニット130(センサ92,94)は、プーリ36aとプーリ36dとの間に配置されてもよい。計測ユニット130は、例えば、図6(b)に示されるように、スライダ34が接続されていない第2部分38bのプーリ36aとプーリ36dとの間の略中央(略中央のプーリ36a寄りに)に配置されている。この場合、スライダ34は、計測ユニット130と干渉しないので、プーリ36aと干渉しない位置と、プーリ36bと干渉しない位置との間において移動可能となるように構成される。 The measuring unit 130 (sensors 92, 94) may be arranged between the pulley 36a and the pulley 36d. As shown in FIG. 6B, for example, the measuring unit 130 is located substantially at the center (closer to the pulley 36a at the center) between the pulley 36a and the pulley 36d of the second portion 38b to which the slider 34 is not connected. Is located in. In this case, since the slider 34 does not interfere with the measuring unit 130, it is configured to be movable between a position that does not interfere with the pulley 36a and a position that does not interfere with the pulley 36b.

以上の構成では、ベルト38の移動経路に沿って、計測ユニット130、プーリ36a、スライダ34、及びプーリ36b,36c,36dが、この順で配置されている。なお、スライダ34のX軸方向における位置に応じて、ベルト38のうちの第1部分38a及び第2部分38bに該当する領域は変化する。しかしながら、スライダ34が移動範囲内のいずれの位置に配置されていても、計測ユニット130、プーリ36a、スライダ34、及びプーリ36b,36c,36dの上述の配置関係(ベルト38の移動経路に沿った配置関係)は成立する。 In the above configuration, the measuring unit 130, the pulley 36a, the slider 34, and the pulleys 36b, 36c, 36d are arranged in this order along the moving path of the belt 38. The regions of the belt 38 corresponding to the first portion 38a and the second portion 38b change according to the position of the slider 34 in the X-axis direction. However, regardless of the position of the slider 34 in the movement range, the above-mentioned arrangement relationship (along the movement path of the belt 38) of the measurement unit 130, the pulley 36a, the slider 34, and the pulleys 36b, 36c, 36d Arrangement relationship) holds.

以上に例示した水平駆動部30は、例えば、処理ユニットに対してワークWを搬入出するために保持アーム20を移動する際に用いられる。一例では、搬送ユニットA3は、搬入出先の処理ユニットとX軸方向において対向した状態で、保持アーム20の基端部が基台48と重なる位置から、保持アーム20の基端部が基台48と重ならない位置まで保持アーム20を移動させる。この際、図6(b)に示されるスライダ34は、プーリ36bからプーリ36aに向かって移動する。水平駆動部30により保持アーム20がX軸負方向に移動する場合、スライダ34は、プーリ36aからプーリ36bに向かって移動する。 The horizontal drive unit 30 illustrated above is used, for example, when the holding arm 20 is moved to carry in / out the work W to / from the processing unit. In one example, the transport unit A3 faces the processing unit at the loading / unloading destination in the X-axis direction, and the base end of the holding arm 20 overlaps the base 48 from the position where the base end of the holding arm 20 overlaps the base 48. The holding arm 20 is moved to a position where it does not overlap with. At this time, the slider 34 shown in FIG. 6B moves from the pulley 36b toward the pulley 36a. When the holding arm 20 is moved in the negative direction of the X-axis by the horizontal drive unit 30, the slider 34 moves from the pulley 36a toward the pulley 36b.

(制御装置)
続いて、図7及び図8を参照して制御装置100の一例について説明する。制御装置100は、塗布・現像装置2を制御する。制御装置100は、少なくとも液処理ユニットU1、熱処理ユニットU2、搬送ユニットA3、及び計測ユニット130,150,170を制御する。制御装置100は、機能上の構成(以下、「機能モジュール」という。)として、例えば、処理制御部202と、検査制御部204とを有する。検査制御部204は、信号取得部212と、データ抽出部214と、振動数算出部216と、記憶部218と、状態判定部220と、出力部222とを有する。各機能モジュールが実行する処理は、制御装置100が実行する処理に相当する。
(Control device)
Subsequently, an example of the control device 100 will be described with reference to FIGS. 7 and 8. The control device 100 controls the coating / developing device 2. The control device 100 controls at least the liquid treatment unit U1, the heat treatment unit U2, the transfer unit A3, and the measurement units 130, 150, 170. The control device 100 has, for example, a processing control unit 202 and an inspection control unit 204 as a functional configuration (hereinafter, referred to as a “functional module”). The inspection control unit 204 includes a signal acquisition unit 212, a data extraction unit 214, a frequency calculation unit 216, a storage unit 218, a state determination unit 220, and an output unit 222. The process executed by each functional module corresponds to the process executed by the control device 100.

処理制御部202は、複数のワークWに対するプロセス処理を実行する。プロセス処理とは、所定期間において、塗布・現像装置2において実行される一連の処理(例えば、下層膜の形成から現像処理までの一連の処理)を複数のワークWに対して順に施すことである。プロセス処理は、液処理ユニットU1(熱処理ユニットU2)等の処理ユニットにより複数のワークWに対して所定の処理(例えば、液処理又は熱処理)を施す第1処理を含む。また、プロセス処理は、液処理ユニットU1等の一の処理ユニットに対して、搬送ユニットA3により複数のワークWの搬入出をそれぞれ行う第2処理を含む。 The process control unit 202 executes process processing for a plurality of work Ws. The process process is to sequentially apply a series of processes (for example, a series of processes from the formation of the underlayer film to the developing process) executed in the coating / developing device 2 to a plurality of work Ws in a predetermined period. .. The process treatment includes a first treatment in which a predetermined treatment (for example, liquid treatment or heat treatment) is performed on a plurality of works W by a treatment unit such as a liquid treatment unit U1 (heat treatment unit U2). In addition, the process process includes a second process in which a plurality of work Ws are carried in and out of one processing unit such as the liquid processing unit U1 by the transfer unit A3.

第2処理は、X軸方向に沿って水平駆動部30により保持アーム20を変位させる変位処理と、Y軸方向に沿って水平駆動部50により保持アーム20を変位させる変位処理と、Z軸方向に沿って昇降駆動部70により保持アーム20を変位させる変位処理とを含む。これらの3つの変位処理のそれぞれには、各軸の正方向に保持アーム20を変位させる変位処理と、各軸の負方向に保持アーム20を変位させる変位処理とが含まれる。 The second process includes a displacement process in which the holding arm 20 is displaced by the horizontal drive unit 30 along the X-axis direction, a displacement process in which the holding arm 20 is displaced by the horizontal drive unit 50 along the Y-axis direction, and a Z-axis direction. Includes a displacement process in which the holding arm 20 is displaced by the elevating drive unit 70 along the line. Each of these three displacement processes includes a displacement process that displaces the holding arm 20 in the positive direction of each axis and a displacement process that displaces the holding arm 20 in the negative direction of each axis.

信号取得部212は、計測ユニット130,150,170それぞれから、ベルトの振動に応じた振動信号を取得する。例えば、信号取得部212は、各計測ユニットのセンサ92,94から音波SW1,SW2に応じた2つの電気信号の差分を算出することで、ベルトの振動に応じた振動信号を取得する。信号取得部212は、プロセス処理の実行期間において振動信号を取得する。信号取得部212は、例えば、塗布・現像装置2の稼働期間において、塗布・現像装置2による一連の処理(装置の稼働)を停止させることなく振動信号を取得する。一例では、信号取得部212は、各軸の変位処理が終了した後に当該軸において保持アーム20が停止した状態で、当該変位処理に対応する駆動部のベルトから振動信号(当該変位処理での変位によって発生するベルトの振動に応じた振動信号)を取得する。 The signal acquisition unit 212 acquires vibration signals corresponding to the vibration of the belt from the measurement units 130, 150, and 170, respectively. For example, the signal acquisition unit 212 acquires a vibration signal corresponding to the vibration of the belt by calculating the difference between the two electric signals corresponding to the sound waves SW1 and SW2 from the sensors 92 and 94 of each measurement unit. The signal acquisition unit 212 acquires a vibration signal during the execution period of the process process. The signal acquisition unit 212 acquires a vibration signal without stopping a series of processes (operation of the device) by the coating / developing device 2, for example, during the operating period of the coating / developing device 2. In one example, the signal acquisition unit 212 receives a vibration signal (displacement in the displacement process) from the belt of the drive unit corresponding to the displacement process in a state where the holding arm 20 is stopped on the axis after the displacement process of each axis is completed. (Vibration signal corresponding to the vibration of the belt generated by) is acquired.

データ抽出部214は、信号取得部212により取得された振動信号の中からベルトの検査のための使用するデータ(以下、「解析データ」という。)を抽出する。例えば、データ抽出部214は、振動信号の中から、変位処理が終了してから(保持アーム20が停止してから)第1所定時間が経過した時点から、当該第1所定時間から更に第2所定時間が経過した時点までの間のデータを抽出する。第1所定時間及び第2所定時間は、予め設定されており、変位処理の終了後に、ベルトの振動に応じた音波が計測できる程度に設定されている。例えば、第1所定時間は、数十ミリ秒〜数百ミリ秒程度に設定されており、第2所定時間は、数ミリ秒〜数十ミリ秒程度に設定されている。 The data extraction unit 214 extracts data used for belt inspection (hereinafter, referred to as “analysis data”) from the vibration signals acquired by the signal acquisition unit 212. For example, the data extraction unit 214 further seconds from the first predetermined time from the time when the first predetermined time elapses from the vibration signal after the displacement processing is completed (after the holding arm 20 is stopped). The data up to the time when the predetermined time has passed is extracted. The first predetermined time and the second predetermined time are set in advance so that the sound wave corresponding to the vibration of the belt can be measured after the displacement processing is completed. For example, the first predetermined time is set to about several tens of milliseconds to several hundreds of milliseconds, and the second predetermined time is set to about several milliseconds to several tens of milliseconds.

振動数算出部216は、データ抽出部214により抽出された解析データに基づいて、ベルトの振動数を算出する。例えば、振動数算出部216は、解析データに対して高速フーリエ変換(Fast Fourier Transform)を行うことで周波数スペクトルを算出し、当該周波数スペクトルの中から最も振幅が大きい周波数をベルトの振動数として検出(算出)する。 The frequency calculation unit 216 calculates the frequency of the belt based on the analysis data extracted by the data extraction unit 214. For example, the frequency calculation unit 216 calculates a frequency spectrum by performing a fast Fourier transform on the analysis data, and detects the frequency having the largest amplitude from the frequency spectrum as the frequency of the belt. (calculate.

記憶部218は、軸ごとに、振動数算出部216により算出されたベルトの振動の周波数(振動数)を記憶する。記憶部218は、所定期間において、軸ごとに、振動数算出部216により繰り返し算出されたベルトの振動数を記憶する。所定期間は、予め定められており、例えば、1日、1週間、1月、又は数か月であってもよく、塗布・現像装置2の稼働開始からメンテナンス等のための稼働停止までの期間であってもよい。 The storage unit 218 stores the frequency (frequency) of the belt vibration calculated by the frequency calculation unit 216 for each axis. The storage unit 218 stores the frequency of the belt repeatedly calculated by the frequency calculation unit 216 for each axis in a predetermined period. The predetermined period is predetermined and may be, for example, one day, one week, one month, or several months, and is a period from the start of operation of the coating / developing device 2 to the stop of operation for maintenance or the like. It may be.

状態判定部220は、軸ごとに、信号取得部212により取得された振動信号に基づいてベルトの状態を判定する。状態判定部220は、例えば、軸ごとに、記憶部218により記憶されているベルトの周波数の算出結果に基づいて、ベルトの状態が異常であるか否かを判定する。本開示において、ベルトの状態が異常であることには、当該ベルトが既に故障している場合だけでなく、故障状態に近づいている場合(すなわち、そのまま継続して使用すると動作不能となる可能性が高い場合)も含まれる。 The state determination unit 220 determines the state of the belt for each axis based on the vibration signal acquired by the signal acquisition unit 212. The state determination unit 220 determines, for example, whether or not the belt state is abnormal based on the calculation result of the belt frequency stored by the storage unit 218 for each axis. In the present disclosure, the abnormal state of the belt means that the belt may become inoperable not only when the belt has already failed but also when the belt is approaching the failed state (that is, if it is used continuously as it is). If is high) is also included.

出力部222は、状態判定部220による軸ごとの判定結果に応じて、当該軸でのベルトの状態が正常ではないことを示す信号(以下、「異常信号」という。)を出力する。例えば、出力部222は、状態判定部220による判定結果により、ベルトの状態が異常であることが示される場合に、オペレータ等に報知するためのモニタに異常信号を出力する。あるいは、出力部222は、状態判定部220による判定結果により、ベルトの状態が異常であることが示される場合に、塗布・現像装置2による一連の処理(プロセス処理)を停止させるために異常信号を処理制御部202に出力する。 The output unit 222 outputs a signal (hereinafter, referred to as “abnormal signal”) indicating that the state of the belt on the shaft is not normal according to the determination result for each axis by the state determination unit 220. For example, the output unit 222 outputs an abnormality signal to a monitor for notifying the operator or the like when the determination result by the state determination unit 220 indicates that the belt state is abnormal. Alternatively, the output unit 222 receives an abnormality signal in order to stop a series of processes (process processes) by the coating / developing device 2 when the determination result by the state determination unit 220 indicates that the state of the belt is abnormal. Is output to the processing control unit 202.

制御装置100は、一つ又は複数の制御用コンピュータにより構成される。例えば制御装置100は、図8に示される回路240を有する。回路240は、一つ又は複数のプロセッサ242と、メモリ244と、ストレージ246と、入出力ポート248と、タイマ252とを有する。ストレージ246は、例えばハードディスク等、コンピュータによって読み取り可能な記憶媒体を有する。記憶媒体は、後述する基板処理方法を制御装置100に実行させるためのプログラムを記憶している。記憶媒体は、不揮発性の半導体メモリ、磁気ディスク及び光ディスク等の取り出し可能な媒体であってもよい。メモリ244は、ストレージ246の記憶媒体からロードしたプログラム及びプロセッサ242による演算結果を一時的に記憶する。 The control device 100 is composed of one or a plurality of control computers. For example, the control device 100 has a circuit 240 shown in FIG. The circuit 240 has one or more processors 242, a memory 244, a storage 246, an input / output port 248, and a timer 252. The storage 246 has a computer-readable storage medium, such as a hard disk. The storage medium stores a program for causing the control device 100 to execute the substrate processing method described later. The storage medium may be a removable medium such as a non-volatile semiconductor memory, a magnetic disk, or an optical disk. The memory 244 temporarily stores the program loaded from the storage medium of the storage 246 and the calculation result by the processor 242.

プロセッサ242は、メモリ244と協働して上記プログラムを実行する。入出力ポート248は、プロセッサ242からの指令に従って、液処理ユニットU1、搬送ユニットA3、及び計測ユニット130,150,170等との間で電気信号の入出力を行う。タイマ252は、例えば一定周期の基準パルスをカウントすることで経過時間を計測する。なお、制御装置100のハードウェア構成は、専用の論理回路又はこれを集積したASIC(Application Specific Integrated Circuit)により構成されていてもよい。 The processor 242 executes the above program in cooperation with the memory 244. The input / output port 248 inputs / outputs an electric signal to / from the liquid processing unit U1, the transport unit A3, the measurement units 130, 150, 170, etc., in accordance with a command from the processor 242. The timer 252 measures the elapsed time, for example, by counting a reference pulse having a fixed cycle. The hardware configuration of the control device 100 may be configured by a dedicated logic circuit or an ASIC (Application Specific Integrated Circuit) in which the logic circuit is integrated.

[基板処理方法]
続いて、図9を参照して、基板処理方法の一例として塗布・現像装置2において実行される塗布現像処理について説明する。図9は、露光処理を含む塗布現像処理の一例を示すフローチャートであり、1つのワークWに対する塗布現像処理の手順を示している。まず制御装置100の処理制御部202は、キャリアC内のワークWを棚ユニットU10に搬送するように搬送ユニットA1を制御し、このワークWを処理モジュール11用のセルに配置するように搬送ユニットA7を制御する。
[Board processing method]
Subsequently, with reference to FIG. 9, the coating / developing process executed in the coating / developing apparatus 2 will be described as an example of the substrate processing method. FIG. 9 is a flowchart showing an example of the coating and developing process including the exposure process, and shows the procedure of the coating and developing process for one work W. First, the processing control unit 202 of the control device 100 controls the transport unit A1 so as to transport the work W in the carrier C to the shelf unit U10, and the transport unit so as to arrange the work W in the cell for the processing module 11. Control A7.

次に、処理制御部202は、ワークWの表面Wa上に下層膜を形成するように処理モジュール11を制御する(ステップS01)。ステップS01において、例えば、処理制御部202は、棚ユニットU10から液処理ユニットU1にワークWを搬送するように搬送ユニットA3を制御する。そして、処理制御部202は、ワークWの表面Wa上に下層膜形成用の処理液の塗布膜が形成されるように液処理ユニットU1を制御する。処理制御部202は、塗布膜が形成されたワークWを熱処理ユニットU2に搬送するように搬送ユニットA3を制御する。そして、処理制御部202は、ワークWの表面Wa上に下層膜が形成されるように熱処理ユニットU2を制御する。その後処理制御部202は、下層膜が形成された後のワークWを棚ユニットU10に戻すように搬送ユニットA3を制御し、このワークWを処理モジュール12用のセルに配置するように搬送ユニットA7を制御する。 Next, the processing control unit 202 controls the processing module 11 so as to form an underlayer film on the surface Wa of the work W (step S01). In step S01, for example, the processing control unit 202 controls the transport unit A3 so as to transport the work W from the shelf unit U10 to the liquid processing unit U1. Then, the processing control unit 202 controls the liquid treatment unit U1 so that a coating film of the treatment liquid for forming the lower layer film is formed on the surface Wa of the work W. The processing control unit 202 controls the transport unit A3 so as to transport the work W on which the coating film is formed to the heat treatment unit U2. Then, the processing control unit 202 controls the heat treatment unit U2 so that the underlayer film is formed on the surface Wa of the work W. After that, the processing control unit 202 controls the transport unit A3 so as to return the work W after the lower layer film is formed to the shelf unit U10, and the transport unit A7 so as to arrange the work W in the cell for the processing module 12. To control.

次に、処理制御部202は、下層膜が形成された後のワークWの表面Wa上にレジスト膜を形成するように処理モジュール12を制御する(ステップS02)。ステップS02において、例えば、処理制御部202は、棚ユニットU10のワークWを処理モジュール12内のいずれかの液処理ユニットU1に搬送するように搬送ユニットA3を制御する。そして、処理制御部202は、ワークWの表面Wa上にレジストの塗布膜が形成されるように液処理ユニットU1を制御する。処理制御部202は、レジストの塗布膜が形成されたワークWを熱処理ユニットU2に搬送するように搬送ユニットA3を制御する。そして、処理制御部202は、ワークWの表面Wa上にレジスト膜が形成されるように熱処理ユニットU2を制御する。その後処理制御部202は、レジスト膜が形成された後のワークWを棚ユニットU10に戻すように搬送ユニットA3を制御し、このワークWを処理モジュール13用のセルに配置するように搬送ユニットA7を制御する。 Next, the processing control unit 202 controls the processing module 12 so as to form a resist film on the surface Wa of the work W after the lower layer film is formed (step S02). In step S02, for example, the processing control unit 202 controls the transport unit A3 so as to transport the work W of the shelf unit U10 to any of the liquid processing units U1 in the processing module 12. Then, the processing control unit 202 controls the liquid processing unit U1 so that a coating film of the resist is formed on the surface Wa of the work W. The processing control unit 202 controls the transport unit A3 so as to transport the work W on which the resist coating film is formed to the heat treatment unit U2. Then, the processing control unit 202 controls the heat treatment unit U2 so that a resist film is formed on the surface Wa of the work W. After that, the processing control unit 202 controls the transport unit A3 so as to return the work W after the resist film is formed to the shelf unit U10, and the transport unit A7 so as to arrange the work W in the cell for the processing module 13. To control.

次に、処理制御部202は、レジスト膜が形成された後のワークWの表面Wa上に上層膜を形成するように処理モジュール13を制御する(ステップS03)。ステップS03において、例えば、処理制御部202は、液処理ユニットU1にワークWを搬送するように搬送ユニットA3を制御する。そして、処理制御部202は、ワークWの表面Wa上に上層膜形成用の処理液の塗布膜が形成されるように液処理ユニットU1を制御する。処理制御部202は、塗布膜が形成されたワークWを熱処理ユニットU2に搬送するように搬送ユニットA3を制御する。そして、処理制御部202は、ワークWの表面Wa上に上層膜が形成されるように熱処理ユニットU2を制御する。その後処理制御部202は、上層膜が形成された後のワークWを棚ユニットU11に搬送するように搬送ユニットA3を制御する。 Next, the processing control unit 202 controls the processing module 13 so as to form an upper layer film on the surface Wa of the work W after the resist film is formed (step S03). In step S03, for example, the processing control unit 202 controls the transport unit A3 so as to transport the work W to the liquid processing unit U1. Then, the processing control unit 202 controls the liquid treatment unit U1 so that a coating film of the treatment liquid for forming the upper layer film is formed on the surface Wa of the work W. The processing control unit 202 controls the transport unit A3 so as to transport the work W on which the coating film is formed to the heat treatment unit U2. Then, the processing control unit 202 controls the heat treatment unit U2 so that the upper layer film is formed on the surface Wa of the work W. After that, the processing control unit 202 controls the transport unit A3 so as to transport the work W after the upper layer film is formed to the shelf unit U11.

次に処理制御部202は、棚ユニットU11のワークWを露光装置3に送り出すように搬送ユニットA8を制御する。そして、制御装置100とは別の制御装置が、レジスト膜が形成されたワークWに対して露光処理を施すように露光装置3を制御する(ステップS04)。その後処理制御部202は、露光処理が施されたワークWを露光装置3から受け入れて、棚ユニットU11における処理モジュール14用のセルに配置するように搬送ユニットA8を制御する。 Next, the processing control unit 202 controls the transport unit A8 so as to send the work W of the shelf unit U11 to the exposure apparatus 3. Then, a control device different from the control device 100 controls the exposure device 3 so as to perform the exposure process on the work W on which the resist film is formed (step S04). After that, the processing control unit 202 controls the transport unit A8 so as to receive the exposed work W from the exposure apparatus 3 and arrange it in the cell for the processing module 14 in the shelf unit U11.

次に処理制御部202は、露光処理が施された後のワークWに現像処理を施すように処理モジュール14を制御する(ステップS05)。ステップS05において、例えば、処理制御部202は、熱処理ユニットU2にワークWを搬送するように搬送ユニットA3を制御した後に、このワークWのレジスト膜に現像前の熱処理を施すように熱処理ユニットU2を制御する。そして、処理制御部202は、現像前の加熱処理が施されたワークWを液処理ユニットU1に搬送するように搬送ユニットA3を制御した後に、このワークWのレジスト膜に現像処理を施すように液処理ユニットU1を制御する。 Next, the processing control unit 202 controls the processing module 14 so that the work W after the exposure processing is subjected to the development processing (step S05). In step S05, for example, the processing control unit 202 controls the transfer unit A3 so as to transfer the work W to the heat treatment unit U2, and then causes the heat treatment unit U2 to perform the heat treatment before development on the resist film of the work W. Control. Then, the processing control unit 202 controls the transport unit A3 so as to transport the work W that has been heat-treated before development to the liquid treatment unit U1, and then develops the resist film of the work W. Controls the liquid processing unit U1.

その後、処理制御部202は、現像処理が施されたワークWを熱処理ユニットU2に搬送するように搬送ユニットA3を制御した後に、このワークWのレジスト膜に現像後の熱処理を施すように熱処理ユニットU2を制御する。そして、処理制御部202は、ワークWを棚ユニットU10に戻すように搬送ユニットA3を制御し、このワークWをキャリアC内に戻すように搬送ユニットA7及び搬送ユニットA1を制御する。以上で1つのワークWについての塗布現像処理が完了する。 After that, the processing control unit 202 controls the transport unit A3 so as to transport the developed work W to the heat treatment unit U2, and then the heat treatment unit so as to perform the heat treatment after development on the resist film of the work W. Control U2. Then, the processing control unit 202 controls the transport unit A3 so as to return the work W to the shelf unit U10, and controls the transport unit A7 and the transport unit A1 so as to return the work W to the carrier C. This completes the coating and developing process for one work W.

以上に例示した基板処理方法において、制御装置100(検査制御部204)は、塗布・現像装置2による一連のプロセス処理における、複数のワークWそれぞれの搬送動作(変位処理)と並行して、各駆動部のベルトの状態を検査する。このワークWの各搬送動作には、ワークWを保持していない状態の保持アーム20の変位処理と、ワークWを保持している状態の保持アーム20の変位処理とが含まれる。制御装置100は、X軸方向における保持アーム20の変位処理後に、計測ユニット130を用いて、水平駆動部30のベルト38の状態を検査する。制御装置100は、Y軸方向における保持アーム20の変位処理後に、計測ユニット150を用いて、水平駆動部50のベルト58の状態を検査する。制御装置100は、計測ユニット170を用いて、Z軸方向における保持アーム20の変位処理後に、昇降駆動部70のベルト78の状態を検査する。 In the substrate processing method exemplified above, the control device 100 (inspection control unit 204) is in parallel with the transfer operation (displacement processing) of each of the plurality of workpieces W in the series of process processing by the coating / developing device 2. Inspect the condition of the drive belt. Each transfer operation of the work W includes a displacement process of the holding arm 20 in a state where the work W is not held and a displacement process of the holding arm 20 in a state where the work W is held. After the displacement process of the holding arm 20 in the X-axis direction, the control device 100 uses the measuring unit 130 to inspect the state of the belt 38 of the horizontal drive unit 30. After the displacement process of the holding arm 20 in the Y-axis direction, the control device 100 uses the measuring unit 150 to inspect the state of the belt 58 of the horizontal drive unit 50. The control device 100 uses the measuring unit 170 to inspect the state of the belt 78 of the elevating drive unit 70 after the displacement process of the holding arm 20 in the Z-axis direction.

図10には、図9に示されるステップS02のレジスト膜の形成処理において実行される保持アーム20の搬送動作(変位処理)と、当該搬送動作に伴って実行されるベルトの検査とのタイミングチャートの一例が部分的に示されている。ステップS02の一部において、例えば、制御装置100の処理制御部202は、液処理ユニットU1からのワークWの搬出動作と、液処理ユニットU1から熱処理ユニットU2へのワークWの移動動作と、熱処理ユニットU2へのワークWの搬入動作とを順に実行する。 FIG. 10 shows a timing chart of the transfer operation (displacement process) of the holding arm 20 executed in the resist film forming process of step S02 shown in FIG. 9 and the belt inspection executed in association with the transfer operation. An example is shown partially. In a part of step S02, for example, the processing control unit 202 of the control device 100 carries out the work W from the liquid processing unit U1, moves the work W from the liquid processing unit U1 to the heat treatment unit U2, and heat-treats. The operation of carrying the work W into the unit U2 is executed in order.

液処理ユニットU1からのワークWの搬出動作では、まず、「X軸出し」動作が行われる。このX軸出し動作では、X軸方向において当該液処理ユニットU1と対向する位置(Y軸方向において重なる位置)に配置され且つ保持アーム20がワークWを保持していない状態で、制御装置100の処理制御部202が、X軸方向において保持アーム20を正方向に変位させる変位処理(第1変位処理)を水平駆動部30により実行する。 In the operation of carrying out the work W from the liquid processing unit U1, first, the "X-axis alignment" operation is performed. In this X-axis alignment operation, the control device 100 is arranged at a position facing the liquid processing unit U1 in the X-axis direction (a position overlapping in the Y-axis direction) and the holding arm 20 does not hold the work W. The processing control unit 202 executes a displacement process (first displacement process) for displaced the holding arm 20 in the positive direction in the X-axis direction by the horizontal drive unit 30.

そして、「Z軸up」動作が行われる。このZ軸up動作では、処理制御部202が、液処理ユニットU1からワークWを受け取るために、Z軸方向(第2方向)において保持アーム20を正方向に変位させる変位処理(第2変位処理)を昇降駆動部70(第2駆動部)により実行する。この昇降駆動部70による変位処理の実行期間の少なくとも一部と重複する期間において、「X軸検査」が行われる。このX軸検査では、検査制御部204が、一つの前のX軸正方向への変位処理(X軸出し動作)での変位によって発生する水平駆動部30のベルト38の振動に応じた振動信号を取得し、取得した当該振動信号に基づいてベルト38の検査(例えば、振動数の算出及び記憶)を行う。その後、「X軸引き」動作が行われる。このX軸引き動作では、処理制御部202が、ワークWを保持している保持アーム20を、X軸負方向に変位させる変位処理を実行する。 Then, the "Z-axis up" operation is performed. In this Z-axis up operation, the processing control unit 202 displaces the holding arm 20 in the positive direction in the Z-axis direction (second direction) in order to receive the work W from the liquid processing unit U1 (second displacement processing). ) Is executed by the elevating drive unit 70 (second drive unit). The "X-axis inspection" is performed during a period that overlaps with at least a part of the execution period of the displacement process by the elevating drive unit 70. In this X-axis inspection, the inspection control unit 204 vibrates in response to the vibration of the belt 38 of the horizontal drive unit 30 generated by the displacement in the previous displacement process in the positive direction of the X-axis (X-axis alignment operation). Is acquired, and the belt 38 is inspected (for example, calculation and storage of the frequency) based on the acquired vibration signal. After that, the "X-axis pull" operation is performed. In this X-axis pulling operation, the processing control unit 202 executes a displacement process that displaces the holding arm 20 holding the work W in the negative direction of the X-axis.

次に、液処理ユニットU1から熱処理ユニットU2へのワークWの移動動作では、「Y軸動作」が行われる。このY軸動作では、処理制御部202が、保持アーム20をY軸負方向に変位させる変位処理(第1変位処理)を水平駆動部50により実行する。 Next, in the movement operation of the work W from the liquid treatment unit U1 to the heat treatment unit U2, a "Y-axis operation" is performed. In this Y-axis operation, the processing control unit 202 executes a displacement process (first displacement process) that displaces the holding arm 20 in the negative direction of the Y-axis by the horizontal drive unit 50.

次に、熱処理ユニットU2へのワークWの搬入動作では、まず、「X軸出し」動作が行われる。このX軸出し動作では、処理制御部202が、ワークWを保持している保持アーム20をX軸方向(第2方向)において正方向に変位させる変位処理(第2変位処理)を水平駆動部30(第2駆動部)により実行する。この水平駆動部30による変位処理の実行期間の少なくとも一部と重複する期間において、「Y軸検査」が行われる。このY軸検査では、検査制御部204が、一つの前のY軸負方向への変位処理(Y軸動作)での変位によって発生する水平駆動部50のベルト58の振動に応じた振動信号を取得し、取得した当該振動信号に基づいてベルト58の検査を行う。 Next, in the operation of carrying the work W into the heat treatment unit U2, first, the "X-axis alignment" operation is performed. In this X-axis alignment operation, the processing control unit 202 performs a displacement process (second displacement process) in which the holding arm 20 holding the work W is displaced in the positive direction in the X-axis direction (second direction) by the horizontal drive unit. It is executed by 30 (second drive unit). The "Y-axis inspection" is performed during a period that overlaps with at least a part of the execution period of the displacement process by the horizontal drive unit 30. In this Y-axis inspection, the inspection control unit 204 transmits a vibration signal corresponding to the vibration of the belt 58 of the horizontal drive unit 50 generated by the displacement in the previous displacement process in the negative direction of the Y-axis (Y-axis operation). The belt 58 is inspected based on the acquired vibration signal.

そして、「Z軸down」動作が行われる。このZ軸down動作では、処理制御部202が、保持アーム20に保持されているワークWを熱処理ユニットU2へ引き渡すために、Z軸方向において保持アーム20を負方向に変位させる変位処理(第2変位処理)を昇降駆動部70により実行する。この昇降駆動部70による変位処理の実行期間の少なくとも一部と重複する期間において、「X軸検査」が行われる。このX軸検査では、検査制御部204が、一つの前のX軸正方向への変位処理(ワークWを保持したX軸正方向への変位処理)での変位によって発生する水平駆動部30のベルト38の振動に応じた振動信号を取得し、取得した当該振動信号に基づいてベルト38の検査(例えば、振動数の算出及び記憶)を行う。 Then, the "Z-axis down" operation is performed. In this Z-axis down operation, the processing control unit 202 displaces the holding arm 20 in the negative direction in the Z-axis direction in order to deliver the work W held by the holding arm 20 to the heat treatment unit U2 (second). Displacement processing) is executed by the elevating drive unit 70. The "X-axis inspection" is performed during a period that overlaps with at least a part of the execution period of the displacement process by the elevating drive unit 70. In this X-axis inspection, the inspection control unit 204 of the horizontal drive unit 30 generated by the displacement in the previous X-axis positive direction displacement process (X-axis positive direction displacement process holding the work W). A vibration signal corresponding to the vibration of the belt 38 is acquired, and the belt 38 is inspected (for example, calculation and storage of the frequency) based on the acquired vibration signal.

その後、「X軸引き」動作が行われる。このX軸引き動作では、処理制御部202が、ワークWを保持していない保持アーム20を、X軸負方向に変位させる変位処理(第2変位処理)を水平駆動部30により実行する。この昇降駆動部70による変位処理の実行期間の少なくとも一部と重複する期間において、「Z軸検査」が行われる。このZ軸検査では、検査制御部204が、一つの前のZ軸負方向への変位処理(Z軸down動作)での変位によって発生する昇降駆動部70のベルト78の振動に応じた振動信号を取得し、取得した当該振動信号に基づいてベルト78の検査(例えば、振動数の算出及び記憶)を行う。以上により、熱処理ユニットU2へのワークWの搬入動作が完了する。 After that, the "X-axis pull" operation is performed. In this X-axis pulling operation, the processing control unit 202 executes a displacement process (second displacement process) in which the holding arm 20 that does not hold the work W is displaced in the negative direction of the X-axis by the horizontal drive unit 30. The "Z-axis inspection" is performed during a period that overlaps with at least a part of the execution period of the displacement process by the elevating drive unit 70. In this Z-axis inspection, the inspection control unit 204 vibrates according to the vibration of the belt 78 of the elevating drive unit 70 generated by the displacement in the previous displacement process in the negative direction of the Z-axis (Z-axis down operation). Is acquired, and the belt 78 is inspected (for example, calculation and storage of the frequency) based on the acquired vibration signal. As described above, the operation of carrying the work W into the heat treatment unit U2 is completed.

以降、制御装置100は、同様の搬送動作及び検査を繰り返す。以上の検査において、検査制御部204は、X軸負方向の搬送動作に伴って水平駆動部30のベルト38の振動数の算出及び記憶を繰り返し、X軸正方向の搬送動作に伴ってベルト38の振動数の算出及び記憶を行わなくてもよい。あるいは、検査制御部204は、X軸正方向の搬送動作に伴ってベルト38の振動数の算出を繰り返し、X軸負方向の搬送動作に伴ってベルト38の振動数の算出を行わなくてもよい。また、上述の例と異なり、検査制御部204は、保持アーム20がワークWを保持している状態及びワークWを保持していない状態のいずれか一方の状態でのX軸正方向(X軸負方向)の搬送動作に伴って、ベルト38の振動数の算出を行い、他方の状態でのX軸正方向(X軸負方向)の搬送動作に伴って、ベルト38の振動の算出を行わなくてもよい。検査制御部204は、Y軸方向での搬送動作及びZ軸方向での搬送動作に伴う検査について、X軸方向と同様に、同じ動作(又は同じ動作及び状態)においてベルトの振動数の算出を繰り返してもよい。 After that, the control device 100 repeats the same transfer operation and inspection. In the above inspection, the inspection control unit 204 repeats the calculation and storage of the frequency of the belt 38 of the horizontal drive unit 30 along with the transport operation in the negative direction of the X-axis, and the belt 38 is carried out with the transport operation in the positive direction of the X-axis. It is not necessary to calculate and store the frequency of. Alternatively, the inspection control unit 204 does not have to repeatedly calculate the frequency of the belt 38 in the positive direction of the X-axis and calculate the frequency of the belt 38 in the negative direction of the X-axis. good. Further, unlike the above-mentioned example, the inspection control unit 204 has an X-axis positive direction (X-axis) in either a state in which the holding arm 20 holds the work W or a state in which the work W is not held. The frequency of the belt 38 is calculated in accordance with the transport operation in the negative direction), and the vibration of the belt 38 is calculated in accordance with the transport operation in the positive direction of the X-axis (negative direction of the X-axis) in the other state. It does not have to be. The inspection control unit 204 calculates the frequency of the belt in the same operation (or the same operation and state) as in the X-axis direction for the inspection accompanying the transfer operation in the Y-axis direction and the transfer operation in the Z-axis direction. You may repeat it.

続いて、図11及び図12を参照して、一の軸の駆動部におけるベルトの検査について説明する。図11は、X軸正方向の搬送動作(変位処理)において振動数を繰り返し算出してベルト38の検査を行う場合の処理手順(検査方法)の一例を示すフローチャートである。 Subsequently, the inspection of the belt in the drive unit of one shaft will be described with reference to FIGS. 11 and 12. FIG. 11 is a flowchart showing an example of a processing procedure (inspection method) when the belt 38 is inspected by repeatedly calculating the frequency in the transport operation (displacement processing) in the positive direction of the X-axis.

この検査方法では、まず、制御装置100が、X軸正方向での変位処理が終了するまで待機する(ステップS21)。ステップS21では、例えば、検査制御部204が、保持アーム20の基端部が基台48と重ならない位置まで保持アーム20が移動する動作が停止するまで待機する。一例では、検査制御部204は、水平駆動部30のモータ62による回転が停止した情報を処理制御部202から取得する。 In this inspection method, first, the control device 100 waits until the displacement process in the positive direction of the X axis is completed (step S21). In step S21, for example, the inspection control unit 204 waits until the operation of moving the holding arm 20 to a position where the base end portion of the holding arm 20 does not overlap with the base 48 is stopped. In one example, the inspection control unit 204 acquires information from the processing control unit 202 that the rotation of the horizontal drive unit 30 by the motor 62 has stopped.

ステップS21において、変位処理が終了したと判断された場合(ステップS21:YES)、制御装置100は、X軸正方向での変位処理に由来して発生するベルト38の振動に応じた振動信号を取得する(ステップS22)。例えば、信号取得部212は、X軸正方向での変位処理の終了時点から予め定められた所定時間が経過するまでの間に、計測ユニット130から振動信号を取得する。ステップS22の実行中において、処理制御部202は、X軸方向以外の軸での変位処理を行ってもよく、処理ユニットによりワークWに処理を実行させてもよい。 When it is determined in step S21 that the displacement process is completed (step S21: YES), the control device 100 outputs a vibration signal corresponding to the vibration of the belt 38 generated due to the displacement process in the positive direction of the X axis. Acquire (step S22). For example, the signal acquisition unit 212 acquires a vibration signal from the measurement unit 130 from the end of the displacement process in the positive direction of the X-axis until a predetermined predetermined time elapses. During the execution of step S22, the processing control unit 202 may perform displacement processing on an axis other than the X-axis direction, or the processing unit may cause the work W to execute the processing.

次に、制御装置100は、信号取得部212により取得された振動信号の中からベルトの検査のために使用する解析データを抽出する(ステップS23)。図12(a)に示されるように、例えば、データ抽出部214は、振動信号の中から、変位処理の終了時点(保持アーム20の停止時点)から第1所定時間t1が経過した後から、第2所定時間t2の間のデータを、解析データとして抽出する。第1所定時間t1及び第2所定時間t2は、保持アーム20の変位に由来するベルトの振動による音波が計測可能な時間に基づいて予め設定される。第1所定時間t1は、検査ユニットが近接するベルトの一部において、変位処理の終了時点から保持アーム20(スライダ)の停止に伴う振動が開始すると想定される時間に設定されている。第2所定時間t2は、保持アーム20(スライダ)の停止に伴うベルトの振動が継続すると想定される時間に設定されている。 Next, the control device 100 extracts analysis data used for belt inspection from the vibration signals acquired by the signal acquisition unit 212 (step S23). As shown in FIG. 12A, for example, the data extraction unit 214 waits after the first predetermined time t1 has elapsed from the end time of the displacement process (the time when the holding arm 20 is stopped) from the vibration signal. The data during the second predetermined time t2 is extracted as analysis data. The first predetermined time t1 and the second predetermined time t2 are preset based on the time at which the sound wave due to the vibration of the belt caused by the displacement of the holding arm 20 can be measured. The first predetermined time t1 is set to a time at which vibration accompanying the stop of the holding arm 20 (slider) is expected to start from the end of the displacement process in a part of the belt in which the inspection unit is close. The second predetermined time t2 is set to a time at which the vibration of the belt is expected to continue due to the stop of the holding arm 20 (slider).

次に、制御装置100は、データ抽出部214により抽出された解析データに基づいて、ステップS21の変位処理に伴って発生するベルト38の振動の振動数を算出する(ステップS24)。例えば、振動数算出部216は、解析データに高速フーリエ変換を行うことで、図12(b)に示されるような周波数スペクトルを算出する。そして、振動数算出部216は、算出した周波数スペクトルの中から最も振幅が大きい周波数(図12(b)に示される例では周波数f1)をベルト38の振動数として算出する。次に、制御装置100(記憶部218)は、算出されたベルト38の振動数を示す情報を記憶する(ステップS25)。 Next, the control device 100 calculates the frequency of the vibration of the belt 38 generated by the displacement process in step S21 based on the analysis data extracted by the data extraction unit 214 (step S24). For example, the frequency calculation unit 216 calculates a frequency spectrum as shown in FIG. 12B by performing a fast Fourier transform on the analysis data. Then, the frequency calculation unit 216 calculates the frequency having the largest amplitude (frequency f1 in the example shown in FIG. 12B) from the calculated frequency spectrum as the frequency of the belt 38. Next, the control device 100 (storage unit 218) stores the calculated information indicating the frequency of the belt 38 (step S25).

次に、制御装置100は、予め定められた基準時点から所定期間が経過したかどうかを判断する(ステップS26)。ステップS26では、例えば、制御装置100は、塗布・現像装置2の稼働開始から所定期間(例えば、1日)が経過したかどうかを判断する。ステップS26において、所定期間が経過していないと判断された場合(ステップS26:NO)、制御装置100は、ステップS21〜S26を繰り返し実行する。これにより、制御装置100(検査制御部204)は、処理制御部202が変位処理の実行を繰り返す間において、変位処理ごとに当該変位処理での変位によって発生するベルト38の振動に応じた振動信号を取得する。そして、検査制御部204は、変位処理ごとにベルト38の振動数を算出し、算出した振動数を記憶する。その結果、ベルト38の振動数について複数の計測値が記憶部218に記憶される。 Next, the control device 100 determines whether or not a predetermined period has elapsed from a predetermined reference time point (step S26). In step S26, for example, the control device 100 determines whether or not a predetermined period (for example, one day) has elapsed from the start of operation of the coating / developing device 2. If it is determined in step S26 that the predetermined period has not elapsed (step S26: NO), the control device 100 repeatedly executes steps S21 to S26. As a result, the control device 100 (inspection control unit 204) receives a vibration signal corresponding to the vibration of the belt 38 generated by the displacement in the displacement process for each displacement process while the process control unit 202 repeats the execution of the displacement process. To get. Then, the inspection control unit 204 calculates the frequency of the belt 38 for each displacement process and stores the calculated frequency. As a result, a plurality of measured values for the frequency of the belt 38 are stored in the storage unit 218.

次に、制御装置100は、ベルト38の状態の判定に用いるための振動数(以下、「判定振動数」という。)を算出する(ステップS27)。ステップS27では、例えば、状態判定部220が、所定期間において記憶された複数の振動数の計測値についての統計値を、判定振動数として算出する。一例では、状態判定部220は、ベルト38の振動数についての複数の計測値の平均値、中央値、下限値、上限値、又は標準偏差を、判定振動数として算出する。 Next, the control device 100 calculates a frequency (hereinafter, referred to as “determination frequency”) to be used for determining the state of the belt 38 (step S27). In step S27, for example, the state determination unit 220 calculates statistical values for the measured values of the plurality of frequencies stored in the predetermined period as the determination frequencies. In one example, the state determination unit 220 calculates the average value, median value, lower limit value, upper limit value, or standard deviation of a plurality of measured values for the frequency of the belt 38 as the determination frequency.

次に、制御装置100(状態判定部220)は、判定振動数が所定の閾値よりも小さいかどうかを判断する(ステップS28)。閾値は、予め設定されており、例えば、ベルトのテンションを意図的に低下させた際の当該ベルトの振動数を計測した値に基づいて設定される。ステップS28において、判定振動数が上記閾値よりも小さいと判断された場合(ステップS28:YES)、制御装置100は、ベルト38の状態が正常ではないことを示す異常信号を出力する(ステップS29)。 Next, the control device 100 (state determination unit 220) determines whether or not the determination frequency is smaller than a predetermined threshold value (step S28). The threshold value is set in advance, and is set based on, for example, a measured value of the frequency of the belt when the tension of the belt is intentionally lowered. When it is determined in step S28 that the determination frequency is smaller than the above threshold value (step S28: YES), the control device 100 outputs an abnormal signal indicating that the state of the belt 38 is not normal (step S29). ..

ステップS29において、例えば、出力部222は、ベルト38が故障していることを示す異常信号、又はベルト38が故障状態に近づいていることを示す異常信号を出力する。一例では、出力部222は、オペレータ等に報知するためのモニタに異常信号を出力する。あるいは、出力部222は、処理制御部202に異常信号を出力し、異常信号を受けた処理制御部202は、塗布・現像装置2によるプロセス処理を停止する。一方、判定振動数が上記閾値以上であると判断された場合(ステップS28:NO)、制御装置100はステップS29を実行しない。以上により、ベルト38の検査についての一連の処理手順が終了する。 In step S29, for example, the output unit 222 outputs an abnormal signal indicating that the belt 38 has failed, or an abnormal signal indicating that the belt 38 is approaching a failed state. In one example, the output unit 222 outputs an abnormal signal to a monitor for notifying an operator or the like. Alternatively, the output unit 222 outputs an abnormal signal to the processing control unit 202, and the processing control unit 202 that receives the abnormal signal stops the process processing by the coating / developing device 2. On the other hand, when it is determined that the determination frequency is equal to or higher than the above threshold value (step S28: NO), the control device 100 does not execute step S29. As described above, a series of processing procedures for the inspection of the belt 38 is completed.

以上に説明したフローでは、X軸に関するベルト38の検査について説明したが、Y軸に関するベルト58の検査、及びZ軸に関するベルト78の検査も、ベルト38の検査と同様に実行されてもよい。 In the flow described above, the inspection of the belt 38 with respect to the X-axis has been described, but the inspection of the belt 58 with respect to the Y-axis and the inspection of the belt 78 with respect to the Z-axis may be performed in the same manner as the inspection of the belt 38.

ステップS23においてデータの抽出範囲を定める第1所定時間t1は、軸ごとに異なる値に設定されてもよい。第1所定時間t1は、計測ユニットと、計測ユニットを間に挟む2つのプーリのうちの当該計測ユニットとの距離が近い一方のプーリとの間に距離に応じて設定されてもよい。例えば、計測ユニットとプーリとの間の距離が長くなるほど、第1所定時間t1が長い値に設定されてもよい。上述の例では、X軸方向の水平駆動部30のプーリ36aと計測ユニット130との間の距離は、Y軸方向の水平駆動部50のプーリ56aと計測ユニット150との間の距離よりも大きく、Z軸方向の昇降駆動部70のプーリ76aと計測ユニット170との間の距離よりも大きい。すなわち、X軸方向についての第1所定時間t1は、Y軸方向についての第1所定時間t1よりも長く、Z軸方向についての第1所定時間t1よりも長い。 The first predetermined time t1 that determines the data extraction range in step S23 may be set to a different value for each axis. The first predetermined time t1 may be set according to the distance between the measuring unit and one of the two pulleys sandwiching the measuring unit, which is closer to the measuring unit. For example, the longer the distance between the measuring unit and the pulley, the longer the first predetermined time t1 may be set. In the above example, the distance between the pulley 36a of the horizontal drive unit 30 in the X-axis direction and the measurement unit 130 is larger than the distance between the pulley 56a of the horizontal drive unit 50 in the Y-axis direction and the measurement unit 150. , It is larger than the distance between the pulley 76a of the elevating drive unit 70 in the Z-axis direction and the measuring unit 170. That is, the first predetermined time t1 in the X-axis direction is longer than the first predetermined time t1 in the Y-axis direction, and is longer than the first predetermined time t1 in the Z-axis direction.

Y軸に関するベルト58の検査においても、上述したステップS21〜S26が繰り返される。この場合、検査制御部204は、所定期間において、処理制御部202がY軸負方向に保持アーム20を変位させる変位処理ごとに、ベルト58の振動の振動数を算出してもよい。Y軸方向における保持アーム20の移動については、搬入出先の処理ユニットに応じて保持アーム20の停止位置(スライダ54の停止位置)が異なる。スライダ54の停止位置が異なると、計測ユニット150が設けられるベルト58の一部分の長さ(スライダ54からプーリ56aまでの長さ)が異なり、ベルト58の状態の異常の有無に関わらず振動数が変化する。 In the inspection of the belt 58 with respect to the Y-axis, the above-mentioned steps S21 to S26 are repeated. In this case, the inspection control unit 204 may calculate the vibration frequency of the belt 58 for each displacement process in which the processing control unit 202 displaces the holding arm 20 in the negative direction of the Y axis in a predetermined period. Regarding the movement of the holding arm 20 in the Y-axis direction, the stop position of the holding arm 20 (the stop position of the slider 54) differs depending on the processing unit at the loading / unloading destination. If the stop position of the slider 54 is different, the length of a part of the belt 58 (the length from the slider 54 to the pulley 56a) on which the measurement unit 150 is provided is different, and the frequency is increased regardless of whether the state of the belt 58 is abnormal or not. Change.

このため、ステップS24において、振動数算出部216は、保持アーム20(スライダ54)の停止位置に応じて、算出した振動数が停止位置のうちの任意に定められる基準位置での振動数に対応するようにベルト58の振動数を補正してもよい。振動数算出部216は、弦の長さ、張力、及び単位質量と弦の固有振動数との関係を定めた式を用いて、振動信号から算出される振動数を、基準位置にスライダ54が停止したと想定した場合の振動数に換算してもよい。この場合、記憶部218は、補正された振動数を示す情報を記憶する。そして、状態判定部220は、補正された振動数についての統計値を閾値と比較することでベルト58の状態を判定する。この閾値は、スライダ54が基準位置に位置しているベルト58の状態に基づいて定められている。以上のように、状態判定部220は、ベルト58の振動から得られる振動信号に加えて、変位処理ごとに設定された停止位置にも基づいてベルト58の状態を判定してもよい。 Therefore, in step S24, the frequency calculation unit 216 corresponds to the calculated frequency according to the stop position of the holding arm 20 (slider 54) at the reference position arbitrarily determined among the stop positions. The frequency of the belt 58 may be corrected so as to be performed. The frequency calculation unit 216 uses a formula that defines the relationship between the length, tension, and unit mass of the string and the natural frequency of the string, and the slider 54 sets the frequency calculated from the vibration signal to the reference position. It may be converted into the frequency when it is assumed that it has stopped. In this case, the storage unit 218 stores information indicating the corrected frequency. Then, the state determination unit 220 determines the state of the belt 58 by comparing the statistical value of the corrected frequency with the threshold value. This threshold is determined based on the state of the belt 58 in which the slider 54 is located at the reference position. As described above, the state determination unit 220 may determine the state of the belt 58 based on the stop position set for each displacement process in addition to the vibration signal obtained from the vibration of the belt 58.

Z軸に関するベルト78の検査においても、上述したステップS21〜S26が繰り返される。この場合、検査制御部204は、所定期間において、処理制御部202がZ軸負方向に(下方に)保持アーム20を変位させる変位処理ごとに、ベルト78の振動の振動数を算出してもよい。 In the inspection of the belt 78 with respect to the Z axis, the above-mentioned steps S21 to S26 are repeated. In this case, the inspection control unit 204 may calculate the vibration frequency of the belt 78 for each displacement process in which the processing control unit 202 displaces the holding arm 20 in the negative direction of the Z axis (downward) in a predetermined period. good.

上述の例では、変位処理の終了時点から振動信号が取得され、データ抽出部214により振動信号の一部のデータが抽出されるが、信号取得部212は、振動数の算出に利用する期間において振動信号を取得してもよい。例えば、信号取得部212は、変位処理の終了時点において振動信号の取得を開始せずに、第1所定時間t1が経過した時点で振動信号の取得を開始し、第1所定時間t1から更に第2所定時間t2が経過した時点で振動信号の取得を停止してもよい。この場合、データ抽出部214による一部のデータの抽出が行われなくてもよい。以上のように、データの抽出の有無に関わらず、状態判定部220は、変位処理が終了してから第1所定時間t1が経過した後のベルトの振動に応じた振動信号に基づいて、当該ベルトの状態を判定する。 In the above example, the vibration signal is acquired from the end of the displacement process, and a part of the data of the vibration signal is extracted by the data extraction unit 214, but the signal acquisition unit 212 is used for calculating the frequency during the period. The vibration signal may be acquired. For example, the signal acquisition unit 212 does not start acquiring the vibration signal at the end of the displacement process, but starts acquiring the vibration signal when the first predetermined time t1 elapses, and further from the first predetermined time t1. 2 Acquisition of the vibration signal may be stopped when the predetermined time t2 has elapsed. In this case, it is not necessary for the data extraction unit 214 to extract a part of the data. As described above, regardless of whether or not the data is extracted, the state determination unit 220 is based on the vibration signal corresponding to the vibration of the belt after the first predetermined time t1 has elapsed since the displacement processing is completed. Determine the condition of the belt.

[実施形態の効果]
以上に説明した塗布・現像装置2及び基板処理方法では、プロセス処理の実行期間においてベルトの振動に応じた振動信号が取得され、当該振動信号に基づきベルトの状態が判定される。この装置及び方法では、ベルトの状態を判定するために塗布・現像装置2によるプロセス処理を停止させる必要がないので、スループットを維持しつつベルトの状態を検査することが可能となる。
[Effect of Embodiment]
In the coating / developing apparatus 2 and the substrate processing method described above, a vibration signal corresponding to the vibration of the belt is acquired during the execution period of the process processing, and the state of the belt is determined based on the vibration signal. With this device and method, it is not necessary to stop the process processing by the coating / developing device 2 in order to determine the state of the belt, so that the state of the belt can be inspected while maintaining the throughput.

経時劣化等に起因してベルトのテンション(張力)が低下すると、ベルト切れ又は歯飛び等の故障が発生してしまうおそれがある。ベルトのテンションは、当該ベルトの振動数に応じるので、ベルトの振動数を定期的に確認することで、ベルトの故障を未然に防止することができる。ベルトの状態を検査する方法として、塗布・現像装置2において行われる一連の処理を停止して、ベルトの振動数を計測することが考えられる。しかしながら、塗布・現像装置2の稼働を停止すると、ワークWのスループットが低下してしまう。これに対して、上記装置及び方法では、塗布・現像装置2の稼働を停止させずに(プロセス処理を停止させずに)ベルトの振動数が計測されるので、スループットを低下させずにベルトのテンションを検査することができる。 If the tension of the belt decreases due to deterioration over time, a failure such as belt breakage or tooth skipping may occur. Since the tension of the belt depends on the frequency of the belt, it is possible to prevent the belt from breaking down by checking the frequency of the belt on a regular basis. As a method of inspecting the state of the belt, it is conceivable to stop a series of processes performed in the coating / developing device 2 and measure the frequency of the belt. However, if the operation of the coating / developing apparatus 2 is stopped, the throughput of the work W is lowered. On the other hand, in the above devices and methods, the frequency of the belt is measured without stopping the operation of the coating / developing device 2 (without stopping the process processing), so that the throughput of the belt is not reduced. The tension can be inspected.

以上に説明した塗布・現像装置2は、状態判定部220による判定結果に応じて、ベルトの状態が正常ではないことを示す異常信号を出力する出力部222を更に備える。この場合、ベルトの状態が正常ではないと判定された場合に、ベルトの状態が正常である場合と異なる処理を実行することが可能となる。 The coating / developing device 2 described above further includes an output unit 222 that outputs an abnormal signal indicating that the state of the belt is not normal according to the determination result by the state determination unit 220. In this case, when it is determined that the state of the belt is not normal, it is possible to execute a process different from the case where the state of the belt is normal.

以上に説明した塗布・現像装置2では、処理制御部202は、複数のワークWそれぞれの処理ユニットへの搬入出を行う第2処理において、駆動部により第1方向に沿って保持アーム20を変位させる変位処理を実行する。信号取得部212は、変位処理が終了した後に当該変位処理での変位によって発生するベルトの振動に応じた振動信号を取得する。変位処理の実行中において取得される振動信号には、外乱による振動の情報が多く含まれ得る。上記構成では、変位処理の終了から振動信号を取得することで、当該振動信号に含まれる外乱の影響を低下させることが可能となる。 In the coating / developing apparatus 2 described above, the processing control unit 202 displaces the holding arm 20 along the first direction by the driving unit in the second processing of carrying in / out to / from the processing unit of each of the plurality of work Ws. Displacement processing is executed. The signal acquisition unit 212 acquires a vibration signal corresponding to the vibration of the belt generated by the displacement in the displacement process after the displacement process is completed. The vibration signal acquired during the execution of the displacement process may include a large amount of information on vibration due to disturbance. In the above configuration, by acquiring the vibration signal from the end of the displacement process, it is possible to reduce the influence of the disturbance included in the vibration signal.

以上に説明した塗布・現像装置2では、状態判定部220は、変位処理が終了してから所定時間が経過した後のベルトの振動に応じた振動信号に基づいて、ベルトの状態を判定する。変位処理の終了直後に取得される振動信号には、外乱による振動の情報が残っている場合もある。上記構成では、振動信号に含まれる外乱の影響を更に低下させることが可能となる。 In the coating / developing apparatus 2 described above, the state determination unit 220 determines the state of the belt based on the vibration signal corresponding to the vibration of the belt after a predetermined time has elapsed after the displacement processing is completed. In the vibration signal acquired immediately after the displacement processing is completed, information on vibration due to disturbance may remain. With the above configuration, it is possible to further reduce the influence of disturbance included in the vibration signal.

以上に説明した塗布・現像装置2では、駆動部は、ベルトの少なくとも一部が架け渡される2つのプーリを更に含む。計測ユニットは、ベルトのうちの2つのプーリの間に配置される部分に近接して設けられてもよい。所定時間は、2つのプーリのうちの計測ユニットとの距離が近い一方のプーリと、計測ユニットとの間の距離に応じて設定されていてもよい。ベルトの振動が収束するまでの時間は、固定端と計測ユニットの近接位置との間のベルトの長さに依存すると考えられる。上記構成では、固定端と計測ユニットとの間のベルトの長さに応じて所定時間が変化するので、ベルトの振動に応じて適切に状態を判定することが可能となる。 In the coating / developing apparatus 2 described above, the drive unit further includes two pulleys over which at least a part of the belt is bridged. The measuring unit may be provided in close proximity to a portion of the belt that is located between the two pulleys. The predetermined time may be set according to the distance between one of the two pulleys, which is closer to the measuring unit, and the measuring unit. The time it takes for the vibration of the belt to converge is considered to depend on the length of the belt between the fixed end and the close position of the measuring unit. In the above configuration, since the predetermined time changes according to the length of the belt between the fixed end and the measuring unit, it is possible to appropriately determine the state according to the vibration of the belt.

以上に説明した塗布・現像装置2では、駆動部は、ベルトの少なくとも一部が架け渡される第1プーリ及び第2プーリと、第1プーリを回転させてベルトを移動させるモータとを更に含む。計測ユニットは、第1プーリの近傍に配置されている。処理制御部は、変位処理において、第2プーリから第1プーリに向かう方向に駆動部により保持アーム20を変位させる。この場合、変位処理において保持アーム20が停止すると、保持アーム20に連結されているスライダの慣性力が第1プーリに向かう向きに発生する。そのため、スライダと第1プーリとの間のベルトの一部に対して、保持アーム20(スライダ)の停止に伴い圧縮する力が加わると考えられる。これにより、上記ベルトの一部を含み且つ計測ユニットが配置されるベルトの部分の振動が大きくなり、振動信号の取得が容易である。 In the coating / developing apparatus 2 described above, the drive unit further includes a first pulley and a second pulley over which at least a part of the belt is bridged, and a motor for rotating the first pulley to move the belt. The measuring unit is arranged in the vicinity of the first pulley. In the displacement process, the processing control unit displaces the holding arm 20 by the drive unit in the direction from the second pulley to the first pulley. In this case, when the holding arm 20 is stopped in the displacement process, the inertial force of the slider connected to the holding arm 20 is generated in the direction toward the first pulley. Therefore, it is considered that a compressing force is applied to a part of the belt between the slider and the first pulley as the holding arm 20 (slider) stops. As a result, the vibration of the part of the belt including a part of the belt and in which the measurement unit is arranged becomes large, and it is easy to acquire the vibration signal.

以上に説明した塗布・現像装置2では、駆動部は、保持アーム20と共に移動するスライダを更に含む。スライダは、第1プーリと第2プーリとの間において移動可能となるようにベルトに接続されている。ベルトの移動経路に沿って、第1プーリ、計測ユニット、スライダ、及び第2プーリがこの順で配置されている。第2プーリから第1プーリに向かってスライダが移動すると、第1プーリとスライダとの間のベルトの一部において、変位処理でのスライダの停止に伴う衝撃が大きくなり、振動信号の取得が容易である。 In the coating / developing apparatus 2 described above, the driving unit further includes a slider that moves together with the holding arm 20. The slider is connected to the belt so that it can move between the first pulley and the second pulley. The first pulley, the measuring unit, the slider, and the second pulley are arranged in this order along the movement path of the belt. When the slider moves from the second pulley to the first pulley, the impact caused by the stop of the slider in the displacement process becomes large in a part of the belt between the first pulley and the slider, and it is easy to acquire the vibration signal. Is.

以上に説明した塗布・現像装置2では、処理制御部は、第2処理において、Y軸方向に関する変位処理を繰り返し実行する。信号取得部212は、変位処理ごとに当該変位処理での変位によって発生するベルト58の振動に応じた振動信号を取得する。保持アーム20の停止位置は、変位処理ごとに異なる位置に設定されている。状態判定部220は、変位処理ごとに設定された停止位置にも基づいてベルト58の状態を判定する。この場合、保持アーム20の停止位置が異なっていても、変位処理ごとの保持アーム20の停止位置が加味されるのでベルト58の状態を適切に判定することが可能となる。 In the coating / developing apparatus 2 described above, the processing control unit repeatedly executes the displacement processing in the Y-axis direction in the second processing. The signal acquisition unit 212 acquires a vibration signal corresponding to the vibration of the belt 58 generated by the displacement in the displacement process for each displacement process. The stop position of the holding arm 20 is set to a different position for each displacement process. The state determination unit 220 determines the state of the belt 58 based on the stop position set for each displacement process. In this case, even if the stop position of the holding arm 20 is different, the stop position of the holding arm 20 for each displacement process is taken into consideration, so that the state of the belt 58 can be appropriately determined.

以上に説明した塗布・現像装置2では、搬送ユニットA3は、第2方向に保持アーム20を変位させる第2駆動部を更に有する。処理制御部202は、第2処理において、第1方向において駆動部により保持アーム20を変位させる第1変位処理と、第2方向において第2駆動部により保持アーム20を変位させる第2変位処理とを実行する。信号取得部212は、第2変位処理の実行期間の少なくとも一部と重複する期間において、第1変位処理での変位によって発生するベルトの振動に応じた振動信号を取得する。この場合、搬送ユニットA3による動作とベルトの検査とが少なくとも部分的に重複して行われるので、ベルトの検査によるプロセス処理への影響を抑制することが可能となる。 In the coating / developing apparatus 2 described above, the transport unit A3 further has a second drive unit that displaces the holding arm 20 in the second direction. In the second process, the process control unit 202 includes a first displacement process in which the holding arm 20 is displaced by the drive unit in the first direction, and a second displacement process in which the holding arm 20 is displaced by the second drive unit in the second direction. To execute. The signal acquisition unit 212 acquires a vibration signal corresponding to the vibration of the belt generated by the displacement in the first displacement process in a period overlapping with at least a part of the execution period of the second displacement process. In this case, since the operation by the transport unit A3 and the inspection of the belt are performed at least partially overlapping, it is possible to suppress the influence of the inspection of the belt on the process processing.

以上に説明した塗布・現像装置2では、駆動部は、ベルトの少なくとも一部が架け渡され且つ第1方向に並ぶ第1プーリ及び第2プーリと、第1プーリを回転させることで、ベルトを移動させるモータと、保持アーム20と共に移動するスライダとを更に含む。スライダは、第1プーリと第2プーリとの間において移動可能となるようにベルトに接続されている。ベルトの移動経路に沿って、第1プーリ、計測ユニット、スライダ、及び第2プーリがこの順で配置されている。この場合、第1プーリとスライダとの間のベルトの一部においてスライダの移動に伴う振動が大きくなるので、振動信号の取得が容易である。 In the coating / developing apparatus 2 described above, the drive unit rotates the first pulley and the second pulley in which at least a part of the belt is bridged and arranged in the first direction, and the first pulley to rotate the belt. It further includes a moving motor and a slider that moves with the holding arm 20. The slider is connected to the belt so that it can move between the first pulley and the second pulley. The first pulley, the measuring unit, the slider, and the second pulley are arranged in this order along the movement path of the belt. In this case, since the vibration accompanying the movement of the slider becomes large in a part of the belt between the first pulley and the slider, it is easy to acquire the vibration signal.

以上に説明した塗布・現像装置2では、駆動部は、ベルトの少なくとも一部が架け渡され且つ第1方向に並ぶ第1プーリ及び第2プーリと、保持アーム20と共に移動するスライダとを更に含む。スライダは、第1プーリと第2プーリとの間において移動可能となるようにベルトに接続されている。ベルトの移動経路に沿って、計測ユニット、第1プーリ、スライダ、及び第2プーリがこの順で配置されていてもよい。この場合、計測ユニットが近接するベルトの一部にスライダから加わる外乱が第1プーリを介することで軽減され、振動信号に含まれる外乱の影響を低減させることが可能となる。 In the coating / developing apparatus 2 described above, the drive unit further includes a first pulley and a second pulley in which at least a part of the belt is bridged and arranged in the first direction, and a slider that moves together with the holding arm 20. .. The slider is connected to the belt so that it can move between the first pulley and the second pulley. The measuring unit, the first pulley, the slider, and the second pulley may be arranged in this order along the movement path of the belt. In this case, the disturbance applied from the slider to a part of the belt in which the measurement unit is close is reduced by passing through the first pulley, and the influence of the disturbance included in the vibration signal can be reduced.

[変形例]
以上、本開示に係る実施形態について詳細に説明したが、本開示の要旨の範囲内で種々の変形を上記の実施形態に加えてもよい。搬送ユニットA3は、別の保持アーム20と、別の保持アーム20を少なくともX軸方向に変位させる別の水平駆動部30を更に備えてもよい。水平駆動部30と別の水平駆動部30とは、鉛直方向に並んで配置されてもよい。この場合、塗布・現像装置2は、別の水平駆動部30のベルト38を検査するための別の計測ユニット130を更に備えてもよい。
[Modification example]
Although the embodiments according to the present disclosure have been described in detail above, various modifications may be added to the above embodiments within the scope of the gist of the present disclosure. The transport unit A3 may further include another holding arm 20 and another horizontal drive unit 30 that displaces the other holding arm 20 at least in the X-axis direction. The horizontal drive unit 30 and another horizontal drive unit 30 may be arranged side by side in the vertical direction. In this case, the coating / developing device 2 may further include another measuring unit 130 for inspecting the belt 38 of another horizontal driving unit 30.

搬送ユニットA3は、水平駆動部30、水平駆動部50、及び昇降駆動部70の3つの駆動部のうちのいずれか一つの駆動部を有していなくてもよく、いずれか二つの駆動部を有していなくてもよい。水平駆動部30,50及び昇降駆動部70の駆動機構は上述の例に限られず、駆動部は少なくとも移動方向に延びるように配置されたベルトを有していればよい。各駆動部では、3つのプーリ、又は5以上のプーリにベルトが架け渡されてもよい。 The transport unit A3 does not have to have any one of the three drive units of the horizontal drive unit 30, the horizontal drive unit 50, and the elevating drive unit 70, and any two drive units may be used. You do not have to have it. The drive mechanisms of the horizontal drive units 30 and 50 and the elevating drive unit 70 are not limited to the above examples, and the drive unit may have at least a belt arranged so as to extend in the moving direction. In each drive unit, a belt may be bridged over three pulleys or five or more pulleys.

計測ユニット130,150,170は、センサ92,94のうちのいずれか一つのセンサを有しなくてもよい。なお、センサ92,94がベルトを挟むように配置されている場合、センサ92が取得する音波SW1とセンサ94が取得する音波SW2とでは、外乱による空気の振動が同位相であり、ベルトによる空気の振動が逆位相である。このため、音波SW1と音波SW2との差分を振動信号とすることで、ベルトによる空気の振動が強め合い、且つ外乱による空気の振動が低減された信号が得られる。計測ユニット130,150,170は、ベルトの振動に応じた信号を取得可能であれば、どのように構成されていてもよい。 The measurement units 130, 150, 170 do not have to have any one of the sensors 92, 94. When the sensors 92 and 94 are arranged so as to sandwich the belt, the vibration of the air due to the disturbance is in phase between the sound wave SW1 acquired by the sensor 92 and the sound wave SW2 acquired by the sensor 94, and the air generated by the belt. Vibrations are out of phase. Therefore, by using the difference between the sound wave SW1 and the sound wave SW2 as the vibration signal, it is possible to obtain a signal in which the vibration of the air due to the belt is strengthened and the vibration of the air due to the disturbance is reduced. The measuring units 130, 150, 170 may be configured in any way as long as they can acquire a signal corresponding to the vibration of the belt.

計測ユニット130,150,170の配置位置は、上述の例に限られない。計測ユニットは、他の部材(例えば、スライダ)と干渉せずにベルトの振動に応じた振動信号を取得可能であれば、ベルトの移動経路において、いずれの位置に配置されてもよい。すなわち、ベルトの移動経路において、プーリ、スライダ、及び計測ユニットは、どのような順で配置されていてもよい。 The arrangement positions of the measurement units 130, 150, and 170 are not limited to the above examples. The measuring unit may be arranged at any position in the movement path of the belt as long as it can acquire a vibration signal corresponding to the vibration of the belt without interfering with other members (for example, a slider). That is, the pulley, the slider, and the measuring unit may be arranged in any order in the movement path of the belt.

処理モジュール12の搬送ユニットA3以外の搬送ユニットにおいても、処理モジュール12の搬送ユニットA3と同様に、各駆動部のベルトの検査が行われてもよい。塗布・現像装置2は、ワークWに所定の処理を施す処理ユニットとして、液処理及び熱処理以外の処理を行うユニットを備えていてもよい。例えば、塗布・現像装置2は、表面Waの状態を検査するための検査用のユニットを備えていてもよく、搬送ユニットA3は、当該検査用のユニットに対してワークWの搬入出を行ってもよい。基板処理システム1は、少なくとも1つの処理ユニットと、当該処理ユニットに対してのワークWの搬入出を行う搬送ユニットと、搬送ユニットに含まれる駆動部のベルトを検査するための計測ユニットと、制御ユニットとを備えていれば、どのように構成されていてもよい。 In the transport unit other than the transport unit A3 of the processing module 12, the belt of each drive unit may be inspected in the same manner as the transport unit A3 of the processing module 12. The coating / developing device 2 may include a unit that performs a treatment other than the liquid treatment and the heat treatment as a treatment unit that performs a predetermined treatment on the work W. For example, the coating / developing device 2 may include an inspection unit for inspecting the state of the surface Wa, and the transport unit A3 carries in and out the work W to the inspection unit. May be good. The substrate processing system 1 controls at least one processing unit, a transfer unit for loading and unloading the work W to the processing unit, and a measurement unit for inspecting the belt of the drive unit included in the transfer unit. It may be configured in any way as long as it includes a unit.

2…塗布・現像装置、30…水平駆動部、36a,36b,36c,36d…プーリ、38…ベルト、50…水平駆動部、56a,56b…プーリ、58…ベルト、62…モータ、70…昇降駆動部、76a,76b…プーリ、78…ベルト、82…モータ、100…制御装置、130,150,170…計測ユニット、202…処理制御部、212…信号取得部、220…状態判定部、222…出力部、W…ワーク、U1…液処理ユニット、U2…熱処理ユニット、A3…搬送ユニット。 2 ... Coating / developing device, 30 ... Horizontal drive unit, 36a, 36b, 36c, 36d ... Pulley, 38 ... Belt, 50 ... Horizontal drive unit, 56a, 56b ... Pulley, 58 ... Belt, 62 ... Motor, 70 ... Elevating Drive unit, 76a, 76b ... Pulley, 78 ... Belt, 82 ... Motor, 100 ... Control device, 130, 150, 170 ... Measurement unit, 202 ... Processing control unit, 212 ... Signal acquisition unit, 220 ... Status determination unit 222 ... Output unit, W ... Work, U1 ... Liquid processing unit, U2 ... Heat treatment unit, A3 ... Conveying unit.

Claims (12)

基板に対して所定の処理を施す処理ユニットと、
前記基板を保持する保持部と、ベルトを含み且つ当該ベルトを移動させることで第1方向において前記保持部を変位させる駆動部とを有する搬送ユニットと、
前記ベルトに近接した状態で設けられ、前記保持部の変位に由来する前記ベルトの振動に応じた振動信号を取得可能な計測ユニットと、
前記処理ユニット、前記搬送ユニット、及び前記計測ユニットを制御する制御ユニットと、を備え、
前記制御ユニットは、
前記基板を含む複数の基板に対して前記所定の処理を前記処理ユニットにより順に施す第1処理と、前記搬送ユニットにより前記処理ユニットに対する前記複数の基板それぞれの搬入出を行う第2処理とを含むプロセス処理を実行する処理制御部と、
前記計測ユニットから前記振動信号を取得する信号取得部と、
前記振動信号に基づいて前記ベルトの状態を判定する状態判定部と、を有し、
前記信号取得部は、前記プロセス処理の実行期間において前記振動信号を取得する、基板処理装置。
A processing unit that performs predetermined processing on the substrate,
A transport unit having a holding portion that holds the substrate, and a driving portion that includes a belt and displaces the holding portion in a first direction by moving the belt.
A measurement unit provided in a state close to the belt and capable of acquiring a vibration signal corresponding to the vibration of the belt due to the displacement of the holding portion.
The processing unit, the transport unit, and the control unit that controls the measurement unit are provided.
The control unit is
Includes a first process in which the predetermined processing is sequentially performed by the processing unit on a plurality of substrates including the substrate, and a second processing in which the transfer unit carries in and out each of the plurality of substrates to the processing unit. A process control unit that executes process processing
A signal acquisition unit that acquires the vibration signal from the measurement unit, and
It has a state determination unit that determines the state of the belt based on the vibration signal.
The signal acquisition unit is a substrate processing device that acquires the vibration signal during the execution period of the process processing.
前記状態判定部による判定結果に応じて、前記ベルトの状態が正常ではないことを示す信号を出力する出力部を更に備える、請求項1に記載の基板処理装置。 The substrate processing apparatus according to claim 1, further comprising an output unit that outputs a signal indicating that the state of the belt is not normal according to the determination result by the state determination unit. 前記処理制御部は、前記第2処理において、前記駆動部により前記第1方向に沿って前記保持部を変位させる変位処理を実行し、
前記信号取得部は、前記変位処理が終了した後に当該変位処理での変位によって発生する前記ベルトの振動に応じた前記振動信号を取得する、請求項1又は2に記載の基板処理装置。
In the second process, the process control unit executes a displacement process in which the drive unit displaces the holding unit along the first direction.
The substrate processing apparatus according to claim 1 or 2, wherein the signal acquisition unit acquires the vibration signal corresponding to the vibration of the belt generated by the displacement in the displacement processing after the displacement processing is completed.
前記状態判定部は、前記変位処理が終了してから所定時間が経過した後の前記ベルトの振動に応じた前記振動信号に基づいて、前記ベルトの状態を判定する、請求項3に記載の基板処理装置。 The substrate according to claim 3, wherein the state determination unit determines the state of the belt based on the vibration signal corresponding to the vibration of the belt after a predetermined time has elapsed after the displacement processing is completed. Processing equipment. 前記駆動部は、前記ベルトの少なくとも一部が架け渡される2つのプーリを更に含み、
前記計測ユニットは、前記ベルトのうちの前記2つのプーリの間に配置される部分に近接して設けられ、
前記所定時間は、前記2つのプーリのうちの前記計測ユニットとの距離が近い一方のプーリと、前記計測ユニットとの間の距離に応じて設定されている、請求項4に記載の基板処理装置。
The drive further includes two pulleys over which at least a portion of the belt is bridged.
The measuring unit is provided in close proximity to a portion of the belt that is located between the two pulleys.
The substrate processing apparatus according to claim 4, wherein the predetermined time is set according to the distance between one of the two pulleys, which is closer to the measuring unit, and the measuring unit. ..
前記駆動部は、前記ベルトの少なくとも一部が架け渡される第1プーリ及び第2プーリと、前記第1プーリを回転させて前記ベルトを移動させるモータとを更に含み、
前記計測ユニットは、前記第1プーリの近傍に配置されており、
前記処理制御部は、前記変位処理において、前記第2プーリから前記第1プーリに向かう方向に前記駆動部により前記保持部を変位させる、請求項3又は4に記載の基板処理装置。
The drive unit further includes a first pulley and a second pulley over which at least a part of the belt is bridged, and a motor that rotates the first pulley to move the belt.
The measuring unit is arranged in the vicinity of the first pulley, and the measuring unit is arranged in the vicinity of the first pulley.
The substrate processing apparatus according to claim 3 or 4, wherein the processing control unit displaces the holding unit by the driving unit in a direction from the second pulley toward the first pulley in the displacement processing.
前記駆動部は、前記保持部と共に移動するスライダを更に含み、
前記スライダは、前記第1プーリと前記第2プーリとの間において移動可能となるように前記ベルトに接続されており、
前記ベルトの移動経路に沿って、前記第1プーリ、前記計測ユニット、前記スライダ、及び前記第2プーリがこの順で配置されている、請求項6に記載の基板処理装置。
The drive unit further includes a slider that moves with the holding unit.
The slider is connected to the belt so as to be movable between the first pulley and the second pulley.
The substrate processing apparatus according to claim 6, wherein the first pulley, the measuring unit, the slider, and the second pulley are arranged in this order along the moving path of the belt.
前記処理制御部は、前記第2処理において、前記変位処理を繰り返し実行し、
前記信号取得部は、前記変位処理ごとに当該変位処理での変位によって発生する前記ベルトの振動に応じた前記振動信号を取得し、
前記保持部の停止位置は、前記変位処理ごとに異なる位置に設定されており、
前記状態判定部は、前記変位処理ごとに設定された前記停止位置にも基づいて前記ベルトの状態を判定する、請求項7に記載の基板処理装置。
The processing control unit repeatedly executes the displacement processing in the second processing.
The signal acquisition unit acquires the vibration signal corresponding to the vibration of the belt generated by the displacement in the displacement process for each displacement process.
The stop position of the holding portion is set to a different position for each displacement process.
The substrate processing apparatus according to claim 7, wherein the state determination unit determines the state of the belt based on the stop position set for each displacement process.
前記搬送ユニットは、第2方向に前記保持部を変位させる第2駆動部を更に有し、
前記処理制御部は、前記第2処理において、前記第1方向において前記駆動部により前記保持部を変位させる第1変位処理と、前記第2方向において前記第2駆動部により前記保持部を変位させる第2変位処理とを実行し、
前記信号取得部は、前記第2変位処理の実行期間の少なくとも一部と重複する期間において、前記第1変位処理での変位によって発生する前記ベルトの振動に応じた前記振動信号を取得する、請求項1〜8のいずれか一項に記載の基板処理装置。
The transport unit further includes a second drive unit that displaces the holding unit in the second direction.
In the second process, the process control unit displaces the holding unit by the driving unit in the first direction and displaces the holding unit by the second driving unit in the second direction. Execute the second displacement process,
The signal acquisition unit acquires the vibration signal corresponding to the vibration of the belt generated by the displacement in the first displacement process during a period overlapping with at least a part of the execution period of the second displacement process. Item 2. The substrate processing apparatus according to any one of Items 1 to 8.
前記駆動部は、
前記ベルトの少なくとも一部が架け渡され且つ前記第1方向に並ぶ第1プーリ及び第2プーリと、
前記第1プーリを回転させることで、前記ベルトを移動させるモータと、
前記保持部と共に移動するスライダとを更に含み、
前記スライダは、前記第1プーリと前記第2プーリとの間において移動可能となるように前記ベルトに接続されており、
前記ベルトの移動経路に沿って、前記第1プーリ、前記計測ユニット、前記スライダ、及び前記第2プーリがこの順で配置されている、請求項1〜4のいずれか一項に記載の基板処理装置。
The drive unit
With the first pulley and the second pulley in which at least a part of the belt is bridged and arranged in the first direction,
A motor that moves the belt by rotating the first pulley, and
Further including a slider that moves with the holding portion.
The slider is connected to the belt so as to be movable between the first pulley and the second pulley.
The substrate treatment according to any one of claims 1 to 4, wherein the first pulley, the measuring unit, the slider, and the second pulley are arranged in this order along the moving path of the belt. Device.
前記駆動部は、
前記ベルトの少なくとも一部が架け渡され且つ前記第1方向に並ぶ第1プーリ及び第2プーリと、
前記保持部と共に移動するスライダとを更に含み、
前記スライダは、前記第1プーリと前記第2プーリとの間において移動可能となるように前記ベルトに接続されており、
前記ベルトの移動経路に沿って、前記計測ユニット、前記第1プーリ、前記スライダ、及び前記第2プーリがこの順で配置されている、請求項1〜4のいずれか一項に記載の基板処理装置。
The drive unit
With the first pulley and the second pulley in which at least a part of the belt is bridged and arranged in the first direction,
Further including a slider that moves with the holding portion.
The slider is connected to the belt so as to be movable between the first pulley and the second pulley.
The substrate treatment according to any one of claims 1 to 4, wherein the measuring unit, the first pulley, the slider, and the second pulley are arranged in this order along the moving path of the belt. Device.
複数の基板に対して所定の処理を処理ユニットにより順に施す第1処理と、ベルトを含む搬送ユニットにより前記処理ユニットに対する前記複数の基板それぞれの搬入出を行う第2処理とを含むプロセス処理を実行することと、
前記ベルトに近接して設けられた計測ユニットから、前記搬送ユニットの動作に由来する前記ベルトの振動に応じた振動信号を取得することと、
前記振動信号に基づいて前記ベルトの状態を判定することとを含み、
前記振動信号を取得することは、前記プロセス処理の実行期間において前記振動信号を取得することを含む、基板処理方法。
A process process including a first process in which predetermined processes are sequentially performed on a plurality of boards by a processing unit and a second process in which each of the plurality of boards is carried in and out of the processing unit by a transport unit including a belt is executed. To do and
Obtaining a vibration signal corresponding to the vibration of the belt derived from the operation of the transport unit from a measurement unit provided close to the belt, and
Including determining the state of the belt based on the vibration signal.
Acquiring the vibration signal is a substrate processing method including acquiring the vibration signal during the execution period of the process processing.
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Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06218690A (en) * 1993-01-26 1994-08-09 Hitachi Ltd Damping of vibration of driving device which is magnetically joined
JP2017228557A (en) * 2016-06-20 2017-12-28 東京エレクトロン株式会社 Transport device and transport method, and inspection system
WO2018110337A1 (en) * 2016-12-12 2018-06-21 ローツェ株式会社 Waveform analysis device and waveform analysis method

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4391319B2 (en) 2004-05-26 2009-12-24 株式会社神戸製鋼所 How to measure the tension of strip

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06218690A (en) * 1993-01-26 1994-08-09 Hitachi Ltd Damping of vibration of driving device which is magnetically joined
JP2017228557A (en) * 2016-06-20 2017-12-28 東京エレクトロン株式会社 Transport device and transport method, and inspection system
WO2018110337A1 (en) * 2016-12-12 2018-06-21 ローツェ株式会社 Waveform analysis device and waveform analysis method

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