JP2021125946A - 半導体回路 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本開示は、第1の半導体素子のソース電極に直列に接続される第1のインダクタンス部と、前記第1の半導体素子と並列に接続された第2の半導体素子のソース電極に直列に接続される第2のインダクタンス部と、を備え、前記第1のインダクタンス部と前記第2のインダクタンス部とは、磁気的な相互作用により前記第1のインダクタンス部及び前記第2のインダクタンス部に誘導起電力が誘起され、前記第1のインダクタンス部及び前記第2のインダクタンス部に流れる電流が同方向に強め合うように配置される、半導体回路である。
【選択図】図1
Description
第3の金属層の第2の部分にサージ電圧が生じた場合、第1の金属層と第3の金属層の第2の部分とには、サージ電圧の印加方向とは逆方向に相互誘導起電力が誘起される。よって、当該サージ電圧を低減することができる。同様にして、直列に接続される第4の金属層の第3の部分、第2の金属層、及び第4の金属層の第4の部分にサージ電圧が生じた場合、第2の金属層と第4の金属層の第4の部分とには、サージ電圧の印加方向とは逆方向に相互誘導起電力が誘起される。よって、当該サージ電圧を低減することができる。換言すれば、第3の金属層の第1の部分、及び第4の金属層の第3の部分に半導体素子が実装され、半導体素子に電流が流れる場合に、サージ電圧を低減するための相互誘導起電力を生じさせる部品を設けずに済む。よって、回路を形成する部品点数は削減される。よって、回路の製造工程の簡略化、部品管理コストの低減、又は部品コストの節減等が実現される。
以下、本発明の適用例について、図面を参照しつつ説明する。図1は、本実施形態に係る電流バランス調整回路20の概要を示している。電流バランス調整回路20は、コイル3A、及びコイル3Bを備える。コイル3A、3Bは、入力電源21に並列接続されているスイッチング素子22A、及びスイッチング素子22Bに対して各々に直列に接続される。そして、コイル3A、3Bは、コイル3AのS極とコイル3BのN極とが近接するように、そしてコイル3AのN極とコイル3BのS極とが近接するように配置される。
[ハードウェア構成]
次に、本発明の実施形態について、図を参照しつつ詳細に説明する。
磁界のS極とコイル3Bが形成する磁界のN極とが近接するように、そしてコイル3Aが形成する磁界のN極とコイル3Bが形成する磁界のS極とが近接するように配置されている(以下、逆極性にて結合するという)。このようにコイル3A、3Bが配置されることで、コイル3A、3Bには磁気的な相互作用が生じる。
上記のスイッチング素子22A、22Bの各々のゲートに電圧が印加されると、コイル3Aにスイッチング素子22Aから電流量id1が流れる。そして、コイル3Aには、自身を流れる電流量id1の方向とは逆向きの電流を生じさせる起電力が発生する。同様にして、コイル3Bにスイッチング素子22Bから電流量id2が流れる。そして、コイル3Bには、自身を流れる電流量id2の方向とは逆向きの電流を生じさせる起電力が発生する。
次に、電流バランス調整回路20の使用例を説明する。図5は、同期整流型昇圧チョッパ回路30の概要を示している。同期整流型昇圧チョッパ回路30には、スイッチング素子(22C、22D)、及びスイッチング素子(22E、22F)が設けられている。また、同期整流型昇圧チョッパ回路30には、入力電圧Vinが入力される入力電源21、リアクトル、ダイオード、コンデンサ、及び負荷23が設けられている。ここで、スイッチング素子(22C、22D)、及びスイッチング素子(22E、22F)は、各々並列に接続されている。同期整流型昇圧チョッパ回路30では、入力電源21から入力電圧Vinが入力されると、各スイッチング素子22C‐22Fのスイッチ制御が実行されるこ
とで、Vinより昇圧されたVoutが出力される。ここで、電流バランス調整回路20は、スイッチング素子(22C、22D)、及びスイッチング素子(22E、22F)の各々に対して接続されている。このように電流バランス調整回路20が設けられることで、昇圧されたVoutが出力される時にスイッチング素子(22C、22D)、及びスイッチング素子(22E、22F)の各々において生じる電流のばらつきやサージ電圧は抑制され、同期整流型昇圧チョッパ回路30の故障は抑制される。
上記のような電流バランス調整回路20によれば、コイル3Aとコイル3Bとが並列に設けられ、逆極性にて結合することで、コイル3Aにはコイル3Bから誘導起電力が誘起される。コイル3Bからコイル3Aに誘起される誘導起電力は、スイッチング素子22Bを流れる電流id2の向き(式(1)の第2項)に電流id2に応じた電流が流れるようにするものである。同様にして、コイル3Bにはコイル3Aから誘導起電力が誘起される。コイル3Aからコイル3Bに誘起される誘導起電力は、スイッチング素子22Aを流れる電流id1の向き(式(2)の第2項)に電流id1に応じた電流が流れるようにするものである。よって、スイッチング素子22A、22Bの各々に流れる電流量id1と電流量id2とがばらついた場合であっても、図3(B)及び図3(C)に示されるように当該ばらつきは抑制される。また、上記のような電流バランス調整回路20によれば、電流量id1と電流量id2とのばらつきの抑制をゲート回路に大きなインピーダンスを設けずに実現できる。よって、上記のような電流バランス調整回路20によれば、半導体デバイスへの影響を可及的に低減することができる。
である。つまり、スイッチング素子22Aと接続される回路には、コイル3Aが単独で設けられる場合と比較して、電流量id1が流れた場合に当該電流量id1の流れる向きとは反対方向に大きな誘導起電力が生じる。つまり、当該回路にサージ電圧が生じた場合であっても、コイル3Aが単独で設けられる場合と比較して当該サージ電圧を低減する効果は増大するといえる。また、このような効果は、図3(B)に対して図3(C)の電圧Vds2の揺らぎがスイッチONされた当初から小さくなっており、また電圧Vds2は定常値へ早期に収束していることからも確認できる。よって、半導体デバイスへの影響を可及的に低減することができる。
以上、本発明の実施の形態を詳細に説明してきたが、前述までの説明はあらゆる点において本発明の例示に過ぎない。本発明の範囲を逸脱することなく種々の改良や変形を行うことができることは言うまでもない。例えば、以下のような変更が可能である。なお、以下では、上記実施形態と同様の構成要素に関しては同様の符号を用い、上記実施形態と同様の点については、適宜説明を省略した。以下の変形例は適宜組み合わせ可能である。
第1変形例に係る電流バランス調整回路20Bは、MIM(Metal−Insulatоr−Metal)基板5を備える。また、電流バランス調整回路20Bは、コイル3A、3B、及びコイル4A、4Bの代替として、MIM基板5に含まれる寄生インダクタンスが利用される。より詳細には、コイル3A、3B、及びコイル4A、4Bにより実現される電流ばらつきの抑制機能及びサージ電圧の抑制機能を実現するように、MIM基板5に含まれる寄生インダクタンスを利用する。このような電流バランス調整回路20Bは、電流バランス調整回路20と同様の効果を奏する。加えて、電流バランス調整回路20Bでは、コイル3A、3B、及びコイル4A、4Bが設けられていないため、部品点数の削減による製造工程の簡略化、部品管理コストの低減、又は部品コストの節減が実現される。
図7は、第2変形例に係る電流バランス調整回路20Cの概要を示している。図7(A
)は、電流バランス調整回路20Cの断面図の概要であり、図7(B)は、電流バランス調整回路20Cの上面図の概要である。図7に示されるように、電流バランス調整回路20Cは、MIM基板5Aを備える。MIM基板5Aは、四層の金属層(M1−M4)から形成され、金属層間には絶縁物が設けられている。MIM基板5AのM1層は、MIM基板5Aの表面に形成される(本開示の「第3の金属層」の一例)。そして、M1層は、二つの領域(M1A及びM1B、M1Aは本開示の「第1の部分」の一例、M1Bは本開示の「第2の部分」の一例)に絶縁物により分断されており、一方の領域M1Aにスイッチング素子22Aが実装されている。また、M2層は、絶縁物を挟んでM1層と対向するように設けられる(本開示の「第1の金属層」の一例)。そして、M2層と、M1層のM1Aとは直列に接続される。また、M2層とM1Bとも直列に接続される。
<付記1>
第1の半導体素子(22A)のソース電極に直列に接続される第1のインダクタンス部(3A、M2)と、
前記第1の半導体素子(22A)と並列に接続された第2の半導体素子(22B)のソース電極に直列に接続される第2のインダクタンス部(3B、M4)と、を備え、
前記第1のインダクタンス部(3A、M2)と前記第2のインダクタンス部(3B、M4)とは、磁気的な相互作用により前記第1のインダクタンス部(3A、M2)及び前記第2のインダクタンス部(3B、M4)に誘導起電力が誘起され、前記第1のインダクタンス部(3A、M2)及び前記第2のインダクタンス部(3B、M4)に流れる電流が同方向に強め合うように配置される、
半導体回路(20、20A、20B、20C)。
<付記2>
前記第1のインダクタンス部(3A、M2)と直列に接続される第3のインダクタンス部(4A、M1B)と、
前記第2のインダクタンス部(3B、M4)と直列に接続される第4のインダクタンス部(4B、M3B)と、を更に備え、
前記第3のインダクタンス部(4A、M1B)は、自身に印加された電圧とは反対方向に、前記第1のインダクタンス部(3A、M2)からの磁気的な相互作用により誘起される第1の誘導起電力により電圧が生じるとともに、前記第1のインダクタンス部(3A、M2)に印加された電圧とは反対方向に、自身による磁気的な相互作用により誘起される前記第1の誘導起電力によって前記第1のインダクタンス部(3A、M2)に電圧を生じさせるように配置され、
前記第4のインダクタンス部(4B、M3B)は、自身に印加された電圧とは反対方向に、前記第2のインダクタンス部(3B、M4)からの磁気的な相互作用により誘起される第2の誘導起電力により電圧が生じるとともに、前記第2のインダクタンス部(3B、M4)に印加された電圧とは反対方向に、自身による磁気的な相互作用により誘起される前記第2の誘導起電力によって前記第2のインダクタンス部(3B、M4)に電圧を生じさせるように配置される、
付記1に記載の半導体回路(20、20B、20C)。
<付記3>
前記第1のインダクタンス部(3A、M2)、前記第2のインダクタンス部(3B、M4)、前記第3のインダクタンス部(4A、M1B)、及び前記第4のインダクタンス部(4B、M3B)のうちの少なくとも一つは、寄生インダクタンスを含む、
付記1又は2に記載の半導体回路(20、20A、20B、20C)。
<付記4>
積層される複数の金属層と、前記複数の金属層の層間に設けられる絶縁部と、を備え、
積層する前記複数の金属層のうち対向する所定の金属層のペア(M2、M4)は、電気的に並列に接続され、
前記所定の金属層のペア(M2、M4)は、前記第1のインダクタンス部(M2)と前記第2のインダクタンス部(M4)である、
付記3に記載の半導体回路(20C)。
<付記5>
前記所定の金属層のペア(M2、M4)は、第1の金属層(M2)と第2の金属層(M4)とから形成され、
前記第1の金属層(M2)と対向する第3の金属層(M1)は、前記絶縁部により第1の部分(M1A)と第2の部分(M1B)とに分断され、
前記第1の部分(M1A)、前記第1の金属層(M2)、及び前記第2の部分(M1B)は、電気的に直列に接続され、
前記第2の金属層(M4)と対向する第4の金属層(M3)は、前記絶縁部により第3の部分(M3A)と第4(M3B)の部分とに分断され、
前記第3の部分(M3A)、前記第2の金属層(M4)、及び前記第4の部分(M3B)は、電気的に直列に接続され、
前記第1の金属層(M2)が前記第1のインダクタンス部(M2)であり、
前記第2の金属層(M4)が前記第2のインダクタンス部(M4)であり、
前記第3の金属層(M1)の前記第2の部分(M1B)が前記第3のインダクタンス部(M1B)であり、
前記第4の金属層(M3)の前記第4の部分(M3B)が前記第4のインダクタンス部(M3B)である、
付記4に記載の半導体回路(20C)。
4A、4B :コイル
5、5A :基板
20、20A、20B、20C:電流バランス調整回路
21 :入力電源
22A-22N :スイッチング素子
23 :負荷
30 :同期整流型昇圧チョッパ回路
40 :インバータ回路
Claims (5)
- 第1の半導体素子のソース電極に直列に接続される第1のインダクタンス部と、
前記第1の半導体素子と並列に接続された第2の半導体素子のソース電極に直列に接続される第2のインダクタンス部と、を備え、
前記第1のインダクタンス部と前記第2のインダクタンス部とは、磁気的な相互作用により前記第1のインダクタンス部及び前記第2のインダクタンス部に誘導起電力が誘起され、前記第1のインダクタンス部及び前記第2のインダクタンス部に流れる電流が同方向に強め合うように配置される、
半導体回路。 - 前記第1のインダクタンス部と直列に接続される第3のインダクタンス部と、
前記第2のインダクタンス部と直列に接続される第4のインダクタンス部と、を更に備え、
前記第3のインダクタンス部は、自身に印加された電圧とは反対方向に、前記第1のインダクタンス部からの磁気的な相互作用により誘起される第1の誘導起電力により電圧が生じるとともに、前記第1のインダクタンス部に印加された電圧とは反対方向に、自身による磁気的な相互作用により誘起される前記第1の誘導起電力によって前記第1のインダクタンス部に電圧を生じさせるように配置され、
前記第4のインダクタンス部は、自身に印加された電圧とは反対方向に、前記第2のインダクタンス部からの磁気的な相互作用により誘起される第2の誘導起電力により電圧が生じるとともに、前記第2のインダクタンス部に印加された電圧とは反対方向に、自身による磁気的な相互作用により誘起される前記第2の誘導起電力によって前記第2のインダクタンス部に電圧を生じさせるように配置される、
請求項1に記載の半導体回路。 - 前記第1のインダクタンス部、前記第2のインダクタンス部、前記第3のインダクタンス部、及び前記第4のインダクタンス部のうちの少なくとも一つは、寄生インダクタンスを含む、
請求項1又は2に記載の半導体回路。 - 積層される複数の金属層と、前記複数の金属層の層間に設けられる絶縁部と、を備え、
積層する前記複数の金属層のうち対向する所定の金属層のペアは、電気的に並列に接続され、
前記所定の金属層のペアは、前記第1のインダクタンス部と前記第2のインダクタンス部である、
請求項3に記載の半導体回路。 - 前記所定の金属層のペアは、第1の金属層と第2の金属層とから形成され、
前記第1の金属層と対向する第3の金属層は、前記絶縁部により第1の部分と第2の部分とに分断され、
前記第1の部分、前記第1の金属層、及び前記第2の部分は、電気的に直列に接続され、
前記第2の金属層と対向する第4の金属層は、前記絶縁部により第3の部分と第4の部分とに分断され、
前記第3の部分、前記第2の金属層、及び前記第4の部分は、電気的に直列に接続され、
前記第1の金属層が前記第1のインダクタンス部であり、
前記第2の金属層が前記第2のインダクタンス部であり、
前記第3の金属層の前記第2の部分が前記第3のインダクタンス部であり、
前記第4の金属層の前記第4の部分が前記第4のインダクタンス部である、
請求項4に記載の半導体回路。
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