JP2021067860A - 位置合わせ装置 - Google Patents
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
Description
2………フォトマスク
3………基板
4………撮影対象
5………基板移動機構
6………制御部
8………特性データ
9………測定オブジェクト
11………撮影部
12………液晶レンズ
13………対物レンズ
14………光源
15………ハーフミラー
16………チューブレンズ
21………支持部材
31………支持部材
41………第1アライメントマーク
42………第2アライメントマーク
51………基部
52………回転部
53………当接部材
61………記憶部
62………画像処理部
63………駆動電圧制御部
64………基板移動検出部
71………操作部
72………液晶レンズ駆動部
73………表示部
M1、M2、M3………モータ
SW1、SW2、SW3………スイッチ
Claims (5)
- フォトマスク及び基板の各々に形成されているアライメントマーク同士の位置合わせを行う位置合わせ装置であって、
撮影部と、
前記フォトマスク及び前記基板からなる前記撮影部の撮影対象と前記撮影部との間に配置される液晶レンズと、
前記液晶レンズに駆動電圧を印加する液晶レンズ駆動部と、
前記液晶レンズ駆動部に前記駆動電圧を変更させることによって前記撮影部の焦点距離を変更し、前記撮影部に各々の前記焦点距離における前記アライメントマークを含む画像を撮影させる制御部と、
を備えることを特徴とする位置合わせ装置。 - 前記制御部は、前記撮影部によって撮影される各々の前記焦点距離における画像の中から、前記フォトマスクに最も合焦しているフォトマスク合焦画像と、前記基板に最も合焦している基板合焦画像とを決定し、前記フォトマスク合焦画像及び前記基板合焦画像に基づく画像を生成する
ことを特徴とする請求項1に記載の位置合わせ装置。 - 前記制御部は、前記撮影部によって撮影される各々の前記焦点距離における画像に対して第1方向に微分を実行し、更に前記第1方向に直交する第2方向に射影加算を実行することによって、その算出結果の波形を生成し、前記波形のピークに基づいて前記フォトマスク合焦画像及び前記基板合焦画像を決定する
ことを特徴とする請求項2に記載の位置合わせ装置。 - 前記制御部は、前記駆動電圧と前記焦点距離との対応関係を示す特性データを予め記憶しておき、前記撮影部が前記フォトマスクの前記アライメントマークに合焦している状態の前記駆動電圧と、前記撮影部が前記基板の前記アライメントマークに合焦している状態の前記駆動電圧との差分量を算出し、前記特性データに基づいて前記駆動電圧の差分量に対応する前記焦点距離の差分量を算出することによって、前記フォトマスクと前記基板との間隔を測定する
ことを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれかに記載の位置合わせ装置。 - 前記液晶レンズと前記撮影対象との間に配置される対物レンズと、
光を照射する光源と、
前記液晶レンズと前記対物レンズとの間に配置され、前記光源から照射される光を前記対物レンズの方向に反射するとともに、前記対物レンズの方向からの光を前記液晶レンズの方向に透過するハーフミラーと、
前記液晶レンズと前記ハーフミラーとの間に配置され、光が前記液晶レンズに入射されるように補正するためのチューブレンズと、
を更に備えることを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれかに記載の位置合わせ装置。
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Cited By (1)
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WO2024074286A1 (en) * | 2022-10-03 | 2024-04-11 | Asml Netherlands B.V. | Tunable optical system |
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