JP2021092334A

JP2021092334A - 真空炉

Info

Publication number: JP2021092334A
Application number: JP2019221990A
Authority: JP
Inventors: 治坂本; Osamu Sakamoto
Original assignee: Sun Furnace Co Ltd
Current assignee: Sun Furnace Co Ltd
Priority date: 2019-12-09
Filing date: 2019-12-09
Publication date: 2021-06-17
Anticipated expiration: 2039-12-09
Also published as: JP6945115B2

Abstract

【課題】複数の処理室におけるワークの温度を途切れることなく実測できる真空炉を提供する。【解決手段】ワーク１を処理するための第１の処理室１０と、減圧環境で上記ワーク１を処理することができる気密性能を有する第２の処理室２０と、上記第１の処理室１０と上記第２の処理室２０の間に設けられて上記第２の処理室２０と同様の気密性能を有する中間スペース３０と、上記中間スペース３０を通過して上記第１の処理室１０と上記第２の処理室２０にそれぞれ到達可能で、処理の段階に応じて上記第１の処理室１０または上記第２の処理室２０に存在させる上記ワーク１を測温することができる測温線４０と、上記第１の処理室１０と上記中間スペース３０を気密状に隔てることができる第１の気密扉１５と、上記中間スペース３０と上記第２の処理室２０を気密状に隔てることができる第２の気密扉２５とを備えた。【選択図】図１

Description

本発明は、炉内に搬入したワークを複数の処理室で熱処理する真空炉に関するものである。

炉内に搬入したワークを複数の処理室で熱処理する熱処理炉が普及している。上記複数の処理室には、たとえば加熱室や油槽室があげられる。この場合、上記加熱室で加熱したワークを上記油槽室に移動し、油槽に浸漬して急冷して焼入れを行うことが行われる。

このような複数の処理室を有する熱処理炉において、ワークの温度を実測しながら熱処理を行う技術に関する先行文献として、出願人は下にあげた特許文献１〜２を把握している。

特許第３８３６２９１号公報特開２０１８−９１６５８号公報

特許文献１は、炉内に搬入した被処理物を複数の位置に移送して熱処理する際に、被処理物の実際の温度をリアルタイムに検出しようとした箱形熱処理炉に関するものであり、つぎの記載がある。
［０００６］
［課題を解決するための手段］
前記目的を達成するためのこの発明の箱形熱処理炉は、炉内に搬入した被処理物を複数位置に移送して熱処理する箱形熱処理炉であって、先端側を炉内に導入しているとともに、先端部を被処理物に取り付ける測温用のシース線と、炉内において前記シース線の途中部を保持した状態で、被処理物の移送位置に応じて当該シース線を引き回して被処理物に追随させるシース線保持装置とを備えることを特徴としている（請求項１）。
このように構成された箱形熱処理炉によれば、測温用のシース線の先端部を被処理物に取り付け、途中部をシース線保持装置によって保持した状態で、被処理物の移送位置に応じて前記シース線を引き回して被処理物に追随させることができる。このため、シース線が弛み過ぎたり張り過ぎたりするのを防止することができる。

特許文献２は、熱処理炉などの筐体の内部に配置されているワークの温度を測定するためのワーク温度測定装置とそれを備えた熱処理炉に関するものであり、つぎの記載がある。
［００２６］
本開示の発明は特に、トレイ１２に導通プレート１８を設け、昇降エレベータ１４に導通ロッド２０を設けている。導通プレート１８と導通ロッド２０を接触させて導通させることで、導通プレート１８に接続された熱電対２２と、導通ロッド２０に接続された温度測定器２４とを電気的に接続するものである。このような構成により、ワークＷが中継ゾーン６にある時あるいは中継ゾーン６から下方又は上方へ移動するときでも、導通プレート１８と導通ロッド２０の接触を確保して導通させることで、熱処理炉２内に配置されているワークＷの温度を温度測定器２４によりリアルタイムで測定可能としている。
［００２７］
上述した熱処理炉２内のワークＷの温度を測定するための「ワーク温度測定装置」は、導通プレート１８、導通ロッド２０、熱電対２２、温度測定器２４および補償導線２６により構成される。

上記特許文献１に開示された技術は、測温用のシース線の先端部を被処理物に取り付け、被処理物の移送位置に応じて測温用のシース線を引き回して被処理物の測温を行うものである。
しかしながら、上記特許文献１は、熱処理炉および内部の移送位置が密閉構造になっていない。したがって、真空環境下で熱処理を行う真空炉に適用することができない。

上記特許文献２に開示された技術は、導通プレート１８と導通ロッド２０を接触させて導通させることで、導通プレート１８に接続された熱電対２２と、導通ロッド２０に接続された温度測定器２４とを電気的に接続する。
したがって、昇降エレベーターからワークＷが離れる加熱室４では、導通プレート１８と導通ロッド２０の導通が切断され、測温することができない。また、真空環境下で熱処理を行う真空炉への適用は考慮されていない。

本発明は、上記課題を解決するため、つぎの目的をもってなされたものである。
炉内に搬入したワークを複数の処理室で熱処理する真空炉において、上記複数の処理室におけるワークの温度を途切れることなく実測できる真空炉を提供する。

請求項１記載の真空炉は、上記目的を達成するため、つぎの構成を採用した。
ワークを処理するための第１の処理室と、
減圧環境で上記ワークを処理することができる気密性能を有する第２の処理室と、
上記第１の処理室と上記第２の処理室の間に設けられて上記第２の処理室と同様の気密性能を有する中間スペースと、
上記中間スペースを通過して上記第１の処理室と上記第２の処理室にそれぞれ到達可能で、処理の段階に応じて上記第１の処理室または上記第２の処理室に存在させる上記ワークを測温することができる測温線と、
上記第１の処理室と上記中間スペースを気密状に隔てることができる第１の気密扉と、
上記中間スペースと上記第２の処理室を気密状に隔てることができる第２の気密扉とを備えた。

請求項２記載の真空炉は、上記請求項１記載の構成に加え、つぎの構成を採用した。
上記第１の処理室は冷却液槽を備えており、
上記測温線が上記冷却液槽に到達可能で、上記冷却液槽に存在させる上記ワークを測温しうるように構成されている。

請求項３記載の真空炉は、上記請求項１または２記載の構成に加え、つぎの構成を採用した。
処理の段階に応じて上記第１の処理室と上記第２の処理室の間を移動する上記ワークに対し、上記測温線を追従させるための追従手段をさらに備えた。

請求項４記載の真空炉は、上記請求項３記載の構成に加え、つぎの構成を採用した。
処理の段階に応じて上記ワークを存在させる処理室の気密を維持しながら、途切れることなく上記ワークを測温しうるように構成されている。

請求項１記載の真空炉は、第１の処理室、第２の処理室、中間スペース、測温線、第１の気密扉、第２の気密扉を備えている。上記第１の処理室は、ワークを処理するためのものである。上記第２の処理室は、減圧環境で上記ワークを処理することができる気密性能を有する。上記中間スペースは、上記第１の処理室と上記第２の処理室の間に設けられ、上記第２の処理室と同様の気密性能を有する。上記測温線は、上記中間スペースを通過して上記第１の処理室と上記第２の処理室にそれぞれ到達可能である。上記測温線は、処理の段階に応じて上記第１の処理室または上記第２の処理室に存在させる上記ワークを測温する。上記第１の気密扉は、上記第１の処理室と上記中間スペースを気密状に隔てることができる。上記第２の気密扉は、上記中間スペースと上記第２の処理室を気密状に隔てることができる。

第１の処理室にワークが存在するときは、上記中間スペースを通過して第１の処理室に到達させた測温線により、上記ワークを測温する。第２の処理室にワークが存在するときは、上記中間スペースを通過して第２の処理室に到達させた測温線により、上記ワークを測温する。このような測温動作において、上記第２の処理室を減圧環境にした場合、第１の処理室に存在するワークを測温するときは、上記第１の気密扉を開けて上記第１の処理室と上記中間スペースとを連通させるとともに、上記第２の気密扉を閉じて上記中間スペースと上記第２の処理室を気密状に隔てる。これにより、第２の処理室を減圧状態に保ったままで、第１の処理室に存在するワークを測温することができる。第２の処理室に存在するワークを測温するときは、上記第２の気密扉を開けて上記第２の処理室と上記中間スペースとを連通させるとともに、上記第１の気密扉を閉じて上記中間スペースと上記第１の処理室を気密状に隔てる。これにより、第２の処理室と中間スペースを減圧状態に保ったままで、第２の処理室に存在するワークを測温することができる。
このように、炉内に搬入したワークを複数の処理室で熱処理する真空炉において、上記複数の処理室におけるワークの温度を実測できる。

請求項２記載の真空炉は、上記第１の処理室は冷却液槽を備えている。上記測温線が、上記冷却液槽に到達可能である。上記冷却液に存在させる上記ワークを測温しうるように構成される。
上述したように、上記第１の気密扉を開けて上記第１の処理室と上記中間スペースとを連通させるとともに、上記第２の気密扉を閉じて上記中間スペースと上記第２の処理室を気密状に隔てる。さらに、測温線を冷却液槽まで到達させて冷却液槽に存在させる上記ワークを測温する。これにより、第２の処理室を減圧状態に保ったままで、冷却液槽に存在するワークを測温することができる。

請求項３記載の真空炉は、処理の段階に応じて上記第１の処理室と上記第２の処理室の間を移動する上記ワークに対し、上記測温線を追従させるための追従手段をさらに備える。
上記第１の処理室と上記第２の処理室の間を移動する上記ワークに測温線が追従するため、第２の処理室を減圧状態に保ったままで、第１の処理室または第２の処理室に存在するワークを測温できる。

請求項４記載の真空炉は、処理の段階に応じて上記ワークを存在させる処理室の気密を維持しながら、途切れることなく上記ワークを測温しうるように構成されている。
このため、処理の段階に応じて途切れることなくワークを測温し、モニターできる。

本発明の真空炉の実施形態の全体構成を説明する図である。上記真空炉の使用状態を説明する図である。上記真空炉の使用状態を説明する図である。上記真空炉の使用状態を説明する図である。

図１〜図４は本発明の真空炉の実施形態を説明する図である。

〔全体構成〕
図１は、本実施形態の全体構成を説明する図である。
この真空炉は、ワーク１を熱処理する第１の処理室１０と第２の処理室２０を備えている。

〔第１の処理室１０〕
上記第１の処理室１０は、ワーク１の装入と搬出を行うための外開口１１Ａと外扉１１を有している。この例では、上記第１の処理室１０は冷却液槽１２を備えている。つまり、上記外扉１１が設けられた第１の処理室１０の下部空間に、焼入用の冷却液が貯留された冷却液槽１２が設けられている。上記第１の処理室１０には、ワーク１を載置した状態で、上記第１の処理室１０と上記冷却液槽１２のあいだで昇降する昇降台１３が設けられている。上記冷却液としては、たとえば油、水、エマルジョン等を使用することができる。

上記第１の処理室１０は、減圧環境で上記ワーク１を処理することができる気密性能を有する。したがって、上記外扉１１は気密扉として機能するものであり、減圧状態になった第１の処理室１０の気密を確保するため、外開口１１Ａの外側に配置されている。上記第１の処理室１０には、上記第１の処理室１０内の気体を吸引する第１真空ポンプ９が連通している。

〔第２の処理室２０〕
上記第２の処理室２０は、減圧環境で上記ワーク１を処理することができる気密性能を有する。上記第２の処理室２０には、上記第２の処理室２０内の気体を吸引する第２真空ポンプ２１が連通している。第２の処理室２０は、内部に装入されたワーク１を載置するためのワーク台２２を備えている。第２の処理室２０の壁面近傍には、上記ワーク台２２に載置されたワーク１を取り囲む断熱壁２３が設けられている。上記第２の処理室２０のワーク台２２周辺の空間は、図示しないヒータにより加熱される。

上記断熱壁２３には、後述する第２開口２４Ａに対応する部分に第３開口２３Ａが設けられている。上記第３開口２３Ａには、断熱扉３５が設けられている。上記断熱扉３５は、第１の処理室１０と上記第２の処理室２０の間でワーク１を移動させる際に開閉され、上記第３開口２３Ａにワーク１を通過させる。この例では、上記断熱扉３５は上下にスライドして開閉するものであり、下にスライドして開いた断熱扉３５が一時的に収まる第３戸袋空間３５Ａが設けられている。

〔中間スペース３０〕
上記第１の処理室１０と上記第２の処理室２０の間には中間スペース３０が設けられている。上記第１の処理室１０と上記中間スペース３０の間には第１隔壁１４が存在し、上記中間スペース３０と第２の処理室２０の間には第２隔壁２４が存在する。上記第１隔壁１４と第２隔壁２４には、第１の処理室１０と上記第２の処理室２０の間でワーク１を移動させるための第１開口１４Ａと第２開口２４Ａがそれぞれ設けられている。したがって、第１の処理室１０と上記第２の処理室２０の間でワーク１を移動させるときは、いちど中間スペース３０を通過することになる。

〔気密扉〕
上記第１の処理室１０と上記中間スペース３０を気密状に隔てることができる第１の気密扉１５が、上記第１開口１４Ａに設けられている。上記第１の気密扉１５は、減圧状態になった中間スペース３０の気密を確保するため、第１開口１４Ａの第１の処理室１０側に配置されている。この例では、上記第１の気密扉１５は上下にスライドして開閉するものであり、下にスライドして開いた第１の気密扉１５が一時的に収まる第１戸袋空間１５Ａが設けられている。

上記中間スペース３０と上記第２の処理室２０を気密状に隔てることができる第２の気密扉２５が、上記第２開口２４Ａに設けられている。上記第２の気密扉２５は、減圧状態になった第２の処理室２０の気密を確保するため、第２開口２４Ａの中間スペース３０側に配置されている。この例では、上記第２の気密扉２５は上下にスライドして開閉するものである。上記中間スペース３０の下部空間は、下にスライドして開いた第２の気密扉２５が一時的に収まる第２戸袋空間２５Ａとして機能する。

これにより、上記中間スペース３０は、上記第２の処理室２０と同様の気密性能を有する。つまり、上記第２の気密扉２５を閉じた状態で上記第２真空ポンプ２１を稼働すると、第２の処理室２０内が減圧される。上記第２の気密扉２５を開けて第１の気密扉１５を閉じた状態で第２真空ポンプ２１を稼働すると、第２の処理室２０内と中間スペース３０内が減圧される。

〔測温線〕
本実施形態は、ワーク１の温度を実測する測温線４０を有している。上記測温線４０としては、たとえばシース熱電対を用いることができる。上記測温線４０の先端をワーク１に接触させることにより、ワーク１の温度をリアルタイムに計測できる。上記測温線４０の根元は、図示しない計測機に接続される。

上記測温線４０は、上記中間スペース３０を通過して上記第１の処理室１０と上記第２の処理室２０にそれぞれ到達可能である。つまり、上記中間スペース３０から第１開口１４Ａを通過してその先端が第１の処理室１０に到達する。また、上記中間スペース３０から第２開口２４Ａを通過してその先端が第２の処理室２０に到達する。したがって、処理の段階に応じて上記第１の処理室１０または上記第２の処理室２０に存在させる上記ワーク１を直接的に測温することができる。また、上記測温線４０は、上記冷却液槽１２にも到達可能である。したがって、上記冷却液槽１２に存在させる上記ワーク１を直接的に測温することができる。

〔追従手段〕
本実施形態は、処理の段階に応じて上記第１の処理室１０と上記第２の処理室２０の間を移動し、また冷却液槽１２に浸漬される上記ワーク１に対し、上記測温線４０を追従させるための追従手段５０を備えている。

上記追従手段５０は、上記中間スペース３０を通過して上記第１の処理室１０、第２の処理室２０、冷却液槽１２にそれぞれ測温線４０を到達させるため、上記測温線４０の繰り出しと繰り入れを行う。この例では、上記追従手段５０は、移動リール５１Ａ，５１Ｂと、リールケース５２とを含んで構成されている。この例では、２個の移動リール５１Ａ，５１Ｂに対して測温線４０が互い違いに掛けられている。上記測温線４０の先端側は、中間スペース３０の壁面に形成された挿通孔５３を挿通して中間スペース３０内を通過させる。上記測温線４０の根元側は、リールケース５２に設けられたシール穴５４を通り、上述したように、図示しない計測機に接続される。上記シール穴５４はシール部材によって気密性を保持しながら測温線４０を挿通させる。これにより、上記リールケース５２内は、上記中間スペース３０と同様の気密性能を有している。

上記測温線４０を繰り出したときは、上記２個の移動リール５１Ａ，５１Ｂ間の距離が狭くなり、反対に、上記測温線４０を繰り入れたときは、上記２個の移動リール５１Ａ，５１Ｂ間の距離が広くなる。これにより、上記第１の処理室１０、第２の処理室２０、冷却液槽１２を移動する上記ワーク１に測温線４０を追従させる。このとき、上記測温線４０の繰り出しと繰り入れを行うため、測温線４０が余って弛んでしまったり、足りなくなってワーク１を所定の場所まで移動できなかったりすることがない。

〔動作〕
図２〜図４は、上記真空炉の使用状態を説明する図である。

図２（Ａ）は、ワーク１を炉内に装入する前の状態である。外扉１１と第１の気密扉１５が開き、第２の気密扉２５と断熱扉３５が閉じている。ワーク１は外扉１１より外にあって、そのワーク１に測温線４０の先端が固定されている。つまり測温線４０は、中間スペース３０および第１の処理室１０内を通過して先端が外開口１１Ａの外側に至るまで繰り出されている。

図２（Ｂ）は、ワーク１を第１の処理室１０内に装入した状態である。外扉１１は閉じ、第１の気密扉１５が開き、第２の気密扉２５と断熱扉３５は閉じている。ワーク１は昇降台１３上に載置されている。測温線４０は、中間スペース３０を通過して先端が第１の処理室１０内に至るまで繰り入れられる。この状態で、第１真空ポンプ９を稼働し、第１の処理室１０と中間スペース３０内を減圧する。また、第２真空ポンプ２１を稼働し、第２の処理室２０内を減圧する。このとき、第１の処理室１０内と第２の処理室２０内の圧力は均等に保つ。こうすることにより、第１の気密扉１５と第２の気密扉２５をスムーズに開閉できる。

図２（Ｃ）は、ワーク１を第１の処理室１０から第２の処理室２０に移動した状態である。外扉１１は閉じ、第１の気密扉１５、第２の気密扉２５および断熱扉３５が開いている。ワーク１はワーク台２２上に載置される。測温線４０は、中間スペース３０を通過して先端が第２の処理室２０内に至るまで追従する。
なお、ワーク１を炉内で移動させるための手段は図示していない。たとえば、上記ワーク台２２に、第１の処理室１０に向かって延びるフォークを内蔵する等の手段を利用することができる。

図３（Ａ）は、第２の処理室２０内でワーク１を加熱する状態である。外扉１１および第１の気密扉１５が閉じ、第２の気密扉２５が開き、断熱扉３５は閉じている。測温線４０は、中間スペース３０を通過して先端が第２の処理室２０内に至っている。このとき上記測温線４０は、閉じた断熱扉３５の隙間を通過している。第２真空ポンプ２１の稼働を続け、第２の処理室２０内を減圧した状態でワーク１を加熱する。第１の処理室１０には図示しないガス導入路より窒素ガスを導入し、第２の処理室２０とのあいだに差圧をつける。

図３（Ｂ）は、ワーク１を第２の処理室２０から第１の処理室１０に移動した状態である。外扉１１は閉じ、第１の気密扉１５、第２の気密扉２５および断熱扉３５が開いている。第１の気密扉１５と第２の気密扉２５を開閉するまえに、第１真空ポンプ９と第２真空ポンプ２１の稼働により第１の処理室１０内と第２の処理室２０内の圧力を均等にそろえておく。ワーク１は昇降台１３上に載置されている。測温線４０は、中間スペース３０を通過して先端が第１の処理室１０内に至るように追従する。

図３（Ｃ）は、ワーク１を冷却液槽１２に浸漬した状態である。外扉１１は閉じ、第１の気密扉１５が開き、第２の気密扉２５および断熱扉３５が閉じている。昇降台１３が第１の処理室１０から冷却液槽１２まで降下している。測温線４０は、中間スペース３０と第１の処理室１０を通過して先端が冷却液槽１２に至るまで繰り出されている。

図４（Ａ）は、ワーク１を冷却液槽１２から第１の処理室１０に引き上げた状態である。外扉１１は閉じ、第１の気密扉１５が開き、第２の気密扉２５および断熱扉３５が閉じている。ワーク１は昇降台１３上に載置されている。測温線４０は、中間スペース３０を通過して先端が第１の処理室１０内に至るように繰り下げられている。

図４（Ｂ）は、ワーク１を炉外に搬出した状態である。外扉１１と第１の気密扉１５が開き、第２の気密扉２５と断熱扉３５が閉じている。測温線４０は、中間スペース３０および第１の処理室１０内を通過して先端が外開口１１Ａの外側に至るまで繰り出されている。

〔本実施形態の効果〕
上記構成をとることにより、本実施形態の真空炉は、下記の作用効果を奏する。

本実施形態は、第１の処理室１０、第２の処理室２０、中間スペース３０、測温線４０、第１の気密扉１５、第２の気密扉２５を備えている。上記第１の処理室１０は、ワーク１を処理するためのものである。上記第２の処理室２０は、減圧環境で上記ワーク１を処理することができる気密性能を有する。上記中間スペース３０は、上記第１の処理室１０と上記第２の処理室２０の間に設けられ、上記第２の処理室２０と同様の気密性能を有する。上記測温線４０は、上記中間スペース３０を通過して上記第１の処理室１０と上記第２の処理室２０にそれぞれ到達可能である。上記測温線４０は、処理の段階に応じて上記第１の処理室１０または上記第２の処理室２０に存在させる上記ワーク１を測温する。上記第１の気密扉１５は、上記第１の処理室１０と上記中間スペース３０を気密状に隔てることができる。上記第２の気密扉２５は、上記中間スペース３０と上記第２の処理室２０を気密状に隔てることができる。

第１の処理室１０にワーク１が存在するときは、上記中間スペース３０を通過して第１の処理室１０に到達させた測温線４０により、上記ワーク１を測温する。第２の処理室２０にワーク１が存在するときは、上記中間スペース３０を通過して第２の処理室２０に到達させた測温線４０により、上記ワーク１を測温する。このような測温動作において、上記第２の処理室２０を減圧環境にした場合、第１の処理室１０に存在するワーク１を測温するときは、上記第１の気密扉１５を開けて上記第１の処理室１０と上記中間スペース３０とを連通させるとともに、上記第２の気密扉２５を閉じて上記中間スペース３０と上記第２の処理室２０を気密状に隔てる。これにより、第２の処理室２０を減圧状態に保ったままで、第１の処理室１０に存在するワーク１を測温することができる。第２の処理室２０に存在するワーク１を測温するときは、上記第２の気密扉２５を開けて上記第２の処理室２０と上記中間スペース３０とを連通させるとともに、上記第１の気密扉１５を閉じて上記中間スペース３０と上記第１の処理室１０を気密状に隔てる。これにより、第２の処理室２０と中間スペース３０を減圧状態に保ったままで、第２の処理室２０に存在するワーク１を測温することができる。
このように、炉内に搬入したワーク１を複数の処理室１０，２０で熱処理する真空炉において、上記複数の処理室１０，２０におけるワーク１の温度を実測できる。

本実施形態は、上記第１の処理室１０は冷却液槽１２を備えている。上記測温線４０が、上記冷却液槽１２に到達可能である。上記冷却液槽１２に存在させる上記ワーク１を測温しうるように構成される。
上述したように、上記第１の気密扉１５を開けて上記第１の処理室１０と上記中間スペース３０とを連通させるとともに、上記第２の気密扉２５を閉じて上記中間スペース３０と上記第２の処理室２０を気密状に隔てる。さらに、測温線４０を冷却液槽１２まで到達させて冷却液槽１２に存在させる上記ワーク１を測温する。これにより、第２の処理室２０を減圧状態に保ったままで、冷却液槽１２に存在するワーク１を測温することができる。

本実施形態は、処理の段階に応じて上記第１の処理室１０と上記第２の処理室２０の間を移動する上記ワーク１に対し、上記測温線４０を追従させるための追従手段５０をさらに備える。
上記第１の処理室１０と上記第２の処理室２０の間を移動する上記ワーク１に測温線４０が追従するため、第２の処理室２０を減圧状態に保ったままで、第１の処理室１０または第２の処理室２０に存在するワーク１を測温できる。

本実施形態は、処理の段階に応じて上記ワーク１を存在させる処理室１０，２０の気密を維持しながら、途切れることなく上記ワーク１を測温しうるように構成されている。
このため、処理の段階に応じて途切れることなくワーク１を測温し、モニターできる。

〔変形例〕
以上は本発明の特に好ましい実施形態について説明したが、本発明は示した実施形態に限定する趣旨ではなく、各種の態様に変形して実施することができ、本発明は各種の変形例を包含する趣旨である。

１：ワーク
９：第１真空ポンプ
１０：第１の処理室
１１：外扉
１１Ａ：外開口
１２：冷却液槽
１３：昇降台
１４：第１隔壁
１４Ａ：第１開口
１５：第１の気密扉
１５Ａ：第１戸袋空間
２０：第２の処理室
２１：第２真空ポンプ
２２：ワーク台
２３：断熱壁
２３Ａ：第３開口
２４：第２隔壁
２４Ａ：第２開口
２５：第２の気密扉
２５Ａ：第２戸袋空間
３０：中間スペース
３５：断熱扉
３５Ａ：第３戸袋空間
４０：測温線
５０：追従手段
５１Ａ：移動リール
５１Ｂ：移動リール
５２：リールケース
５３：挿通孔
５４：シール穴

Claims

ワークを処理するための第１の処理室と、
減圧環境で上記ワークを処理することができる気密性能を有する第２の処理室と、
上記第１の処理室と上記第２の処理室の間に設けられて上記第２の処理室と同様の気密性能を有する中間スペースと、
上記中間スペースを通過して上記第１の処理室と上記第２の処理室にそれぞれ到達可能で、処理の段階に応じて上記第１の処理室または上記第２の処理室に存在させる上記ワークを測温することができる測温線と、
上記第１の処理室と上記中間スペースを気密状に隔てることができる第１の気密扉と、
上記中間スペースと上記第２の処理室を気密状に隔てることができる第２の気密扉とを備えた
ことを特徴とする真空炉。
上記第１の処理室は冷却液槽を備えており、
上記測温線が上記冷却液槽に到達可能で、上記冷却液槽に存在させる上記ワークを測温しうるように構成されている
請求項１記載の真空炉。
処理の段階に応じて上記第１の処理室と上記第２の処理室の間を移動する上記ワークに対し、上記測温線を追従させるための追従手段をさらに備えた
請求項１または２記載の真空炉。
処理の段階に応じて上記ワークを存在させる処理室の気密を維持しながら、途切れることなく上記ワークを測温しうるように構成されている
請求項３記載の真空炉。