JP2021118875A - 制御ユニット - Google Patents

Abstract

【課題】腹腔鏡の取り外しを行わずにレンズの洗浄を行える制御手法を提供する。【解決手段】制御ユニットとスコープアクセサリ１０との間でガスおよび／または液体を伝達するためのチャネルデバイス８が与えられる。このチャネルデバイスは、洗浄ライン６０を備え、洗浄ラインは、洗浄ラインガスチャネル６２と、洗浄コンテナ７８と、ピストン８０と、洗浄ライン洗浄チャネル６４とを備え、洗浄ラインガスチャネルは、制御ユニットの洗浄ラインガス出力部からガスを受け取るように構成され、ピストンは、受け取ったガスによる洗浄ラインガスチャネル内の圧力の増加によって起動され、これにより液体が洗浄コンテナから排出されるように構成され、洗浄ライン洗浄チャネルは、排出された液体をスコープに伝達するように構成される。【選択図】図５

Description

本開示は表面洗浄のためのシステムに関する。特に表面は内視鏡のレンズまたはウィンドウであるが、これらに限定されない。

本開示は内視鏡の光学部品に関連し、特に腹腔鏡の光学部品を参照して議論されるが、これらのデバイスに限定されない。本開示はまた、商業的あるいはそれ以外の医療光学機器その他のデバイスを含み得る。

内視鏡は低侵襲手術（ＭＩＳ）で外科医が使用し、遠隔視覚化や患者の体腔内のナビゲーションを可能とする。内視鏡は外科医の目として機能する一方、外科手術、組織操作あるいは診断にも使われる。あるタイプの内視鏡は腹部ＭＩＳのための腹腔鏡であり、以下のような特定分野、すなわち上部および下部消化管手術を含む一般腹腔鏡手術、婦人科、肥満手術（肥満外科手術）、泌尿器科、さらに硬性鏡や半硬性鏡を使用するその他の手術分野、例えば胸部、肺、ＥＮＴ、神経外科などの分野で使われる。

しばしば「鍵穴手術」あるいは最小アクセス手術（ＭＡＳ）と呼ばれる低侵襲手術（ＭＩＳ）は、小さな腹部皮膚切開（または腹部皮膚の無切開。この場合、内部切開とともに自然の開口が使われる）を用いた手術法として定義される。これは大規模な切開を必要とする古典的な切開外科手術と対照的である。ＭＩＳではカニューレと呼ばれる専用のアクセスポートが皮膚切開に挿入される。このカニューレを通して小型のカメラが体内に導入され、映像がビデオモニタに転送される。これにより、医師は様々な病状を観察し、診断し、必要であれば治療することができる。

すでにＭＩＳは、世界中の外科センターの日常の外科診療の一部に組み込まれている。今や多くの手術は、適切な内視鏡を用いたこの「鍵穴」アプローチ、あるいは切開を減らした手術（ミニオープン手術、腹腔鏡補助手術、手を挿入する腹腔鏡補助手術、あるいは単一切開腹腔鏡手術）により行われる。これらの皮膚切開は、たった数年前と比較しても減少している。これらのＭＩＳアプローチは急速に進歩している。こうした新技術は、対応する「古典的な」方法に比べて、合併症、患者の疾病、入院期間が減るため、患者と社会にとって助けとなるため、多くの手術は着実にＭＩＳとなるだろう。

腹腔鏡検査で使われる内視鏡は腹腔鏡と呼ばれ、細長い、典型的には円柱のシャフトを備える。このシャフトは、カメラ、光ファイバ束などの照明設備、その他の部品を含む。腹腔検査中、腹腔鏡は目標の解剖部位を視覚化する。腹腔鏡検査では腹腔鏡はカヌーレまたはポートを通して挿入される。腹腔にアクセスするとき、カヌーレやポートは、患者のへそ（へその穴）の隣の小さな切開を通して導入される。腹壁を持ち上げて腹腔を拡張または膨張させるために、さらに手術のためのスペースまたは環境を形成するために、一般に腹腔は、このポート（別のポートを使ってもよいが）を通して注入装置で医療用二酸化炭素その他の適切なガスが吹き込まれる。手術室で使われる一般の外科用注入装置は、患者の腹腔内の所定の圧力を維持、最適化するためにオン、オフするプログラムにより制御される。

腹腔鏡検査中、施術者と医師の観点から主に以下の４つが要求される。すなわち、継続的な手術画像、手術制御の維持、安定性および時間的効率である。ＭＩＳ手術における腹腔鏡や内視鏡のレンズは、外科医の「目」である。通常光学部品は、腹膜その他の体液、血液、エアゾール油脂、組織微粒子、煙、デブリあるいは結露などにより汚染される。これらはすべて、外科医の（外部のモニタやスクリーンを介した）視覚の障害となる。これらの様々な汚染要素は、作業ポートを通して腹腔内に導入された様々な器具、例えば電気焼灼結露装置、腹腔鏡シザーズ、超音波結露切除装置、吸引洗浄装置その他多くの器具によってかき乱される。これらの器具は、ＭＩＳや腹腔鏡検査の重要な要素であるため、今後もレンズ汚染の主要な汚染源となるだろう。こうした汚染により、内視鏡光学部品を介した画像は悪化し害される。

現在の標準的な汚染除去とレンズ洗浄処理は、腹腔鏡の患者の腹腔からの取り外しを必要とする。有害な汚染が無菌綿棒を用いて除去された後、腹腔鏡の光学部品は無菌生理食塩水を用いて洗浄される。その後過剰な生理食塩水が別の清潔な綿棒を用いて除去され、最後にレンズは無菌アニオン界面活性剤（例えば、内視鏡用のくもり止め剤（Ｆ．Ｒ．Ｅ．Ｄ）、ＣｌｅａｒＩｔ（登録商標）くもり止め液）でコーティングされる。画像が悪化するたびにスコープは取り外され、外科手術は直ちに中断する。この間患者は、悪化したリスクにさらされる可能性がある。なぜなら外科医は最早切開部位を見ることができないからである。換言すれば外科医は盲目となる。これに加えて外科手術のワークフローが中断され、患者が外科手術室にいる時間と一般麻酔を受ける時間が増す。洗浄のための腹腔鏡を取り外しは１時間に５−１０回行われ、洗浄プロセスは通常４０−６０秒を要する。従って手術時間および患者が一般麻酔下におかれる時間が、１時間あたり３−１０分増加する。しかしより重要なことには、外科医のワークフローと集中とが阻害され、患者の安全は損なわれる。洗浄のための腹腔鏡の取り外しに伴う安全性の問題はこれまでも理解されており、この問題を解決するための試みがなされてきた。しかし原位置にあるレンズの洗浄に関する無数の問題を解決するためのこうした試みは、これまでのところ不十分であった。

本発明は独立請求項に記述され、追加的な特徴は従属請求項に記述される。

ある態様では、制御ユニットとスコープアクセサリとの間でガスおよび／または液体を伝達するためのチャネルデバイスが与えられる。このチャネルデバイスは、洗浄ラインを備える。洗浄ラインは、洗浄ラインガスチャネルと、洗浄コンテナと、ピストンと、洗浄ライン洗浄チャネルとを備える。洗浄ラインガスチャネルは、制御ユニットの洗浄ラインガス出力部からガスを受け取るように構成される。ピストンは、受け取ったガスによる洗浄ラインガスチャネル内の圧力の増加によって起動され、これにより液体が洗浄コンテナから排出されるように構成される。洗浄ライン洗浄チャネルは、排出された液体をスコープに伝達するように構成される。

いくつかの実施形態では、洗浄ラインは、洗浄コンテナが洗浄ラインにあるとき、洗浄コンテナ内の液体が補充されるように構成されたバルブを備える。いくつかの実施形態では、洗浄コンテナは、液体の交換供給を可能とするために、洗浄ライン内で交換洗浄コンテナに交換可能である。

いくつかの実施形態では、チャネルデバイスはガスラインを備える。ガスラインは、制御ユニットのガスラインガス出力部からガスを受け取り、受け取ったガスをスコープアクセサリに伝達する。

いくつかの実施形態では、チャネルデバイスは、チャネルデバイスが制御ユニット接続されているとき、制御ユニットがチャネルデバイスを識別できるように構成された識別装置を備える。

ある態様では、アセンブリが与えられる。このアセンブリは、チャネルデバイスとスコープアクセサリとを備える。スコープアクセサリは、ガスおよび／または液体を、スコープの光学表面を横断して導くように構成される。いくつかの実施形態では、スコープアクセサリは、ガスおよび／または液体を、スコープアクセサリの入力端からスコープアクセサリの出力端に伝達するように構成された導管を備える。

ある態様では、チャネルデバイスと、スコープアクセサリと、スコープとを備えるアセンブリが与えられる。

ある態様では、チャネルデバイスとスコープアクセサリを介してスコープの光学表面を横断するガスおよび／または液体のフローを制御するための制御ユニットが与えられる。この制御ユニットは、ガスの供給を受け取るためのガス入り口と、ガス供給からの第１のガス出力を出力し、光学表面を横断するガスのフローを生成するためのガスラインガス出力部と、ガス供給からの第２のガス出力を出力し、光学表面を横断する液体のフローを生成するための洗浄ラインガス出力部とを備える。

いくつかの実施形態では、制御ユニットは、ガスラインガス出力部を通ったガスフローの二値制御を与えるために、閉位置と完全開位置との間で切り替え可能なガスライン二値バルブを備える。いくつかの実施形態では、制御ユニットは、ガスラインガス出力部を通ったガスフローの可変制御を与えるために、少なくとも閉位置と部分開位置と完全開位置とを含む複数の位置の間で切り替え可能なガスライン可変バルブを備える。いくつかの実施形態では、制御ユニットは、洗浄ラインガス出力部を通ったガスフローの二値制御を与えるために、閉位置と完全開位置との間で切り替え可能な洗浄ライン二値バルブを備える。いくつかの実施形態では、制御ユニットは、洗浄ラインガス出力部を通ったガスフローの可変制御を与えるために、少なくとも閉位置と部分開位置と完全開位置とを含む複数の位置の間で切り替え可能な洗浄ライン可変バルブを備える。

いくつかの実施形態では、制御ユニットは、チャネルデバイスの存在を検知し、チャネルデバイスの特性を識別するように構成された識別センサを備える。

いくつかの実施形態では、制御ユニットは、所定のガスフロールーティンと所定の液体フロールーティンとを含む少なくとも１つの所定のフロールーティンを実行するように構成される。

いくつかの実施形態では、少なくとも１つの所定のフロールーティンの第１のルーティンは、第１の期間と、第１の期間の後の第２の期間を備える。ガスラインガス出力部を通る平均ガスフローレートは、第１の期間での平均ガスフローレート方が、第２の期間での平均ガスフローレートより大きい。いくつかの実施形態では、少なくとも１つの所定のフロールーティンの第１のルーティンで、洗浄ラインガス出力部を通るガスフローレートは、第１の期間中および第２の期間中０である。

いくつかの実施形態では、少なくとも１つの所定のフロールーティンの第２のルーティンは、ガスラインガス出力部を通るガスフローのパルスを少なくとも１つ備える。いくつかの実施形態では、少なくとも１つの所定のフロールーティンの第２のルーティンは、前記ガスライン洗浄出力部を通るガスフローのパルスを少なくとも１つ備える。第１のルーティンおよび第２のルーティンは、それぞれの他のルーティンを持たず、独立に存在してよい。

いくつかの実施形態では、制御ユニットは、スコープの光学表面が光学表面に結露が発生すると予想される環境に入れられたことに応答して、第１のガス出力と第２のガス出力の少なくとも１つを起動するように構成される。いくつかの実施形態では、環境は腔である。いくつかの実施形態では、制御ユニットは、スコープの光学表面が光学表面に結露が発生すると予想される環境に入れられたことに応答して、腔の最大圧力閾値を決定するために、腔１８の圧力の初期測定値を使用するように構成される。

いくつかの実施形態では、制御ユニットは、遠隔操作されるように構成される。

ある態様では、制御ユニットと、チャネルデバイスとを備えるアセンブリが与えられる。ある態様では、制御ユニットと、チャネルデバイスと、スコープアクセサリとを備えるアセンブリが与えられる。ある態様では、制御ユニットと、チャネルデバイスと、スコープアクセサリと、スコープとを備えるアセンブリが与えられる。

ある態様では、洗浄コンテナと、洗浄ラインで使われるピストンとが与えられる。洗浄ラインは、洗浄ラインガスチャネルと、洗浄ライン洗浄チャネルとを備える。洗浄ラインガスチャネルは、制御ユニットの洗浄ラインガス出力部からガスを受け取るように構成される。洗浄コンテナとピストンとは、以下のように、洗浄ライン内に取り外し可能に挿入される。すなわち、洗浄コンテナとピストンとが洗浄ライン内にあるときは、ピストンは、受け取ったガスによる洗浄ラインガスチャネル内の圧力の増加によって起動され、これにより液体が洗浄コンテナから排出されるように構成される。

本システムは、スコープの前処理や洗浄のための腔からのスコープの取り外しを改善することにより、先行技術の欠点を克服する。デブリと汚染は、患者と洗浄コンテナにガスを直接付与することにより除去される。これにより、最適な洗浄サイクルを数分間実行するための、入念に設計されたパルスのシーケンスが可能となる。

さらに、結露の問題、すなわち室温にあるスコープが温かく湿った腔内環境に挿入されることにより発生するレンズ結露の問題は、ガスの形状が制御されたパルスを与えることにより解決される。これは洗浄パルスとして機能する。これに続き所定の時間のガスフローが与えられるが、これにより、スコープの露点に達したまたは超えたときも、視野の鮮明さが保たれる。これは、使用前のスコープの前処理や手術中のスコープの取り外し（これらは前述のリスクとなり得る）を不要とする。

以下の図面を参照して特定の実施形態を説明する。
本開示の実施例に係るアセンブリのブロック図である。 アセンブリの制御ユニットを示す図である。 制御ユニットの背面パネルを示す図である。 制御ユニットの正面パネルを示す図である。 アセンブリのスコープアクセサリとチャネルデバイスを示す図である。 スコープアクセサリを示す図である。 第１の結露防止フロールーティンを示すグラフである。 第２の結露防止フロールーティンを示すグラフである。 第１のガスおよび液体フロールーティンのグラフである。 第２のガスおよび液体フロールーティンのグラフである。 第１のガスフロールーティンのグラフである。 第２のガスフロールーティンのグラフである。 さらなるガスフロールーティンのグラフである。

図１を参照すると、アセンブリ２は、制御ユニット４と、起動部６と、チャネルデバイス８と、スコープアクセサリ１０と、スコープ１２と、注入装置１４とを備える。起動部６は、制御ユニット４を起動／終了するように構成される。制御ユニット４とチャネルデバイス８とは、スコープアクセサリ１０にガスと液体を供給するように構成される。スコープアクセサリ１０は、スコープ１２に結合されるように構成される。スコープアクセサリ１０は、チャネルデバイス８からガスと液体を受け取るように構成される。スコープアクセサリ１０は、ガスと液体をスコープ１２の光学表面に導くように構成される。一方スコープ１２は、スコープアクセサリ１０に結合される。スコープアクセサリ１０は、スコープ１２の光学表面１６に供給されたガスと液体が、スコープ１２の光学表面を通した可視性を向上させるように構成される。いくつかの実施形態では、可視性は、スコープ１２の光学表面１６から物質を除去することによって向上する。いくつかの実施形態では、可視性は、スコープ１２の光学表面１６と相互作用してスコープ１２の光学表面を通した可視性を低下させる物質からスコープ１２の光学表面１６を保護することによって向上する。注入装置１４は、腔１８を形成、維持、および／または拡張するために、注入ガスを供給するように構成される。いくつかの実施形態では、腔１８は人体の内部に形成される。スコープ１２は、少なくも部分的には腔１８内に入るように構成される。これにより、腔１８内で光学表面１６を通過する光から腔１８の画像が生成される。

図２を参照して制御ユニット４を説明する。制御ユニット４は、正面パネル２０と背面パネル２２とを有する。正面パネル２０は、出力ソケットとユーザインタフェースとを備える。背面パネル２２は入力ソケットを備える。

図３を参照すると、背面パネル２２は、電力入力部２４と、パワースイッチ２６と、等電位ボンドポイント２８と、ガス入口３０と、データ転送ポート３２とを備える。電力入力部２４は、制御ユニット４に電力を供給するために、電力源からの電力を受け取るように構成される。パワースイッチ２６は、電力入力部２４からの電力供給のユーザによるオン、オフ操作を可能とする。等電位ボンドポイント２８は、等電位ボンディングのためのポイントを与える。等電位ボンドポイント２８は、ユーザを制御ユニット４の任意の表面から受ける電気ショックから保護するように構成される。等電位ボンドポイント２８は、制御ユニット４の充電を防止するために、共通電気ポテンシャル点などの接地点に接続可能である。ガス入口３０は、制御ユニット４が使用するガスの供給を受け取るように構成される。ガス入口３０は、ガス入口３０にガスを伝達するホースに接続するように構成される。ガスは二酸化炭素である。データ転送ポート３２は、外部のコンピュータへの／からのデータを送信および／または受信するように構成される。データ転送ポート３２により、制御ユニット４の操作特性を（再）設定することができる。データ転送ポート３２は、記録された制御ユニット４の利用データを外部のコンピュータに与えるように構成される。

制御ユニット４は、遠隔操作されるように構成される。遠隔操作は、中央制御システムによって実行される。中央制御システムはまた、外科手術中に他のデバイスを制御するように構成される。制御ユニット４は、中央制御ユニットからの制御信号を受信し、受信した制御信号に従って動作するように構成される。制御ユニットは、データ転送ポート３２を介して中央制御ユニットからの制御信号を受信するように構成される。いくつかの実施形態では制御ユニットは、無線接続を介して中央制御ユニットからの制御信号を受信するように構成される。制御ユニット４は、可能性のある動作のすべてまたは一部のサブセットのみが、中央制御ユニットを介して制御可能となるように構成される。ユーザは遠隔操作により、制御ユニット４の操作を、外科手術中に使われる他のデバイスの操作と結びつけることができる。

図４を参照すると、正面パネル２０は、スタンバイボタン３４と、供給圧力表示部３６と、起動信号入力部３８と、ガスラインガス出力部４０と、洗浄ラインガス出力部４２と、デミストタイマーディスプレイ４４と、デミストタイマー増加ボタン４６と、デミストタイマー減少ボタン４８と、腔圧力ディスプレイ５０と、腔圧力増加ボタン５２と、腔圧力減少ボタン５４とを備える。

スタンバイボタン３４は、制御ユニット４のスタンバイモードと開始モードとを切り替えるようにユーザによって操作される。供給圧力表示部３６は、ガス入口３０を介して受け取られたガスの圧力を表示するように構成される。供給圧力表示部３６は、制御ユニット４が、ガス入口３０を介して受け取ったガスの圧力が減少して所定のレベルより低くなったという判断に応答して表示するように構成される。これにより、ガス入口３０を介したガスの供給が間もなく尽きることがユーザに警告される。起動信号入力部３８は、起動部６からの信号を受信するように構成される。本実施形態では、起動部６はフットスイッチである。制御ユニット４は、ユーザによる起動部６の作動を起動信号入力部３８を介して検知し、起動部６の作動の検知に応答して動作を起動するように構成される。起動部６は、ユーザによる起動部６の起動に応答して、制御ユニット４を起動するように構成される。

ガスラインガス出力部４０と洗浄ラインガス出力部４２とは、ガス入口３０から受け取ったガスを出力するように構成される。制御ユニット４は、ガスラインガス出力部４０と洗浄ラインガス出力部４２のそれぞれを通して出力されるガスのフローレートを制御するように構成される。ガスラインガス出力部４０と洗浄ラインガス出力部４２は、ガス出力部カバー５６が取り外し可能に取り付けられるように構成される。ガス出力部カバー５６は、ガスラインガス出力部４０と洗浄ラインガス出力部４２に接続された殺菌済みの部品の殺菌を保護するように構成される。

制御ユニット４は、ガスライン二値バルブを備える。制御ユニット４は、ガスライン二値バルブを閉位置と全開位置との間で交互に切り替えるように構成される。これにより、ガスライン二値バルブを通ったガスの二値制御が可能となる。ガスライン二値バルブは、ガスライン二値バルブを通るガスのフローがガスラインガス出力部４０を通って流れるように、ガスラインガス出力部４０に接続される。本実施形態では、ガスライン二値バルブはソレノイドバルブを備える。制御ユニット４は、ガスライン可変バルブを備える。制御ユニット４は、少なくとも閉位置、部分開位置および全開位置を含む複数の位置の中の所望の位置にガスライン可変バルブを設定するように構成される。これにより制御ユニット４は、ガスライン可変バルブを通るガスのフローレートを可変的に制御することができる。本実施形態では、ガスライン可変バルブは比例バルブを備える。ガスライン可変バルブは、ガスライン可変バルブを通るガス流がガスラインガス出力部４０を通って流れるように、ガスラインガス出力部４０に接続される。ガスライン二値バルブとガスライン可変バルブとは、ガスがガスラインガス出力部４０を通って流れるように、協働しておよび個別に動作可能である。開位置でのガスライン二値バルブは、完全開位置でのガスライン可変バルブのガスフローレート以上のガスフローレートを有する。

制御ユニット４は、ガスの所望のフローレートを得る目的でガスライン可変バルブの適切な位置を決定するために、腔１８内で決定された圧力バルブを使うように構成される。腔１８内の圧力バルブは、圧力センサと流量センサとを用いて決定される。圧力センサは、制御ユニット４からガスが出力されていないときの実際の圧力を測定する。腔圧力と制御ユニット４の既知の内部圧力が異なることによるフローレートの異なるフローに対する抵抗を知ることにより、流量センサにより腔１８内の圧力を計算することができる。圧力センサはと流量センサとは、ともに制御ユニット４内に配置される。

制御ユニット４は、洗浄ライン二値バルブと洗浄ライン可変バルブとを備える。これらのバルブは前述のガスライン二値バルブとガスライン可変バルブと同様に構成されるが、ガスラインガス出力部４０ではなく洗浄ラインガス出力部４２に対して配置される。

デミストタイマーディスプレイ４４は、デミスト処理（後述する１つ以上の処理に相当する）の設定時間、現在時間および／または残り時間を表示するように構成される。デミストタイマーディスプレイ４４はまた、命令および／またはエラーメッセージを表示するように構成される。デミストタイマー増加ボタン４６とデミストタイマー減少ボタン４８は、ユーザによって起動されるように構成される。これにより制御ユニット４は、デミスト機能の設定／現在／残り時間を（それぞれ）増加または減少する。

腔圧力ディスプレイ５０は、決定された腔１８の圧力を表示するように構成される。腔圧力ディスプレイ５０は、腔１８内の圧力が所定の安全閾値を超えたことに応答して表示するように構成される。腔圧力増加ボタン５２と腔圧力減少ボタン５４は、ユーザによって起動されるように構成される。これにより、制御ユニット４は、腔１８内の圧力を（それぞれ）増加または減少する。制御ユニット４は注入装置１４とは別個のデバイスであり、異なるガス供給を使う。腔１８は主に注入装置１４からのガス供給により形成されるが、制御ユニット４から腔１８に供給されるガスもまた腔１８内の圧力を増加させる。そして制御ユニット４から腔１８へのガス供給量を減少させることにより、腔１８内の望ましくない圧力増加を防止することができる。

制御ユニット４は、ガスラインガス出力部４０および／または洗浄ラインガス出力部４２に接続された信頼済みコネクタ（ｔｒｕｓｔｅｄ ｃｏｎｎｅｔｏｒ）の存在を検知するように構成された識別センサを備える。本実施形態では、識別センサはＲＦＩＤセンサである。制御ユニット４は、信頼済み部品が接続されたことをＲＦＩＤセンサが検知したことに応答して、ガスラインガス出力部４０および／または洗浄ラインガス出力部４２からの出力を実行するように構成される。信頼済みでない部品（ｎｏｎ−ｔｒｕｓｔｅｄ ｃｏｍｐｏｎｅｎｔ）が接続された場合は、ガスの出力は行われない。

制御ユニット４のＲＦＩＤセンサは、チャネルデバイス８からのＲＦＩＤ信号を検知するように構成される。このＲＦＩＤ信号は、チャネルデバイス８の特性を示す。従って制御ユニット４は、使われるチャネルデバイス８のタイプを識別することができる。例えばチャネルデバイス８が異なると、スコープアクセサリ１０の長さが異なる。チャネルデバイス８の特定のタイプを識別することにより、制御ユニット４は、使われるチャネルデバイス８のタイプに応じて適切に動作することができる。この構成は、制御ユニット４内のソフトウェアへのアクセスを停止するためのハードウェアインターロックとして使うこともできる。

図５を参照して、チャネルデバイス８とスコープアクセサリ１０とを説明する。チャネルデバイス８は、図５に個別に示される様々な部品を備える。これらの部品は、チャネルデバイス８を使用する前に組み立てられる。チャネルデバイス８は、ガスライン５８と洗浄ライン６０とを備える。ガスライン５８と洗浄ライン６０の各々は、ガスおよび／または液体が通るチャネルを形成するように構成される。ガスライン５８と洗浄ライン６０はそれぞれ、制御ユニット４からのガスの供給を受けるように構成される。ガスライン５８は、制御ユニット４とスコープアクセサリ１０との間でガスを伝達するように構成されたガスラインチャネル６２を備える。洗浄ライン６０は、制御ユニット４とスコープアクセサリ１０との間でガスおよび／または液体を伝達するように構成された洗浄ラインチャネル６４を備える。ガスラインチャネル６２と洗浄ラインチャネル６４とはそれぞれ、上流端６６と下流端６８とを備える。ガスライン５８と洗浄ライン６０とはそれぞれ、上流端６６で制御ユニット４のガスラインガス出力部４０と洗浄ラインガス出力部４２とに接続するように構成される。ガスライン５８と洗浄ライン６０とは、下流端６８でスコープアクセサリ１０に接続するように構成される。要約すると、チャネルデバイス８は、スコープアクセサリ１０にガスおよび／または液体を供給するように構成される。

ガスライン入力部コネクタ７０が、制御ユニット４のガスラインガス出力部４０に接続する（本実施形態では、ガス出力部カバー５６を介して）ように構成される。ＲＦＩＤトランスポンダ７２が、ガスライン入力部コネクタ７０に隣接して設けられる。ＲＦＩＤトランスポンダ７２は、識別信号を発するように構成される。制御ユニット４のＤＦＩＤセンサは、この識別信号を検知するように構成される。制御ユニット４は、識別信号を検知したことに応答して、ガスラインガス出力部４０および／または洗浄ラインガス出力部４２を起動するように構成される。制御ユニット４は識別信号を検知することにより、ガスライン入力部コネクタ７０が閉じているおよび／または制御ユニット４に接続していることを知る。制御ユニット４は、チャネルデバイス８が信頼済みデバイスであることを示し、チャネルデバイス８を制御ユニット４で使用可能とするように構成される。本実施形態ではガスライン入力部コネクタ７０は、ホースバーブプラグ（ｈｏｓｅ ｂａｒｂ ｐｌｕｇ）である。ＲＦＩＤトランスポンダ７２は中心穴を有する。ガスライン入力部コネクタ７０はこの中心穴を通る。ＲＦＩＤトランスポンダ７２は、ガスライン５８の上流端６６に十分近いところに位置する。これにより、ガスライン入力部コネクタ７０がガスラインガス出力部４０に接続されたとき、ＲＦＩＤトランスポンダ７２は制御ユニット４と通信することができる。

ガスライン入力部コネクタ７０からガスラインチャネル６２に沿った下流側に、フィルタ７４が設けられる。フィルタ７４は、バクテリアがガスライン５８に沿ったいずれかの方向にフィルタ７４を通過することを防ぐように構成される。フィルタ７４は細かいメッシュを備える。フィルタ７４はガスラインチューブ７６に接続される。ガスラインチューブ７６は、フィルタ７４をスコープアクセサリ１０に接続するように構成される。

洗浄ライン６０は、スコープアクセサリ１０に液体を伝達するように構成される。本実施形態では液体は生理食塩水である。液体は、洗浄ライン６０の一部を構成する洗浄コンテナ７８に蓄えられる。洗浄ラインチャネル６４は、洗浄コンテナ７８の上流で、制御ユニット４のガスラインガス出力部４０から洗浄コンテナ７８内のピストン８０にガスを伝達するように構成される。ピストン８０は、洗浄コンテナ７８内の液体を圧縮するように構成される。これにより、液体のいくらかが洗浄コンテナ７８からスコープアクセサリ１０に向かって流れる。ピストン８０は、制御ユニット４の洗浄ラインガス出力部４２からのガス圧力によって起動する。

洗浄ライン入力コネクタ８２が、洗浄ライン６０の上流端６６を制御ユニット４の洗浄ラインガス出力部４２に（本実施形態では、ガス出力部カバー５６を介して）接続するように設けられる。洗浄ライン入力コネクタ８２は、（本実施形態では）ホースバーブプラグである。洗浄ライン入力コネクタ８２は、ガスライン入力部コネクタ７０より小さい断面積を有する。洗浄ライン入力コネクタ８２は、ガスライン入力部コネクタ７０と異なった方法で構成される。これは、これらのコネクタがあべこべに接続されないことを保証するためである。洗浄ライン６０は、洗浄ライン入力コネクタ８２の下流側に洗浄ラインチューブ８４を備える。洗浄ラインチューブ８４は一対であり、ガスラインチューブ７６に接着される。洗浄ラインチューブ８４は、ガスラインチューブ７６より小さい断面積を有する。洗浄ラインチューブ８４の下流側で、洗浄ラインチューブ８４は、アダプタヘッド８６とＯリング８８とに接続される。アダプタヘッド８６とＯリング８８とは、ピストン８０を支持するように構成される。ピストン８０は、洗浄コンテナ７８内で動くことができる。

ドレープクリップ９０が、ガスラインチューブ７６に取り付けられるように構成される。ドレープクリップ９０は、洗浄コンテナ７８がチャネルデバイス８の下流端６８に隣接してスコープアクセサリ１０の近くに位置するように、洗浄ライン６０を維持するよう構成される。

洗浄コンテナ７８とピストン８０とは、アダプタヘッド８６に接続されるように構成される。この接続は、４分の１回転ロックでなされる。洗浄コンテナ７８は交換可能である。洗浄ライン６０内で、別の洗浄コンテナ７８を洗浄コンテナ７８に交換することができる。洗浄コンテナ７８内で、ピストン８０はバリアとして機能する。ピストン８０の上流側には、ガスが存在する。ピストン８０の下流側には、液体が存在する（洗浄コンテナ７８から液体が排出されていないと仮定すれば）。ピストン８０は、ガスと液体との間のバリアとして機能する。すなわちピストン８０は、洗浄コンテナ７８の向きおよび位置に関わらず、洗浄コンテナ７８内の液体が上流側に流れて制御ユニット４に到達することを防止する。

洗浄コンテナ７８は、バルブ９２に取り付けられるように構成される。ピストン８０によって洗浄コンテナ７８から吐き出された液体は、バルブ９２に入る。バルブ９２は、洗浄コンテナ７８からの液体を受け取るための入力ポートと、洗浄コンテナ７８から受け取った液体をスコープアクセサリ１０に伝達するための出力ポートと、洗浄コンテナ７８に液体を補充するための補充ポートとを有する。補充バルブが開いているとき、洗浄コンテナ７８は、補充ポートに取り付けられたシリンジから液体を補充される。その後補充ポートは、バルブ９２が使用可能となるように閉じられる。本実施形態では、バルブ９２は三方活栓である。バルブ９２の出力ポートは、一方向バルブ９４に接続される。一方向バルブ９４は、液体をスコープアクセサリ１０に向けて下流方向に流し、ガスまたは液体のフローをバルブ９２に流入させないように構成される。一方向バルブ９４の下流側は、アダプタ９６に接続される。アダプタ９６は、一方向バルブ９４を洗浄ラインチャネル６４の最終ポートに接続する。洗浄ラインチャネル６４の下流端６８は、スコープアクセサリ１０に接続するように構成される。洗浄ラインチャネル６４の洗浄ライン入力コネクタ８２と洗浄コンテナ７８との間の部分は、洗浄ラインガスチャネルと呼ばれる。洗浄ラインチャネル６４の洗浄コンテナ７８とスコープアクセサリ１０との間の部分は、洗浄ライン洗浄チャネルと呼ばれる。

図６を参照すると、スコープアクセサリ１０は、入力端９８と、出力端１００とを備える。入力端９８は、洗浄ライン入力部１０２と、ガスライン入力部１０４とを備える。洗浄ライン入力部１０２は、洗浄ライン６０からの液体を受け取るように構成される。ガスライン入力部１０４は、ガスライン５８からのガスを受け取るように構成される。洗浄ライン６０は、洗浄ライン入力部１０２に取り付けられるように構成される。ガスライン５８は、ガスライン入力部１０４に取り付けられるように構成される。本実施形態では、この取り付けは、それぞれの部品を互いに接着することによって実現される。別の実施形態では、これはプッシュフィットバーブ（ｐｕｓｈ ｆｉｔ ｂａｒｂ）によって実現される。

スコープアクセサリ１０は、スコープ１２（図示せず）に結びつくように構成される。スコープアクセサリ１０は、スコープ１２に取り外し可能に取り付けられる。スコープアクセサリ１０とスコープ１２とが使用可能であるとき、スコープ１２の遠位端はスコープアクセサリ１０の出力端１００に結びつき、スコープ１２の近位端はスコープアクセサリ１０の入力端９８に結びつく。スコープ１２の遠位端は、光学表面１６を備える。本実施形態では、スコープ１２は腹腔鏡である。

少なくともスコープアクセサリ１０がスコープ１２に取り付けられているときは、スコープアクセサリ１０の入力端９８と出力端１００との間に導管が延びている。導管は、少なくとも部分的にはスコープアクセサリ１０によって定義される。導管は、スコープアクセサリ１０の入力端９８で、洗浄ライン６０からの液体とガスラインからのガスとを受け取るように構成される。導管は、受け取った液体および／またはガスを、スコープアクセサリ１０の出力端１００に伝達するように構成される。スコープアクセサリ１０の出力端１００は、導管からのガスおよび／または液体を、スコープ１２の光学表面１６を横断して導くように構成される（このときスコープ１２はスコープアクセサリ１０に取り付けられている）。本実施形態では、導管の一部はスコープアクセサリ１０で形成され、一部はスコープ１２で形成される。このときスコープ１２は、スコープアクセサリ１０の内部に位置する。

スコープアクセサリ１０はスコープ１２を掴むように構成され、スコープ１２はスコープアクセサリ１０の内部に位置する。スコープアクセサリ１０は、入力端９８と出力端１００との間に、実質的に三日月形の断面を有する。上述のように、スコープアクセサリ１０は、入力端９８と出力端１００とで異なった構造を有する。スコープアクセサリ１０の縦方向の長さ（入力端９８と出力端１００との間の部分）は、横方向の長さより実質的に長い。スコープアクセサリ１０は、使用中、出力端１００が腔１８の内部に位置し、入力端９８が腔１８の外部に位置するように構成される。

本実施形態では、導管は単一の導管である。この導管は、入力端９８と出力端１００との間に液体および／またはガスを通す唯一の導管である。液体とガスの両方がそれぞれ洗浄ライン６０とガスラインから供給されているときは、これらのガスと液体はともに導管に沿って流れる。これらのいずれか一方のみが供給されているときは、供給された液体またガスのみが導管に沿って流れる。

使用可能な状態のとき、チャネルデバイス８とスコープアクセサリ１０は、組み合わされたデバイスとして与えられる。チャネルデバイス８とスコープアクセサリ１０とは、滅菌された状態で使用可能となる。洗浄コンテナ７８が十分な液体を充填されていないときは、液体が一方向バルブ９４を介して洗浄コンテナ７８に与えられるか、前述のように液体が洗浄コンテナ７８に補充される。アセンブリ２を使うためには、ガスライン５８と洗浄ライン６０とをそれぞれ制御ユニット４のガスラインガス出力部４０と洗浄ラインガス出力部４２とに接続することによって、チャネルデバイス８が制御ユニット４に接続される。スコープ１２とスコープアクセサリ１０とが腔１８内に導入される前に、起動部６の最初のユーザ起動により主要パージシーケンスが引き起こされる。主要パージシーケンスでは、洗浄ライン６０の洗浄コンテナ７８とスコープアクセサリ１０との間の部分が洗浄コンテナ７８からの液体で満たされ、ガスライン５８内の空気が制御ユニット４からのガスで置き換えられるように、制御ユニット４によってガスが排出される。この後、スコープ１２とスコープアクセサリ１０とは、腔１８内に導入される準備が整う。スコープ１２はスコープアクセサリ１０と組み合わされ、スコープ１２とスコープアクセサリ１０との組み合わせが腔１８内に導入される。制御ユニット４のスイッチがオンにされる（これは事前にされてもよい）。制御ユニット４は、起動部６の第２のユーザ起動に応答して、ガスラインガス出力部４０と洗浄ラインガス出力部４２の一方または両方を通してガスを伝達し続ける。これは、ガスおよび／または液体が、それぞれガスライン５８および洗浄ライン６０を介して導管に入り、光学表面１６に供給されるようにするためである。

制御ユニット４は、ガスラインガス出力部４０を通るガスの出力レベルと、洗浄ラインガス出力部４２を通るガスの出力レベルとを個別に調整するように構成される。これにより、制御ユニット４は、スコープアクセサリ１０の導管に沿って流れる液体とガスのフローレート、従ってスコープ１２の光学表面１６を横断して流れる液体とガスのフローレートを決定することができる。制御ユニット４は、予めプログラムされた複数のフロールーティンを有する。各処理で、所定の液体フロールーティンが、所定のガスフロールーティンと同時に実行される。所定の液体フロールーティンは、所定のガスフロールーティンと異なってよい。これらのルーティンの各々は、少なくとも液体およびガスのフローレートが所定の仕方で変化するのに必要な時間継続する。

以下、様々なフロールーティンを説明する。これらのフロールーティンは、起動部６を使うユーザ、または制御ユニット４を使うユーザによって起動される。それぞれの手順の操作は、途中で制御ユニット４および／または起動部６を操作するユーザによって中断されない限り、所定の時間続く。一般にフロールーティンは、スコープ１２に取り付けられたスコープアクセサリ１０の出力端１００が腔１８内にあるときに実行される。

図７は、第１の結露防止フロールーティンを示す。第１の結露防止フロールーティンは、ガスのフローのみを含む。液体のフローは第１の結露防止フロールーティンの一部を形成しない。すなわち、この間は液体のフローは０である。図７は、ガスのフローレートの時間変化を示すグラフである。ルーティンは、時刻ｔ＝０で開始され所定の時間続く。ルーティンが開始されると、ガスのフローが０からルーティンの最大レベルまで増加する。この増加は最小限の時間続く。最初の期間ｔ０は、高フローレートで特徴づけられる。第２の期間ｔ１は、より低フローレートで特徴づけられる。最初の期間ｔ０で、フローレートは最大レベルまで増加し、実質的に中間レベルまで減少する。第２の期間ｔ１では、フローレートは中間レベルから０まで徐々に減少する。

第１の結露防止フロールーティンは、手術の開始時にスコープアクセサリ１０の出力端１００とスコープ１２の遠位端を腔１８に入れるとき特に有用である。通常、腔１８内の温度は腔１８外の温度より高く、腔１８内の湿度は腔１８外の湿度より高い。典型的な手術条件では、腔１８外の温度は２０℃の室温であり、腔１８内の温度は３７℃の人の体温である。典型的な条件では、腔１８内の湿度は８０％から１００％の範囲にある。

本発明者らは、腔１８外から腔１８内にスコープ１２とスコープアクセサリ１０とを導入するときに、スコープ１２の光学表面１６に結露が発生する可能性が極めて高いことを発見した。この結露は、手術中に光学表面１６を通した視界を悪化させる。最初スコープ１２はより低い周囲の温度にあるため、温度と湿度の上昇とともにスコープ１２に発生する結露は増加する。

第１の結露防止フロールーティンは、スコープ１２の光学表面１６が周囲の温度に十分近くになるまで温まるのに要する時間継続するように構成される。スコープ１２がこの温度まで温まった後は、結露は最早発生しない。これは、光学表面１６が露点より高い温度に達したときも同様である。

第２の期間ｔ１中のフローレートの緩やかな減少は、光学表面の温度上昇とそれに伴う結露生成率の減少とに対応する。別の実施形態では、第２の期間ｔ１中のフローレートは、この期間の終了時（このときフローレートは０となる）まで一定または実質的に一定である。フローレートの緩やかな減少により、ガス供給全体が減少する。

第１の期間ｔ０中のガスのフローレートの最初のスパイクにより、既存の結露はすべて光学表面１６から除去される。光学表面１６がルーティンの実行前から腔１８内にある場合、ルーティンの開始時に、光学表面１６上には高いレベルの結露が存在すると考えられる。従って最初の高フローレートは、比較的短時間で比較的大量の結露を除去するものとして機能する。高フローレートによる最初の結露除去の後、光学表面１６に結露がない状態を維持するために、より低フローレートが必要となる。

本実施形態では、第１の期間ｔ０中のガスのフローは、ガスライン二値バルブを使用する。第２の期間ｔ１中のフローは、ガスライン可変バルブを使用する。

図８は、第２の結露防止フロールーティンを示す。第２の結露防止フロールーティンは、第１の結露防止フロールーティンと似ている。２つのルーティンの主な違いは、第２の結露防止フロールーティンが、少なくとも第２の期間ｔ１中に正弦波的な変化をすることである。正弦波的な変化の各サイクルは、第１の期間ｔ０と同じまたは実質的に同じ時間周期を持つ。この結果フローレートは、第１の期間ｔ０中に実質的に増加して最大レベルに達し、その後第１の結露防止フロールーティンの中間レベルより低いレベルまで減少する。その後フローレートは、第１の結露防止フロールーティンの中間レベルより高いレベルまで増加する。その後、第２の期間ｔ１中にフローレートは、徐々に減少しながら正弦波的に変動し、第２の期間ｔ１の終了近くで０になる。正弦波的に変化するフローレートは、ガスのフローの追加的なバーストを与える。これは光学表面１６からの結露除去に役立つ。

本実施形態では、ガスのフローはガスライン可変バルブのみを使用する。

図９は、第１のガスおよび液体フロールーティンを示す。第１の期間Ｔ０は、ガスと液体の高フローレートによって特徴づけられる。ガスと液体のフローレートは、第１の期間Ｔ０の開始時における０から急速に増加し、その後最大レベルを保ち、その後第１の期間Ｔ０の終了時における０まで急速に減少する。第１の期間Ｔ０の後、ルーティンの残りの時間を通して、液体のフローレートは０を保つ。第２の期間Ｔ１は、高フローレートより低い中間フローレートによって特徴づけられる。ガスのフローレートは、第２の期間Ｔ１の開始時における０から増加し、その後中間レベルを保ち、その後第２の期間Ｔ１の終了時における０まで減少する。第３の期間Ｔ２は、ガスの高フローレートによって特徴づけられる。第３の期間Ｔ２におけるガスのフローは、第１の期間Ｔ０におけるガスのフローに相当する。第４の期間Ｔ３は、第２の期間Ｔ１に相当する。第５の期間Ｔ４は、第３の期間Ｔ２に相当する。第６の期間Ｔ８は、第４の期間Ｔ３に相当する。第７の期間Ｔ５では、ガスと液体のフローレートは０である。いくつかの実施形態では、各期間は、異なる（しかし前述と類似の）持続時間を有する。いくつかの実施形態では、ルーティンは、１回以上連続して繰り返すように構成される。

本実施形態では、高フローレートの期間中は、（ガスライン可変バルブや洗浄ライン可変バルブでなく）ガスラインガス二値バルブおよび／または洗浄ライン二値バルブが使用される。中間フローレート期間中は、ガスライン可変バルブのみが使用される。

本発明者らは、第１のガスおよび液体フロールーティンは外科手術中に使われると有利であることを発見した。最初のガスと液体の高フローは、光学表面１６からあらゆる物質および／または結露を除去するのに役立つ。これに続くガスの高フロー期間もまた、液体を節約しながら、同じ効果を奏する。ガスの中間フロー期間は、結露を防止する。

図１０は、第２のガスおよび液体フロールーティンを示す。第２の結露防止フロールーティンは、第２の結露防止フロールーティンと似ている。２つのルーティンの主な違いは、第１のガスおよび液体フロールーティンではフローレートが０まで減少するのに対し、第２のガスおよび液体フロールーティンではフローレートは０でないレベルまで減少する点である。しかしながら、第１のガスおよび液体フロールーティンと同様に、ルーティンの終了時にはフローレートは０まで減少する。もう１つの違いは、第２のガスおよび液体フロールーティンではすべてのガスのフローが、ガスライン可変バルブのみを通して流れるという点である。

図１１は、第１のガスフロールーティンを示す。第１のガスフロールーティン全体を通して、液体のフローレートは０である。第１の期間Ｔ１は、第１のガスおよび液体フロールーティンの第３の期間Ｔ２に相当する（図９参照）。第２の期間Ｔ２では、ガスのフローレートは０である。第３の期間Ｔ３は、第１のガスおよび液体フロールーティンの第６の期間Ｔ８に相当する。第３の期間Ｔ３は、第１の期間Ｔ１および第２の期間Ｔ２より実質的に長い。前述の違いを除けば、第１のガスフロールーティンは、第１のガスおよび液体フロールーティンに相当する。

図１２は、第２のガスフロールーティンを示す。以下の違いを除いて、第２のガスフロールーティンは第１のガスフロールーティンに相当する。すなわち、第１のガスおよび液体フロールーティンと第２のガスおよび液体フロールーティンとの違いと同様、第２のガスフロールーティンは、フローを０でないレベルまで減少させる。従って、第２のガスフロールーティンにはフローが０の期間（第１のガスフロールーティンにおける第２の期間Ｔ２がこれに相当する）が存在しない。その代わり第２のガスフロールーティンの第２の期間Ｔ２は、第１のガスフロールーティンの第３の期間Ｔ３に相当する。

前述のルーティンはフローが一定である期間を含むと述べたが、実際には一定フロー期間中でも、フローレートに小さな変動が含まれるだろう。このことは特に、腔１８内の圧力変化の観測に応答して位置が変化する部分を有するガスライン可変バルブに起因する。

前述のルーティンにおける典型的なガスのフローレートは、毎分１．２リットルである。前述の任意のルーティンにおける典型的な持続時間は、数秒から数分である。高フローレートの短パルスの継続時間は、典型的には１秒未満である。液体のパルスは、典型的には約１ミリリットルの液体を使う。１つのシーケンスで使われるＣＯ２の総量は、典型的には約５００ミリリットルである。これらの値は単なるガイドラインであり、大きく変わる可能性もある。

図１３を参照すると、制御ユニット４は、スコープ１２の光学表面１６が腔１８の内部または外部のどちらにあるかを決定するように構成される。この決定は、圧力センサの測定値に基づく。一般に腔１８内の圧力は、腔１８外の圧力と異なる。圧力センサは、ガスラインガス出力部４０での圧力を測定するように構成される。チャネルデバイス８とスコープアクセサリ１０は、制御ユニット４に接続される。従ってガスラインガス出力部４０での圧力は、ガスライン５８のスコープ端（すなわち、スコープ１２の光学表面に隣接するところ）での圧力に相当する。別の実施形態では、圧力センサは、チャネルデバイス８、スコープアクセサリ１０、スコープ１２または光学表面１６に設置される。

制御ユニット４は、前述の１つ以上のフロールーティンを起動することにより、圧力センサで測定された圧力の変化（これは、スコープ１２の光学表面１６が腔１８外から腔１８内へ移動したことを表す）に応答するように構成される。これにより、スコープ１２の光学表面１６から結露（またはデブリ／液体の汚染）を除去するための、ガスおよび／または液体のフロー操作の自動スタートが可能となる。典型的には結露は、スコープ１２の光学表面１６を腔１８内に入れると同時に発生する。光学表面１６を腔１８内に入れたことに応答して実行されるフロールーティンの自動スタートは、光学表面１６上の結露の存在が迅速に最小化されることを保証する。この自動スタートは、液体および／またはガスのフローを起動するために、操作者が起動部６を使用する必要がないことを意味する。制御ユニット４からのガスおよび／または液体のフローのこの自動スタートは、制御ユニット４の操作（これは、制御ユニット４の操作者により開始または終了され得る）の自動フローモードに相当する。

制御ユニット４は、圧力センサで測定された圧力の変化（これは、任意のガスおよび／または液体のフローの終了による、スコープ１２の光学表面１６の腔１８外から腔１８内への移動を表す）に応答するように構成される。ガスおよび／または液体のフローは、ガスラインガス出力部４０および／または洗浄ラインガス出力部４２を通る任意のフローを停止することにより終了する。これは、前述の制御ユニット４内の１つ以上のバルブを用いて実行される。

圧力センサは、大気圧より高い（例えば３ｍｍＨｇより高い）圧力を検知する。ガスフロールーティンは、この検知に応答して開始される。ガスフローは、検知された圧力レベルが閾値よりそれぞれ低いか高いかに応じて、開始または終了される。従って制御ユニット４は、腔１８内の圧力が所定の閾値レベルの中間に保たれることを保証するように構成される。これは、腔１８内の圧力が、実行される外科手術にとって適切な範囲内に保たれていることを保証することに役立つ。制御ユニット４は、腔１８内の圧力が腔１８の最大圧力閾値より高いと判断されたことに応答して、ガスフローを終了するように構成される。制御ユニット４は、腔１８内の圧力が腔１８の最小圧力閾値より低いと判断されたことに応答して、ガスフローを開始するように構成される。ガスフローが開始されると同時に、フロールーティンがそれぞれのフロールーティンの出発点から開始される。制御ユニット４は、操作者が、制御ユニット４へのユーザ入力により最大圧力閾値の値を設定できるように構成される。制御ユニット４は、操作者が、制御ユニット４へのユーザ入力より最小圧力閾値の値を設定できるように構成される。いくつかの実施形態では、最小圧力閾値は最大圧力閾値より低い所定の値として決定される。いくつかの実施形態では、最大圧力閾値のみが存在する（従って最小圧力閾値は存在しない）。

典型的な外科処置中におけるスコープアクセサリ１０の使用では、スコープ１２の光学表面１６が腔１８内に挿入される前に、腔１８は注入装置１４を用いて吹き込まれる。制御ユニット４は、光学表面１６が腔１８に入ったことを示す信号（例えば圧力の増加）の検知に応答して、腔１８の最大圧力閾値を決定するために腔１８の圧力の初期測定値を使うように構成される。いくつかの実施形態では、最大圧力閾値は、腔１８の測定圧力初期値より高い（例えば３ｍｍＨｇ高い）所定の値に設定される。従って最大圧力閾値は、ユーザが介入する必要なく自動的に設定される。最大圧力閾値を測定圧力初期値より高い所定の値に設定することにより、制御ユニット４から腔１８へのガスのフローのせいで圧力が即座に最大圧力閾値を超えることがないことを保証する。いくつかの実施形態では、制御ユニット４は、腔１８内の圧力の所定の時間平均値（例えば３０秒間）を計算することにより、腔１８の測定圧力初期値を計算する。制御ユニット４は、腔１８内の圧力を腔圧力ディスプレイ５０に表示するように構成される。腔内の作業圧力を表示するために、最大圧力閾値は、測定値より３ｍｍＨｇ高い値に設定される。

前述の特定の実施形態は例示のみを意図し、本開示の範囲を限定するものでないことを理解されたい。前述の実施形態の多くの変形（それらのいくつかは以下に説明する）も、本開示の範囲内にあることが理解される。

いくつかの実施形態では、制御パネルは前述の複数のフロールーティンを連続的に実行するように構成される。これら複数のルーティンは、直列的に、または間にフロー０の期間を挟んで実行されてよい。いくつかの実施形態では、制御パネルは、制御パネルに接続されたチャネルデバイスのタイプに基づいて１つ以上の特定のフロールーティンを実行するように構成される。

いくつかの実施形態では、制御パネルは、ある閾値を超える量のガスおよび／または液体がスコープアクセサリを通らない所定の時間を設けるように構成される。いくつかの実施形態では、この所定の時間は１分である。いくつかの実施形態では、一旦閾値の量のガスおよび／または液体がスコープアクセサリを通った場合は、所定の時間の残りの時間にそれ以上のガスおよび／または液体がスコープアクセサリを通らないように構成される。

いくつかの実施形態では、制御ユニットは、注入装置と同じ装置である。制御ユニットと注入装置は、同じガス供給を使うように構成される。

いくつかの実施形態では、制御ユニットは、前述と異なるように構成される。例えば制御ユニットは、前述と異なるパネル構成、ＵＳＢに代えてＷｉＦｉ（登録商標）接続、および／または一部またはすべてのボタンに代えてタッチスクリーンディスプレイを備える。

いくつかの実施形態では、洗浄コンテナは洗浄カートリッジである。洗浄カートリッジは取り外し可能である。いくつかの実施形態では、洗浄コンテナは取り外し可能でない。

いくつかの実施形態では、バルブの補充ポートはダブルチェックバルブである。ダブルチェックバルブは、液体が洗浄コンテナに押し込まれるが逆流しないことと、液体が洗浄コンテナからスコープアクセサリに流出するが逆流しないこととを可能とする。

いくつかの実施形態では、ＲＦＩＤトランスポンダは異なる場所、例えばガスラインまたは洗浄ラインの異なる部分に設置される。いくつかの実施形態では、ＲＦＩＤ以外の識別システムが使われる。チャネルデバイスの識別装置は、前述のＲＦＩＤ部品と同様の方法で制御パネル識別センサと相互作用する。いくつかの実施形態では、チャネルデバイスの識別装置（これはＲＦＩＤトランスポンダであってもよい）は、制御パネルがチャネルデバイスおよび／またはスコープアクセサリのパラメータ、例えば、スコープアクセサリの縦方向の長さ、チャネルデバイスおよび／またはスコープアクセサリの使用履歴、および／またはチャネルデバイスおよび／またはスコープアクセサリの製造元表示、および／またはチャネルデバイスおよび／またはスコープアクセサリの製造年月日表示などを決定可能とする。いくつかの実施形態では、制御パネルは、チャネルデバイスの識別装置によって与えられた１つ以上のパラメータが所定のパラメータタイプであるとき、例えば、製造年月日が所定の閾値より過去のとき、および／または使用履歴がチャネルデバイスは使用済みであることを示したとき、アセンブリを動作させないように構成される。

いくつかの実施形態では、液体および／またはガスは前述のものと異なる。例えば液体は、界面活性剤その他の洗浄剤を含んでよい。いくつかの実施形態では、制御パネルは液体を蓄え、当該液体を洗浄ラインに伝達するように構成される。

いくつかの実施形態では、スコープアクセサリは、スコープがスコープアクセサリ内にあるとき、入力端と出力端との間でスコープを完全に囲むように構成される。いくつかの実施形態では、スコープアクセサリの入力端と出力端との間の導管は、全体がスコープアクセサリによって形成される。いくつかの実施形態では、スコープはスコープアクセサリと一体化される。いくつかの実施形態では、スコープはフレキシブルな内視鏡または腹腔鏡などの内視鏡である。またスコープに代えて、光学表面を備える他のデバイスが使われる。

Claims (11)

1. チャネルデバイスとスコープアクセサリを介してスコープの光学表面を横断するガスおよび／または液体のフローを制御するための制御ユニットであって、
   ガスの供給を受け取るためのガス入り口と、
   ガス供給からの第１のガス出力を出力し、前記光学表面を横断するガスのフローを生成するためのガスラインガス出力部と、
   前記ガス供給からの第２のガス出力を出力し、前記光学表面を横断する液体のフローを生成するための洗浄ラインガス出力部とを備える制御ユニット。
2. 前記ガスラインガス出力部を通ったガスフローの二値制御を与えるために、閉位置と完全開位置との間で切り替え可能なガスライン二値バルブを備える請求項１に記載の制御ユニット。
3. 前記ガスラインガス出力部を通ったガスフローの可変制御を与えるために、少なくとも閉位置と部分開位置と完全開位置とを含む複数の位置の間で切り替え可能なガスライン可変バルブを備える請求項１または２に記載の制御ユニット。
4. 前記洗浄ラインガス出力部を通ったガスフローの二値制御を与えるために、閉位置と完全開位置との間で切り替え可能な洗浄ライン二値バルブを備える請求項１から３のいずれかに記載の制御ユニット。
5. 前記洗浄ラインガス出力部を通ったガスフローの可変制御を与えるために、少なくとも閉位置と部分開位置と完全開位置とを含む複数の位置の間で切り替え可能な洗浄ライン可変バルブを備える請求項１から４のいずれかに記載の制御ユニット。
6. 前記チャネルデバイスの存在を検知し、前記チャネルデバイスの特性を識別するように構成された識別センサを備える請求項１から５のいずれかに記載の制御ユニット。
7. 所定のガスフロールーティンと所定の液体フロールーティンを含む少なくとも１つの所定のフロールーティンを実行するように構成された請求項１から６のいずれかに記載の制御ユニット。
8. 前記少なくとも１つの所定のフロールーティンの第１のルーティンは、第１の期間と、第１の期間の後の第２の期間を備え、
   前記ガスラインガス出力部を通る平均ガスフローレートは、第１の期間での平均ガスフローレート方が、第２の期間での平均ガスフローレートより大きい請求項７に記載の制御ユニット。
9. 前記少なくとも１つの所定のフロールーティンの第１のルーティンで、前記洗浄ラインガス出力部を通るガスフローレートは、前記第１の期間中および前記第２の期間中は０である請求項８に記載の制御ユニット。
10. 前記少なくとも１つの所定のフロールーティンの第２のルーティンは、前記ガスラインガス出力部を通るガスフローのパルスを少なくとも１つ備える請求項７から９のいずれかに記載の制御ユニット。
11. 前記少なくとも１つの所定のフロールーティンの第２のルーティンは、ガスライン洗浄出力部を通るガスフローのパルスを少なくとも１つ備える請求項７から１０のいずれかに記載の制御ユニット。

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