JP2021101453A - 半導体装置およびその製造方法ならびに電力変換装置 - Google Patents

Abstract

【課題】半導体素子の電極とリードとの高い接合信頼性を得ることが容易な半導体装置およびその製造方法ならびに電力変換装置を提供する。【解決手段】半導体素子５ａは、上面電極４ａを有する。リード１は、上面電極４ａに対向する第１面１Ｆと、第１面１Ｆの反対側の第２面１Ｓとを有する。はんだ層３ａは、半導体素子５ａの上面電極４ａとリード１とを接続する。リード１は、第１面１Ｆから第２面１Ｓまで貫通する切欠部２を有する。切欠部２にははんだ層３ａが充填されている。【選択図】図７

Description

本開示は、半導体装置およびその製造方法ならびに電力変換装置に関する。

電力変換用途の電力用半導体装置は、電気鉄道、一般産業用の輸送用機器、電気・ハイブリッド自動車、生活家電（エアコン、冷蔵庫など）に至るまで様々な製品に組み込まれている。また、これまで電力用半導体装置を備えていなかった製品にも、省電力化、高効率化などの観点から、電力用半導体装置が組み込まれるケースが増加している。これらの製品ではさらなる小型化と耐久性の向上とが求められている。それに伴って製品に搭載される電力用半導体装置にも小型化と高信頼性とが求められようになってきた。

電力用半導体装置では、高電圧、大電流、高周波での動作が可能である。電力変換装置として、たとえばスイッチング電源が幅広く利用されている。このスイッチング電源は、大電流回路を高速に繰り返し開閉し続けることで電力を制御している。このような制御を行うことで、スイッチング電源は、スイッチング素子として使われるパワー半導体素子（電力用半導体素子）のオン抵抗および順方向の電圧降下による電力損失により発熱する。

このようなパワー半導体素子において、パワー半導体素子のパッド電極とリードとのはんだによる接合部は大電流の経路となる。このため、このはんだによる接合部における接合性は、モジュール製品の耐久性、信頼性などに大きな影響を及ぼす。

半導体素子の電極部材とリードとをはんだ付けする技術は、たとえば特開２０１２−２３１２５号公報（特許文献１）に開示されている。上記特許文献１においては、断面Ｃの字形状で固体状のはんだ材がリードの下面と両側面とに接合するように取り付けられる。リードに取り付けられたはんだ材が半導体素子の上方に間隔を開けて配置される。この状態で、はんだ材が加熱されることにより溶融する。溶融したはんだ材が半導体素子の上面に自重落下することにより、リードと半導体素子とのはんだ付けが行なわれる。

特開２０１２−２３１２５号公報

特許文献１に記載された技術では、はんだ溶融時に高熱によってリードに応力が作用することでリードに反りが生じやすい。このため、リードと電極との間の高い接合信頼性を得ることが難しい。

本開示は、上記課題を解決するためになされたものであり、半導体素子の電極とリードとの高い接合信頼性を得ることが容易な半導体装置およびその製造方法ならびに電力変換装置を提供することを目的とする。

本開示の半導体装置は、半導体素子と、リードと、はんだ層とを備えている。半導体素子は、電極を有する。リードは、電極に対向する第１面と、第１面の反対側の第２面とを有する。はんだ層は、半導体素子の電極とリードとを接続する。リードは、第１面から第２面まで貫通する切欠部を有する。切欠部にははんだ層が充填されている。

本開示の半導体装置の製造方法は以下の工程を備えている。

第１面と、第１面の反対側の第２面と、第１面から第２面まで貫通する切欠部とを有するリードの切欠部に固体状態のはんだ材が挟まれる。リードの切欠部に挟まれたはんだ材が半導体素子の電極に接触される。はんだ材を半導体素子の電極に接触させた状態で、はんだ材を溶融させることで電極にリードがはんだ付けされる。

本開示によれば、リードが切欠部を有している。この切欠部により、リードに応力が作用することが抑制され、またリードの反りも抑えられる。このため半導体素子の電極とリードとの高い接合信頼性を得ることが容易となる。

実施の形態１に係る半導体装置の構成を示す模式図である。 図１のリードの形状を示す平面図(Ａ）および正面図（Ｂ）である。 実施の形態１に係る半導体装置の製造方法を示すフローチャートである。 リードを電極にはんだ付けする第１工程を示す斜視図である。 リードを電極にはんだ付けする第２工程を示す斜視図である。 リードを電極にはんだ付けする第３工程を示す正面図（Ａ）および平面図（Ｂ）である。 リフロー工程で溶融したはんだがリード上面に濡れ広がる様子を示す平面図（Ａ）〜（Ｄ）である。 凝固したはんだ層の状態を示す断面図であって、図１の領域Ｒに対応した構成を示す拡大図である。 リードの形状の変形例を示す平面図（Ａ）〜（Ｅ）である。 リードの形状の他の変形例を示す平面図（Ａ）およびはんだが取り付けられた状態を示す斜視図（Ｂ）である。 実施の形態２に係る半導体装置においてはんだ材を挟み込んだリードを上面電極に配置した状態を示す正面図（Ａ）および平面図（Ｂ）である。 実施の形態３に係る半導体装置においてリードの切欠部にはんだ材が挟み込まれた状態を示す斜視図（Ａ）、（Ｂ）である。 実施の形態３に係る半導体装置においてはんだ材を挟み込んだリードを上面電極に配置した状態を示す正面図（Ａ）および平面図（Ｂ）、およびはんだ層によりはんだ付けされた状態を示す正面図（Ｃ）である。 実施の形態４に係る半導体装置においてはんだ材を挟み込んだリードを上面電極に配置した状態を示す正面図（Ａ）および平面図（Ｂ）である。 実施の形態５に係る半導体装置においてはんだ材を挟み込んだリードを上面電極に配置した状態を示す側面図である。 実施の形態６に係る半導体装置のリードの構成を示す正面図（Ａ）および底面図（Ｂ）である。 実施の形態７に係る半導体装置においてはんだ材を挟み込んだリードを上面電極に配置した状態を示す正面図（Ａ）および平面図（Ｂ）である。 実施の形態８に係る半導体装置のリードの構成を示す正面図（Ａ）および底面図（Ｂ）である。 実施の形態９に係る電力変換装置を適用した電力変換システムの構成を示すブロック図である。

以下、本開示の実施の形態における半導体装置およびその製造方法ついて、図面を参照して詳細に説明する。なお明細書および図面において、同一の構成要素または対応する構成要素には同一の符号を付し、重複する説明を繰り返さない。また図面では説明の便宜上、構成を省略または簡略化している場合もある。また各実施の形態と各変形例との少なくとも一部は、互いに任意に組み合わされてもよい。また以下では電力半導体装置を例に挙げて説明するが、一般的な電圧が印加される半導体装置であってもよい。

実施の形態１．
＜半導体装置の構成＞
図１は、実施の形態１に係る電力用半導体装置の構成を示す模式図である。図１に示されるように、電力用半導体装置１０は、リード１、１１、１２と、はんだ層３ａ、３ｂと、半導体素子５ａ、５ｂと、放熱用部材６と、はんだ層７ａ、７ｂと、封止材８と、ワイヤ１３とを有している。

放熱用部材６は、たとえば銅（Ｃｕ）などの金属平板を有している。半導体素子５ａ、５ｂのそれぞれは、放熱用部材６上にはんだ層７ａ、７ｂにより接合されている。半導体素子５ａは、上面電極４ａ、４ｃを有している。半導体素子５ｂは、上面電極４ｂを有している。

リード１は、上面電極４ａ、４ｂに対向する第１面１Ｆと、第１面１Ｆの反対側の第２面１Ｓとを有している。リード１は、先端部１ｂを有している。リード１は、先端部１ｂ付近において、はんだ層３ａにより半導体素子５ａの上面電極４ａに接続されている。リード１は、はんだ層３ｂにより半導体素子５ｂの上面電極４ｂに接続されている。

リード１１は、はんだ層７ｃにより放熱用部材６に接続されている。リード１２は、ワイヤ１３により半導体素子５ａの上面電極４ｃに接続されている。封止材８は、放熱用部材６上を覆っている。封止材８は、リード１と半導体素子５ａ、５ｂとの接続部、リード１１と放熱用部材６との接続部、リード１２と半導体素子５ａとの接続部などを封止している。

なお、本実施の形態においては、放熱用部材６は、セラミック板と、そのセラミック板の両面に付された金属板とからなる３層構造を有していてもよい。この構成においては、放熱用部材６の配線パターンが形成された面に半導体素子５ａ、５ｂが接合され、反対側の金属面にヒートシンクなどの冷却器が接合される。

リード１、１１、１２は、電源用端子１、１１と、複数の制御用端子１２とを有している。電源用端子１、１１の各々は、半導体装置１０の主電源の電流が入出力されるためのものである。複数の制御用端子１２の各々は、半導体素子５ａの動作を制御する信号が入力されるためのものである。

これらリード１、１１、１２の各々は金属から構成されている。リード１、１１、１２の各々を構成する材料としては、たとえば、銅、ステンレス鋼などを基材とした合金が挙げられる。リード１、１１、１２の各々の表面には、基材の金属が露出している。なお、リード１、１１、１２の各々の表面は、メッキ処理されてもよい。

リード１、１１、１２の各々は封止材８の外側に延びている。リード１、１１、１２の各々は、リード加工工程でモジュールに対して垂直に折り曲げられたり、平行のまま延びている。後工程でのモジュールの搭載形態により、リード１、１１、１２の各々の加工形状は異なる。

封止材８は、金型による射出成型が可能であり、耐熱性を有する樹脂から構成されている。封止材８の材料としては、たとえばエポキシ樹脂が挙げられる。エポキシ樹脂は、半導体素子５ａ、５ｂ、ワイヤ１３などを覆う。エポキシ樹脂は、光、熱、湿度、振動などの外部環境要因、または異物またはゴミの付着から半導体素子５ａ、５ｂ、ワイヤ１３などを保護する。エポキシ樹脂は、耐熱性、耐水性、耐薬品性に優れ、さらに電気的特性、機械的特性においても安定している。エポキシ樹脂は硬化時に揮発性物質を副次的に生成しない。このためエポキシ樹脂を用いた成形品では、寸法変化が少なく、また流動性も優れる。よってエポキシ樹脂は、複雑な形状の成形品またはインサートの多い成形品に適しており、電気・機械部品または封止用材料として広く使用されている。

ワイヤ１３には、たとえば、太線(φ８０μｍ〜φ５００μｍ)のアルミニウム（Ａｌ）よりなるワイヤが用いられる。ワイヤ１３は、超音波接合によって半導体素子５ａの上面電極４ｃと制御用端子１２とを結線している。接合は、ワイヤ１３に荷重と超音波とを印加してワイヤ１３を塑性変形させることにより行われる。接合は、接合面の酸化皮膜など接合要因を阻害する層を破壊して清浄面を露出させてワイヤ１３を清浄面に凝着接合することにより行なわれる。

半導体素子５ａ、５ｂにおいては、オン時に半導体素子５ａ、５ｂの厚さ方向に電流が流れ、オフ時に電流が遮断される。半導体素子５ａ、５ｂを構成する材料としては、たとえば、シリコン（Ｓｉ）、シリコンカーバイト（ＳｉＣ）、窒化ガリウム（ＧａＮ）、ガリウムヒ素（ＧａＡｓ）などが挙げられる。上面電極４ａ、４ｂ、４ｃの各々の表面には、はんだ付けするための層が設けられてもよい。はんだ付けするための層としては、たとえば、ニッケル（Ｎｉ）めっき層が挙げられる。

半導体素子５ａとしては、たとえば、ＩＧＢＴ（Insulated Gate Bipolar Transistor）、パワーＭＯＳＦＥＴ（Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor）などが用いられる。また、半導体素子５ｂとしては、たとえば、ＦＷＤ（Free Wheeling Diode）、ＳＢＤ（Schottky Barrier Diode）などが挙げられる。

半導体装置１０は、電力の制御、電力の供給および電力の変換を行う。半導体装置１０は、大容量の電流、電圧を扱う。半導体装置１０は、電圧の大きさの変換、電圧の周波数の変換、直流から交流への変換、交流から直流への変換などに用いられる。半導体装置１０は、たとえば４個の半導体素子で単相交流を作り、６個の半導体素子で３相交流を作るインバータ回路を構成する。半導体装置１０は、たとえば空気調和機のインバータ、冷蔵庫のインバータ、洗濯機のインバータなどに用いられる。また半導体装置１０は、たとえば電気自動車の駆動系装置、ハイブリッド自動車の駆動系装置、電気鉄道車両の駆動系装置、照明機器の照度制御装置などにも用いられる。

図２は、図１のリードの形状を示す平面図(Ａ）および正面図（Ｂ）である。図２に示されるように、リード１は切欠部２を有している。切欠部２は、リード１の第１面１Ｆから第２面１Ｓまで貫通している。

リード１は、接合部ＣＰと、立ち上がり部ＳＰと、頂部ＴＰとを有している。図１および図２に示されるように、接合部ＣＰは、はんだ層３ａにより半導体素子５ａの上面電極４ａに接続される部分である。接合部ＣＰは、半導体素子５ａの上面電極４ａと対面している。接合部ＣＰにおける第１面１Ｆは、上面電極４ａの上面と略平行である。

頂部ＴＰは、半導体素子５ａ、５ｂに対して接合部ＣＰよりも高い位置に位置する部分である。頂部ＴＰは、接合部ＣＰの延在方向と略平行に延びている。

立ち上がり部ＳＰは、接合部ＣＰと頂部ＴＰとを繋ぐ部分である。立ち上がり部ＳＰは、接合部ＣＰから上方へ立ち上がり、頂部ＴＰから下方へ立ち下がっている。立ち上がり部ＳＰは、接合部ＣＰとの接続部から頂部ＴＰの接続部まで上り勾配の傾斜を有している。

接合部ＣＰは、立ち上がり部ＳＰに接続される第１端部１ａと、第１端部１ａの反対側の第２端部（先端部）１ｂとを有している。切欠部２は、たとえばリード１の第２端部１ｂから第１端部１ａに向かって延びている。切欠部２は、リード１の長手方向に沿って直線状に延びている。切欠部２は、第１端部１ａに達していない。切欠部２は、図２（Ａ）に示される平面視において、第２端部１ｂから第１端部１ａに向かって短手方向の寸法が一定を維持するように延びている。

上記において平面視とは、図２（Ａ）に示されるように、リード１の第２面１Ｓに対して直交する方向から見た視点を意味する。

＜半導体装置の製造方法＞
次に、本実施の形態に係る半導体装置の製造方法について説明する。

図３は、実施の形態１に係る半導体装置の製造方法を示すフローチャートである。図４〜図６は、リードを電極にはんだ付けする工程を順に示す図である。

図１に示されるように、Ｃｕなど熱伝導性に優れた金属からなる放熱用部材６上に半導体素子５ａ、５ｂがダイボンド材７ａ、７ｂによりダイボンドされる（ステップＳ１：図３）。ダイボンド材７ａ、７ｂは、たとえばはんだ材である。ダイボンド材７ａ、７ｂは、金属をナノスケールまで微粒子化して反応性を向上させた接合材料であってもよい。この場合、接合材料を溶融することなく低温で焼結させて合金層を形成することにより、放熱用部材６に半導体素子５ａ、５ｂが焼結結合される。

次に、リード１、１１、１２が準備される。図４に示されるように、リード１は、切欠部２を有するように準備される。切欠部２は、リード１の接合部ＣＰにおいてリード１の第１面１Ｆから第２面１Ｓまで貫通するように形成される。切欠部２は、リード１の第２端部１ｂから第１端部１ａに向かって延びるように形成される。

図５に示されるように、はんだ付けリフロー装置に製品を投入する前に、固体状態のはんだ材３ａがリード１の切欠部２に挟まれる。ここではんだ材３ａは、板はんだ、シートはんだなどの固形はんだが特定サイズに加工されることにより準備される。

半導体素子５ａの上面電極４ａとリード１とをはんだ接合するに当たり、良好なはんだ接合性を得るために必要なはんだ材３ａの量をあらかじめ試算することが可能である。計算によって、必要なはんだ材３ａの量を得るためのはんだ材３ａの外形寸法が求まり、そのはんだ材３ａの寸法に合うように、リード１の切欠部２の幅、長さが決定する。ここで、はんだ材３ａの外形寸法およびリード１の成形における加工ばらつきが正規分布に従う前提として、最小二乗法などを使用して、統計的にリード１の切欠部２の寸法およびその公差が決定される。

切欠部２へのはんだ材３ａの挟み込みを自動機が行なう場合、はんだ材３ａは、ロボットアームなどでピックアップ、またはクランプで保持された後に、リード１の切欠部２へ挟み込まれる。また切欠部２へのはんだ材３ａの挟み込みを作業者が行なう場合、はんだ材３ａが手作業によりピンセットなどで保持された後に、リード１の切欠部２へ挟み込まれる。

ここで、リード１の切欠部２へのはんだ材３ａの挟み方について、はんだ材３ａの寸法、切欠部２の形状などにより状況は異なる。はんだ材３ａの一部が半導体素子５ａの上面電極４ａの表面に接触せずに浮いた状態でリード１の切欠部２に挟まっている場合が考えられる。このような場合として、たとえば切欠部２の上側部分だけにはんだ材３ａが挟まっているような場合が考えられる。この場合、リフロー工程で溶融したはんだ材３ａはその表面張力により、リード１の上面（第２面）１Ｓ上に溜まる。これにより溶融したはんだ材がリード１の下面（第１面）１Ｆまで落ちず、リード１と上面電極４ａとのはんだ接合ができないという問題が発生する。

このためリード１にはんだ材３ａを挟む工程において、はんだ材３ａを上面電極４ａと接触するように切欠部２に挟み込むことは、良好なはんだ接合性を得るために必要である。具体的にははんだ材３ａの下面がリード１の下面（第１面）１Ｆと同一面内に位置するようにはんだ材３ａが切欠部２に挟まれる。はんだ材３ａの下面はリード１の下面１Ｆよりも下に位置していてもよい。

図６に示されるように、リード１に挟んだはんだ材３ａが上面電極４ａに接触するように配置される。この状態においては、はんだ材３ａの下面だけでなく、リード１の下面１Ｆも上面電極４ａに接触している。この状態で、リード１が上面電極４ａにはんだ付けされる（ステップＳ２：図３）。

はんだ付けは、リフロー装置（リフロー炉）にて行なわれる。リフロー装置には赤外線式または熱風式の加熱方式がある。はんだ付けされる製品または部品が組み付けられた状態で搬送用パレットに載せられて、ローダー（ＩＮ）部からリフロー装置内へ投入される。はんだ付けされる製品または部品は、ベルトコンベアにより加熱炉中のプリヒート（予熱）部、本加熱部、冷却部を通過し、アウトローダー（ＯＵＴ）部へ排出される。

プリヒートは、急激な熱衝撃の緩和、フラックスの活性化などを行う。本加熱では、はんだ材３ａの成分組成により溶融温度は異なるものの、一般的には２２０℃〜２６０℃の温度に加熱される。

良好なはんだ接合性を得るためには、被接合層の酸化皮膜を除去するためにフラックス剤を使用する場合がある。しかし、この場合にはリフロー後にフラックス残渣を除く洗浄工程が必要である。また、この場合にはフラックスの残渣成分が残ったり、洗浄廃液処理の問題などもある。このため、フラックス剤を使用しないで、ギ酸還元を使用したリフロー方式も一般的となっている。

リフロー工程では、はんだ材３ａの濡れ性を確保するために、上記のように事前にフラックス剤が塗布されたり、または低酸素濃度雰囲気、ギ酸還元雰囲気などにてフラックスレスではんだ材３ａが溶融される。

図７は、リフロー工程で溶融したはんだがリード上面に濡れ広がる様子を示す平面図（Ａ）〜（Ｄ）である。図７（Ａ）に示されるように、リード１の切欠部２にはんだ材３ａが挟まれる。リード１に挟んだはんだ材３ａが上面電極４ａに接触するように配置される。この状態で、上記リフロー工程によりはんだ材３ａが溶融する。

図７（Ｂ）に示されるように、溶融したはんだ材３ａは切欠部２からリード１の第２端部１ｂより外側へ広がりはんだフィレットを形成する。同時に、溶融したはんだ材３ａの余剰分は、切欠部２からリード１の上面（第２面）１Ｓに濡れ広がる。

図７（Ｃ）に示されるように、溶融したはんだ材３ａは、リード１の上面（第２面）１Ｓに徐々に濡れ広がり、リード１の第１側端部１ｃおよび第２側端部１ｄからはみ出る。

図７（Ｄ）に示されるように、溶融したはんだ材３ａは、リード１の接合部ＣＰにおける上面（第２面１Ｓ）のほぼ全面に濡れ広がり、凝固する。これによりはんだ層３ａは、切欠部２内を充填する。またはんだ層３ａは、リード１の接合部ＣＰにおける上面のほぼ全面に形成される。また、はんだ層３ａは、リード１の第２端部１ｂ、第１側端部１ｃおよび第２側端部１ｄに接する。

またはんだ層３ａは、平面視において切欠部２の真下に位置する上面電極４ａの表面に接する。またはんだ層３ａは、平面視においてリード１の第２端部１ｂ、第１側端部１ｃおよび第２側端部１ｄの周囲に位置する上面電極４ａの表面に接する。

図８は、凝固したはんだ層の状態を示す断面図であって、図１の領域Ｒに対応した構成を示す拡大図である。図８に示されるように、はんだ材３ａは、リード１の下面（第１面１Ｆ）と上面電極４ａとの間に染み込み凝固してもよい。これによりリード１の下面１Ｆと上面電極４ａとの間にもはんだ層３ａが形成されてもよい。

リード１は、半導体素子５ａの上面電極４ａにはんだ付けされるのと同様に、半導体素子５ｂの上面電極４ｂにもはんだ層３ｂによりはんだ付けされてもよい。またリード１１は、リード１が半導体素子５ａの上面電極４ａにはんだ付けされるのと同様に、放熱用部材６にはんだ層３ｃによりはんだ付けされてもよい。

この後、ワイヤボンド工程が行なわれる（ステップＳ３：図３）。

図１に示されるように、このワイヤボンド工程においては、直径φ１００μｍ〜５００μｍの太線アルミニウムワイヤ１３により、リード１２と半導体素子５ａの上面電極４ｃとが接続される。

この後、エポキシ樹脂を使用した射出成形でモールド成形が行なわれる（ステップＳ４：図３）。これにより封止材８は、リード１と半導体素子５ａ、５ｂとの接続部、リード１１と放熱用部材６との接続部、リード１２と半導体素子５ａとの接続部などを封止する。

この後、リード１、１１、１２が加工される（ステップＳ５：図３）。リード１、１１、１２の加工工程では、後工程でモジュールを製品に搭載するために、リード１、１１、１２の各々が任意の形状に曲げ加工される。

上記一連の製造工程の途中において、図３のフローチャートには記載していないが、外観目視検査、超音波探傷検査（ＳＡＴ・Ｃ−ＳＡＭ）、Ｘ線検査、電気特性検査などの品質検査工程、あるいは還元、洗浄、さらに乾燥工程などが予め規定されたタイミングで実施される。

上記のようにして図１に示す本実施の形態の半導体装置１０が製造される。

＜リード１における切欠部２の変形例＞
次に、リード１に形成される切欠部２の変形例について図９および図１０を用いて説明する。

図９は、リードの形状の変形例を示す平面図（Ａ）〜（Ｅ）である。図９（Ａ）に示されるように、切欠部２は、互いに平面形状の異なる第１部分２ａと第２部分２ｂとを有していてもよい。第１部分２ａは、平面視においてテーパ形状を有していてもよい。具体的には第１部分２ａは、平面視において第２端部１ｂから第１端部１ａに向かって切欠部２の短手方向の寸法が連続的に減少するように延びている。第２部分２ｂは、平面視において第１部分２ａから第１端部１ａに向かって切欠部２の短手方向の寸法が一定を維持するように延びている。第１部分２ａがテーパ形状を有していることにより、はんだ材３ａを挟む際に切欠部２へのはんだ材３ａの引っ掛かりを抑制することができる。

図９（Ｂ）に示されるように、切欠部２の第１部分２ａの幅よりも第２部分２ｂの幅が大きくなっていてもよい。切欠部２の第１部分２ａは、第２端部１ｂから第１端部１ａに向かって切欠部２の短手方向の寸法が一定を維持するように延びていてもよい。また第２部分２ｂは、第１部分２ａに接続され、かつ平面視において円形状を有していてもよい。また第２部分２ｂは、平面視において真円形状であってもよく、楕円形状であってもよい。

図９（Ｃ）に示されるように、複数の切欠部２がリード１に設けられていてもよい。複数の切欠部２の各々は、平面視において第２端部１ｂから第１端部１ａに向かって短手方向の寸法が一定を維持するように延びていてもよい。複数の切欠部２は平面視において互いに平行に延びていてもよい。また図９（Ａ）または図９（Ｂ）に示される切欠部２が複数設けられていてもよい。また図９（Ａ）〜図９（Ｃ）に示される切欠部２が適宜組み合わされてもよい。

図９（Ｄ）に示されるように、切欠部２は、貫通孔であってもよい。この場合、切欠部２は、平面視においてリード１の端縁のいずれにも達しておらず、四方をリード１により取り囲まれている。切欠部２は平面視において、三角形、四角形、五角形などの多角形状を有していてもよい。貫通孔よりなる切欠部２は、第１面１Ｆから第２面１Ｓまで貫通している。

図９（Ｅ）に示されるように、切欠部２は、平面視において円形状を有していてもよい。切欠部２は、平面視において真円形状であってもよく、楕円形状であってもよい。

図１０は、リードの形状の他の変形例を示す平面図（Ａ）およびはんだが取り付けられた状態を示す斜視図（Ｂ）である。図１０（Ａ）に示されるように、リード１は、平面視において互いに対向する第１側端部１ｃと第２側端部１ｄとを有している。第１側端部１ｃおよび第２側端部１ｄの各々は、第１端部１ａおよび第２端部１ｂに接続されている。切欠部２は、平面視において第１側端部１ｃから第２側端部１ｄへ向かって延びていてもよい。この切欠部２は、平面視において、第１側端部１ｃから第２側端部１ｄに向かって切欠部２の幅が一定を維持するように延びている。

第１側端部１ｃから第２側端部１ｄへ向かって延びる切欠部２の形状は、図９（Ａ）、図９（Ｂ）に示される形状であってもよい。また第１側端部１ｃから第２側端部１ｄへ向かって延びる切欠部２は、図９（Ｃ）に示されるように複数個の切欠部２であってもよい。

上記図２、図９（Ａ）〜図９（Ｅ）、図１０に示された切欠部２は適宜組み合わされてもよい。切欠部２は、接合部ＣＰのどこの辺に設けられていてもよい。また切欠部２は、接合部ＣＰの一辺または複数の辺に設けられていてもよい。

＜効果＞
一般に、環境問題に対してＲｏＨＳ（Restriction of Hazardous Substances）指令、ＪＩＳ（Japanese Industrial Standards）規格、自主規制などから鉛フリーはんだの使用が進められている。しかし鉛フリーはんだでは、共晶はんだに比べて融点が高くなり、高熱によるストレスが増加する。

本実施の形態においては図２に示されるように、リード１に切欠部２が設けられている。これにより、はんだ材３ａの溶融時に、高熱によってリード１に応力が作用することが抑制され、またリード１の反りも抑えられる。このように外部応力およびストレスを緩和できるため、リード１と上面電極４ａとのはんだ接合において高い接合信頼性を得ることができる。

また切欠部２の形状、配置位置、個数を、接合面のサイズおよび形状と、接合に必要なはんだ材３ａの量とに合わせて適正に設計することが可能である。これにより、リード１などの部材の小型化、省資源化とそれに伴うモジュールおよび製品の小型化、コスト低減、生産性、信頼性の向上が可能である。

また本実施の形態においては図７に示されるように、切欠部２に固体状態のはんだ材３ａを挟み込んだ状態からはんだ材３ａが溶融される。これにより溶融したはんだ材３ａの余剰分がリード１の上面に濡れ広がる。これにより上面電極４ａとリード１との間のはんだ層３ａの量を適切な量に保つことができる。このため、はんだ材３ａの余剰分により隣接したはんだ同士がブリッジして互いに電気的にショートすることが抑制される。またはんだ材３ａの余剰分によりはんだボールが生じて周囲に飛散することも抑制される。

また本実施の形態においては図６に示されるように、はんだ材３ａが上面電極４ａに接した状態ではんだ材３ａが溶融される。これによりはんだ付けリフローの際に、上面電極４ａに対するはんだ材３ａの上下方向の相対位置がずれることはない。このためはんだ付けリフローにおいてはんだフィレットが十分に形成され、接合強度の低下が抑制され、それに伴って信頼性の低下も抑制される。

また上記特許文献１においては、断面Ｃの字形状で固体状のはんだ材がリードの下面と両側面とに接合するように取り付けられる。このためはんだ材がリードに密着する部分には、はんだ接合性を向上させるための還元雰囲気が侵入しにくい。このためはんだ表面の酸化皮膜が還元されず、はんだ層とリードとの接合部に気泡（ボイド）が発生するという問題がある。

これに対して本実施の形態においては図６に示されるように、はんだ材３ａが切欠部２に挟まれている。このためはんだ材３ａの溶融前においては、はんだ材３ａは切欠部２を構成する壁面に接しているだけであり、リード１の上面１Ｓなどに接していない。このためはんだ付けリフロー時に、はんだ材３ａとリード１との間に還元雰囲気を行き渡らせることができる。よってはんだ層３ａとリード１との接合部に気泡（ボイド）が発生することを抑制できる。

実施の形態２．
図１１は、実施の形態２に係る半導体装置においてはんだ材を挟み込んだリードを上面電極に配置した状態を示す正面図（Ａ）および平面図（Ｂ）である。図１１（Ａ）、（Ｂ）に示されるように、本実施の形態においては、はんだ材３ａの下面がリード１の下面１Ｆよりも下方に位置するように、自動機または作業者によってはんだ材３ａが切欠部２に挟み込まれる。具体的にははんだ材３ａの下面がリード１の下面１Ｆからリード１の上面１Ｓとは反対側へ突き出すようにはんだ材３ａが切欠部２に挟み込まれる。

この状態で、はんだ材３ａの下面が上面電極４ａに接触するようにリード１が配置される。このため上面電極４ａの表面とリード１の下面１Ｆとの間には隙間があり、リード１は上面電極４ａから浮いた状態となる。この上面電極４ａに対するリード１の浮き量（間隙の上下方向の寸法）Ｈは、はんだ材３ａをリード１の切欠部２に挟み込む際の両者の位置関係により調整可能である。

また、はんだ材３ａの厚さばらつきを考慮して、リード１の切欠部２の幅が設計されている。このため切欠部２に挟み込まれたはんだ材３ａが、リード１に対して上下方向にずれることが抑制される。これによりリード１を上面電極４ａに載置した後の上面電極４ａとリード１との間隙の寸法Ｈはそのまま保持される。このため、はんだ付けリフロー工程に投入すると、溶融したはんだ材３ａがリード１の下面１Ｆと上面電極４ａとの間隙に流動し易くなる。これにより溶融したはんだ材３ａがリード１における接合部ＣＰの全体に濡れ広がり、良好なはんだ付け性が得られ、高い製品品質を得ることができる。

実施の形態３．
図１２は、実施の形態３に係る半導体装置においてリードの切欠部にはんだ材が挟み込まれた状態を示す斜視図（Ａ）、（Ｂ）である。図１３は、実施の形態３に係る半導体装置においてはんだ材を挟み込んだリードを上面電極に配置した状態を示す正面図（Ａ）および平面図（Ｂ）、およびはんだ層によりはんだ付けされた状態を示す正面図（Ｃ）である。

図１２（Ａ）、（Ｂ）に示されるように、本実施の形態においては切欠部２がリード１の接合部ＣＰおよび立ち上がり部ＳＰに形成されている。具体的には、切欠部２は接合部ＣＰの第２端部１ｂから第１端部１ａに達するように接合部ＣＰの全長に亘って延びており、かつ接合部ＣＰの第１端部１ａから立ち上がり部ＳＰ内に延びている。切欠部２は立ち上がり部ＳＰを貫通していてもよい。

はんだ材３ａをリード１の切欠部２に挟み込む際に、リード１の第２端部１ｂから立ち上がり部ＳＰ内までの任意の位置にはんだ材３ａを挟み込むことができる。たとえば図１２（Ａ）に示されるように、はんだ材３ａは、リード１の第２端部１ｂから立ち上がり部ＳＰ内までに亘って位置するように切欠部２に配置されてもよい。またたとえば図１２（Ｂ）に示されるように、はんだ材３ａは、リード１の第２端部１ｂよりも第１端部１ａ側の位置から第１端部１ａよりも第２端部１ｂ側の位置までの領域にのみ位置するように切欠部２に配置されてもよい。

本実施の形態においては図１３（Ａ）、（Ｂ）に示されるように、リード１の接合部ＣＰの全長および立ち上がり部ＳＰ内の全長に亘ってはんだ材３ａが挟み込まれていてもよい。このため図１３（Ｃ）に示されるように、上面電極４ａと対向するリード１の下面１Ｆの全面に溶融したはんだ材３ａを行き渡らせることが容易となり、良好なはんだ接合性が得られる。

また本実施の形態においては図１３（Ａ）、（Ｂ）に示されるように、リード１の立ち上がり部ＳＰより奥側まではんだ材３ａを差し込むことができる。このため図１３（Ｃ）に示されるように、リード１の立ち上がり部ＳＰの裏側（根元）部分ＢＰまで、溶融したはんだ材３ａが濡れ広がる。これにより、はんだ接合性を向上するフィレット（溶融したはんだ材３ａの裾広がり部分）を形成することができ、良好なはんだ付け性と高い製品品質とを得ることが可能となる。

実施の形態４．
図１４は、実施の形態４に係る半導体装置においてはんだ材を挟み込んだリードを上面電極に配置した状態を示す正面図（Ａ）および平面図（Ｂ）である。図１４（Ａ）に示されるように、本実施の形態おいては、リード１が１個以上の突起部ＰＰを有している。突起部ＰＰは、リード１における接合部ＣＰの下面１Ｆから上面１Ｓとは反対側の上面電極４ａに向かって突き出している。

突起部ＰＰの先端は上面電極４ａに接している。リード１の下面１Ｆは、上面電極４ａの表面との間に間隙を有している。リード１の下面１Ｆと上面電極４ａの表面との間の間隙の上下方向の寸法は、突起部ＰＰの上下方向の寸法と実質的に同じである。つまりード１の下面１Ｆと上面電極４ａの表面との間の間隙の上下方向の寸法は、突起部ＰＰの上下方向の寸法によって調整可能である。

突起部ＰＰは、たとえばリード１の下面１Ｆから上面電極４ａに近付くにしたがって寸法が小さくなる逆台形の形状を有している。突起部ＰＰの形状は、逆台形に限らず、立方体、円柱、逆円錐、半球などの如何なる形状であってもよい。突起部ＰＰの形状は、リード１が上面電極４ａに載置された時に、突起部ＰＰによりリード１の下面１Ｆと上面電極４ａの表面との間に間隙ができる形状であればよい。

図１４（Ｂ）に示されるように、突起部ＰＰは切欠部２が設けられた部分以外のリード１の下面１Ｆに設けられている。複数の突起部ＰＰがリード１の下面１Ｆに設けられていてもよい。複数の突起部ＰＰは、平面視において切欠部２を挟み込むように切欠部２の両側に配置されていてもよい。

本実施の形態においては、切欠部２にはんだ材３ａを挟み込んだリード１が上面電極４ａに載置される際に突起部ＰＰが上面電極４ａに接することで、リード１の下面１Ｆと上面電極４ａの表面との間に間隙ができる。このため、はんだ付けリフロー工程で溶融したはんだ材３ａが、リード１の切欠部２を通って上記間隙を容易に流動できる。これにより、溶融したはんだ材３ａがリード１における接合部ＣＰの下面１Ｆの全面に濡れ広がるため、良好なはんだ付け性と高い製品品質とを得ることが可能である。

実施の形態５．
図１５は、実施の形態５に係る半導体装置においてはんだ材を挟み込んだリードを上面電極に配置した状態を示す側面図である。図１５に示されるように、本実施の形態においては、逆Ｔ字またはＬ字形状などに曲げ加工されたはんだ材３ａがリード１の切欠部２に挟み込まれた状態で、リード１が上面電極４ａに載置される。これによりはんだ材３ａは、リード１の下面１Ｆと上面電極４ａとの間に位置するように切欠部２に挟まれる。

本実施の形態においては、リード１の下面１Ｆと上面電極４ａとの間にはんだ材３ａが挟まれるため、リード１の下面１Ｆと上面電極４ａとの間にはんだ材３ａの厚み分の間隙ができる。これにより、リード１の下面１Ｆと上面電極４ａとの間に間隙を作るために、図１４に示される実施の形態４のようにリード１の下面１Ｆに突起部ＰＰを形成する必要はない。

ここで、はんだ材３ａをＴ字またはＬ字形状に加工する費用は、リード１の下面１Ｆに突起部ＰＰを加工する費用よりも安価にできる。

また、はんだ付けリフロー工程で、リード１の下面１Ｆと上面電極４ａとの間の間隙内に挟まれたはんだ材３ａは溶融することにより、上記間隙内に容易に濡れ広がる。また、リード１の切欠部２に挟み込まれたはんだ材３ａも溶融し、リード１の下面１Ｆと上面電極４ａとの間隙全面に流動して濡れ広がる。このため、良好なはんだ付け性と高い製品品質とを得ることができる。

実施の形態６．
図１６は、実施の形態６に係る半導体装置のリードの構成を示す正面図（Ａ）および底面図（Ｂ）である。図１６（Ａ）、（Ｂ）に示されるように、本実施の形態においては、リード１は、下面１Ｆに複数の溝ＴＲを有している。複数の溝ＴＲの各々は、下面１Ｆにおいて切欠部２からリード１の外縁に向かって放射状に延びている。

本実施の形態においては、たとえば１本の切欠部２の端部から６本の放射状の溝ＴＲが延びる構成を示したが、溝ＴＲの幅、深さ、本数は上面電極４ａに対向するリード１の下面１Ｆの寸法により異なってもよい。

本実施の形態においては、はんだ付けリフロー工程で溶融したはんだ材３ａが切欠部２からリード１の下面１Ｆにおいて複数の溝ＴＲをつたって放射状に流動する。これにより、溶融したはんだ材３ａが上面電極４ａに対向するリード１の下面１Ｆの全体に濡れ広がることが促進され、良好なはんだ付け性と高い製品品質とを得ることができる。

なおはんだ材３ａが凝固してはんだ層３ａとなった状態では、複数の溝ＴＲの各々にははんだ層３ａが充填されている。

実施の形態７．
図１７は、実施の形態７に係る半導体装置においてはんだ材を挟み込んだリードを上面電極に配置した状態を示す正面図（Ａ）および平面図（Ｂ）である。図１７（Ａ）、（Ｂ）に示されるように、はんだ材３ａは凹み部３ａａを有している。はんだ材３ａは、正面視において「Ｃ」の字形状を有している。はんだ材３ａは、正面視においてＬ字形状、凸形状などであってもよい。

凹み部３ａａは、第１側壁３ａｂから、第１側壁３ａｂに対向する第２側壁３ａｃに向かって延びている。凹み部３ａａは、第１側壁３ａｂおよび第２側壁３ａｃの双方に繋がる第３側壁３ａｄから、その第３側壁３ａｄに対向する第４側壁３ａｅに達することによりはんだ材３ａを貫通している。凹み部３ａａの上下方向（厚み方向）の寸法Ｗは、リード１における接合部ＣＰの厚みＴ以上である。

はんだ材３ａを切欠部２に挟み込む際に、はんだ材３ａは、凹み部３ａａが設けられた第１側壁３ａｂ側から切欠部２に挿入される。これによりはんだ材３ａが切欠部２に挟み込まれた状態で、はんだ材３ａの凹み部３ａａにリード１が挿入される。これにより、はんだ材３ａとリード１とが互いに嵌合する。

本実施の形態においては、凹み部３ａａにリード１が挿入されることにより、はんだ材３ａがリード１の切欠部２の端部よりも奥側まで入り込むことができる。これにより、リード１の切欠部２の長さ寸法を短くすることができるため、リード１の剛性が低下したり、リード１の断面積が減少することを抑制できる。このため電力変換回路などで使用される場合の寄生インダクタンスの増加を抑制することが可能である。

さらに、リード１の奥側まではんだ材３ａを差し込むことにより、はんだ付けリフロー工程で溶融したはんだ材３ａが上面電極４ａに対向するリード１の下面１Ｆの全体に濡れ広がることができ、良好なはんだ付け性と高い製品品質とを得ることが可能である。

実施の形態８．
図１８は、実施の形態８に係る半導体装置のリードの構成を示す正面図（Ａ）および底面図（Ｂ）である。図１８（Ａ）、（Ｂ）に示されるように、リード１は、上面電極４ａに対向するリード１の下面１Ｆに複数個の凹部ＲＰを有している。複数の凹部ＲＰは、切欠部２から離れた位置に配されている。

凹部ＲＰの形状は、四角柱、円柱、半球、円錐、ディンプルなどである。凹部ＲＰは、上面電極４ａに対向するリード１の下面１Ｆをショットブラスト加工、梨地加工などすることにより形成されてもよい。

本実施の形態においては、はんだ付けリフロー工程で溶融したはんだ材３ａは、切欠部２からリード１の下面１Ｆに流動して凹部ＲＰに入り込んで凝固し、はんだ層３ａとなる。これにより凝固したはんだ層３ａは複数の凹部ＲＰの各々に充填されている。はんだ層３ａが凹部ＲＰに入り込むことによってアンカー効果が得られる。このアンカー効果によって、はんだ層３ａとリード１の下面１Ｆとの接合力が高まり、良好なはんだ付け性と高い製品品質とを得ることができる。

ここで本文中に記載は無いが、はんだ材３ａを挟み込んだリード１を上面電極４ａに載置した後であってリフロー工程に投入するまでに、自動機による搬送、作業者の人手による運搬などで振動、衝撃などが製品に加わる。これにより上面電極４ａに対するリード１の位置ずれが発生する。またリフロー装置で処理中に溶融したはんだ材３ａの浮力が作用してリード１が上面電極４ａに対して浮くことにより、製品品質に影響を及ぼすことがある。

これらの対策として、半導体素子５ａの上面電極４ａにリード１を載置した後に、治具などを用いて半導体素子５ａとリード１とを位置決めし、固定することは一般的である。本実施の形態における半導体装置の製造方法においても、はんだ付けリフロー工程では半導体素子５ａとリード１を位置決めして固定するために治具などが使用されてもよい。この冶具は、リフロー工程の投入前に作業者により手作業で装着され、はんだ付けリフロー工程の投入後に手作業で脱着されてもよい。

実施の形態９．
本実施の形態は、上述した実施の形態１〜８に係る半導体装置を電力変換装置に適用したものである。本開示は特定の電力変換装置に限定されるものではないが、以下、実施の形態９として、三相のインバータに本開示を適用した場合について説明する。

図１９は、本実施の形態に係る電力変換装置を適用した電力変換システムの構成を示すブロック図である。

図１９に示されるように、本実施の形態に係る電力変換システムは、電源１００、電力変換装置２００、負荷３００から構成される。電源１００は、直流電源であり、電力変換装置２００に直流電力を供給する。電源１００は種々のもので構成することが可能であり、たとえば直流系統、太陽電池、蓄電池で構成されてもよく、交流系統に接続された整流回路またはＡＣ／ＤＣコンバータで構成されてもよい。また、電源１００は、直流系統から出力される直流電力を所定の電力に変換するＤＣ／ＤＣコンバータによって構成されてもよい。

電力変換装置２００は、電源１００と負荷３００との間に接続された三相のインバータであり、電源１００から供給された直流電力を交流電力に変換し、負荷３００に交流電力を供給する。電力変換装置２００は、直流電力を交流電力に変換して出力する主変換回路２０１と、主変換回路２０１を制御する制御信号を主変換回路２０１に出力する制御回路２０３とを備えている。

負荷３００は、電力変換装置２００から供給された交流電力によって駆動される三相の電動機である。なお、負荷３００は特定の用途に限られるものではなく、各種電気機器に搭載された電動機であり、たとえば、ハイブリッド自動車、電気自動車、鉄道車両、エレベーター、もしくは空調機器向けの電動機として用いられる。

以下、電力変換装置２００の詳細を説明する。主変換回路２０１は、スイッチング素子と還流ダイオードを備えている（図示せず）。このスイッチング素子がスイッチングすることによって、電源１００から供給される直流電力が交流電力に変換され、負荷３００に供給される。主変換回路２０１の具体的な回路構成には種々のものがある。本実施の形態に係る主変換回路２０１は２レベルの三相フルブリッジ回路であり、６つのスイッチング素子とそれぞれのスイッチング素子に逆並列された６つの還流ダイオードとから構成することができる。主変換回路２０１の各スイッチング素子および各還流ダイオードの少なくともいずれかは、上述した実施の形態１〜８のいずれかの半導体装置１０に相当する半導体装置２０２が有するスイッチング素子または還流ダイオードである。６つのスイッチング素子は２つのスイッチング素子ごとに直列接続され上下アームを構成し、各上下アームはフルブリッジ回路の各相（Ｕ相、Ｖ相、Ｗ相）を構成する。そして、各上下アームの出力端子、すなわち主変換回路２０１の３つの出力端子は、負荷３００に接続される。

また、主変換回路２０１は、各スイッチング素子を駆動する駆動回路（図示なし）を備えている。この駆動回路は半導体装置２０２に内蔵されていてもよいし、半導体装置２０２とは別に備えられていてもよい。駆動回路は、主変換回路２０１のスイッチング素子を駆動する駆動信号を生成し、主変換回路２０１のスイッチング素子の制御電極に供給する。具体的には、駆動回路は、後述する制御回路２０３からの制御信号に従い、スイッチング素子をオン状態にする駆動信号とスイッチング素子をオフ状態にする駆動信号とを各スイッチング素子の制御電極に出力する。スイッチング素子をオン状態に維持する場合、駆動信号はスイッチング素子の閾値電圧以上の電圧信号（オン信号）である。またスイッチング素子をオフ状態に維持する場合、駆動信号はスイッチング素子の閾値電圧以下の電圧信号（オフ信号）である。

制御回路２０３は、負荷３００に所望の電力が供給されるよう主変換回路２０１のスイッチング素子を制御する。具体的には、制御回路２０３は、負荷３００に供給すべき電力に基づいて主変換回路２０１の各スイッチング素子がオン状態となるべき時間（オン時間）を算出する。たとえば、出力すべき電圧に応じてスイッチング素子のオン時間を変調するＰＷＭ制御によって主変換回路２０１を制御することができる。そして、各時点においてオン状態となるべきスイッチング素子にはオン信号が出力され、オフ状態となるべきスイッチング素子にはオフ信号が出力されるよう、主変換回路２０１が備える駆動回路に制御回路２０３は制御指令（制御信号）を出力する。駆動回路は、この制御信号に従い、各スイッチング素子の制御電極にオン信号またはオフ信号を駆動信号として出力する。

本実施の形態に係る電力変換装置では、主変換回路２０１を構成する半導体装置２０２として実施の形態１〜８に係る半導体装置１０が適用されるため、半導体素子５ａの上面電極４ａとリード１との高い接合信頼性を実現することができる。

本実施の形態では、２レベルの三相インバータに本開示を適用する例を説明したが、本開示は、これに限られるものではなく、種々の電力変換装置に適用することができる。本実施の形態では、２レベルの電力変換装置としたが、本開示が適用される電力変換装置は３レベルまたはマルチレベルの電力変換装置であっても構わないし、単相負荷に電力を供給する場合には単相のインバータであっても構わない。また、直流負荷などに電力を供給する場合にはＤＣ／ＤＣコンバータまたはＡＣ／ＤＣコンバータに本開示を適用することも可能である。

また、本開示を適用した電力変換装置は、上述した負荷が電動機の場合に限定されるものではなく、たとえば、放電加工機、レーザー加工機、誘導加熱調理器、非接触給電システムなどの電源装置として用いることもでき、さらには太陽光発電システム、蓄電システムなどのパワーコンディショナーとして用いることも可能である。

今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。

１，１１，１２ リード、１Ｆ 第１面（下面）、１Ｓ 第２面（上面）、１ａ 第１端部、１ｂ 第２端部（先端部）、１ｃ 第１側端部、１ｄ 第２側端部、２ 切欠部、２ａ 第１部分、２ｂ 第２部分、３ａ はんだ材（はんだ層）、３ｂ，３ｃ，７ａ，７ｂ，７ｃ はんだ層、３ａａ 凹み部、３ａｂ 第１側壁、３ａｃ 第２側壁、３ａｄ 第３側壁、３ａｅ 第４側壁、４ａ，４ｂ，４ｃ 上面電極、５ａ，５ｂ 半導体素子、６ 放熱用部材、８ 封止材、１０，２０２ 半導体装置、１３ ワイヤ、１００ 電源、２００ 電力変換装置、２０１ 主変換回路、２０３ 制御回路、３００ 負荷、ＢＰ 裏側（根元）部分、ＣＰ 接合部、ＰＰ 突起部、ＲＰ 凹部、ＳＰ 立ち上がり部、ＴＰ 頂部、ＴＲ 溝。

Claims (10)

1. 電極を有する半導体素子と、
   前記電極に対向する第１面と、前記第１面の反対側の第２面とを有するリードと、
   前記半導体素子の前記電極と前記リードとを接続するはんだ層と、を備え、
   前記リードは、前記第１面から前記第２面まで貫通する切欠部を有し、
   前記切欠部には前記はんだ層が充填されている、半導体装置。
2. 前記リードは、前記はんだ層によって前記電極に接合される接合部と、前記接合部から立ち上がる立ち上がり部とを有し、
   前記接合部は、前記立ち上がり部に接続される第１端部と、前記第１端部の反対側の第２端部とを有し、
   前記切欠部は、前記第２端部から前記第１端部に達するように前記接合部に形成され、かつ前記立ち上がり部に形成されている、請求項１に記載の半導体装置。
3. 前記リードは、前記切欠部以外の位置に、前記第１面から前記電極に向かって突き出した突起部を有し、
   前記突起部の先端は前記電極に接している、請求項１または請求項２に記載の半導体装置。
4. 前記リードは、前記第１面に前記切欠部から延びる複数の溝を有し、
   前記複数の溝には前記はんだ層が充填されている、請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の半導体装置。
5. 前記リードは、前記第１面に前記切欠部から離れた複数の凹部を有し、
   前記複数の凹部には前記はんだ層が充填されている、請求項１から請求項４のいずれか１項に記載の半導体装置。
6. 第１面と、前記第１面の反対側の第２面と、前記第１面から前記第２面まで貫通する切欠部とを有するリードの前記切欠部に固体状態のはんだ材を挟む工程と、
   前記リードの前記切欠部に挟まれた前記はんだ材を半導体素子の電極に接触させる工程と、
   前記はんだ材を前記半導体素子の前記電極に接触させた状態で、前記はんだ材を溶融させることで前記電極に前記リードをはんだ付けする工程と、を備えた、半導体装置の製造方法。
7. 前記はんだ材は、前記リードの前記第１面から前記第２面とは反対側へ突き出すように前記リードの前記切欠部に挟まれる、請求項６に記載の半導体装置の製造方法。
8. 前記はんだ材は、前記リードの前記第１面と前記電極との間に位置するように前記切欠部に挟まれる、請求項６または請求項７に記載の半導体装置の製造方法。
9. 前記はんだ材は凹み部を有し、
   前記はんだ材が前記リードの前記切欠部に挟まれた状態において、前記はんだ材の前記凹み部に前記リードが挿入されている、請求項６から請求項８のいずれか１項に記載の半導体装置の製造方法。
10. 請求項１から請求項５のいずれか１項に記載の半導体装置を有し、入力される電力を変換して出力する主変換回路と、
    前記主変換回路を制御する制御信号を前記主変換回路に出力する制御回路と、
    を備えた、電力変換装置。
    

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