JP2021095437A - 洗浄剤 - Google Patents

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Abstract

【課題】米糠由来成分を含有する印刷インキの洗浄に好適に用いることができる、実用性の高い洗浄剤を提供する。【解決手段】NMP、DMF、DMSOからなる群から選択される少なくとも1種以上からなるA成分と、前記A成分と相溶する酢酸エステルと、を含む洗浄剤。【選択図】なし

Description

本明細書により開示される技術は、米糠由来の成分を含有する印刷インキに好適に使用できる洗浄剤に関する。
従来、グラビア印刷や平板印刷、スクリーン印刷等、様々な方法による印刷が行われているが、何れの印刷方法においても、使用する装置や器具等の洗浄が不可欠である。これらの洗浄に用いられる洗浄剤には、印刷インキに対する洗浄力に優れ一定の作業効率を発現可能で、コスト面でも採算がとれることが求められる。さらに近年では、良好な作業環境を確保でき、厳しい排出基準等を満たすことも要求される。例えば、下記特許文献1には、アセト酢酸エステルと、グリコールジエステル化合物と、オキシイソ酪酸エステルと、を含むインキおよびペースト用洗浄剤が提案されている。
他方、各種印刷で用いられる印刷インキとして、環境負荷軽減等の観点から、再生可能な生物由来の原料を用いたバイオインキが提案されている。中でも、食糧調達と競合しない非食用の植物資源から調製可能なものが注目を集めている。例えば、下記特許文献2には、米糠由来の成分である米糠脂肪酸を反応原料とした熱可塑性ポリアミド樹脂と、繊維素系樹脂と、有機溶剤と、可塑剤と、を含有するリキッドインキ組成物が提案されている。以下、本明細書では、米糠由来の成分を「米糠由来成分」、米糠由来成分を含む印刷インキを「ライスインキ」と称することがある。
特許文献1に記載されているような従来の洗浄剤は、ライスインキに対する洗浄力が十分ではなく、印刷作業効率の低下を招くことがあった。今後、ライスインキが普及するにつれ、その洗浄に適した実用性の高い洗浄剤へのニーズが高まることが予想される。
特許第3962116号公報 特開2019−99586号公報
本明細書が開示する技術は、上記事情に基づいて完成されたものであって、ライスインキの洗浄に好適な、実用性の高い洗浄剤を提供することを目的とする。
本発明者らは、上記課題について鋭意研究を重ねた結果、N−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド、及びジメチルスルホキシドからなる群から選択される少なくとも1種以上からなるA成分と、A成分と相溶する酢酸エステルと、を併用した洗浄剤が、ライスインキに対して高い洗浄力を備えていることを見出し、本技術を完成させるに至った。このような洗浄剤は、コストや作業環境等を考慮しているとともに実用性にも優れている。
すなわち、本明細書が開示する技術に係る洗浄剤は、(イ)米糠由来の成分を含有する印刷インキを洗浄するための洗浄剤であって、N−メチル−2−ピロリドン、ジメチルホルムアミド、及びジメチルスルホキシドからなる群から選択される少なくとも1種以上からなるA成分と、前記A成分と相溶する酢酸エステルと、を含む洗浄剤である。なお、上記において「相溶する」とは、例えば室温(1atm、25℃)にて混合、撹拌した後、同条件下で24時間静置しても分離しないことを意味する。
また、本明細書が開示する技術に係る洗浄剤は、(ロ)4重量%以上50重量%以下の前記A成分を含み、残部を前記酢酸エステルとする、上記(イ)に記載の洗浄剤である。
また、本明細書が開示する技術に係る洗浄剤は、(ハ)前記酢酸エステルは、下記式(1)で表される、上記(イ)又は(ロ)に記載の洗浄剤である。
Figure 2021095437
(上記式(1)において、Rは炭素数1〜6の直鎖状もしくは分岐したアルキル基である。但し、前記A成分にジメチルスルホキシドが含まれる場合には、Rは炭素数1〜3の直鎖状もしくは分岐したアルキル基である)
本技術によれば、洗浄力に優れた実用性の高いライスインキ用の洗浄剤を提供できる。
箔面拭き取り試験方法を説明するための平面模式図 箔面拭き取り試験方法を説明するための部分断面模式図
<実施形態>
本技術が開示する洗浄剤は、ライスインキの洗浄に好適に使用できる。本明細書において、「ライスインキ」は、既述したように、米糠由来の成分を含む印刷インキをいう。
米糠から夾雑物や胚芽等粒状物分別し、十分な乾燥工程を経た後、溶剤抽出すれば、米糠原油が得られる。米糠原油を、さらに脱夾雑、脱ガム、脱酸、脱蝋、脱色、脱臭等々により精製すると、米糠油(ライスオイル)が得られる。米糠油には多くの脂肪酸が含まれており、米糠油100g中の脂肪酸含有量は、ミリスチン酸0.7g、パルミチン酸16.9g、ステアリン酸1.6g、オレイン酸39.1g、リノール酸33.4g、α−リノレン酸1.6g等とされている。
米糠由来成分には、米糠油や、これに含まれる米糠脂肪酸等のみならず、米糠油の精製の際に除去された非可食分、例えば脱酸過程で生じた遊離の米糠脂肪酸や、脱蝋過程で生じたワックス分等を利用することができる。なお、本明細書では、米糠に含まれる脂肪酸を「米糠脂肪酸」と称することがある。
米糠由来成分としては、米糠脂肪酸を重合して樹脂化させたもの等が考えられる。例えば、米糠原油や米糠油の精製時に生じる残渣物を重合させた樹脂を、ライスインキのバインダ樹脂として使用してもよい。グラビア印刷やフレキソ印刷によって軟包装材料に表刷印刷を施す際に使用される印刷インキには、ポリアミド樹脂が多く用いられているが、例えば、ライスインキを、ダイマー酸の反応原料として米糠脂肪酸を使用し、これとジアミンとを反応させた熱可塑性ポリアミド樹脂を含むものとしてもよい。
限定されるものではないが、ライスインキ中における米糠由来成分の含有量は、ライスインキの固形分を100%として、5重量%〜50重量%程度であることが想定される。ライスインキには、米糠由来成分のほか、顔料、粘度調整剤その他の添加剤等が配合される。
本技術は、上記のような米糠由来成分を含むライスインキを洗浄する際に、好適に用いることができる洗浄剤を提供するものである。近年、安全性や環境への配慮から、トルエン等の芳香族系溶剤、メチルエチルケトン等のケトン系溶剤の使用が制限されつつある。これに伴い、印刷インキ用の洗浄剤としては、メチルシクロヘキサン等の非芳香族炭化水素系溶剤、酢酸エチルや酢酸ノルマルプロピル等の酢酸エステル類、イソプロピルアルコールやノルマルプロピルアルコール等のアルコール系溶剤、脂環炭化水素系溶剤、或いは、これらの混合溶剤が使用されるようになってきている。例えば、アミド樹脂を含む印刷インキには、従来、メチルシクロヘキサン/酢酸ノルマルプロピル/酢酸エチル/イソプロピルアルコールを混合した洗浄剤が用いられているが、この洗浄剤は、米糠由来成分を含むライスインキに対しては十分な洗浄力を発揮できるものではなかった。
本技術に係る洗浄剤は、ライスインキに対して特に優れた溶解力を発揮するA成分と、A成分と相溶するB成分と、を含む。
A成分は、N−メチルピロリドン(NMP)、ジメチルホルムアミド(DMF)、ジメチルスルホキシド(DMSO)からなる群から選択される。これらは、30以上の比較的高い比誘電率を有する非プロトン性極性溶媒であり、各種有機化合物を溶解させる溶解力が高いことが知られている。なお、比誘電率の高い溶媒は、一般に、溶質内での分極が大きく、液体状態を比較的安定して保つことができるため、総じて良好な溶解力を示すといわれている。発明者らの鋭意検討の結果、高い比誘電率を有する非プロトン性極性溶媒の中でも、NMP、DMF、DMSOは、米糠由来成分を含有するライスインキを溶解させる溶解力が高いことが知られた。すなわち、本技術に係る洗浄剤は、A成分を含むことにより、米糠由来成分を含有するライスインキに対し、高い洗浄力を発揮できるものとなる。
A成分には、NMP、DMF、DMSOの何れか1種類を単独で用いてもよいし、これら2種類以上を組み合わせて用いてもよい。例えば、NMPとDMFを等重量で混合した混合溶媒(NMP50(重量%)/DMF50(重量%))を、好ましく使用することができる。
洗浄剤中のA成分の含有量は、4重量%以上50重量%以下の範囲とすることができる。中でも10重量%以上40重量%以下であることが好ましい。このような範囲であれば、コストを抑制しながら、ライスインキに対し十分な洗浄力を発揮できる洗浄剤を得ることができる。
上記したA成分を構成可能な各溶媒は、ライスインキの溶解力に優れているが、何れも高価で、コスト面を考慮すれば、洗浄剤の大半をA成分とすることは現実的ではない。また、A成分を構成可能な各溶媒は、作業環境の悪化を招くことがあり、何れも石油由来であって環境負荷も大きいため、ライスインキの利用意義を損ないかねない。そこで、本技術に係る洗浄剤では、A成分によって発現される洗浄力を損なわずにA成分の含有量を低減すべく、B成分を併用する。
本技術に係る洗浄剤では、B成分として、酢酸エステルを使用する。酢酸エステルは比較的安価であり、A成分と組み合わせて用いることにより、洗浄剤のコストを抑え、作業環境の悪化を抑制できる。また、例えば本技術の洗浄剤に使用可能な酢酸エステルの一例である酢酸ブチルは、植物からの生成も可能であり、環境負荷の軽減にも寄与できる。
酢酸エステルとしては、下記式(1)で表されるものが使用できる。
Figure 2021095437
(上記式(1)において、Rは炭素数1〜6の直鎖状もしくは分岐したアルキル基である。但し、前記A成分にジメチルスルホキシドが含まれる場合には、Rは炭素数1〜3の直鎖状もしくは分岐したアルキル基である)
酢酸エステルの具体例としては、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸ペンチル、酢酸イソペンチル、酢酸ヘキシル、酢酸イソヘキシルが挙げられる。これらの中でも、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸ペンチル、酢酸ヘキシルが好ましい。全体として、分岐したアルキル基を有する酢酸エステルよりも、直鎖状のアルキル基を有するものが好ましい。
B成分として使用する酢酸エステルは、1種を単独で用いても、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
上記式(1)で表される酢酸エステルは、8以下の比較的低い比誘電率を有する非プロトン性極性溶媒であるが、これらは、A成分を構成する各溶媒には劣るものの、ライスインキに対して一定の洗浄力を発揮可能であることが知られた。すなわち、本技術に係る洗浄剤は、酢酸エステルにA成分を添加して、ライスインキに対する洗浄力を向上させたものと捉えることもできる。
酢酸エステルには、A成分を構成する溶媒と相溶するものを選択する。ここで、「相溶する」とは、例えば室温(1atm、25℃)にて混合、撹拌した後、同条件下で24時間静置しても分離しないことを意味する。
NMP及びDMFうちの少なくとも1種からなるA成分は、炭素数1〜6の直鎖状もしくは分岐したアルキル基を有する酢酸エステルと相溶する。この場合、酢酸エステルとしては、相溶可能な範囲内において比較的炭素数の大きな酢酸エステル、例えば酢酸ペンチルや、酢酸ヘキシルを用いることが好ましい。
A成分にDMSOが含まれる場合、酢酸エステルとしては、比較的炭素数の小さな酢酸エステル、具体的には酢酸メチル、酢酸エチル、又は酢酸プロピルを用いることが好ましい。DMSOと、酢酸ブチル、酢酸ペンチルもしくは酢酸ヘキシルとを組み合わせた場合、これらが良好に混和すなわち相溶せず、相分離する虞があるからである。なお、相溶性については、溶解度パラメータSP値がひとつの目安となることが知られている。例えばHildebrand SP値((cal/cm31/2)について、A成分が総じて高い同SP値を有するのに対し、酢酸エステルの同SP値はアルキル基の炭素数が大きくなるほど低下するため、A成分との差が増大する。A成分として選択可能なNMP(同SP値11.3)、DMF(同SP値12.1)、及びDMSO(同SP値14.5)のうち、最も同SP値が大きいDMSOをA成分とし、酢酸ブチル(同SP値8.5)よりも炭素数の大きなアルキル基を有する酢酸エステルと混合した場合に、相分離が観察された。A成分とB成分のSP値の差が大きくなるほど両成分は相溶し難くなるため、B成分は、A成分との同SP値の差が6.0未満であることが好ましいと推察される。
酢酸エステルの含有量は、洗浄剤中に50重量%以上96量%以下の範囲とすることができ、中でも60重量%以上90重量%以下とすることが好ましい。このような範囲であれば、ライスインキに対する洗浄力を維持しながら、良好な作業環境と実用的なコストとを実現できる。
本技術に係る洗浄剤は、上記A成分及びB成分に加え、希釈剤としてアルコール類を添加して使用することができる。なお、アルコール類は、予め洗浄剤に添加されていてもよく、使用時に添加してもよい。
限定されるものではないが、希釈に使用するアルコール類の具体例としては、i−プロピルアルコール、n−ブタノール、i−ブタノール等を挙げることができる。アルコール類は、これらのうち1種を単独で用いても、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
アルコール類は、例えば、A成分及びB成分を含む本技術に係る洗浄剤100重量部に対し、10重量部以上50重量部以下の範囲で添加することが好ましい。アルコール類の含有量がこれよりも多くなると、十分な洗浄力が得られなくなる虞がある。
本技術に係る洗浄剤には、上記A成分及びB成分の作用効果を妨げない範囲において、ほかに界面活性剤や粘度調整剤、pH調整剤等を必要に応じて添加できる。
本技術に係る洗浄剤は、グラビアインキ、枚葉インキ、オフセットインキ、孔版印刷機用インキ、フレキソインキ等として用いられるライスインキに対し、好適に使用できる。具体的には、印刷工程で用いられる装置及び装置回り、並びに、例えばこれらの印刷工程で用いられる印刷版やインキ溜め、ローラ等の付属品等の器具を洗浄する際に、本技術に係る洗浄剤を用いることができる。中でも、グラビア印刷における洗浄剤として、本技術に係る洗浄剤は有用である。深さ2μm〜40μmのセルが1インチに150個〜200個並ぶような特に細かい凹凸を持つ印刷版の洗浄は、平滑面の洗浄と比して難しく、極めて高い洗浄力が求められるからである。
本技術に係る洗浄剤を適用可能な洗浄方法は、特に限定されるものではなく、洗浄剤をしみ込ませた布を使った拭き取り洗浄や、スプレー洗浄、漬浸洗浄、液中噴流洗浄等が挙げられる。
以上のように、本実施形態に係る洗浄剤は、米糠由来の成分を含有する印刷インキを洗浄するための洗浄剤であって、N−メチル−2−ピロリドン、ジメチルホルムアミド、及びジメチルスルホキシドからなる群から選択される少なくとも1種以上からなるA成分と、前記A成分と相溶する酢酸エステルからなるB成分と、を含む。
上記構成の洗浄剤は、各種の有機化合物に対し高い溶解力を有する溶媒からなるA成分を含むことにより、ライスインキに対しても十分な洗浄力を発現できる。さらに、B成分として酢酸エステルを含有することにより、作業環境の悪化や洗浄剤のコストが抑制された、実用性の高いものとすることができる。
また、本実施形態に係る洗浄剤は、4重量%以上50重量%以下の前記A成分を含み、残部を前記酢酸エステルとする。
上記構成によれば、ライスインキに対する高い洗浄力と、良好な作業環境及び実用的なコストと、を兼ね備えた洗浄剤が得られる。
また、本実施形態に係る洗浄剤において、前記酢酸エステルは、下記式(1)で表される。
Figure 2021095437
(上記式(1)において、Rは炭素数1〜6の直鎖状もしくは分岐したアルキル基である。但し、前記A成分にジメチルスルホキシドが含まれる場合には、Rは炭素数1〜3の直鎖状もしくは分岐したアルキル基である)
上記構成によれば、比較的安価で入手容易な溶媒を用いて、安定性が高く洗浄力の高い洗浄剤を得ることができる。
以下、実施例を示して、本実施形態をさらに詳細に説明する。なお、本実施形態は、以下に示す実施例に限定されるものではない。
<前実験>
[参考例1〜6]
まず、A成分を構成するのに適した溶媒種を選定するため、比誘電率が30以上の各種非プロトン性極性溶媒を用いて拭き取り試験を行なった。なお、拭き取り試験は、下記〔ライスインキ塗工箔の作製〕の要領で作製したライスインキ塗工箔を被洗浄物とし、下記〔箔面拭き取り試験1〕の要領で実施した。
〔ライスインキ塗工箔の作製〕
アルミニウム箔として厚み12μmで片ツヤの8021合金製の軟質箔((株)UACJ製箔 製)を準備し、このツヤ面側に、アンカーコート剤としてトオカAC No.9(T&K TOKA製)を、バーコーターを用いて塗布した。なお、本実施例で用いたバーコーターは、表面にピアノ線を隙間なく巻きつけた外径約5mmの丸棒であり、塗工液の粘度及びピアノ線の太さに応じた塗布量が得られるようになっている。アンカーコート剤は、塗布量が1.1g/mとなるようにバーコーター#2を用いて塗布し、180℃で10秒乾燥させた。その後、アンカーコート剤の塗膜上に、ライスインキとしてピクセスライス白(T&K TOKA製)を塗布した。ライスインキは、塗布量が1.1g/mとなるようにバーコーター#6を用いて塗布し、180℃で10秒間の条件で乾燥させ、ライスインキ塗工箔を得た。なお、ピクセスライスインキは、米糠油を使用したノントルエンタイプの表刷りグラビアインキである。
〔箔面拭き取り試験1:ライスインキ除去までの拭き取り回数を測定〕
上記のように作製したライスインキ塗工箔から、幅W×長さLの帯状の試験片1を切り出した。切り出した試験片1は、図1に示すように、自動塗工機(テクノサプライ製)100のガラス台101上にセロハンテープ2で固定した。試験片1は、図2に示すようにライスインキ塗工面1Aを上面とし、図1に示すように長手方向が自動塗工機100の可動部102の移動方向(図1において矢印で示す方向)と平行になるように、配置した。また、マイクロメーターつきのアプリケーター(テスター産業製、重さ985.3g)5を準備し、図2に示すように、ドクターの先端5Aを覆うように脱脂綿6を固定した。このアプリケーター5を、ライスインキ塗工箔1のセロハンテープ貼付部において、ドクターの先端5Aとガラス台101表面との間が間隔Dとなるように自動塗工機の可動部102にセットし、脱脂綿6のうち試験片1のライスインキ塗工面1Aと接する部分に、洗浄剤1gをしみ込ませた。次いで、可動部102を駆動してアプリケーター5を移動速度Sで移動させ、ライスインキ塗工面1A上を通過させることで、拭き取り動作を再現した。アプリケーター5が、ガラス台101に固定された試験片1上を完全に通過した後、アプリケーター5を初期位置に戻し、洗浄剤を追加せずに速やかに2回目の動作を行なった。3回目以降の動作も同様に洗浄剤を追加せずに行ない、ライスインキ塗工面1Aのうち脱脂綿6が通過する部分において、ライスインキが視認できなくなったときの回数を、「除去までの拭き取り回数」とした。
(洗浄剤1〜6の準備・調製)
それぞれ、NMP、DMF、DMSO、γブチロラクトン(GBL)、アセトニトリル(AcNt)のみからなる洗浄剤1〜5を準備した。また、NMPとDMFを室温で混合・攪拌し、NMP50/DMF50からなる洗浄剤6を調製した。各洗浄剤の組成を、表1に示す。なお、以下の記載において、溶媒成分名の右に記載した数字は、各洗浄剤の組成を示し、各洗浄剤の組成は全て重量%で表すものとする。
Figure 2021095437
(箔面拭き取り試験の実施)
洗浄剤1〜6について、上記〔箔面拭き取り試験1〕に記載の要領で拭き取り試験を行なった(参考例1〜6)。なお、試験片1の幅Wは15mm、長さはL150mmとし、ドクターの先端5Aとセロハンテープ2の表面との間隔Dは0.5mm、アプリケーター5の移動速度は50mm/sとした。
参考例1〜6における拭き取り試験結果を、表1に示す。表に示すように、NMP、DMF、又はDMSOのみからなる洗浄剤1〜3を用いた参考例1〜3では、4回でライスインキを除去できた。また、NMPとDMFの混合溶媒からなる洗浄剤6を用いた参考例6では、3回で除去できた。他方、GBLのみからなる洗浄剤4を用いた参考例4では、8回の拭き取り動作が必要であり、AcNtのみからなる洗浄剤5を用いた参考例5では、30回の拭き取り動作を行なった後も、ライスインキ塗工面1Aにライスインキが残存している様子が認められた。この前実験の結果を踏まえ、A成分をDMF、NMP、及びDMSOからなる群から選択することとし、以下の実験1〜3を行なった。
<実験1>
[実施例1〜10、比較例1〜11]
本技術に係る各種洗浄剤のライスインキに対する洗浄力を評価するため、下記実施例1〜10及び比較例1〜11の拭き取り試験を行なった。拭き取り試験は、上記〔ライスインキ塗工箔の作製〕の要領で作製したライスインキ塗工箔を被洗浄物とし、上記〔箔面拭き取り試験1〕の要領で実施した。
(洗浄剤7〜12の調製)
各溶媒を室温で混合・攪拌することにより、NMP25/DMF25/酢酸ブチル50からなる洗浄剤7、NMP10/DMF10/酢酸ブチル80からなる洗浄剤8、NMP5/DMF5/酢酸ブチル90からなる洗浄剤9、NMP2/DMF2/酢酸ブチル96からなる洗浄剤10を調製した。また、同じく、NMP10/酢酸ブチル90からなる洗浄剤11、DMF10/酢酸ブチル90からなる洗浄剤12を調製した。なお、後述する表3等には示していないが、DMSO10/酢酸ブチル90からなる洗浄剤の調製を試みたが、相溶せず分離してしまったため、拭き取り試験は実施できなかった。
(洗浄剤13〜16の調製)
各溶媒を室温で混合・攪拌し、NMP5/DMF5/酢酸メチル90からなる洗浄剤13、NMP5/DMF5/酢酸エチル90からなる洗浄剤14、NMP5/DMF5/酢酸プロピル90からなる洗浄剤15、NMP5/DMF5/酢酸イソブチル90からなる洗浄剤16を調製した。
(洗浄剤17〜21の準備)
それぞれ、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、酢酸イソブチルのみからなる洗浄剤17〜21を準備した。
(洗浄剤22〜27の準備・調製)
それぞれ、イソプロパノール、イソブタノール、n−ブタノールのみからなる洗浄剤22,24,26を準備した。また、各溶媒を室温で混合・攪拌し、NMP5/DMF5/イソプロパノール90からなる洗浄剤23、NMP5/DMF5/イソブタノール90からなる洗浄剤25、NMP5/DMF5/n−ブタノール90からなる洗浄剤27を準備した。各洗浄剤組成を、表1に示す。
(箔面拭き取り試験の実施)
洗浄剤7〜16及び洗浄剤17〜27について、上記〔箔面拭き取り試験1〕に記載の要領で拭き取り試験を行なった(実施例1〜10及び比較例1〜11)。なお、前実験と同様に、試験片1の幅Wを15mm、長さをL150mmとし、ドクターの先端5Aとセロハンテープ2の表面との間隔Dは0.5mm、アプリケーター5の移動速度は50mm/sとした。
実施例1〜10及び比較例1〜11についての拭き取り試験結果を、表1に示す。表に示すように、実施例1〜10では、何れも3〜5回でライスインキを拭き取ることができた。これらの実施例で用いた洗浄剤7〜16が、参考例1〜3,6で用いた洗浄剤1〜3,6と比べても、遜色のない洗浄力を有していることが確認できた。
詳しくは、実施例1〜3の結果より、NMP及びDMFからなるA成分の総量の比率を50重量%から10重量%まで減らした洗浄剤7〜9でも、参考例6で用いた洗浄剤6と同等の高い洗浄効果が得られることが知られた。実施例4において、A成分の総量の比率を4重量%まで減少させた洗浄剤10では、洗浄力の若干の低下が認められたが、それでも参考例1〜3で用いた洗浄剤1〜3と同等の洗浄効果が得られた。実施例5,6において、NMP又はDMFの一方のみを酢酸ブチルに添加した洗浄剤11,12でも、参考例6で用いた洗浄剤6と同等の高い洗浄効果が得られた。
また、比較例1〜5より、各種酢酸エステルのみからなる洗浄剤17〜21が、ライスインキに対する一定の洗浄力を有していることが知られた。各種酢酸エステルにNMP及びDMFからなる少量のA成分を添加した洗浄剤9,13〜16を用いた実施例3,7〜10と、酢酸エステルのみからなる洗浄剤17〜21を用いた比較例1〜5とを比較すると、何れの酢酸エステルについてもA成分を含有する洗浄剤を用いた方が、除去までの拭き取り回数が少なかった。A成分を添加することによってライスインキに対する洗浄力が向上したことがわかる。他方、比較例6,8,10より、プロトン性極性溶媒である各種アルコールのみからなる洗浄剤22,24,26は、30回以上の拭き取り動作を行なった後もライスインキが残存しており、ライスインキに対する洗浄力が極めて小さいことが知られた。比較例7,9,11において各種アルコールにNMP及びDMFからなる少量のA成分を添加した洗浄剤23,25,27でも、洗浄力の向上は認められず、30回以上の拭き取り動作を行なった後もライスインキを除去しきれなかった。
<実験2>
[実施例11〜17、比較例12〜18]
本技術に係る各種洗浄剤のライスインキに対する洗浄力を評価するため、下記実施例11〜17及び比較例12〜17の拭き取り試験を行なった。拭き取り試験は、上記〔ライスインキ塗工箔の作製〕に記載の要領で作製したライスインキ塗工箔を被洗浄物とし、下記〔箔面拭き取り試験2〕に記載の要領で実施した。
〔箔面拭き取り試験2:箔面露出までの拭き取り回数を測定し平均値を算出〕
脱脂綿6に洗浄剤1gをしみ込ませる代わりに、試験片1のライスインキ塗工面1Aに0.1gを滴下して洗浄剤を付与したほかは、箔面拭き取り試験1と同じ要領で、拭き取り動作を行なった(試験片1の寸法形状、ドクターの先端5Aとセロハンテープ2表面との間隔D、アプリケーター5の移動速度Sについては後述する)。本試験では、白色のライスインキ下層のアルミニウム箔地が現れたときの回数を、「露出までの拭き取り回数」とし、各実施例及び比較例について5回の試験を行なった平均値で表した。
(洗浄剤28〜33の準備・調製)
各溶媒を室温で混合・攪拌し、NMP5/DMF5/酢酸ペンチル90からなる洗浄剤28、NMP5/DMF5/酢酸ヘキシル90からなる洗浄剤29、DMSO10/酢酸エチル90からなる洗浄剤30を調製した。また、それぞれ、酢酸ペンチル、酢酸ヘキシルのみからなる溶媒を、洗浄剤31,32とした。各洗浄剤の組成を、表2に示す。
Figure 2021095437
(箔面拭き取り試験の実施)
洗浄剤13〜15,9,28〜30及び洗浄剤17〜20,31,32について、上記〔箔面拭き取り試験2〕に記載の要領で拭き取り試験を行なった(実施例11〜17及び比較例12〜17)。なお、試験片1の幅Wは15mm、長さLは100mmとし、ドクターの先端5Aとセロハンテープ2表面との間隔Dは0.8mm、アプリケーター5の移動速度Sは100mm/sとした。
実施例11〜17及び比較例12〜17についての拭き取り試験結果を、表2に示す。各種酢酸エステルにNMP及びDMFからなる少量のA成分を添加した洗浄剤13〜15,9,28,29を用いた実施例11〜16と、酢酸エステルのみからなる洗浄剤17〜20,31,32を用いた比較例12〜17と比較すると、何れの酢酸エステルについてもA成分を含有する洗浄剤を用いた方が、露出までの拭き取り回数が少なかった。また、酢酸エチルにDMSOを添加した洗浄剤30を用いた実施例17でも、酢酸エチル単独の洗浄剤18を用いた比較例13と比べて露出までの拭き取り回数が減少した。各種酢酸エステルにA成分を添加することによって、ライスインキに対する洗浄力が向上し、何れも十分な洗浄力を発現可能なものとなったことがわかる。
<実験3>
本技術に係る各種洗浄剤の、版深が20μm〜30μmの凹凸構造内に入り込んだライスインキに対する洗浄力を評価するため、下記実施例18〜20及び比較例18,19の拭き取り試験を行なった。拭き取り試験は、下記〔ライスインキ塗工版の作製〕に記載の要領で作製したライスインキ塗工版を被洗浄物とし、下記〔版面拭き取り試験〕に記載の要領で実施した。
〔ライスインキ塗工版の作製〕
150メッシュ ベタ塗りのグラビア版上に、ライスインキとしてピクセスライス紅(T&K TOKA製)1滴を滴下し、乾いたキムワイプで擦り広げて、上記版深の版の凹凸構造内に入り込ませ、ライスインキ塗工版を作製した。
〔版面拭き取り試験〕
上記により作製したライスインキ塗工版上に、洗浄剤1mlを滴下し、キムワイプで版面を軽く擦過することにより目視で版面の変化が確認できなくなるまで数十秒間から1分間程度に亘って拭き取りを行なった後、下記基準に基づき目視で評価した。
[評価基準]
○……付着したインキのほとんどを落とすことができた。
×……付着したインキがほとんど残存した。
(洗浄剤33〜35の調製)
各溶媒を室温で混合・攪拌し、NMP30/酢酸エチル70からなる洗浄剤33、NMP30/酢酸ブチル70からなる洗浄剤34、NMP15/DMF15/酢酸ブチル70からなる洗浄剤35を調製した。実験3で使用した各洗浄剤の組成を、表3に示す。
Figure 2021095437
(版拭き取り試験の実施)
洗浄剤33〜35及び洗浄剤18,19について、上記〔版面拭き取り試験〕に記載の方法に準じて拭き取り試験を行なった(実施例18〜20及び比較例18,19)。
実施例18〜20及び比較例18,19についての拭き取り試験結果を、図5の表に示す。NMP及びDMFから選択されるA成分を、酢酸エステルからなるB成分に添加した洗浄剤33〜35を用いた実施例18〜20では、グラビア版上のライスインキのほとんどを拭き取ることができた。これに対し、A成分を添加していない洗浄剤18,20を用いた比較例18,19では、ライスインキを上手く除去することができなかった。本技術に係る洗浄剤は、アルミニウム箔のような平滑面上に付与されたライスインキのみならず、グラビア版のような凹凸面上に塗布され凹部に入り込んだライスインキの洗浄にも有用であることが確認できた。
1…試験片、1A…ライスインキ塗工面、2…セロハンテープ、5…アプリケーター、5A…ドクターの先端、6…脱脂綿、100…自動塗工機、101…ガラス台、102…可動部、W…(試験片の)幅、L…(試験片の)長さ、D…(ドクターの先端とセロハンテープ表面との)間隔

Claims (3)

  1. 米糠由来の成分を含有する印刷インキを洗浄するための洗浄剤であって、
    N−メチル−2−ピロリドン、ジメチルホルムアミド、及びジメチルスルホキシドからなる群から選択される少なくとも1種以上からなるA成分と、
    前記A成分と相溶する酢酸エステルと、を含む洗浄剤。
  2. 4重量%以上50重量%以下の前記A成分を含み、残部を前記酢酸エステルとする、請求項1に記載の洗浄剤。
  3. 前記酢酸エステルは、下記式(1)で表される、請求項1又は請求項2に記載の洗浄剤。
    Figure 2021095437
    (上記式(1)において、Rは炭素数1〜6の直鎖状もしくは分岐したアルキル基である。但し、前記A成分にジメチルスルホキシドが含まれる場合には、Rは炭素数1〜3の直鎖状もしくは分岐したアルキル基である)
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