JP2021130112A - Protective membrane formation device - Google Patents

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Abstract

To provide a protective membrane formation device that can acquire a substrate formed with a protective membrane, even if it is a substrate without a hole in a formation region of the protective membrane.SOLUTION: A protective membrane formation device forms a protective membrane P constituted of an adhesive agent R by bonding a molding plate G to a substrate S while being interposed with the adhesive agent R between them. The protective membrane formation device includes: a stage 2 for placing the substrate S thereon; a substrate drive mechanism 3 for causing the stage 2 to advance or retreat relative to the molding plate G; and a detaching unit 4 for detaching the protective membrane P from the molding plate G by moving the substrate S in a direction of separating from the molding plate G.SELECTED DRAWING: Figure 3

Description

本発明は、基板上に保護膜を成形する保護膜形成装置に関する。 The present invention relates to a protective film forming apparatus for forming a protective film on a substrate.

DVDなどの光ディスクは、中央に孔のある円盤状の基板上に、反射膜を蒸着してなる記録層と、当該記録層上に設けられた半透明膜からなる記録層とが設けられている。このような光ディスクの製造方法としては、次のような方法が知られている。すなわち、2枚の基板の片面に、それぞれ記録面を形成する。一方の基板の記録面には、反射膜を蒸着して記録層とし、他方の基板の記録面には、半透明膜を蒸着して記録層とする。 An optical disk such as a DVD is provided with a recording layer formed by depositing a reflective film on a disk-shaped substrate having a hole in the center and a recording layer made of a translucent film provided on the recording layer. .. The following methods are known as methods for manufacturing such optical discs. That is, a recording surface is formed on one side of each of the two substrates. A reflective film is vapor-deposited on the recording surface of one substrate to form a recording layer, and a translucent film is vapor-deposited on the recording surface of the other substrate to form a recording layer.

そして、これらの2枚の基板の記録層を対向させて、接着剤によって貼り合わせる。接着剤の硬化後、他方の基板を、半透明膜との界面で剥離することにより、半透明膜からなる記録層を接着剤側に転写する。 Then, the recording layers of these two substrates are opposed to each other and bonded together with an adhesive. After the adhesive is cured, the other substrate is peeled off at the interface with the translucent film to transfer the recording layer made of the translucent film to the adhesive side.

この剥離には、基板の中央に設けられている孔を利用する技術が用いられる。すなわち、中央の孔から圧縮エアを供給し、半透明膜と基板とを剥離する技術が知られている(例えば、特許文献1参照。)。 For this peeling, a technique using a hole provided in the center of the substrate is used. That is, a technique is known in which compressed air is supplied from the central hole to separate the translucent film from the substrate (see, for example, Patent Document 1).

特許第4020665号公報Japanese Patent No. 4020665

ところで、スマートフォンに代表される携帯端末の表示パネルにおいては、その構成部分である、例えばタッチパネルなどの基板の表面に、紫外線硬化樹脂等の接着剤からなる保護膜を形成する場合がある。そして、このような保護膜の形成に、特許文献1の技術を応用することが考えられる。すなわち、表面に接着剤が塗布された基板に対し、他方の基板を押し付けて接着剤の層を成形し、その後、接着剤を硬化させ、他方の基板を剥離することで、接着剤からなる保護膜を形成する。 By the way, in a display panel of a mobile terminal typified by a smartphone, a protective film made of an adhesive such as an ultraviolet curable resin may be formed on the surface of a substrate such as a touch panel, which is a component of the display panel. Then, it is conceivable to apply the technique of Patent Document 1 to the formation of such a protective film. That is, protection made of an adhesive is formed by pressing the other substrate against the substrate coated with the adhesive to form a layer of the adhesive, then curing the adhesive and peeling the other substrate. Form a film.

光ディスクのように、中央に孔のある基板の場合には、中央の孔に圧縮エアを供給することで、剥離させることができる。しかし、面内に孔のない基板に対しては、圧縮エアの供給口がないため、従来の技術を適用することができない。 In the case of a substrate having a hole in the center such as an optical disk, it can be peeled off by supplying compressed air to the hole in the center. However, the conventional technique cannot be applied to a substrate having no in-plane holes because there is no supply port for compressed air.

本発明は、上記のような課題を解決するためになされたものであり、その目的は、保護膜の形成領域内に孔が設けられていない基板であっても、保護膜が形成された基板を得ることのできる保護膜形成装置を提供することにある。 The present invention has been made to solve the above problems, and an object of the present invention is a substrate on which a protective film is formed even if the substrate is not provided with holes in the region where the protective film is formed. It is an object of the present invention to provide a protective film forming apparatus which can obtain.

本発明の保護膜形成装置は、接着剤を介在させて成形板と基板とを貼り合わせて前記接着剤からなる保護膜を成形する保護膜形成装置であって、前記基板を載せるステージと、前記ステージを前記成形板に対して進退させる基板駆動機構と、前記基板を前記成形板に対して引き離す方向に移動させることで、前記保護膜を前記成形板から剥離する剥離ユニットと、を備えたこと、を特徴とする。 The protective film forming apparatus of the present invention is a protective film forming apparatus for forming a protective film made of the adhesive by adhering a molding plate and a substrate with an adhesive interposed therebetween, and includes a stage on which the substrate is placed and the above. It is provided with a substrate driving mechanism for advancing and retreating the stage with respect to the molded plate, and a peeling unit for peeling the protective film from the molded plate by moving the substrate in a direction of pulling it away from the molded plate. It is characterized by.

前記剥離ユニットは、前記基板の前記成形板からはみ出した、前記接着剤が未塗布の領域を押さえる押さえ部材と、前記押さえ部材を前記成形板に対して前記引き離す方向に沿って移動させる移動機構と、を備えるようにしても良い。 The peeling unit includes a pressing member that presses the area where the adhesive has not been applied, which protrudes from the molded plate of the substrate, and a moving mechanism that moves the pressing member with respect to the molded plate in the direction of pulling the member apart. , May be provided.

前記基板駆動機構および前記移動機構は、前記ステージが前記基板を支持し、前記押さえ部材が前記領域を押さえながら前記基板を前記成形板に対して前記引き離す方向に沿って移動させるようにしても良い。 In the substrate driving mechanism and the moving mechanism, the stage may support the substrate, and the pressing member may move the substrate along the pulling direction with respect to the molded plate while pressing the region. ..

前記押さえ部材は、前記ステージに直交する方向に延びるロッドであり、前記ロッドの先端は丸みを帯びている又は傾斜しているようにしても良い。 The pressing member is a rod extending in a direction orthogonal to the stage, and the tip of the rod may be rounded or inclined.

前記基板は矩形状であり、前記押さえ部材は、前記基板の前記領域を押さえる爪を複数有し、前記爪が間隔を空けて前記基板の前記成形板からはみ出して対向する二辺に沿ってそれぞれ設けようにしても良い。 The substrate has a rectangular shape, and the pressing member has a plurality of claws that press the region of the substrate, and the claws protrude from the molded plate of the substrate at intervals and are located along two opposite sides of the substrate. It may be provided.

前記ステージ上に載せられ、前記成形板および前記基板を支持する治具と、前記ステージ上の前記治具の前記基板駆動機構による移動を規制する治具規制部と、を備え、前記治具は、ベース板と、前記ベース板上に設けられた前記基板が載せられる基台と、前記ベース板と対向して設けられ、前記成形板を支持する成形板支持部材と、前記ベース板に設けられ、前記成形板支持部材を支持する弾性部材と、を備え、前記基板駆動機構は、前記治具を前記治具規制部に対して進出させ、前記成形板支持部材を前記治具規制部に当接させるようにしても良い。 The jig is provided with a jig that is placed on the stage and supports the molded plate and the substrate, and a jig regulating portion that regulates the movement of the jig on the stage by the substrate driving mechanism. , A base plate, a base on which the substrate provided on the base plate is placed, a molded plate support member provided opposite to the base plate and supporting the molded plate, and a base plate provided on the base plate. The substrate drive mechanism has an elastic member that supports the molded plate support member, the substrate driving mechanism advances the jig to the jig regulation portion, and the molded plate support member hits the jig regulation portion. You may make them touch.

前記治具は、前記成形板支持部材と前記ベース板との間に前記弾性部材の伸縮方向を規制するガイドを備えるようにしても良い。 The jig may be provided with a guide for regulating the expansion / contraction direction of the elastic member between the molded plate support member and the base plate.

本発明によれば、保護膜の形成領域内に孔が設けられていない基板であっても、保護膜が形成された基板を得ることのできる保護膜形成装置を得ることができる。 According to the present invention, it is possible to obtain a protective film forming apparatus capable of obtaining a substrate on which a protective film is formed even if the substrate is not provided with holes in the protective film forming region.

第1の実施形態に係る保護膜形成装置の上面から見た模式図である。It is a schematic view seen from the upper surface of the protective film forming apparatus which concerns on 1st Embodiment. 図1の矢視A−A方向から見た保護膜形成装置の模式断面図である。It is a schematic cross-sectional view of the protective film forming apparatus seen from the arrow AA direction of FIG. 図1の矢視B−B方向から見た保護膜形成装置の模式断面図である。It is a schematic cross-sectional view of the protective film forming apparatus seen from the arrow view BB direction of FIG. 第1の実施形態に係る保護膜形成装置における保護膜の成形過程を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the molding process of the protective film in the protective film forming apparatus which concerns on 1st Embodiment. 第2の実施形態に係る保護膜形成装置の上面から見た模式図である。It is a schematic view seen from the upper surface of the protective film forming apparatus which concerns on 2nd Embodiment. 図5の矢視C−C方向から見た保護膜形成装置の模式断面図である。It is a schematic cross-sectional view of the protective film forming apparatus seen from the arrow CC direction of FIG. 図5の矢視D−D方向から見た保護膜形成装置の模式断面図である。It is a schematic cross-sectional view of the protective film forming apparatus seen from the arrow DD direction of FIG. 第2の実施形態に係る保護膜形成装置における保護膜の成形過程を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the molding process of the protective film in the protective film forming apparatus which concerns on 2nd Embodiment. 第3の実施形態に係る保護膜形成装置に使用する治具の上面から見た模式図である。It is a schematic view seen from the upper surface of the jig used for the protective film forming apparatus which concerns on 3rd Embodiment. 第3の実施形態に係る保護膜形成装置の上面から見た模式図である。It is a schematic view seen from the upper surface of the protective film forming apparatus which concerns on 3rd Embodiment. 図10の矢視E−E方向から見た保護膜形成装置の模式断面図である。It is a schematic cross-sectional view of the protective film forming apparatus seen from the arrow view EE direction of FIG. 図10の矢視F−F方向から見た保護膜形成装置の模式断面図である。It is a schematic cross-sectional view of the protective film forming apparatus seen from the arrow view FF direction of FIG. 第3の実施形態に係る保護膜形成装置における保護膜Pの成形過程を示す模式図であり、治具の載置から貼り合わせまでを示す。It is a schematic diagram which shows the molding process of the protective film P in the protective film forming apparatus which concerns on 3rd Embodiment, and shows from the mounting of the jig to the bonding. 第3の実施形態に係る保護膜形成装置における保護膜Pの成形過程を示す模式図であり、保護膜の形成とその剥離開始までを示す。It is a schematic diagram which shows the molding process of the protective film P in the protective film forming apparatus which concerns on 3rd Embodiment, and shows up to the formation of the protective film and the start of peeling thereof. 第3の実施形態に係る保護膜形成装置における保護膜Pの成形過程を示す模式図であり、保護膜の形成とその剥離終了までを示す。It is a schematic diagram which shows the molding process of the protective film P in the protective film forming apparatus which concerns on 3rd Embodiment, and shows up to the formation of the protective film and the completion of peeling thereof. 他の実施形態に係る保護膜形成装置の模式図である。It is a schematic diagram of the protective film forming apparatus which concerns on another embodiment. 他の実施形態に係る保護膜形成装置の模式図である。It is a schematic diagram of the protective film forming apparatus which concerns on another embodiment. 他の実施形態に係る保護膜形成装置の模式図である。It is a schematic diagram of the protective film forming apparatus which concerns on another embodiment.

以下、図面を参照して、本発明の実施形態の保護膜形成装置について説明する。なお、図面は、あくまで模式図であり、装置構成の一部の部材はいずれかの図面でのみ記載され、他の図面では省略している場合がある。 Hereinafter, the protective film forming apparatus according to the embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. It should be noted that the drawings are merely schematic views, and some members of the apparatus configuration may be described only in one of the drawings and may be omitted in the other drawings.

[第1の実施形態]
(構成)
図1は、第1の実施形態に係る保護膜形成装置の上面から見た模式図である。図2は、図1の矢視A−A方向から見た保護膜形成装置の模式断面図、図3は、図1の矢視B−B方向から見た保護膜形成装置の模式断面図である。
[First Embodiment]
(composition)
FIG. 1 is a schematic view of the protective film forming apparatus according to the first embodiment as viewed from above. FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of the protective film forming apparatus seen from the direction of arrow AA in FIG. 1, and FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of the protective film forming apparatus seen from the direction of arrow BB in FIG. be.

本実施形態に係る保護膜形成装置は、接着剤Rを介在させて成形板Gと基板Sとを貼り合わせて接着剤Rからなる保護膜Pを成形する装置である。成形板Gは、保護膜Pを成形するための板状体であり、ここでは透光性を有する矩形状のガラス板であり、より具体的には、透明で平面視で長方形状のガラス板である。成形板Gは、接着剤Rを成形する下面が平坦に形成され、この下面が水平面と平行になるように配置される。 The protective film forming apparatus according to the present embodiment is an apparatus for forming a protective film P made of an adhesive R by adhering a molding plate G and a substrate S with an adhesive R interposed therebetween. The molding plate G is a plate-like body for molding the protective film P, and here, it is a rectangular glass plate having translucency, and more specifically, a transparent and rectangular glass plate in a plan view. Is. The lower surface of the molding plate G for forming the adhesive R is formed flat, and the lower surface is arranged so as to be parallel to the horizontal plane.

基板Sは、保護膜Pを形成する矩形状の対象物であり、例えば、タッチパネルやそのカバーパネルである。このような基板Sは、一般的に、液晶ディスプレイや有機ELディスプレイを代表とする平板状の表示装置、いわゆるフラットパネルディスプレイに組み込まれて構成されている。基板Sとしては、上述のタッチパネルやカバーパネルの他、表示パネル、バックライト、バックライトの導光板等が該当する。 The substrate S is a rectangular object that forms the protective film P, and is, for example, a touch panel or a cover panel thereof. Such a substrate S is generally configured to be incorporated in a flat-panel display device represented by a liquid crystal display or an organic EL display, that is, a so-called flat panel display. The substrate S corresponds to a display panel, a backlight, a light guide plate for a backlight, and the like, in addition to the above-mentioned touch panel and cover panel.

このような基板Sは、個別にあるいは予め積層された状態で筐体に組み込まれる。例えば、保護カバーにタッチパネルを積層した複合パネルとして構成されたものを用いることもある。このように、基板Sとしては様々な形態があるが、表示装置を構成する基板Sを、表示装置用部材と呼ぶ。 Such a substrate S is incorporated into the housing individually or in a state of being laminated in advance. For example, a protective cover configured as a composite panel in which a touch panel is laminated may be used. As described above, there are various forms of the substrate S, and the substrate S constituting the display device is referred to as a display device member.

なお、本実施形態では、基板Sが表示装置を構成する部材であるものとして説明するが、本発明はこれに限定されるものでは無く、保護膜を形成する必要のある基板であれば適用可能である。 In the present embodiment, the substrate S will be described as a member constituting the display device, but the present invention is not limited to this, and can be applied to any substrate on which a protective film needs to be formed. Is.

基板Sには、図1に示すように、接着剤Rが塗布される塗布領域S1と、接着剤Rが塗布されない未塗布領域S2とが設けられる。塗布領域S1は、基板Sの中央部分に設けられ、未塗布領域S2は、その周囲に設けられる。未塗布領域S2は、塗布領域S1の周囲全部でなくとも、基板Sを成形板Gに対して重ね合わせた際にはみ出る部分に設けられれば良い。ここでは、未塗布領域S2は少なくとも対向する二辺に沿って2箇所に設けられている。なお、保護膜Pの形成により基板S上の領域は、膜形成領域と膜未形成領域とに分けられる。保護膜Pの成形の際、成形板Gと基板Sとの貼り合わせにより接着剤Rが押し広げられるため、膜形成領域の方が塗布領域S1より大きく、膜未形成領域の方が未塗布領域S2より小さいが、本実施形態では、保護膜Pの形成や剥離に影響はないものとして説明する。 As shown in FIG. 1, the substrate S is provided with a coated region S1 to which the adhesive R is applied and an uncoated region S2 to which the adhesive R is not applied. The coated region S1 is provided in the central portion of the substrate S, and the uncoated region S2 is provided around the uncoated region S2. The uncoated region S2 may be provided at a portion that protrudes when the substrate S is overlapped with the molded plate G, even if it is not the entire circumference of the coated region S1. Here, the uncoated areas S2 are provided at at least two locations along two opposite sides. The region on the substrate S is divided into a film-formed region and a non-film-formed region by the formation of the protective film P. When the protective film P is formed, the adhesive R is expanded by bonding the molded plate G and the substrate S, so that the film-formed region is larger than the coated region S1 and the uncoated region is the uncoated region. Although it is smaller than S2, in the present embodiment, it will be described as having no effect on the formation and peeling of the protective film P.

基板Sは、具体的には、複数のタッチパネルやカバーパネル等を一括して作成するための、所謂マザーガラスとすることもできる。基板Sは、最終的にタッチパネルやカバーパネル等の製品基板毎に個片化されるが、個片化されるまでの生産工程での利便性を考慮して、外周部は製品として使用されない余白部となっており、当該余白部が未塗布領域S2、膜未形成領域となる。 Specifically, the substrate S can be a so-called mother glass for collectively creating a plurality of touch panels, cover panels, and the like. The substrate S is finally individualized for each product substrate such as a touch panel or a cover panel, but in consideration of convenience in the production process until the substrate S is individualized, the outer peripheral portion is a margin that is not used as a product. The margin portion is an uncoated region S2 and a film unformed region.

接着剤Rは、樹脂であり、ここでは紫外線照射硬化性樹脂である。接着剤Rは、保護膜Pの材料であり、硬化後に基板Sとの間に結合した状態が得られるものであれば良く、硬化前において基板Sと他の物体を結合する機能を有する必要はない。 The adhesive R is a resin, and here, it is an ultraviolet irradiation curable resin. The adhesive R may be a material of the protective film P and may be in a state of being bonded to the substrate S after curing, and must have a function of bonding the substrate S to another object before curing. No.

保護膜形成装置は、接着剤Rが塗布された基板Sを成形板Gに対して貼り合わせて保護膜Pを基板S上に形成する。具体的には、保護膜形成装置は、真空チャンバ1、ステージ2、基板駆動機構3、剥離ユニット4を有する。なお、本明細書において、方向や位置関係を説明するのに「上」や「下」と称する場合があるが、「上」や「下」とは、保護膜形成装置における位置関係をいうものであり、保護膜形成装置が設置された際の位置関係や方向を指すものではない。 The protective film forming apparatus attaches the substrate S coated with the adhesive R to the molded plate G to form the protective film P on the substrate S. Specifically, the protective film forming apparatus includes a vacuum chamber 1, a stage 2, a substrate driving mechanism 3, and a peeling unit 4. In this specification, the directions and positional relationships may be referred to as "upper" and "lower", but "upper" and "lower" refer to the positional relationship in the protective film forming apparatus. It does not refer to the positional relationship or direction when the protective film forming device is installed.

真空チャンバ1は、図2に示すように、一面に開口を有する箱型の本体部11と、当該開口を塞ぐ蓋部12とを有する。真空チャンバ1には、不図示の排気装置が設けられ、この排気装置により内部に真空状態が形成される。蓋部12は、真空チャンバ1内を気密かつ開閉可能に設けられており、環状ブロック121、石英ガラス122、石英ガラス固定部材123を有する。 As shown in FIG. 2, the vacuum chamber 1 has a box-shaped main body portion 11 having an opening on one surface, and a lid portion 12 that closes the opening. An exhaust device (not shown) is provided in the vacuum chamber 1, and a vacuum state is formed inside the exhaust device. The lid portion 12 is provided so as to be airtight and openable / closable in the vacuum chamber 1, and has an annular block 121, a quartz glass 122, and a quartz glass fixing member 123.

環状ブロック121は、その外縁が本体部11の開口縁に乗りかかるようにして設けられ、本体部11に着脱自在に固定される。装置稼働時には、環状ブロック121は、その外周縁と内周縁との間に、本体部11の開口縁が位置して本体部11に固定される。石英ガラス固定部材123は、環状のブロック体であり、その中心孔の周囲に環状の段差が設けられ、当該段差に支持されることにより石英ガラス122が固定される。 The annular block 121 is provided so that its outer edge rests on the opening edge of the main body 11, and is detachably fixed to the main body 11. When the device is in operation, the annular block 121 is fixed to the main body 11 with the opening edge of the main body 11 located between the outer peripheral edge and the inner peripheral edge thereof. The quartz glass fixing member 123 is an annular block body, and an annular step is provided around the central hole thereof, and the quartz glass 122 is fixed by being supported by the step.

蓋部12には、成形板固定部材124が固定される。成形板固定部材124は、成形板Gを真空チャンバ1内で固定する部材であり、図1および図2に示すように所定間隔を隔てた一対の部材からなり、石英ガラス固定部材123に設けられている。成形板Gは、成形板固定部材124により、石英ガラス122と面で当接した状態で真空チャンバ1内において固定される。但し、成形板Gは真空チャンバ1内で固定されていれば良く、必ずしも石英ガラス122と当接していなくても良い。成形板固定部材124は、成形板Gの基板Sからはみ出した対向する二辺をそれぞれ支持することで成形板Gを固定する。このとき、成形板Gの下面が接着剤Rを成形する平坦面である。 The molded plate fixing member 124 is fixed to the lid portion 12. The molded plate fixing member 124 is a member for fixing the molded plate G in the vacuum chamber 1, is composed of a pair of members separated by a predetermined interval as shown in FIGS. 1 and 2, and is provided on the quartz glass fixing member 123. ing. The molded plate G is fixed in the vacuum chamber 1 by the molded plate fixing member 124 in a state of being in surface contact with the quartz glass 122. However, the molded plate G may be fixed in the vacuum chamber 1 and may not necessarily be in contact with the quartz glass 122. The molded plate fixing member 124 fixes the molded plate G by supporting two opposing sides of the molded plate G protruding from the substrate S. At this time, the lower surface of the molding plate G is a flat surface on which the adhesive R is molded.

石英ガラス122は、環状ブロック121の中心孔を介して真空チャンバ1の外部に露出している。石英ガラス122の上方で対向する位置には、紫外線照射装置10が設けられており、石英ガラス122および成形板Gを介して真空チャンバ1内を照射する。 The quartz glass 122 is exposed to the outside of the vacuum chamber 1 through the central hole of the annular block 121. An ultraviolet irradiation device 10 is provided at a position facing above the quartz glass 122, and irradiates the inside of the vacuum chamber 1 via the quartz glass 122 and the molded plate G.

ステージ2は、基板Sを載せる部材であり、真空チャンバ1内に設けられている。ステージ2は、基板Sと同じか若干大きな平板であり、基板S全体を支持する。ここではステージ2は基板Sと同じ大きさの平板である。図1に示すように、基板Sは、ステージ2上に、平面視したときに対向する二辺が成形板Gからはみ出るように載置される。このはみ出し領域は、上下方向において成形板固定部材124と重複しない。 The stage 2 is a member on which the substrate S is placed, and is provided in the vacuum chamber 1. The stage 2 is a flat plate that is the same size as or slightly larger than the substrate S, and supports the entire substrate S. Here, the stage 2 is a flat plate having the same size as the substrate S. As shown in FIG. 1, the substrate S is placed on the stage 2 so that two opposite sides protrude from the molding plate G when viewed in a plan view. This protruding region does not overlap with the molded plate fixing member 124 in the vertical direction.

基板駆動機構3は、ステージ2と連結し、ステージ2を成形板Gに対して進退させる。その進退方向は、成形板Gと直交する上下方向である。基板駆動機構3は、真空チャンバ1に気密に挿通され、一端がステージ2と連結されたロッド31と、ロッド31の他端と接続され、ロッド31を進退させる駆動源32とから構成される。駆動源32としては、例えばエアシリンダを用いることができる。 The substrate drive mechanism 3 is connected to the stage 2 and advances and retreats the stage 2 with respect to the molding plate G. The advancing / retreating direction is a vertical direction orthogonal to the molded plate G. The substrate drive mechanism 3 is composed of a rod 31 which is airtightly inserted into the vacuum chamber 1 and one end of which is connected to the stage 2, and a drive source 32 which is connected to the other end of the rod 31 and advances and retreats the rod 31. As the drive source 32, for example, an air cylinder can be used.

剥離ユニット4は、成形板Gの下面に対し垂直に延びるロッド41と、ロッド41を成形板G又は成形板固定部材124に対して引き離す方向に沿って移動させる移動機構42とを有する。本実施形態では、ロッド41は円柱状でありステージ2の基板Sの載置面に直交する方向に延びており、基板Sがステージ2上に載置されたとき、ロッド41はステージ2上の基板Sに対して直交する方向に延びている。すなわち、図1に示すように、ロッド41は、基板Sの成形板Gからのはみ出し領域を押さえる押さえ部材である。ここでは、基板Sの成形板Gからのはみ出し領域と、未塗布領域S2とは一致しているものとする。ロッド41は、未塗布領域S2上に、成形板Gからはみ出して対向する二辺(以下、はみ出し辺とも言う。)に沿って等間隔に複数(ここでは各はみ出し辺に3本ずつの合計6本)設けられている。そのため、ロッド41は、はみ出し辺に直交する二辺に沿って設けられる成形板固定部材124と物理的な干渉は生じない。 The peeling unit 4 has a rod 41 extending perpendicularly to the lower surface of the molded plate G, and a moving mechanism 42 for moving the rod 41 along the direction of pulling the rod 41 away from the molded plate G or the molded plate fixing member 124. In the present embodiment, the rod 41 is columnar and extends in a direction orthogonal to the mounting surface of the substrate S of the stage 2, and when the substrate S is mounted on the stage 2, the rod 41 is mounted on the stage 2. It extends in a direction orthogonal to the substrate S. That is, as shown in FIG. 1, the rod 41 is a pressing member that presses the protruding region of the substrate S from the molded plate G. Here, it is assumed that the protruding region of the substrate S from the molded plate G and the uncoated region S2 coincide with each other. A plurality of rods 41 are provided on the uncoated region S2 at equal intervals along two opposite sides (hereinafter, also referred to as protruding sides) protruding from the molded plate G (here, three rods on each protruding side, for a total of 6). Book) is provided. Therefore, the rod 41 does not physically interfere with the molded plate fixing member 124 provided along the two sides orthogonal to the protruding side.

一方のはみ出し辺に沿った3本のロッド41および他方のはみ出し辺に沿った3本のロッド41は、それぞれ連結部43によって連結されている。連結部43は、例えばロッド41の並び方向に延びる長板、又は長ブロックである。ロッド41は、成形板Gと基板Sとの貼合わせ時においては、成形板Gの下面よりも上方の退避位置に退避し、貼合わせ後に下降し、基板Sの未塗布領域S2と当接する。移動機構42は、エアシリンダを駆動源とし、連結部43を介してロッド41を昇降させる。移動機構42としては、エアシリンダに代えて、モータによって駆動するボールねじ機構を用いることもできる。 The three rods 41 along one protruding side and the three rods 41 along the other protruding side are each connected by a connecting portion 43. The connecting portion 43 is, for example, a long plate or a long block extending in the alignment direction of the rods 41. When the molded plate G and the substrate S are bonded, the rod 41 retracts to a retracted position above the lower surface of the molded plate G, descends after bonding, and comes into contact with the uncoated region S2 of the substrate S. The moving mechanism 42 uses an air cylinder as a drive source to move the rod 41 up and down via the connecting portion 43. As the moving mechanism 42, a ball screw mechanism driven by a motor can be used instead of the air cylinder.

(作用)
図4を用いて、本実施形態に係る保護膜形成装置の作用について説明する。図4は、保護膜Pの成形過程を示す模式図である。なお、成形板Gは、予め成形板固定部材124により真空チャンバ1内で蓋部12に固定され、排気装置により内部が真空状態にあるものとする。また、真空チャンバ1内への基板Sの搬入及び搬出、並びに、ステージ2への載置及び取出しは、不図示のロードロック室および搬送手段を用いて自動で行うものとする。
(Action)
The operation of the protective film forming apparatus according to the present embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 4 is a schematic view showing a molding process of the protective film P. It is assumed that the molded plate G is previously fixed to the lid portion 12 in the vacuum chamber 1 by the molded plate fixing member 124, and the inside is in a vacuum state by the exhaust device. Further, the loading and unloading of the substrate S into the vacuum chamber 1 and the loading and unloading on the stage 2 shall be automatically performed using a load lock chamber and a transporting means (not shown).

まず、図4(a)に示すように、基板Sが、接着剤Rが塗布された状態でステージ2上に載置される。このとき、基板Sは、成形板Gと対面し、図1に示すように、成形板Gから未塗布領域S2がはみ出している。 First, as shown in FIG. 4A, the substrate S is placed on the stage 2 with the adhesive R applied. At this time, the substrate S faces the molded plate G, and as shown in FIG. 1, the uncoated region S2 protrudes from the molded plate G.

次に、図4(b)に示すように、基板駆動機構3により、ステージ2が上昇し、接着剤Rを介して基板Sと成形板Gとは貼り合わされる。すなわち、ステージ2が上昇することで成形板Gに接着剤Rが接触し、基板S上で押し広げられる。予め設定された高さまでステージ2が上昇するとステージ2は停止され、その状態で紫外線照射装置10により、接着剤Rに紫外線が照射される(図4(c)参照)。紫外線は、環状ブロック121を介し、石英ガラス122、及び成形板Gを透過して接着剤Rに到達する。これにより、接着剤Rが硬化し、成形板Gと基板Sとの間に接着剤Rからなる保護膜Pが形成される。ここで、予め設定された高さとは、例えば、成形板Gに対する押し付けによって押し広げられた接着剤Rが膜形成領域の全域にちょうど広がる程度の高さである。 Next, as shown in FIG. 4B, the substrate driving mechanism 3 raises the stage 2, and the substrate S and the molded plate G are bonded to each other via the adhesive R. That is, as the stage 2 rises, the adhesive R comes into contact with the molded plate G and is spread on the substrate S. When the stage 2 rises to a preset height, the stage 2 is stopped, and in that state, the adhesive R is irradiated with ultraviolet rays by the ultraviolet irradiation device 10 (see FIG. 4C). Ultraviolet rays pass through the quartz glass 122 and the molded plate G via the annular block 121 and reach the adhesive R. As a result, the adhesive R is cured, and a protective film P made of the adhesive R is formed between the molded plate G and the substrate S. Here, the preset height is, for example, a height at which the adhesive R spread by pressing against the molded plate G spreads over the entire film forming region.

この貼り合わせ時では、ロッド41は、退避位置に退避している。紫外線の照射が停止された後、移動機構42によりロッド41が下降し、ロッド41の先端が基板Sの未塗布領域S2に当接する。その際、ステージ2が基板Sを支持しているので、図4(d)に示すように、成形板Gからの基板Sのはみ出し部分がロッド41の先端とステージ2との間で挟持される。このはみ出し部分が挟持された状態で、ロッド41とステージ2は、同一の下降速度で下降する。換言すれば、基板駆動機構3および移動機構42は、ステージ2が基板Sを支持し、ロッド41が未塗布領域S2を押さえながら基板Sを成形板Gに対して離れる方向(ここでは下方)に移動させる。本実施形態では、移動機構42としてエアシリンダを用いているので、ロッド41を所定の力で基板Sに押し付けておけば、ステージ2を下降させるだけでロッド41をステージ2と同じ速度で下降させることができる。 At the time of this bonding, the rod 41 is retracted to the retracted position. After the irradiation of ultraviolet rays is stopped, the rod 41 is lowered by the moving mechanism 42, and the tip of the rod 41 comes into contact with the uncoated region S2 of the substrate S. At that time, since the stage 2 supports the substrate S, as shown in FIG. 4D, the protruding portion of the substrate S from the molding plate G is sandwiched between the tip of the rod 41 and the stage 2. .. The rod 41 and the stage 2 descend at the same descending speed while the protruding portion is sandwiched. In other words, in the substrate drive mechanism 3 and the moving mechanism 42, the stage 2 supports the substrate S, and the rod 41 holds the uncoated region S2 while moving the substrate S away from the molding plate G (in this case, downward). Move. In the present embodiment, since an air cylinder is used as the moving mechanism 42, if the rod 41 is pressed against the substrate S with a predetermined force, the rod 41 is lowered at the same speed as the stage 2 only by lowering the stage 2. be able to.

このとき、接着剤Rが既に硬化しているので、保護膜Pは基板Sに接着されているとともに成形板Gにも接着されている。そのため、保護膜Pが成形板Gから剥がれまいとするが、図4(e)に示すように、ロッド41で基板Sの端部分が押し下げられることで、基板Sが反って成形板Gから保護膜Pがその端から順に剥離する。すなわち、基板Sの中央部は保護膜Pが成形板Gに接着されているため、その場に留まろうとするが、基板Sの端はロッド41により押し下げられるので、はみ出し辺に対向する保護膜Pの端部分には、成形板Gから剥離する方向の力が集中的に作用する。これにより、保護膜Pはその端から成形板Gから剥離する。このように、基板Sがステージ2で支持された状態でロッド41を押し下げるので、ステージ2を下降させたと同時に剥離を開始することができる。 At this time, since the adhesive R has already been cured, the protective film P is adhered to the substrate S and also to the molded plate G. Therefore, the protective film P is prevented from peeling off from the molded plate G, but as shown in FIG. 4 (e), the end portion of the substrate S is pushed down by the rod 41, so that the substrate S is warped and protected from the molded plate G. The film P is peeled off in order from the end. That is, since the protective film P is adhered to the molded plate G in the central portion of the substrate S, it tries to stay in place, but since the end of the substrate S is pushed down by the rod 41, the protective film facing the protruding side A force in the direction of peeling from the molded plate G acts intensively on the end portion of P. As a result, the protective film P is peeled from the molded plate G from its end. In this way, since the rod 41 is pushed down while the substrate S is supported by the stage 2, the peeling can be started at the same time as the stage 2 is lowered.

さらに継続して、ロッド41およびステージ2が基板Sを下降させることで、基板Sの端から徐々に中央部分に向けて保護膜Pを剥離し、最終的には保護膜P全体が成形板Gから剥離する(図4(f))。成形板Gの下面が平らであるので、形成された保護膜Pの表面は平らである。以上のようにして、表面に保護膜Pを形成した基板Sを得ることができる。なお、保護膜Pの剥離後は、ロッド41を所定位置に上昇させる。 Further, continuously, the rod 41 and the stage 2 lower the substrate S to gradually peel off the protective film P from the edge of the substrate S toward the central portion, and finally the entire protective film P is formed by the molded plate G. (Fig. 4 (f)). Since the lower surface of the molded plate G is flat, the surface of the formed protective film P is flat. As described above, the substrate S having the protective film P formed on the surface can be obtained. After the protective film P is peeled off, the rod 41 is raised to a predetermined position.

(効果)
本実施形態の保護膜形成装置は、接着剤Rを介在させて成形板Gと基板Sとを貼り合わせて接着剤Rからなる保護膜Pを成形する保護膜形成装置であって、基板Sを載せるステージ2と、ステージ2を成形板Gに対して進退させる基板駆動機構3と、基板Sを成形板Gに対して引き離す方向に移動させることで、保護膜Pを成形板Gから剥離する剥離ユニット4と、を備えるようにした。
(effect)
The protective film forming apparatus of the present embodiment is a protective film forming apparatus that forms a protective film P made of an adhesive R by adhering a molding plate G and a substrate S with an adhesive R interposed therebetween. The protective film P is peeled off from the molded plate G by moving the stage 2 on which the stage 2 is placed, the substrate driving mechanism 3 for advancing and retreating the stage 2 with respect to the molded plate G, and the substrate S in the direction of pulling away from the molded plate G. It is provided with a unit 4.

これにより、接着剤Rを介して成形板Gと面内に孔のない基板Sとを貼り合わせた場合であっても、保護膜Pを成形した上で、成形板Gから保護膜Pを剥がすことができ、表面に保護膜Pが形成された基板Sを得ることができる。 As a result, even when the molded plate G and the substrate S having no holes in the surface are bonded to each other via the adhesive R, the protective film P is molded and then the protective film P is peeled off from the molded plate G. It is possible to obtain a substrate S having a protective film P formed on its surface.

剥離ユニット4は、基板Sの成形板Gからはみ出した領域を押さえる押さえ部材と、当該押さえ部材を成形板Gに対して引き離す方向に沿って移動させる移動機構42と、を備え、押さえ部材を、ステージ2に直交する方向に延びるロッド41とした。 The peeling unit 4 includes a pressing member that presses the region protruding from the molded plate G of the substrate S, and a moving mechanism 42 that moves the pressing member along the direction of pulling the pressing member away from the molded plate G. The rod 41 extends in a direction orthogonal to the stage 2.

これにより、最初に基板Sの成形板Gからのはみ出し領域を反らせて、成形板Gに対し保護膜Pの端から徐々に剥離させることができ、保護膜Pを剥がしやすくすることができる。その結果、成形板Gに保護膜Pが残るのを抑制することができる。 As a result, the protruding region of the substrate S from the molded plate G can be first warped so that the molded plate G can be gradually peeled from the edge of the protective film P, and the protective film P can be easily peeled off. As a result, it is possible to prevent the protective film P from remaining on the molded plate G.

基板駆動機構3および移動機構42は、ステージ2が基板Sを支持し、ロッド41が未塗布領域S2を押さえながら基板Sを成形板Gに対して引き離す方向に沿って移動させるようにした。これにより、基板Sの未塗布領域S2が引き離される方向に移動して基板Sが反っても、基板Sの端にある未塗布領域S2をロッド41とステージ2とで挟持しているので、ステージ2上での基板Sの位置ズレを防止することができる。その結果、例えば、保護膜Pを剥離させた後、基板Sを搬出するときに、位置ズレに起因する他の構成部品への干渉などの不具合を防止することができる。 In the substrate driving mechanism 3 and the moving mechanism 42, the stage 2 supports the substrate S, and the rod 41 moves the substrate S along the direction of pulling it away from the molded plate G while pressing the uncoated region S2. As a result, even if the uncoated region S2 of the substrate S moves in the direction of being separated and the substrate S warps, the uncoated region S2 at the end of the substrate S is sandwiched between the rod 41 and the stage 2, so that the stage It is possible to prevent the displacement of the substrate S on the 2. As a result, for example, when the substrate S is carried out after the protective film P is peeled off, it is possible to prevent problems such as interference with other components due to misalignment.

基板Sは矩形状であり、ロッド41は、基板Sの成形板Gからはみ出して対向する二辺に沿って複数設けるようにした。 The substrate S has a rectangular shape, and a plurality of rods 41 are provided along two opposite sides protruding from the molded plate G of the substrate S.

これにより、保護膜Pの剥離が一点からではなく、対向する辺から剥離させることで、保護膜Pをきれいに剥がすことができる。換言すれば、成形板Gに保護膜Pが残るのを抑制することができる。また、ステージ2とロッド41の移動量が一点又は片側からの剥離よりも少なくなるので、装置の小型化を図ることができる。なお、変形例として、はみ出し辺に沿って設ける複数のロッド41は、長さを異ならせても良い。例えば、片側に3本あるロッド41のうち、真ん中のロッド41を外側より短くすれば、移動機構42によりロッド41が下降すると、先の外側のロッド41が基板Sの未塗布領域S2に接触して沿っていくため、基板Sの反り方を調整することができる。 As a result, the protective film P can be peeled off cleanly by peeling the protective film P not from one point but from the opposite sides. In other words, it is possible to prevent the protective film P from remaining on the molded plate G. Further, since the amount of movement of the stage 2 and the rod 41 is smaller than that of peeling from one point or one side, the size of the device can be reduced. As a modification, the plurality of rods 41 provided along the protruding side may have different lengths. For example, if the middle rod 41 is made shorter than the outside among the three rods 41 on one side, when the rod 41 is lowered by the moving mechanism 42, the outer rod 41 comes into contact with the uncoated region S2 of the substrate S. Therefore, the warp of the substrate S can be adjusted.

[第2の実施形態]
(構成)
第2の実施形態に係る保護膜形成装置を図5〜図8を用いて説明する。第2の実施形態は、第1の実施形態と基本構成は同じである。よって、第1の実施形態と異なる点のみを説明し、第1の実施形態と同じ部分については同じ符号を付して詳細な説明は省略する。
[Second Embodiment]
(composition)
The protective film forming apparatus according to the second embodiment will be described with reference to FIGS. 5 to 8. The second embodiment has the same basic configuration as the first embodiment. Therefore, only the points different from those of the first embodiment will be described, and the same parts as those of the first embodiment are designated by the same reference numerals and detailed description thereof will be omitted.

図5は、第2の実施形態に係る保護膜形成装置の上面から見た模式図である。図6は、図5の矢視C−C方向から見た保護膜形成装置の模式断面図である。図7は、図5の矢視D−D方向から見た保護膜形成装置の模式断面図である。 FIG. 5 is a schematic view of the protective film forming apparatus according to the second embodiment as viewed from above. FIG. 6 is a schematic cross-sectional view of the protective film forming apparatus seen from the direction of arrow CC in FIG. FIG. 7 is a schematic cross-sectional view of the protective film forming apparatus seen from the direction of arrow DD in FIG.

図5に示すように、本実施形態の押さえ部材は、基板Sの未塗布領域S2を押さえる爪44aを有する板状体44であり、平面視でE字形状を有する。このE字の各脚の部分を爪44aが構成し、3つの爪44aが長板部分で結合されている。但し、爪44aの数は特に限定されず、少なくとも1つ以上設けられていれば良い。 As shown in FIG. 5, the pressing member of the present embodiment is a plate-shaped body 44 having a claw 44a for pressing the uncoated region S2 of the substrate S, and has an E-shape in a plan view. Claws 44a form each leg portion of the E-shape, and three claws 44a are connected by a long plate portion. However, the number of claws 44a is not particularly limited, and at least one or more claws may be provided.

ここでは押さえ部材として2枚の板状体44が、平面視すると各爪44aを対向させて成形板固定部材124間に、成形板固定部材124の延びる方向とは直交するように設けられており、成形板固定部材124と物理的に干渉しない。換言すると、平面視すると、爪44aが、成形板Gの成形板固定部材124により支持されない二辺に向けて延びるように板状体44が対向配置される。 Here, two plate-shaped bodies 44 are provided as pressing members so that the claws 44a face each other and are orthogonal to the extending direction of the molded plate fixing member 124 between the molded plate fixing members 124 when viewed in a plan view. , Does not physically interfere with the molded plate fixing member 124. In other words, when viewed in a plan view, the plate-like bodies 44 are arranged to face each other so that the claws 44a extend toward two sides that are not supported by the molding plate fixing member 124 of the molding plate G.

板状体44は、図6に示すように、成形板固定部材124より若干下方に位置し、成形板Gが成形板固定部材124に配設された際には、成形板Gの脇に位置する。すなわち、板状体44が配置される高さは成形板固定部材124に架橋された成形板Gと基板Sとの貼り合わせの際に干渉しない高さ、より具体的には、成形板Gの下面よりも高い退避位置に退避している。本実施形態では、爪44aの部分が連結部43より厚みが肉薄となっており、肉薄部分の爪44aが基板Sの成形板Gからのはみ出し領域上に位置する。なお、爪44aの部分だけ板状体44の厚みを薄くする必要は無く、厚み均一であっても良い。 As shown in FIG. 6, the plate-shaped body 44 is located slightly below the molded plate fixing member 124, and is positioned beside the molded plate G when the molded plate G is arranged on the molded plate fixing member 124. do. That is, the height at which the plate-shaped body 44 is arranged is a height at which the molded plate G bridged to the molded plate fixing member 124 and the substrate S do not interfere with each other, more specifically, the height of the molded plate G. It is retracted to a retracted position higher than the bottom surface. In the present embodiment, the portion of the claw 44a is thinner than the connecting portion 43, and the thin portion of the claw 44a is located on the protruding region of the substrate S from the molded plate G. It is not necessary to reduce the thickness of the plate-shaped body 44 only at the portion of the claw 44a, and the thickness may be uniform.

爪44aは、基板Sの成形板Gからはみ出した未塗布領域S2と対面する。図7に示すように、板状体44には、これと直交するように上方に延びる棒状体45が各板状体44に2本設けられている。これらの棒状体45は、連結部43により連結され、棒状体45が連結部43を介して移動機構42に連結されている。すなわち、棒状体45が移動機構42を駆動源として板状体44を成形板Gに対し引き離す方向に沿って移動させることで、爪44aが下降し、成形板Gと貼り合わされた基板Sと未塗布領域S2において当接する。 The claw 44a faces the uncoated region S2 protruding from the molded plate G of the substrate S. As shown in FIG. 7, the plate-shaped body 44 is provided with two rod-shaped bodies 45 extending upward so as to be orthogonal to the plate-shaped body 44. These rod-shaped bodies 45 are connected by a connecting portion 43, and the rod-shaped body 45 is connected to the moving mechanism 42 via the connecting portion 43. That is, when the rod-shaped body 45 moves the plate-shaped body 44 in the direction of pulling the plate-shaped body 44 away from the molded plate G by using the moving mechanism 42 as a drive source, the claws 44a are lowered and are not attached to the substrate S bonded to the molded plate G. Contact in the coating area S2.

(作用)
図8を用いて、本実施形態に係る保護膜形成装置の作用について説明する。図8は、保護膜Pの成形過程を示す模式図である。なお、図8(a)〜(c)は、図4(a)〜(c)と同様の動作であるので、その説明は省略する。
(Action)
The operation of the protective film forming apparatus according to the present embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 8 is a schematic view showing a molding process of the protective film P. Note that FIGS. 8 (a) to 8 (c) have the same operations as those in FIGS. 4 (a) to 4 (c), and thus the description thereof will be omitted.

成形板Gと基板Sの貼合わせの際、板状体44は、退避位置に退避している。紫外線の照射が停止された後、移動機構42により棒状体45が下降し、爪44aの下面が基板Sの未塗布領域S2に当接する。その際、ステージ2が基板Sを支持しているので、図8(d)に示すように、成形板Gからの基板Sのはみ出し部分がステージ2との間で挟持される。このはみ出し部分が挟持された状態で、板状体44とステージ2は、同一の下降速度で下降する。 When the molded plate G and the substrate S are bonded together, the plate-shaped body 44 is retracted to the retracted position. After the irradiation of ultraviolet rays is stopped, the rod-shaped body 45 is lowered by the moving mechanism 42, and the lower surface of the claw 44a comes into contact with the uncoated region S2 of the substrate S. At that time, since the stage 2 supports the substrate S, as shown in FIG. 8D, the protruding portion of the substrate S from the molding plate G is sandwiched between the stage 2 and the stage 2. With the protruding portion sandwiched between the plate-shaped body 44 and the stage 2, the plate-shaped body 44 and the stage 2 descend at the same descending speed.

このとき、接着剤Rが既に硬化しているので、保護膜Pが基板Sとともに成形板Gに接着されている。保護膜Pが成形板Gから剥がれまいとするが、図8(e)に示すように、爪44aで基板Sの端部分が押し下げられることで、基板Sが反って、成形板Gから保護膜Pがその端から順に剥離する。このとき、棒状体45が下降する一方で、棒状体45から距離の離れた爪44aが基板Sの未塗布領域S2から抗力を受けることで板状体44自体がしなり、基板Sの端部分の角(辺)だけで押さえることができるので、未塗布領域S2が反りやすく、保護膜Pの剥離をしやすくすることができる。また、第1の実施形態と比べて、未塗布領域S2の一辺を全体的に押し下げることになるので、局所的に押し下げるよりも基板Sの破損やキズを抑制することができる。さらに爪44aおよびステージ2が基板Sを継続して下降させることで、保護膜Pの中央部分に剥離が広がり、保護膜P全体が成形板Gから剥離する(図8(f))。成形板Gが平らであるので、形成された保護膜Pの表面は平らである。以上のようにして、表面に保護膜Pを形成した基板Sを得ることができる。なお、保護膜Pの剥離後は、板状体44を退避位置に上昇させる。 At this time, since the adhesive R has already been cured, the protective film P is adhered to the molded plate G together with the substrate S. Although the protective film P is not peeled off from the molded plate G, as shown in FIG. 8 (e), when the end portion of the substrate S is pushed down by the claw 44a, the substrate S is warped and the protective film is warped from the molded plate G. P peels off in order from the end. At this time, while the rod-shaped body 45 descends, the claw 44a away from the rod-shaped body 45 receives a drag force from the uncoated region S2 of the substrate S, so that the plate-shaped body 44 itself bends and the end portion of the substrate S is formed. Since it can be pressed only by the corners (sides) of the uncoated region S2, the uncoated region S2 is likely to warp, and the protective film P can be easily peeled off. Further, as compared with the first embodiment, since one side of the uncoated region S2 is pushed down as a whole, damage and scratches on the substrate S can be suppressed as compared with pushing down locally. Further, when the claw 44a and the stage 2 continuously lower the substrate S, the peeling spreads to the central portion of the protective film P, and the entire protective film P is peeled from the molded plate G (FIG. 8 (f)). Since the molded plate G is flat, the surface of the formed protective film P is flat. As described above, the substrate S having the protective film P formed on the surface can be obtained. After the protective film P is peeled off, the plate-shaped body 44 is raised to the retracted position.

(効果)
本実施形態では、押さえ部材は、基板Sの未塗布領域S2を押さえる爪44aを有する板状体44とした。また、基板Sは矩形状であり、爪44aは、間隔を空けて複数設けられ、板状体44は、爪44aを基板Sの成形板Gからはみ出して対向する二辺に沿ってそれぞれ設けるようにした。
(effect)
In the present embodiment, the pressing member is a plate-shaped body 44 having a claw 44a that presses the uncoated region S2 of the substrate S. Further, the substrate S has a rectangular shape, and a plurality of claws 44a are provided at intervals, and the plate-shaped body 44 is provided so that the claws 44a protrude from the molded plate G of the substrate S and are provided along two opposite sides. I made it.

これにより、保護膜Pの剥離が一点からではなく、対向する辺から剥離させることで、保護膜Pをきれいに剥がすことができる。換言すれば、成形板Gに保護膜Pが残るのを抑制することができる。 As a result, the protective film P can be peeled off cleanly by peeling the protective film P not from one point but from the opposite sides. In other words, it is possible to prevent the protective film P from remaining on the molded plate G.

[第3の実施形態]
(構成)
第3の実施形態に係る保護膜形成装置を図9〜図13を用いて説明する。第3の実施形態は、第2の実施形態と基本構成は同じである。よって、第2の実施形態と異なる点のみを説明し、第2の実施形態と同じ部分については同じ符号を付して詳細な説明は省略する。
[Third Embodiment]
(composition)
The protective film forming apparatus according to the third embodiment will be described with reference to FIGS. 9 to 13. The third embodiment has the same basic configuration as the second embodiment. Therefore, only the points different from those of the second embodiment will be described, and the same parts as those of the second embodiment are designated by the same reference numerals and detailed description thereof will be omitted.

第2の実施形態では、成形板Gが予め成形板固定部材124により真空チャンバ1内に固定されたが、本実施形態では、成形板Gと基板Sがともに治具5により真空チャンバ1内に搬入される。本実施形態では成形板固定部材124が設けられていない。 In the second embodiment, the molding plate G is previously fixed in the vacuum chamber 1 by the molding plate fixing member 124, but in the present embodiment, both the molding plate G and the substrate S are placed in the vacuum chamber 1 by the jig 5. It will be carried in. In this embodiment, the molded plate fixing member 124 is not provided.

図9は、第3の実施形態に係る保護膜形成装置に使用する治具5の上面から見た模式図である。図10は、第3の実施形態に係る保護膜形成装置の上面から見た模式図である。図11は、図10の矢視E−E方向から見た保護膜形成装置の模式断面図である。図12は、図10の矢視F−F方向から見た保護膜形成装置の模式断面図である。 FIG. 9 is a schematic view of the jig 5 used in the protective film forming apparatus according to the third embodiment as viewed from the upper surface. FIG. 10 is a schematic view of the protective film forming apparatus according to the third embodiment as viewed from above. FIG. 11 is a schematic cross-sectional view of the protective film forming apparatus seen from the direction of arrow EE in FIG. FIG. 12 is a schematic cross-sectional view of the protective film forming apparatus seen from the direction of arrow FF in FIG.

治具5は、保護膜Pの成形対象である基板Sと、保護膜Pを成形する成形板Gとを、1つの組として真空チャンバ1内に搬入および搬出するユニットであり、基板Sと成形板Gの貼り合わせに使用される。治具5は、本実施形態の保護膜形成装置に備えられる。 The jig 5 is a unit that carries in and out a substrate S, which is a molding target of the protective film P, and a molding plate G, which forms the protective film P, into the vacuum chamber 1 as a set, and is molded with the substrate S. It is used for laminating plates G. The jig 5 is provided in the protective film forming apparatus of the present embodiment.

具体的な構成としては、図9〜図12に示すように、治具5は、ベース板51、基台52、成形板支持部材53、バネ54、及びガイド55を有する。 As a specific configuration, as shown in FIGS. 9 to 12, the jig 5 includes a base plate 51, a base 52, a molded plate support member 53, a spring 54, and a guide 55.

ベース板51は、矩形状の平板であり、治具5におけるベースとなる。基台52は、例えば、直方体形状のブロック体であり、ベース板51上に設けられ、その上面は基板Sが載せられる載置面となっている。 The base plate 51 is a rectangular flat plate and serves as a base for the jig 5. The base 52 is, for example, a rectangular parallelepiped block body, which is provided on the base plate 51, and the upper surface thereof is a mounting surface on which the substrate S is placed.

成形板支持部材53は、ベース板51と対向するように設けられ、ベース板51に対して昇降自在に成形板Gを支持する。具体的には、成形板支持部材53は、一対の長板状体53a、53bからなり、成形板Gの一辺部分、具体的には短辺側の部分が載置される段差が設けられている。成形板支持部材53は、長板状体53a、53bを平行にしてベース板51と対向するように設けられ、段差部分で成形板Gの短辺を支持する。 The molded plate support member 53 is provided so as to face the base plate 51, and supports the molded plate G so as to be able to move up and down with respect to the base plate 51. Specifically, the molded plate support member 53 is composed of a pair of long plate-shaped bodies 53a and 53b, and is provided with a step on which one side portion of the molded plate G, specifically, the short side portion is placed. There is. The molded plate support member 53 is provided so that the elongated plates 53a and 53b are parallel to each other and face the base plate 51, and the short side of the molded plate G is supported by the stepped portion.

バネ54は、ベース板51に設けられ、成形板支持部材53を支持する弾性部材である。詳細には、バネ54の一端がベース板51に固定され、他端が成形板支持部材53の下面に固定される。バネ54は複数設けられており、ここでは、各長板状体53a、53bに対し、2本のバネが設けられている。バネ54は、成形板支持部材53およびベース板51を付勢する圧縮バネであり、上下方向に伸縮する。このバネ54は、保護膜Pの成形板Gに対する接着力よりも大きな弾性力を有する。すなわち、圧縮されたバネに、その弾性力によって生じる反発力、つまり、保護膜Pを成形板Gから剥がそうとする力が、保護膜Pを成形板Gから剥離させるのに要する力よりも大きいバネ54を用いている。 The spring 54 is an elastic member provided on the base plate 51 and supporting the molded plate support member 53. Specifically, one end of the spring 54 is fixed to the base plate 51, and the other end is fixed to the lower surface of the molded plate support member 53. A plurality of springs 54 are provided, and here, two springs are provided for each of the elongated plate-shaped bodies 53a and 53b. The spring 54 is a compression spring that urges the molded plate support member 53 and the base plate 51, and expands and contracts in the vertical direction. The spring 54 has an elastic force larger than the adhesive force of the protective film P to the molded plate G. That is, the repulsive force generated by the elastic force of the compressed spring, that is, the force for peeling the protective film P from the molded plate G is larger than the force required for peeling the protective film P from the molded plate G. A spring 54 is used.

ガイド55は、成形板支持部材53とベース板51との間にこれらと直交して設けられ、バネ54の伸縮方向を規制する。例えば、ガイド55は、多重筒構造を有し、バネ54の伸縮により上下方向に伸縮可能になっている。 The guide 55 is provided between the molded plate support member 53 and the base plate 51 at right angles to the guide 55, and regulates the expansion / contraction direction of the spring 54. For example, the guide 55 has a multi-cylinder structure and can be expanded and contracted in the vertical direction by expanding and contracting the spring 54.

また、本実施形態の保護膜形成装置は、治具5の他、ステージ2上の治具5の基板駆動機構3による移動を規制する治具規制部を備える。治具規制部は、治具5を載置したステージ2が上昇したときに、成形板Gおよび成形板支持部材53の上昇移動を規制する。ここでは、治具規制部は、真空チャンバ1において固定された石英ガラス固定部材123および石英ガラス122である。 Further, the protective film forming device of the present embodiment includes, in addition to the jig 5, a jig regulating unit that regulates the movement of the jig 5 on the stage 2 by the substrate driving mechanism 3. The jig regulating unit regulates the ascending movement of the molding plate G and the molding plate support member 53 when the stage 2 on which the jig 5 is placed rises. Here, the jig regulating portion is the quartz glass fixing member 123 and the quartz glass 122 fixed in the vacuum chamber 1.

(作用)
図13〜図15を用いて、本実施形態の保護膜形成装置の作用について説明する。図13〜図15は、本実施形態に係る保護膜形成装置における保護膜Pの成形過程を示す模式図である。図13〜図15において左側の図は、図10のE方向から見た保護膜形成装置の模式図を示し、図13〜図15において右側の図は、図10のF方向から見た保護膜形成装置の模式図を示す。
(Action)
The operation of the protective film forming apparatus of the present embodiment will be described with reference to FIGS. 13 to 15. 13 to 15 are schematic views showing a molding process of the protective film P in the protective film forming apparatus according to the present embodiment. The figure on the left side in FIGS. 13 to 15 shows a schematic view of the protective film forming apparatus seen from the direction E of FIG. 10, and the figure on the right side in FIGS. 13 to 15 shows the protective film seen from the direction F of FIG. The schematic diagram of the forming apparatus is shown.

なお、予め作業員の作業により治具5には、成形板Gが成形板支持部材53に支持され、表面に接着剤Rが塗布された基板Sが基台52に載置されているものとする。すなわち、基板Sは成形板Gに対面し、平面視したときに未塗布領域S2が成形板Gからはみ出している。また、真空チャンバ1内への治具5の搬入及び搬出、並びに、ステージ2への載置及び取出しは、不図示のロードロック室および搬送手段を用いて自動で行うものとする。 It is assumed that the molding plate G is supported by the molding plate supporting member 53 and the substrate S coated with the adhesive R on the surface is placed on the base 52 in the jig 5 in advance by the work of the worker. do. That is, the substrate S faces the molded plate G, and the uncoated region S2 protrudes from the molded plate G when viewed in a plan view. Further, the loading and unloading of the jig 5 into the vacuum chamber 1 and the loading and unloading of the jig 5 on the stage 2 shall be automatically performed using a load lock chamber and a transporting means (not shown).

まず、本体部11の開口から真空チャンバ1内に治具5を搬入し、図13(a)に示すように、治具5を、ベース板51を下側にしてステージ2上に載せる。そのため、成形板Gが上側となり、基板Sが下側となる。このとき、バネ54は成形板支持部材53および成形板Gにより荷重がかかるので縮んでおり、自然長より短い長さ(以下、規定長という。)になっている。なお、板状体44は、第2の実施形態と同様に退避位置で待機している。 First, the jig 5 is carried into the vacuum chamber 1 through the opening of the main body 11, and the jig 5 is placed on the stage 2 with the base plate 51 facing down, as shown in FIG. 13 (a). Therefore, the molded plate G is on the upper side and the substrate S is on the lower side. At this time, the spring 54 is contracted because a load is applied by the molded plate support member 53 and the molded plate G, and has a length shorter than the natural length (hereinafter, referred to as a specified length). The plate-shaped body 44 is on standby at the retracted position as in the second embodiment.

治具5をステージ2上に載せた後、基板駆動機構3により、治具5を上昇させる。この上昇過程で、図13(b)に示すように、成形板支持部材53が石英ガラス固定部材123と当接し、成形板Gが石英ガラス122に到達する。すなわち、成形板Gが石英ガラス122と面接触する。さらに、基板駆動機構3によりベース板51が上昇すると、成形板支持部材53の上昇が石英ガラス固定部材123により規制されているので、図13(c)に示すように、バネ54が縮んでいき、基板S上の接着剤Rが成形板Gに接触し、やがて基板Sと成形板Gとが貼り合わされる。 After the jig 5 is placed on the stage 2, the jig 5 is raised by the substrate drive mechanism 3. In this ascending process, as shown in FIG. 13B, the molded plate supporting member 53 comes into contact with the quartz glass fixing member 123, and the molded plate G reaches the quartz glass 122. That is, the molded plate G comes into surface contact with the quartz glass 122. Further, when the base plate 51 is raised by the substrate drive mechanism 3, the rise of the molded plate support member 53 is regulated by the quartz glass fixing member 123, so that the spring 54 contracts as shown in FIG. 13 (c). , The adhesive R on the substrate S comes into contact with the molded plate G, and eventually the substrate S and the molded plate G are bonded together.

このようにして成形板Gと基板Sが貼り合わされた後、紫外線照射装置10により紫外線照射することで、接着剤Rが硬化した保護膜Pが形成される(図14(d))。 After the molded plate G and the substrate S are bonded together in this way, the protective film P in which the adhesive R is cured is formed by irradiating with ultraviolet rays by the ultraviolet irradiation device 10 (FIG. 14 (d)).

保護膜Pの形成後、移動機構42により、棒状体45を介して板状体44が下降し、爪44aが基板Sの未塗布領域S2上に当接する(図14(e))。これにより、基板Sの端が、爪44aと基台52との間で挟持される。その状態で、移動機構42および基板駆動機構3により基板Sが下降すると、第2の実施形態と同様に、爪44aにより基板Sの端が押し下げられる一方、保護膜Pが成形板Gに接着しているので、図14(f)に示すように基板Sの未塗布領域S2が反り、保護膜Pの端が成形板Gから剥離する。さらに、基板Sを下降させることで、保護膜Pが成形板Gから完全に剥離する(図15(g))。このときのバネ54の長さは、規定長以下である。なお、保護膜Pが成形板Gから剥離した後、爪44aによる押し下げは不要となるので、移動機構42による板状体44の下降を停止させ退避位置に上昇させる。 After the protective film P is formed, the moving mechanism 42 lowers the plate-shaped body 44 via the rod-shaped body 45, and the claws 44a come into contact with the uncoated region S2 of the substrate S (FIG. 14 (e)). As a result, the end of the substrate S is sandwiched between the claw 44a and the base 52. In this state, when the substrate S is lowered by the moving mechanism 42 and the substrate driving mechanism 3, the end of the substrate S is pushed down by the claws 44a as in the second embodiment, while the protective film P adheres to the molded plate G. Therefore, as shown in FIG. 14 (f), the uncoated region S2 of the substrate S is warped, and the end of the protective film P is peeled off from the molded plate G. Further, by lowering the substrate S, the protective film P is completely peeled off from the molded plate G (FIG. 15 (g)). The length of the spring 54 at this time is not more than the specified length. After the protective film P is peeled off from the molded plate G, it is not necessary to push it down by the claw 44a. Therefore, the moving mechanism 42 stops the lowering of the plate-shaped body 44 and raises it to the retracted position.

保護膜Pの剥離後もなお基板駆動機構3によりベース板51を下降させると、バネ54が規定長まで復元し(図15(h))、さらにベース板51を下降させると、成形板Gが石英ガラス122から離れる(図15(i))。治具5を規定の図13(a)と同じ高さまで降下させた後、治具5が真空チャンバ1の外部に搬出される。 When the base plate 51 is lowered by the substrate drive mechanism 3 even after the protective film P is peeled off, the spring 54 is restored to the specified length (FIG. 15 (h)), and when the base plate 51 is further lowered, the molded plate G is released. Separate from the quartz glass 122 (FIG. 15 (i)). After lowering the jig 5 to the same height as the specified FIG. 13 (a), the jig 5 is carried out of the vacuum chamber 1.

なお、以上のような保護膜形成方法において、治具5の搬入、搬出、ステージ2への載置作業は、作業員が行っても良い。作業員により行う場合、その都度、大気圧に戻したり、真空状態にする。 In the protective film forming method as described above, a worker may carry out the loading, unloading, and mounting work of the jig 5 on the stage 2. When it is done by a worker, it is returned to atmospheric pressure or evacuated each time.

治具5の搬出後、基板Sは、保護膜Pが形成される毎に交換されるが、成形板Gは再利用しても良いし、交換しても良い。例えば、使用された成形板Gは再度別の基板Sとともに1つのセットとして使用しても良いし、使用された成形板Gを交換して、新たな成形板Gおよび基板Sを1セットにして治具5を用いても良い。また、保護膜Pの形成後に成形板Gに保護膜Pの一部が剥がれ残っている場合には、クリーニングして再利用しても良い。成形板Gの交換頻度やクリーニング頻度は適宜変更可である。 After the jig 5 is carried out, the substrate S is replaced every time the protective film P is formed, but the molded plate G may be reused or replaced. For example, the used molded plate G may be used again as one set together with another substrate S, or the used molded plate G may be replaced to make a new molded plate G and the substrate S into one set. A jig 5 may be used. Further, if a part of the protective film P remains peeled off on the molded plate G after the protective film P is formed, it may be cleaned and reused. The replacement frequency and cleaning frequency of the molded plate G can be changed as appropriate.

(効果)
本実施形態の保護成膜装置は、ステージ2上に載せられ、成形板Gおよび基板Sを支持する治具5と、ステージ2上の治具5の移動を規制する石英ガラス固定部材123および石英ガラス122を備える。そして、治具5は、ベース板51と、ベース板51上に設けられた基板Sが載せられる基台52と、ベース板51と対向して設けられ、成形板Gを支持する成形板支持部材53と、ベース板51に設けられ、成形板支持部材53を支持するバネ54と、を備え、基板駆動機構3は、治具5を石英ガラス122に対して進出させ、成形板支持部材53を石英ガラス固定部材123に当接させるようにした。
(effect)
The protective film forming apparatus of the present embodiment is mounted on the stage 2, and the jig 5 that supports the molding plate G and the substrate S, the quartz glass fixing member 123 that restricts the movement of the jig 5 on the stage 2, and quartz. A glass 122 is provided. The jig 5 is provided so as to face the base plate 51, the base 52 on which the substrate S provided on the base plate 51 is placed, and the base plate 51, and supports the molded plate G. The substrate drive mechanism 3 includes a 53 and a spring 54 provided on the base plate 51 to support the molded plate support member 53, and the substrate drive mechanism 3 advances the jig 5 with respect to the quartz glass 122 to move the molded plate support member 53. It was brought into contact with the quartz glass fixing member 123.

これにより、真空チャンバ1内で予め成形板Gを固定していなくても、接着剤Rを介して基板Sを成形板Gに押し付けているときには、成形板Gが石英ガラス122および石英ガラス固定部材123に当接して固定された状態になるので、接着剤Rの成形および保護膜Pの形成を良好に行うことができる。また、治具5が成形板Gと基板Sを対にして真空チャンバ1内外に搬入、搬出が可能であるので、装置の稼働率を低下させることなく、成形板Gの交換頻度を変更することができる。すなわち、成形板Gが真空チャンバ1内で予め固定されている態様の場合、成形板Gが保護膜Pの残存によりクリーニングの必要がある場合、装置全体を停止させて成形板Gをクリーニングするか、新しい成形板Gに交換する必要があるが、治具5を用いることにより、装置を停止しなくても成形板Gが交換可能となり、生産性を向上させることができる。 As a result, even if the molded plate G is not fixed in advance in the vacuum chamber 1, when the substrate S is pressed against the molded plate G via the adhesive R, the molded plate G is the quartz glass 122 and the quartz glass fixing member. Since the adhesive R is in contact with the 123 and fixed, the adhesive R can be formed and the protective film P can be formed satisfactorily. Further, since the jig 5 can carry in and out the vacuum chamber 1 by pairing the molded plate G and the substrate S, the replacement frequency of the molded plate G can be changed without lowering the operating rate of the apparatus. Can be done. That is, in the case where the molded plate G is fixed in advance in the vacuum chamber 1, if the molded plate G needs to be cleaned due to the remaining protective film P, the entire apparatus is stopped to clean the molded plate G. , It is necessary to replace with a new molded plate G, but by using the jig 5, the molded plate G can be replaced without stopping the apparatus, and the productivity can be improved.

治具5は、成形板支持部材53とベース板51との間にバネ54の伸縮方向を規制するガイド55を備えるようにした。これにより、基板Sと成形板Gを平行にして貼り合わせが可能となり膜厚均一の保護膜Pを形成することができ、弾性部材が意図しない方向に伸縮することにより保護膜Pに不要な応力が加わることを防止することができる。 The jig 5 is provided with a guide 55 that regulates the expansion / contraction direction of the spring 54 between the molded plate support member 53 and the base plate 51. As a result, the substrate S and the molded plate G can be bonded in parallel to form a protective film P having a uniform film thickness, and the elastic member expands and contracts in an unintended direction, which causes unnecessary stress on the protective film P. Can be prevented from being added.

また、バネ54は、保護膜Pの成形板Gに対する接着力よりも大きな弾性力を有するようにした。そのため、接着剤Rを硬化させた後、ステージ2を下降させるときに、押さえ部材(爪44a)によって基板Sの端部分をステージ2との間で挟持してさえいれば、バネ54の弾性力(反発力)によって成形板Gから保護膜Pを剥離することができる。これにより、治具5を用いた場合でも、装置の構成の複雑化を招くことなく、簡易な構成で保護膜Pを形成することができる。 Further, the spring 54 has an elastic force larger than the adhesive force of the protective film P to the molded plate G. Therefore, when the stage 2 is lowered after the adhesive R is cured, the elastic force of the spring 54 is sufficient as long as the end portion of the substrate S is sandwiched between the stage 2 and the pressing member (claw 44a). The protective film P can be peeled off from the molded plate G by (repulsive force). As a result, even when the jig 5 is used, the protective film P can be formed with a simple configuration without complicating the configuration of the apparatus.

[4.他の実施形態]
本発明は、第1乃至第3の実施形態に限定されるものではなく、下記に示す他の実施形態も包含する。また、本発明は、第1乃至第3の実施形態及び下記の他の実施形態を全て又はいずれかを組み合わせた形態も包含する。さらに、これらの実施形態を発明の範囲を逸脱しない範囲で、種々の省略や置き換え、変更を行うことができ、その変形も本発明に含まれる。
[4. Other embodiments]
The present invention is not limited to the first to third embodiments, but also includes other embodiments shown below. The present invention also includes a form in which all or any of the first to third embodiments and the following other embodiments are combined. Furthermore, various omissions, replacements, and changes can be made to these embodiments without departing from the scope of the invention, and modifications thereof are also included in the present invention.

(1)第1乃至第3の実施形態では、基板Sを成形板G側である上側から押さえる剥離ユニット4により成形板Gから保護膜Pを剥離させたが、ステージ2に吸盤、真空チャック、静電チャックなどを設け、基板Sを成形板Gとは反対側である下側から保持した状態で基板駆動機構3で基板Sを引き下げて保護膜Pを成形板Gから剥離させても良い。 (1) In the first to third embodiments, the protective film P is peeled from the molded plate G by the peeling unit 4 that presses the substrate S from the upper side on the molded plate G side. An electrostatic chuck or the like may be provided, and the substrate S may be pulled down by the substrate drive mechanism 3 to peel off the protective film P from the molded plate G while the substrate S is held from the lower side opposite to the molded plate G.

(2)第1の実施形態では、ロッド41の基板Sを押さえる先端は平坦としたが、ロッド41の先端は、図16(a)のように、丸みを帯びていても良いし、図16(b)のように、傾斜させていても良い。ロッド41の先端は、基板Sの内側方向から外側方向に向けて下降するように長くなるように傾斜させる。このように、ロッド41の先端が丸みを帯びている又は傾斜していることにより、基板Sとロッド41との接触面が小さくなり、ロッド41が基板Sの反り方向の変形の妨げになることが防止できる。このように、基板Sが反りやすくなるので、保護膜Pを少ない荷重で剥離させ、基板Sに加わる応力負担を軽減することができる。なお、爪44aについても、基板Sと当接する面を、先端に向かって高くなる傾斜面としても良いし、凹状または凸条の円弧面としても良い。 (2) In the first embodiment, the tip of the rod 41 that presses the substrate S is flat, but the tip of the rod 41 may be rounded as shown in FIG. 16A, or FIG. It may be tilted as in (b). The tip of the rod 41 is inclined so as to be elongated so as to descend from the inner direction to the outer direction of the substrate S. Since the tip of the rod 41 is rounded or inclined in this way, the contact surface between the substrate S and the rod 41 becomes small, and the rod 41 hinders the deformation of the substrate S in the warping direction. Can be prevented. In this way, since the substrate S is easily warped, the protective film P can be peeled off with a small load, and the stress load applied to the substrate S can be reduced. As for the claw 44a, the surface that comes into contact with the substrate S may be an inclined surface that rises toward the tip end, or may be a concave or convex arc surface.

(3)第1乃至第3の実施形態では、基板Sの端を押さえる押さえ部材は、ロッド41や板状体44(爪44a)とし、ステージ2と別体として設けたが、ステージ2と一体的に設けるようにしても良い。例えば、図17に示すように、ステージ2にフック21を設けるようにしても良い。フック21は、例えばC字状であり、その一端がステージ2に回動可能に接続され、他端で基板Sの端を上側から押さえる。基板Sの端を上から押さえた状態で、基板駆動機構3により基板Sを下降させることで、保護膜Pを成形板Gから剥離させることができる。 (3) In the first to third embodiments, the pressing member for pressing the end of the substrate S is a rod 41 or a plate-shaped body 44 (claw 44a), which is provided separately from the stage 2, but is integrated with the stage 2. It may be provided as a target. For example, as shown in FIG. 17, the hook 21 may be provided on the stage 2. The hook 21 has, for example, a C shape, one end of which is rotatably connected to the stage 2, and the other end of the hook 21 presses the end of the substrate S from above. The protective film P can be peeled from the molded plate G by lowering the substrate S by the substrate driving mechanism 3 while pressing the end of the substrate S from above.

また、図18に示すように、フック21により基板Sの両側面から基板Sを挟んで基板Sをステージ2に固定し、基板駆動機構3により基板Sを下降させることで、保護膜Pを成形板Gから剥離させるようにしても良い。 Further, as shown in FIG. 18, the protective film P is formed by fixing the substrate S to the stage 2 with the substrate S sandwiched from both side surfaces of the substrate S by hooks 21 and lowering the substrate S by the substrate drive mechanism 3. It may be peeled off from the plate G.

(4)第1乃至第3の実施形態において、成形板Gには、接着剤Rと接する面に、基板Sよりも保護膜Pとの接着力が弱くなるような処理を施すようにしても良い。このような処理としては、例えば、フッ素コーティング剤やテフロンコーティングなどが挙げられる。このような処理を施すことにより、保護膜Pの剥離残存を防止する効果が期待できる。また、保護膜Pを成形板Gから剥離させるために、基板Sが例えばポリカーボネイト等の樹脂で構成されている場合には、接着剤Rが樹脂両面の微小な凹凸の隙間に入り込んだり、接着剤Rに含まれる溶剤が樹脂表面を溶解したりして比較的強い結合力が得られるから、成形板Gとして、表面の平坦度が高く、溶剤に溶解することのないガラス等を用いるだけでも十分剥離することが可能である。 (4) In the first to third embodiments, the molded plate G may be subjected to a treatment on the surface in contact with the adhesive R so that the adhesive force with the protective film P is weaker than that with the substrate S. good. Examples of such treatment include a fluorine coating agent and a Teflon coating. By performing such a treatment, the effect of preventing the protective film P from remaining peeled can be expected. Further, in order to peel off the protective film P from the molded plate G, when the substrate S is made of a resin such as polycarbonate, the adhesive R may enter the gaps of minute irregularities on both sides of the resin, or the adhesive may be used. Since the solvent contained in R dissolves the resin surface and a relatively strong bonding force can be obtained, it is sufficient to use glass or the like having a high surface flatness and not being dissolved in the solvent as the molded plate G. It can be peeled off.

(5)第1乃至第3の実施形態では、保護膜Pを形成する樹脂を紫外線硬化性樹脂としたが、熱硬化性樹脂や放射線硬化性樹脂、乾燥させて硬化する樹脂としても良い。これらの場合、成形板Gや石英ガラス122は必ずしも透光性を有していなくても良い。 (5) In the first to third embodiments, the resin forming the protective film P is an ultraviolet curable resin, but it may be a thermosetting resin, a radiation curable resin, or a resin that is dried and cured. In these cases, the molded plate G and the quartz glass 122 do not necessarily have to have translucency.

(6)第2乃至第3の実施形態では、押さえ部材としてE字形状の板状体44としたが、押さえ部材は、基板Sの成形板Gからのはみ出し領域を押さえる部分があれば、形状は特に限定されず、矩形状であっても良い。この場合、矩形の一辺を基板Sの端を押さえる部分とすることができる。 (6) In the second to third embodiments, the E-shaped plate-shaped body 44 is used as the pressing member, but the pressing member has a shape if there is a portion that presses the protruding region of the substrate S from the molded plate G. Is not particularly limited, and may have a rectangular shape. In this case, one side of the rectangle can be a portion that presses the end of the substrate S.

(7)第1の実施形態では、移動機構42は、ロッド41をはみ出し辺ごとに3本のロッド41を一体で上下に移動させたが、各ロッド41を個別に上下移動させるようにしても良い。この場合、保護膜Pの剥離のために、ロッド41を下降させるタイミングを個別に設定しても良い。タイミングを変える例としては、はみ出し辺の端に位置するロッド41だけをまず基板Sに当接させ、この状態でステージ2を所定量、ロッド41共に下降させて一旦停止させ、この後、中央のロッド41を基板Sに当接させてステージ2との間で挟持されるまで押し下げる。その後、ステージ2の下降と全てのロッド41の下降を再開させるようにしても良い。この場合、保護膜P(塗布領域S1)の四隅から剥がれようとするので、保護膜Pの一辺側から剥がしていくよりも剥がしやすくなる。つまり、剥がす力は、その剥がす幅に比例するので、一辺側からの剥離は、始めからその一辺分の剥がす力を要するが、角(四隅)からの剥離は、初めは辺が短いので剥がしやすくなる利点が得られる。 (7) In the first embodiment, the moving mechanism 42 integrally moves the three rods 41 up and down for each protruding side of the rods 41, but even if each rod 41 is individually moved up and down. good. In this case, the timing for lowering the rod 41 may be individually set in order to peel off the protective film P. As an example of changing the timing, only the rod 41 located at the end of the protruding side is first brought into contact with the substrate S, and in this state, the stage 2 is lowered by a predetermined amount together with the rod 41 to temporarily stop, and then the center The rod 41 is brought into contact with the substrate S and pushed down until it is sandwiched between the rod 41 and the stage 2. After that, the descent of the stage 2 and the descent of all the rods 41 may be restarted. In this case, since the protective film P (coating region S1) tends to be peeled off from the four corners, it is easier to peel off than peeling off from one side of the protective film P. In other words, the peeling force is proportional to the peeling width, so peeling from one side requires peeling force for that one side from the beginning, but peeling from the corners (four corners) is easy to peel because the sides are short at the beginning. Benefits are obtained.

1 真空チャンバ
10 紫外線照射装置
11 本体部
12 蓋部
121 環状ブロック
122 石英ガラス
123 石英ガラス固定部材
124 成形板固定部材
2 ステージ
21 フック
3 基板駆動機構
31 ロッド
32 駆動源
4 剥離ユニット
41 ロッド
42 移動機構
43 連結部
44 板状体
44a 爪
45 棒状体
5 治具
51 ベース板
52 基台
53 成形板支持部材
54 バネ
55 ガイド
G 成形板
S 基板
S1 塗布領域
S2 未塗布領域
P 保護膜
1 Vacuum chamber
10 Ultraviolet irradiation device
11 Main body
12 Closure
121 Ring block
122 Quartz glass
123 Quartz glass fixing member
124 Molded plate fixing member
2 stages
21 hook
3 Board drive mechanism
31 rod
32 drive source
4 Peeling unit
41 rod
42 movement mechanism
43 Connection part
44 plate-like body
44a nails
45 rod-shaped body
5 Jig
51 Base plate
52 base
53 Molded plate support member
54 spring
55 guide
G molded plate
S board
S1 coating area
S2 uncoated area
P protective film

Claims (8)

接着剤を介在させて成形板と基板とを貼り合わせて前記接着剤からなる保護膜を成形する保護膜形成装置であって、
前記基板を載せるステージと、
前記ステージを前記成形板に対して進退させる基板駆動機構と、
前記基板を前記成形板に対して引き離す方向に移動させることで、前記保護膜を前記成形板から剥離する剥離ユニットと、
を備えたこと、
を特徴とする保護膜形成装置。
It is a protective film forming apparatus that forms a protective film made of the adhesive by adhering a molded plate and a substrate with an adhesive interposed therebetween.
The stage on which the board is placed and
A substrate drive mechanism for advancing and retreating the stage with respect to the molded plate,
A peeling unit that peels the protective film from the molded plate by moving the substrate in a direction that separates it from the molded plate.
To have
A protective film forming device characterized by.
前記剥離ユニットは、
前記基板の前記成形板からはみ出した領域を押さえる押さえ部材と、
前記押さえ部材を前記成形板に対して前記引き離す方向に沿って移動させる移動機構と、
を備えたこと、
を特徴とする請求項1に記載の保護膜形成装置。
The peeling unit is
A pressing member that presses the region of the substrate protruding from the molded plate, and a pressing member.
A moving mechanism that moves the pressing member along the pulling direction with respect to the molded plate, and
To have
The protective film forming apparatus according to claim 1.
前記基板駆動機構および前記移動機構は、前記ステージが前記基板を支持し、前記押さえ部材が前記領域を押さえながら前記基板を前記成形板に対して前記引き離す方向に沿って移動させること、
を特徴とする請求項2に記載の保護膜形成装置。
In the substrate driving mechanism and the moving mechanism, the stage supports the substrate, and the pressing member moves the substrate along the pulling direction with respect to the molded plate while pressing the region.
The protective film forming apparatus according to claim 2.
前記押さえ部材は、前記ステージに直交する方向に延びるロッドであり、
前記ロッドの先端は丸みを帯びている又は傾斜していること、
を特徴とする請求項2又は3に記載の保護膜形成装置。
The holding member is a rod extending in a direction orthogonal to the stage.
The tip of the rod should be rounded or slanted,
The protective film forming apparatus according to claim 2 or 3.
前記基板は矩形状であり、
前記押さえ部材は、前記基板の前記領域を押さえる爪を複数有し、前記爪が間隔を空けて前記基板の前記成形板からはみ出して対向する二辺に沿ってそれぞれ設けられたこと、
を特徴とする請求項2又は3に記載の保護膜形成装置。
The substrate has a rectangular shape and has a rectangular shape.
The pressing member has a plurality of claws for pressing the region of the substrate, and the claws are provided along two opposite sides of the substrate so as to protrude from the molded plate at intervals.
The protective film forming apparatus according to claim 2 or 3.
前記ステージ上に載せられ、前記成形板および前記基板を支持する治具と、
前記ステージ上の前記治具の前記基板駆動機構による移動を規制する治具規制部と、
を備え、
前記治具は、
ベース板と、
前記ベース板上に設けられた前記基板が載せられる基台と、
前記ベース板と対向して設けられ、前記成形板を支持する成形板支持部材と、
前記ベース板に設けられ、前記成形板支持部材を支持する弾性部材と、
を備え、
前記基板駆動機構は、前記治具を前記治具規制部に対して進出させ、前記成形板支持部材を前記治具規制部に当接させること、
を特徴とする請求項2又は5に記載の保護膜形成装置。
A jig that is placed on the stage and supports the molded plate and the substrate,
A jig regulation unit that regulates the movement of the jig on the stage by the substrate drive mechanism, and
With
The jig is
With the base plate
A base on which the substrate provided on the base plate is placed, and
A molded plate support member provided facing the base plate and supporting the molded plate,
An elastic member provided on the base plate and supporting the molded plate support member, and
With
In the substrate drive mechanism, the jig is advanced to the jig regulation portion, and the molded plate support member is brought into contact with the jig regulation portion.
The protective film forming apparatus according to claim 2 or 5.
前記弾性部材は、前記保護膜の前記成形板に対する接着力よりも大きい弾性力を有すること、
を特徴とする請求項6に記載の保護膜形成装置。
The elastic member has an elastic force larger than the adhesive force of the protective film to the molded plate.
The protective film forming apparatus according to claim 6.
前記治具は、前記成形板支持部材と前記ベース板との間に前記弾性部材の伸縮方向を規制するガイドを備えること、
を特徴とする請求項6又は7に記載の保護膜形成装置。
The jig includes a guide that regulates the expansion / contraction direction of the elastic member between the molded plate support member and the base plate.
The protective film forming apparatus according to claim 6 or 7.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07314461A (en) * 1994-05-27 1995-12-05 Olympus Optical Co Ltd Method and device for releasing composite type optical element from mold
JPH08323780A (en) * 1995-06-01 1996-12-10 Olympus Optical Co Ltd Method and apparatus for releasing composite optical element
JP2006269000A (en) * 2005-03-25 2006-10-05 Tdk Corp Device and method for manufacturing optical disk
US20080122144A1 (en) * 2006-11-28 2008-05-29 Wei Zhang Imprint lithography with improved substrate/mold separation
JP2008290357A (en) * 2007-05-25 2008-12-04 Seiko Epson Corp Method for manufacturing microlens array
JP2012179773A (en) * 2011-03-01 2012-09-20 Ube Machinery Corporation Ltd Multi-layer molding apparatus, and multi-layer molding method

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07314461A (en) * 1994-05-27 1995-12-05 Olympus Optical Co Ltd Method and device for releasing composite type optical element from mold
JPH08323780A (en) * 1995-06-01 1996-12-10 Olympus Optical Co Ltd Method and apparatus for releasing composite optical element
JP2006269000A (en) * 2005-03-25 2006-10-05 Tdk Corp Device and method for manufacturing optical disk
US20080122144A1 (en) * 2006-11-28 2008-05-29 Wei Zhang Imprint lithography with improved substrate/mold separation
JP2008290357A (en) * 2007-05-25 2008-12-04 Seiko Epson Corp Method for manufacturing microlens array
JP2012179773A (en) * 2011-03-01 2012-09-20 Ube Machinery Corporation Ltd Multi-layer molding apparatus, and multi-layer molding method

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