JP2021048284A - エッチング装置 - Google Patents

Abstract

【課題】 インプリントモールド用基板をエッチングして台座構造を形成する際に、突出部が生じることを抑制することができるエッチング装置を提供する。【解決手段】 本発明によるエッチング装置は、インプリントモールド用基板の対向する２つの側面の側からインプリントモールド用基板を保持する保持部を備え、インプリントモールド用基板をエッチング液に浸漬させた状態で、保持部がインプリントモールド用基板と接触する位置を変えつつ、保持部が保持する側のインプリントモールド用基板の側面が延びる方向に沿って、インプリントモールド用基板を移動させる機構を備える。【選択図】 図１

Description

本発明は、エッチング装置に関し、より詳しくは、インプリントモールド用ブランクスの台座構造の形成に用いるエッチング装置に関する。

半導体リソグラフィにおいては、デバイスの微細化の要求に対して、露光波長の問題や製造コストの問題などからフォトリソグラフィ方式の限界が指摘されており、その対案として、ナノインプリントリソグラフィ（ＮＩＬ：Ｎａｎｏｉｍｐｒｉｎｔ Ｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ）が注目を集めている。

ナノインプリントリソグラフィは、表面に微細な凹凸形状の転写パターンを形成したインプリントモールド（他に、テンプレート、スタンパ、金型とも呼ばれる）を、半導体ウェハなどの被転写体の上に形成された樹脂に接触させ、樹脂の表面側の形状を、インプリントモールドの転写パターンの凹凸形状に成型した後にインプリントモールドを離型し、次いで、ドライエッチング等により余分な樹脂部分（残膜部分）を除去することで、前記被転写体の上の樹脂にインプリントモールドの転写パターンの凹凸形状（より詳しくは、凹凸反転形状）を、転写させる技術である（例えば、特許文献１）。
このナノインプリントリソグラフィは、一度インプリントモールドを作製すれば、微細な凹凸形状を繰り返して転写成型でき、この転写工程には高額な露光装置（ステッパー）を用いないため、経済的にも有利である。

図６は、インプリントモールドの一例を示す図であり、（ａ）は概略平面図、（ｂ）は（ａ）のＡ−Ａ線における概略断面図である。
図６に示すインプリントモールド１００のように、微細な凹凸形状の転写パターン１１５が形成されている転写領域１１４は、通常、台座構造１１２の上面に設けられる。インプリント（すなわち、パターン転写）に際し、転写領域１１４以外の領域が被転写体や樹脂と接触することを避けるためである。

また、図６に示すインプリントモールド１００のように、基部１１１の台座構造１１２が形成されている側の面とは反対側のインプリント装置に接する面１１７には、通常、凹部１１３が形成されている（例えば、特許文献２）。凹部１１３は、平面視において、台座構造１１２と重なり、かつ、台座構造１１２よりも広い面積を有している。

凹部１１３を形成する理由は、凹部１１３を形成することによって、転写パターン１１５が形成されている転写領域１１４の厚さを薄くして湾曲を容易とし、インプリントモールド１００の転写パターン１１５を被転写体の樹脂に接触させる際には、凹部１１３内の気圧を高くしてインプリントモールド１００を湾曲させることにより、転写パターン１１５と樹脂との間の気泡残留を抑制することができるからである。また、離型に際しては、インプリントモールド１００の転写領域１１４を被転写体側に向かって凸状に湾曲させて、転写領域１１４の外縁部から、順次、部分的に離型していくことができるからである。

また、インプリントモールドのパターン寸法や歪みの補正は、インプリント装置（すなわち、パターン転写装置）において、インプリントモールドの側面を加圧することによって行われる（例えば、特許文献３）。
図７は、インプリントモールドのパターン歪みの補正の一例を示す図である。ここで、図７（ａ）に示すインプリントモールド１００Ａは補正前の状態であり、図７（ｂ）に示すインプリントモールド１００Ｂは補正後の状態である。

例えば、図７（ａ）に示すように、インプリントモールド１００Ａの転写パターン１１５Ａが、樽型の歪みを持った状態である場合、この歪みを是正するように、インプリントモールド１００Ａの対向する側面１１６Ｒ、１１６Ｌを加圧部２０１によって加圧する。これにより、図７（ｂ）に示すように、加圧後のインプリントモールド１００Ｂの外形は糸巻き型に変形し、転写パターン１１５Ｂのように、歪みの無い状態に補正することができる。
加圧部２０１は、例えば１ｎｍ以下の精密さで駆動制御され、各加圧部２０１は、インプリントモールド１００Ａの側面に対し、例えば１×１０³Ｎ程度の力を加えることが可能である。

なお、インプリントモールドは、通常、インプリントモールド用ブランクスから製造される。図８は、インプリントモールド用ブランクスの一例を示す図であり、（ａ）は概略平面図、（ｂ）は（ａ）のＢ−Ｂ線における概略断面図である。
ここで、図８に示すインプリントモールド用ブランクス１０１においては、台座構造１１２や凹部１１３は形成されているが、この台座構造１１２の上面（転写領域１１４）には転写パターンが形成されておらず、平坦な状態である。図８に示すインプリントモールド用ブランクス１０１の台座構造１１２の上面（転写領域１１４）に転写パターンが形成されることで、図６に示すインプリントモールド１００が製造される。

特表２００４−５０４７１８号公報 特表２００９−５３６５９１号公報 特開２０１６−３１９５２号公報

ここで、台座構造１１２を形成する際には、インプリントモールド用基板の外縁部を保持具により保持した状態でエッチング液に浸漬させて、ウェットエッチングを行う方法が用いられる。

しかしながら、このような方法では、保持具で保持された部分、より詳しくは、保持のために保持具と接触する部分はエッチングされず、エッチング後のインプリントモールド用基板には、エッチング痕として突出部が生じてしまうことになる。

そして、このような突出部が生じてしまうと、まず第１の問題として、インプリントモールドをインプリント装置で転写する際に必要となる平坦性が得られないという問題がある。

また、第２の問題として、インプリントモールドのパターン寸法や歪みの補正に際し、加圧により突出部から異物が生じてしまうという問題がある。
そして、生じた異物がインプリントモールドの転写領域に付着してしまうと、以降、インプリントする被転写体の全てに欠陥を生じてしまうおそれがある。また、生じた異物がインプリントモールドの側面に付着等すると、加圧時にインプリントモールドが破壊されてしまうおそれもある。

本発明の目的は、インプリントモールド用基板をエッチングして台座構造を形成する際に、突出部が生じることを抑制することができるエッチング装置を提供することにある。

第１の発明は、表面、裏面、および４つの側面を有するインプリントモールド用基板をエッチングして台座構造を形成するエッチング装置であって、前記インプリントモールド用基板の対向する２つの前記側面の側から前記インプリントモールド用基板を保持する保持部を備え、前記インプリントモールド用基板をエッチング液に浸漬させた状態で、前記保持部が前記インプリントモールド用基板と接触する位置を変えつつ、前記保持部が保持する側の前記インプリントモールド用基板の前記側面が延びる方向に沿って、前記インプリントモールド用基板または前記保持部を移動させる機構を備える、エッチング装置である。

第２の発明は、第１の発明に係るエッチング装置であって、前記保持部が、前記インプリントモールド用基板と接触する保持回転部を有し、前記保持回転部の回転により、前記保持部が前記インプリントモールド用基板と接触する位置を変える、エッチング装置である。

第３の発明は、第２の発明に係るエッチング装置であって、前記保持回転部が、動力の供給を受けて回転する、エッチング装置である。

第４の発明は、第１または第２の発明に係るエッチング装置であって、前記インプリントモールド用基板の前記保持部が保持する側の前記側面とは別の側面の側から、前記インプリントモールド用基板に接触する揺動部を備え、前記揺動部が接触する側の前記インプリントモールド用基板の前記側面が延びる方向に沿って、前記揺動部が前記インプリントモールド用基板と接触する位置を変えつつ、前記保持部が保持する側の前記インプリントモールド用基板の前記側面が延びる方向に沿って、前記インプリントモールド用基板を移動させる、エッチング装置である。

第５の発明は、第４の発明に係るエッチング装置であって、前記揺動部が、前記保持部が保持する側の前記インプリントモールド用基板の前記側面が延びる方向、および、前記揺動部が接触する側の前記インプリントモールド用基板の前記側面が延びる方向、の両方向に沿って移動する機構を備える、エッチング装置である。

第６の発明は、第５の発明に係るエッチング装置であって、前記揺動部が、前記インプリントモールド用基板と接触する円形回転部を有し、前記円形回転部の回転により、前記揺動部が前記インプリントモールド用基板と接触する位置を変える、エッチング装置である。

第７の発明は、第４の発明に係るエッチング装置であって、前記揺動部が、前記揺動部が接触する側の前記インプリントモールド用基板の前記側面が延びる方向に沿って移動する機構を備え、前記揺動部が、回転中心から回転外縁までの距離が該回転外縁の一の位置と他の位置で異なる形態を有する変形回転部を有し、前記変形回転部が、前記インプリントモールド用基板と接触し、前記揺動部が備える機構による移動に伴って、前記変形回転部が回転して、前記インプリントモールド用基板と接触する位置を変えつつ、前記保持部が保持する側の前記インプリントモールド用基板の前記側面が延びる方向に沿って、前記インプリントモールド用基板を移動させる、エッチング装置である。

第８の発明は、第７の発明に係るエッチング装置であって、前記変形回転部が、前記回転中心の延びる方向に対して垂直となる面に、楕円状、および、多角形状の形態を有する、エッチング装置である。

第９の発明は、第７の発明に係るエッチング装置であって、前記変形回転部が、前記回転中心の延びる方向から見た場合に、重心の位置とは異なる位置に、前記回転中心が設けられている、エッチング装置である。

第１０の発明は、第４から第９までのいずれかの発明に係るエッチング装置であって、前記インプリントモールド用基板が、前記揺動部が接触する側の前記側面が延びる方向に沿って、前記表面と前記裏面の外縁部に、前記インプリントモールド用基板の厚みが減少する向きの傾斜面を有し、前記揺動部が、前記傾斜面で前記インプリントモールド用基板と接触する、エッチング装置である。

第１１の発明は、第１から第１０までのいずれかの発明に係るエッチング装置であって、前記インプリントモールド用基板が、前記保持部が保持する側の前記側面が延びる方向に沿って、前記表面と前記裏面の外縁部に、前記インプリントモールド用基板の厚みが減少する向きの傾斜面を有し、前記保持部が、前記傾斜面で前記インプリントモールド用基板と接触する、エッチング装置である。

本発明に係るエッチング装置においては、インプリントモールド用基板をエッチングして台座構造を形成する際に、突出部が生じることを抑制することができる。

本発明に係るエッチング装置の第１の実施形態の一例を示す図 図１に示すエッチング装置の保持部の一例を示す図 本発明に係るエッチング装置の第２の実施形態の一例を示す図 本発明に係るエッチング装置の第３の実施形態の一例を示す図 図４に示すエッチング装置の変形回転部の一例を示す図 インプリントモールドの一例を示す図。 インプリントモールドのパターン歪みの補正の一例を示す図 インプリントモールド用ブランクスの一例を示す図。 インプリントモールド用ブランクスの製造方法の一例を示す図 従来のインプリントモールド用ブランクスの製造方法における課題を示す図

以下、図面を参照して本発明の実施の形態について説明する。なお、図面においては、図示と理解のしやすさの便宜上、適宜縮尺および縦横の寸法比等を、実物のそれらから変更し誇張してある。

また、本明細書において用いる、形状や幾何学的条件および物理的特性並びにそれらの程度を特定する、例えば、「平坦」、「同一」等の用語や長さや角度並びに物理的特性の値等については、厳密な意味に縛られることなく、同様の機能を期待し得る程度の範囲を含めて解釈することとする。さらに、図面においては、明瞭にするために、同様の機能を期待し得る複数の部分の形状を、規則的に記載しているが、厳密な意味に縛られることなく、当該機能を期待することができる範囲内で、当該部分の形状は互いに異なっていてもよい。また、図面においては、部材同士の接合面などを示す境界線を、便宜上、単なる直線で示しているが、厳密な直線であることに縛られることはなく、所望の接合性能を期待することができる範囲内で、当該境界線の形状は任意である。

（インプリントモールド用ブランクスの製造方法）
まず、インプリントモールド用ブランクスの製造方法における、上述した課題について、図９、図１０を用いてより詳しく説明する。

図９は、図８に示すインプリントモールド用ブランクス１０１を製造する製造方法の一例を示す図である。
図９に示すインプリントモールド用ブランクス１０１を製造方法においては、まず、表面、裏面、および４つの側面を有する平板状のインプリントモールド用基板１１１Ａを準備する（図９（ａ））。通常、インプリントモールド用基板１１１Ａは、酸化シリコン（ＳｉＯ₂）を含む材料から構成され、光透過性を有している。インプリントモールド用基板１１１Ａは、典型的には、合成石英基板である。

次に、インプリントモールド用基板１１１Ａの表面の転写領域１１４（台座構造１１２の上面）となる領域１１４Ａに、エッチングマスク１２１を形成する（図９（ｂ））。

次に、エッチングマスク１２１を形成したインプリントモールド用基板１１１Ａをウェットエッチングして、台座構造１１２を形成する（図９（ｃ））。台座構造１１２の高さ（すなわちエッチング量）は、通常１０μｍ〜５０μｍ程度である。
この工程で、インプリントモールド用基板１１１Ａは、エッチングマスク１２１から露出する部分がエッチングされて、当初より肉厚が薄い状態（中間体１１１Ｂ）になる。

次に、エッチングマスク１２１を除去し、機械的研削等の方法を用いて、中間体１１１Ｂの裏面（台座構造１１２を形成した側とは反対側の面）に凹部１１３を形成してインプリントモールド用ブランクス１０１を得る（図９（ｄ））。

ここで、図９（ｃ）に示す台座構造１１２を形成する工程では、従来においては、例えば、図１０（ａ）に示すように、インプリントモールド用基板１１１Ａの外縁部を保持具１４１により保持した状態でエッチング液に浸漬させて、ウェットエッチングを行う方法が用いられていた。

しかしながら、このような方法では、保持具１４１に保持された部分、より詳しくは、インプリントモールド用基板１１１Ａを保持するために、保持具１４１と接触するインプリントモールド用基板１１１Ａの部分はエッチングされず、エッチング後の中間体１１１Ｂには、エッチング痕として、保持具１４１に応じた突出部１４２が形成されてしまうことになる。

例えば、図１０（ｂ）に示すように、エッチング後の中間体１１１Ｂには、エッチング痕として、中間体１１１Ｂの外縁部の表面、裏面、および側面に突出部１４２が形成される。ここで、図９（ｃ）に示す台座構造１１２を形成する工程におけるウェットエッチングは、通常、等方性のエッチングになるため、突出部１４２の最大突出量（最大段差）は、エッチング量（Ｅ１）に等しい大きさになり得る。

そして、このような突出部１４２が生じてしまうと、まず第１の問題として、インプリントモールドをインプリント装置で転写する際に必要となる平坦性が得られないといった問題がある。
すなわち、台座構造１１２は、図６に示すインプリントモールド１００の転写領域１１４以外の領域が被転写体や樹脂と接触することを避けるために形成されるものであるのに対し、この台座構造１１２に匹敵する高さを有する突出部１４２が、インプリントモールド１００の表面に生じてしまうことになる。

また、第２の問題として、図７に示すインプリントモールドのパターン寸法や歪みの補正に際し、加圧部２０１による加圧で、突出部１４２が破損し、異物が生じてしまうという問題がある。
そして、生じた異物がインプリントモールドの転写領域に付着してしまうと、以降、このインプリントモールドを用いてインプリントする被転写体の全てに欠陥を生じてしまうおそれがある。

また、生じた異物が加圧部２０１とインプリントモールドの側面の間に挟まれて加圧時の力が集中してしまうと、加圧時にインプリントモールドが破壊されてしまうおそれもある。
さらに、加圧部２０１が突出部１４２の角部に接触することで加圧時の力が集中し、加圧時にインプリントモールドが破壊されてしまうおそれもある。

このような問題に対し、本発明に係るエッチング装置によれば、インプリントモールド用基板をエッチングして台座構造を形成する際に、突出部が生じることを抑制することができる。

（エッチング装置）
＜第１の実施形態＞
次に、図１、図２を用いて、本発明に係るエッチング装置の第１の実施形態にについて説明する。ここで、図１は、本発明に係るエッチング装置の第１の実施形態の一例を示す図であり、図２は、図１に示すエッチング装置の保持部の一例を示す図である。

まず、図１に示すように、本実施形態に係るエッチング装置１０は、エッチング槽１１の中に、インプリントモールド用基板１を保持する保持部１２を備えている。
エッチング槽１１には、インプリントモールド用基板１をウェットエッチングして、台座構造１１２を形成するためのエッチング液が入る。

インプリントモールド用基板１は、表面、裏面、および４つの側面を有し、表面の台座構造が形成される領域にエッチングマスク１２１が形成されている。
インプリントモールド用基板１の形状は、平面視において矩形状である。この場合、インプリントモールド用基板１の縦および横の長さは、用途等に応じて異なるものであるが、例えば１４２ｍｍ〜１６２ｍｍ程度である。また、インプリントモールド用基板１の厚さは、材料や用途等に応じて異なるものであるが、例えば０．５ｍｍ〜１０ｍｍ程度である。
また、詳細については、図２を用いた説明にて行うが、通常、インプリントモールド用基板１の４つの側面に沿った外縁部には、インプリントモールド用基板１の厚みが減少する向きの傾斜面を有している。

エッチングマスク１２１は、インプリントモールド用基板１の表面側の略中央部に形成されており、その平面形態は、台座構造の上面の形状に合わせて、矩形状の形態を有している。
その縦および横の長さは、用途等に応じて異なるものであるが、例えば２０ｍｍ〜４０ｍｍ程度である。縦の長さ（図中のＬ１）と横の長さ（図中のＬ２）は、異なっていてもよい。

ウェットエッチングに用いられるエッチング液には、例えば、フッ化水素酸水溶液を用いることができる。

保持部１２は、インプリントモールド用基板１の対向する２つの側面（図１において、Ｚ方向に延びる２つの側面）の側から、インプリントモールド用基板１を保持している。
より詳しくは、保持部１２は、インプリントモールド用基板１と接触する保持回転部１３を有しており、保持回転部１３がインプリントモールド用基板１の対向する２つの側面の側から、インプリントモールド用基板１に押し当てられて、インプリントモールド用基板１を保持している。

ここで、保持回転部１３は、保持部１２が保持する側のインプリントモールド用基板１の側面が延びる方向に沿って、回転するように構成されている。特に、図１に示すエッチング装置１０において、保持回転部１３は動力の供給を受けて能動的に回転する機構を有している。そして、この動力の供給を受けて行う回転は、一の方向のみならず、一の方向の逆方向にも回転できる（すなわち、正転と逆転とが可能）。

それゆえ、図１に示すエッチング装置１０においては、インプリントモールド用基板１をエッチング液に浸漬させた状態で、保持部１２が保持する側のインプリントモールド用基板１の側面が延びる方向に沿って、保持部１２の保持回転部１３がインプリントモールド用基板１と接触する位置を変えつつ、保持部１２が保持する側のインプリントモールド用基板１の側面が延びる方向に沿って、インプリントモールド用基板１を往復移動させることができる。

上記のように、エッチング装置１０においては、インプリントモールド用基板１をエッチング液に浸漬させた状態で、保持部１２が保持する側のインプリントモールド用基板１の側面が延びる方向に沿って、保持部１２の保持回転部１３がインプリントモールド用基板１と接触する位置を変えつつ、インプリントモールド用基板１を保持できる。
それゆえ、従来のように、インプリントモールド用基板１と接触する位置が固定の保持具（例えば、図１０（ａ）に示す保持具１４１）を用いる装置や方法とは異なり、エッチング装置１０においては、保持部１２の保持回転部１３がインプリントモールド用基板１と接触する位置を変えるため、位置が変わる前まで保持部１２の保持回転部１３と接触していたインプリントモールド用基板１の部分も、位置が変わった後にはエッチングされることになる。
その結果、図１０（ｂ）に示すようなエッチング痕としての突出部１４２が生じることを抑制することができる。

また、上記のように、エッチング装置１０においては、エッチング液に浸漬させた状態で、保持部１２が保持する側のインプリントモールド用基板１の側面が延びる方向に沿って、インプリントモールド用基板１を往復移動させることができる。すなわち、エッチング液に浸漬させた状態で、図１に示すＺ方向に沿って、インプリントモールド用基板１を上下に揺動させることができる。

それゆえ、インプリントモールド用基板１の表面、裏面、および各側面に対して、エッチング槽１１内の未反応のエッチング液が次々と供給されて、エッチングが促進されることになる。また、インプリントモールド用基板１を、例えば重力方向に対して上下方向に揺動させることにより、エッチング槽１１内のエッチング液が攪拌されるため、より均一なエッチングが進行することになる。
すなわち、本実施形態のエッチング装置１０によれば、インプリントモールド用基板１を固定した状態でエッチングする場合に比べて、より均一なエッチングをインプリントモールド用基板１に施すことができる。

ここで、本実施形態のエッチング装置１０において、保持部１２が有する保持回転部１３の大きさや数は、インプリントモールド用基板１の対向する２つの側面の側から、インプリントモールド用基板１を保持できるものであればよく、特には限定されない。インプリントモールド用基板１を安定して保持するためには、保持回転部１３の数は片側に２個以上あることが好ましい。

なお、図１に示すエッチング装置１０においては、片側４個の保持回転部１３の全てが、動力の供給を受けて能動的に回転する形態を例示しているが、本実施形態はこれに限定されない。
例えば、片側４個の保持回転部１３のうち、少なくとも１個が動力の供給を受けて能動的に回転する機構を有し、他の保持回転部１３は、このような機構を有しておらず、受動的に回転するものであってもよい。

保持回転部１３の数が片側に複数ある場合、その配置は、保持部１２が保持する側のインプリントモールド用基板１の側面が延びる方向に沿って、インプリントモールド用基板１の側面の長さを越えるものであってもよい。
この場合、インプリントモールド用基板１において保持回転部１３と接触する部分の範囲を、インプリントモールド用基板１の側面の端から端までの全域にすることができ、インプリントモールド用基板１の側面全域で均一にエッチングできるからである。

なお、インプリントモールド用基板１において保持回転部１３と接触する部分の範囲は、エッチングマスク１２１が存在する領域の側面を包含する範囲であることが好ましい。若しくは、エッチングマスク１２１が存在する領域の側面に、保持回転部１３が接触する部分と保持回転部１３が接触しない部分との境が存在しないようにすることが好ましい。
図６に示すインプリントモールド１００の台座構造１１２が存在する領域の側面に、エッチング痕としての突出部が生じることを回避するためである。
例えば、図１に示すエッチング装置１０において、片側４個の保持回転部１３が接触する部分の範囲は、エッチングマスク１２１が存在する領域の側面を包含する範囲である。

なお、保持回転部１３の数が片側に複数ある場合、各保持回転部１３の大きさ（より詳しくは、各保持回転部１３の円周の大きさ）は同一であって、各保持回転部１３の間隔（より詳しくは、各保持回転部１３の回転中心の間隔）も同一である方が、均一なエッチングを行うことにおいて好ましい。インプリントモールド用基板１の往復移動で、各保持回転部１３がインプリントモールド用基板１に接触する部分の長さを均一にできるからである。
例えば、図１に示すエッチング装置１０においては、大きさが同一の保持回転部１３が片側に４個あり、各保持回転部１３の間隔は同一の大きさＤ１である。

この場合、例えば、インプリントモールド用基板１の往復移動の大きさをＤ１にすることで、４個の保持回転部１３がインプリントモールド用基板１に接触する部分の長さ（４Ｄ１）において、各保持回転部１３がインプリントモールド用基板１に接触する部分の長さを同一の大きさ（Ｄ１）にすることができる。それゆえ、この４Ｄ１の長さの部分においては、理論上、同一条件のエッチングが進行することになり、不均一なエッチング痕としての突出部が生じることは無くなるからである。

上述のように、エッチング装置１０において、保持回転部１３は、インプリントモールド用基板１と接触する位置を変えながら、インプリントモールド用基板１を保持する。
それゆえ、保持回転部１３は、インプリントモールド用基板１の側面や、表面および裏面に接触するものであってもよいが、インプリントモールド用基板１の側面や、表面および裏面に接触しないものである方が、インプリントモールド用基板１の側面や、表面および裏面に、エッチング痕としての突出部が生じなくなる点で、より好ましい。

ここで、通常、インプリントモールド用基板１は、所定の形状に切断された際に生じる余分な突起（いわゆるバリ）等を除去するために、外縁部に研磨が施されている。すなわち、インプリントモールド用基板１は、各側面が延びる方向に沿って、表面と裏面の外縁部にインプリントモールド用基板１の厚みが減少する向きの傾斜面が形成されている。この傾斜面は、丸みを帯びた面になっていることもあるし、平坦面であることもある。また、この傾斜面が平坦面である場合、傾斜面とインプリントモールド用基板１の表面、側面とは丸みを帯びた面を介して接続される場合もあるし、表面と鈍角を持って接する場合もある。この傾斜面は、外縁部の外端から内側に向かって、一般に１ｍｍ程度の幅の領域に形成されている。
それゆえ、エッチング装置１０においては、保持部１２の保持回転部１３が、この傾斜面でインプリントモールド用基板１と接触することが好ましい。インプリントモールド用基板１の側面や、表面および裏面に接触しないものとすることができるからである。

例えば、図２（ａ）に示すように、インプリントモールド用基板１は、表面１ａの外縁部（図中のＰ１からＰ２の領域）にインプリントモールド用基板１の厚みが減少する向きの傾斜面１ｑを有し、同様に、裏面１ｂの外縁部（図中のＰ３からＰ４の領域）にインプリントモールド用基板１の厚みが減少する向きの傾斜面１ｒを有している。そして、インプリントモールド用基板１の厚みは、外縁部でＴ１からＴ２に減少している。
なお、図２（ａ）に示すインプリントモールド用基板１の形態は、図１に示す状態のインプリントモールド用基板１を上側（図１のＺ方向側）から見た場合の形態に相当する。

それゆえ、例えば図２（ｂ）に示すように、保持回転部１３の形態を、面１３ａと面１３ｂで構成される溝を有する滑車状の形態とすることで、保持回転部１３の面１３ａと面１３ｂが、それぞれ、インプリントモールド用基板１の傾斜面１ｑと傾斜面１ｒと接触するようにできる。
換言すれば、保持回転部１３は、インプリントモールド用基板１の側面１ｃや、表面１ａおよび裏面１ｂに接触しないものとすることができる。
なお、図２（ｂ）に示す保持回転部１３の形態は、図１に示す状態の保持回転部１３を上側（図１のＺ方向側）から見た場合の形態に相当する。

ここで、保持回転部１３の面１３ａと面１３ｂのなす角度θ１は、面１３ａ、面１３ｂの大きさにもよるが、例えば、３０°以上１５０°以下とすることができる。
通常、角度θ１が大きいほど、面１３ａ、１３ｂが接触する部分は、傾斜面１ｑ、１ｒにおいて、より側面１ｃに近い位置になり、角度θ１が小さいほど、面１３ａ、１３ｂが接触する部分は、傾斜面１ｑ、１ｒにおいて、より側面１ｃから遠い位置になる。

なお、保持回転部１３は、回転軸１３ｃの周りに回転できるものであり、この回転は、一の方向のみならず、一の方向の逆方向にも回転できるものである（すなわち、正転と逆転とが可能）。

エッチング装置１０において、エッチング槽１１や保持部１２、保持回転部１３を構成する材料は、エッチング液に耐性を有する材料であれば、特に限定されない。保持回転部１３を構成する材料、特に面１３ａ、面１３ｂを構成する材料は、インプリントモールド用基板１に傷を付けない点で、樹脂製であることが好ましい。

例えば、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、パーフルオロアルコキシアルカン（ＰＦＡ）、パーフルオロエチレンプロペンコポリマー（ＦＥＰ）、エチレン・テトラフルオロエチレンコポリマー（ＥＴＦＥ）等のフッ素樹脂によって、保持回転部１３を形成することができる。

なお、図１に示すエッチング装置１０においては、重力方向に対して、インプリントモールド用基板１が上下に往復移動する、縦型の装置形態を例示したが、本実施形態はこれに限定されない。例えば、本実施形態のエッチング装置は、インプリントモールド用基板１が水平に往復移動する、横型の装置形態であってもよい。また、上下左右方向の搖動を組み合わせた、例えば、斜め方向の搖動、ボックス型（例：上昇→右→下降→左）に移動する搖動、円を描く搖動、さらには方向、距離が段階ごとに変動する搖動であっても良い。

より詳しくは、図１に示すエッチング装置１０においては、保持部１２、保持回転部１３によりインプリントモールド用基板１が重力方向に対して水平な面に沿った方向に移動する構成を例示したが、保持部１２、保持回転部１３が重力方向に対して垂直な面に沿った方向に移動してインプリントモールド用基板１を移動させても良い。また、保持回転部１３が重力方向に対して水平な面に沿った方向、保持部１２が重力方向に対して垂直な面に沿った方向、若しくは、保持回転部１３が重力方向に対して垂直な面に沿った方向、保持部１２、が重力方向に対して水平な面に沿った方向に移動してインプリントモールド用基板１を移動させても良い。さらには、その他の方向に移動してインプリントモールド用基板１を移動させても良いし、インプリントモールド用基板１の表面に垂直な方向にインプリントモールド用基板１全体を移動させても良いし、インプリントモールド用基板１の上辺、下辺、または左辺、右辺を表面に垂直な方向に交互に前後させるあおる動作をさせても良い。

エッチング中のインプリントモールド用基板１の移動形態は往復移動に限定されず、エッチングの均一性、エッチング後のインプリントモールド用基板１の表面、裏面、側面形状（突出部形成抑制を含む）、寸法精度等をはじめとするエッチング工程の品質、エッチング速度、その他の特性を改善させられる移動形態であれば良いし、その他の目的でインプリントモールド用基板１を移動させられる形態であっても良い。

さらに、インプリントモールド用基板１は実質的に移動せず、保持部１２がインプリントモールド用基板１に対して相対的に移動する形態であってもよい。
例えば、保持部１２が、インプリントモールド用基板１に対して、保持部１２が保持する側のインプリントモールド用基板１の側面が延びる方向（図１におけるＺ方向）に沿って移動する形態であってもよい。この場合、保持回転部１３が能動的に回転することで保持部１２が移動するものであってもよく、また、保持回転部１３は能動的に回転する機構を有しておらず、別の動力機構によって保持部１２が移動し、この移動に伴って保持回転部１３が受動的に回転するものであってもよい。
なお、この場合は、インプリントモールド用基板１ではなく、保持部１２の移動により、エッチング液が攪拌される

＜第２の実施形態＞
次に、図３を用いて、本発明に係るエッチング装置の第２の実施形態について説明する。なお、上述した第１の実施形態と重複する内容については、適宜説明を省略する。

図３に示すように、本実施形態に係るエッチング装置２０は、エッチング槽２１の中に保持部２２、揺動部２４を備えている。

保持部２２は、インプリントモールド用基板１の対向する２つの側面（図３において、Ｚ方向の２つの側面）の側から、インプリントモールド用基板１を保持している。
より詳しくは、保持部２２は、保持回転部２３を有しており、保持回転部２３がインプリントモールド用基板１の対向する２つの側面の側から、インプリントモールド用基板１に押し当てられて、インプリントモールド用基板１を保持している。

保持回転部２３は、保持部２２が保持する側のインプリントモールド用基板１の側面が延びる方向に沿って、回転するように構成されている。この回転は、一の方向のみならず、一の方向の逆方向にも回転できる（すなわち、正転と逆転とが可能）。
ここで、上述した第１の実施形態のエッチング装置１０が有する保持回転部１３は、動力の供給を受けて能動的に回転する機構を有していたが、本実施形態のエッチング装置２０が有する保持回転部２３は、このような機構を有していなくてもよく、その場合は受動的に回転するものである。
なお、本実施形態のエッチング装置２０においては、揺動部２４が、インプリントモールド用基板１を往復移動させるが、必ずしも揺動部２４による往復移動は必要としない。

揺動部２４は、保持部２２が保持する側のインプリントモールド用基板１の側面（図３において、Ｚ方向に延びる２つの側面）とは別の側面（図３において、Ｘ方向に延びる下側の側面）の側から、インプリントモールド用基板１に接触している。
より詳しくは、揺動部２４は、円形回転部２５を有しており、保持部２２が保持する側のインプリントモールド用基板１の側面（図３において、Ｚ方向に延びる２つの側面）とは別の側面（図３において、Ｘ方向に延びる下側の側面）の側から、円形回転部２５がインプリントモールド用基板１に押し当てられて、インプリントモールド用基板１に接触している。

なお、図３に示すエッチング装置２０においては、重力方向に対して、インプリントモールド用基板１が上下に往復移動する。このような場合は、揺動部２４が接触する側のインプリントモールド用基板１の側面は、重力方向に対して下側の側面になる。

揺動部２４は、保持部２２が保持する側のインプリントモールド用基板１の側面が延びる方向（図３におけるＺ方向）および、揺動部２４が接触する側のインプリントモールド用基板１の側面が延びる方向（図３におけるＸ方向）の両方向に沿って、往復移動する機構を備えている。
そして、揺動部２４が、揺動部２４が接触する側のインプリントモールド用基板１の側面が延びる方向（図３におけるＸ方向）に沿って往復移動する際に、円形回転部２５が、揺動部２４が接触する側のインプリントモールド用基板１の側面が延びる方向（図３におけるＸ方向）に沿って回転する。
この円形回転部２５の回転により、インプリントモールド用基板１と接触する位置が変わることになる。

円形回転部２５の回転は、一の方向のみならず、一の方向の逆方向にも回転できる（すなわち、正転と逆転とが可能）。
円形回転部２５は、動力の供給を受けて能動的に回転する機構を有していてもよい。この場合、この円形回転部２５が動力の供給を受けて能動的に回転する機構が、揺動部２４が揺動部２４が接触する側のインプリントモールド用基板１の側面が延びる方向（図３におけるＸ方向）に沿って往復移動する機構になり得る。

このような機構を有するため、図３に示すエッチング装置２０においては、インプリントモールド用基板１をエッチング液に浸漬させた状態で、揺動部２４（より詳しくは、揺動部２４の円形回転部２５）がインプリントモールド用基板１と接触する位置を変えつつ、保持部２２が保持する側のインプリントモールド用基板１の側面が延びる方向に沿って、インプリントモールド用基板１を往復移動させることができる。

なお、エッチング装置２０においても、保持部２２が保持する側のインプリントモールド用基板１の側面が延びる方向に沿って、保持部２２（より詳しくは、保持部２２の保持回転部２３）がインプリントモールド用基板１と接触する位置を変えつつ、インプリントモールド用基板１を保持できる。

それゆえ、エッチング装置２０においては、保持部２２の保持回転部２３と接触するインプリントモールド用基板１の部分、および、揺動部２４の円形回転部２５と接触するインプリントモールド用基板１の部分、の両方ともエッチングされ、エッチング後には、図１０（ｂ）に示すようなエッチング痕としての突出部１４２が生じることを抑制することができる。

また、エッチング装置２０においても、エッチング液に浸漬させた状態で、インプリントモールド用基板１を往復移動させることができる。すなわち、エッチング液に浸漬させた状態で、図３に示すＺ方向に、インプリントモールド用基板１を揺動させることができる。

それゆえ、エッチング装置２０においても、インプリントモールド用基板１の表面、裏面、および各側面に対して、エッチング槽２１内の未反応のエッチング液が次々と供給されて、エッチングが促進されることになる。また、インプリントモールド用基板１を、例えば重力方向に対して上下方向に揺動させることにより、エッチング槽２１内のエッチング液が攪拌されるため、より均一なエッチングが進行することになる。
すなわち、本実施形態のエッチング装置２０においても、インプリントモールド用基板１を固定した状態でエッチングする場合に比べて、より均一なエッチングをインプリントモールド用基板１に施すことができる。

なお、エッチング装置２０において、保持部２２が有する保持回転部２３の大きさや数、配置は、エッチング装置１０の保持部１２が有する保持回転部１３と同様とすることができ、この場合、エッチング装置１０で得られる効果と同様の効果を得ることができる。

また、エッチング装置２０において、保持部２２が有する保持回転部２３の形態は、エッチング装置１０の保持部１２が有する保持回転部１３と同様とすることができ、この場合、エッチング装置１０で得られる効果と同様の効果を得ることができる。
例えば、保持回転部２３の形態は、図２（ｂ）に示す保持回転部１３の形態と同様とすることができる。

また、エッチング装置２０において、揺動部２４が有する円形回転部２５の大きさや数、配置も、エッチング装置１０の保持部１２が有する保持回転部１３と同様とすることができる。
この場合、保持回転部１３において得られる効果と同様の効果を、円形回転部２５において得ることができる。

また、エッチング装置２０において、揺動部２４が有する円形回転部２５の形態も、エッチング装置１０の保持部１２が有する保持回転部１３と同様とすることができる。
この場合、保持回転部１３において得られる効果と同様の効果を、円形回転部２５において得ることができる。
例えば、保持回転部２３の形態は、図２（ｂ）に示す保持回転部１３の形態と同様とすることができる。

エッチング装置２０においても、エッチング槽２１、保持部２２、保持回転部２３、揺動部２４、円形回転部２５を構成する材料は、エッチング液に耐性を有する材料であれば、特に限定されない。
保持回転部２３および円形回転部２５を構成する材料は、インプリントモールド用基板１に傷を付けない点で、樹脂製であることが好ましい。保持回転部２３および円形回転部２５を構成する材料は、エッチング装置１０の保持回転部１３と同様とすることができる。

＜第３の実施形態＞
次に、図４、図５を用いて、本発明に係るエッチング装置の第３の実施形態について説明する。ここで、図４は、本発明に係るエッチング装置の第３の実施形態の一例を示す図であり、図５は、図４に示すエッチング装置の変形回転部の一例を示す図である。
なお、上述した第１の実施形態や第２の実施形態と重複する内容については、適宜説明を省略する。

図４に示すように、本実施形態に係るエッチング装置３０は、エッチング槽３１の中に保持部３２、揺動部３４を備えている。

保持部３２は、インプリントモールド用基板１の対向する２つの側面（図４において、Ｚ方向の２つの側面）の側から、インプリントモールド用基板１を保持している。
より詳しくは、保持部３２は、保持回転部３３を有しており、保持回転部３３がインプリントモールド用基板１の対向する２つの側面の側から、インプリントモールド用基板１に押し当てられて、インプリントモールド用基板１を保持している。

エッチング装置３０が備える保持部３２および保持回転部３３は、上述した第２の実施形態のエッチング装置２０が備える保持部２２および保持回転部２３と同じであってよい。
なお、本実施形態のエッチング装置３０においても、揺動部３４が、インプリントモールド用基板１を移動させる。

揺動部３４は、保持部３２が保持する側のインプリントモールド用基板１の側面（図４において、Ｚ方向に延びる２つの側面）とは別の側面（図４において、Ｘ方向に延びる下側の側面）の側から、インプリントモールド用基板１に接触している。
より詳しくは、揺動部３４は、変形回転部３５を有しており、保持部３２が保持する側のインプリントモールド用基板１の側面（図４において、Ｚ方向に延びる２つの側面）とは別の側面（図４において、Ｘ方向に延びる下側の側面）の側から、変形回転部３５がインプリントモールド用基板１に押し当てられて、インプリントモールド用基板１に接触している。
ここで、変形回転部３５は、回転中心から回転外縁までの距離が該回転外縁の一の位置と他の位置で異なる形態を有するものである。図４に示すエッチング装置３０において、変形回転部３５は、回転中心の延びる方向に対して垂直となる面に、楕円状の形態を有している。

なお、図４に示すエッチング装置３０においては、重力方向に対して、インプリントモールド用基板１が上下に往復移動する。このような場合は、揺動部３４が接触する側のインプリントモールド用基板１の側面は、重力方向に対して下側の側面になる。

揺動部３４は、揺動部３４が接触する側のインプリントモールド用基板１の側面が延びる方向（図４におけるＸ方向）に沿って、往復移動する機構を備えている。
そして、揺動部３４が、揺動部３４が接触する側のインプリントモールド用基板１の側面が延びる方向（図３におけるＸ方向）に沿って往復移動し、この往復移動に伴って、変形回転部３５が、揺動部３４が接触する側のインプリントモールド用基板１の側面が延びる方向（図４におけるＸ方向）に沿って回転して、保持部３２が保持する側のインプリントモールド用基板１の側面が延びる方向（図４におけるＺ方向）に沿ってインプリントモールド用基板１を往復移動させる。

変形回転部３５の回転は、一の方向のみならず、一の方向の逆方向にも回転できる（すなわち、正転と逆転とが可能）。
変形回転部３５は、動力の供給を受けて能動的に回転する機構を有していてもよい。この場合、この変形回転部３５が動力の供給を受けて能動的に回転する機構が、揺動部３４が揺動部３４が接触する側のインプリントモールド用基板１の側面が延びる方向（図３におけるＸ方向）に沿って往復移動する機構になり得る。

このような機構を有するため、図４に示すエッチング装置３０においては、インプリントモールド用基板１をエッチング液に浸漬させた状態で、揺動部３４の変形回転部３５がインプリントモールド用基板１と接触する位置を変えつつ、保持部３２が保持する側のインプリントモールド用基板１の側面が延びる方向に沿って、インプリントモールド用基板１を往復移動させることができる。

なお、エッチング装置３０においても、保持部３２が保持する側のインプリントモールド用基板１の側面が延びる方向に沿って、保持部３２の保持回転部３３がインプリントモールド用基板１と接触する位置を変えつつ、インプリントモールド用基板１を保持できる。

それゆえ、エッチング装置３０においては、保持部３２の保持回転部３３と接触するインプリントモールド用基板１の部分、および、揺動部３４の変形回転部３５と接触するインプリントモールド用基板１の部分、の両方ともエッチングされ、エッチング後には、図１０（ｂ）に示すようなエッチング痕としての突出部１４２が生じることを抑制することができる。

また、エッチング装置３０においても、エッチング液に浸漬させた状態で、インプリントモールド用基板１を往復移動させることができる。すなわち、エッチング液に浸漬させた状態で、図４に示すＺ方向に、インプリントモールド用基板１を揺動させることができる。

それゆえ、エッチング装置３０においても、インプリントモールド用基板１の表面、裏面、および各側面に対して、エッチング槽３１内の未反応のエッチング液が次々と供給されて、エッチングが促進されることになる。また、インプリントモールド用基板１を、例えば重力方向に対して上下方向に揺動させることにより、エッチング槽３１内のエッチング液が攪拌されるため、より均一なエッチングが進行することになる。
すなわち、本実施形態のエッチング装置３０においても、インプリントモールド用基板１を固定した状態でエッチングする場合に比べて、より均一なエッチングをインプリントモールド用基板１に施すことができる。

エッチング装置３０において、揺動部３４が有する変形回転部３５の数や配置は、エッチング装置２０の揺動部２４が有する円形回転部２５と同様とすることができる。
この場合、円形回転部２５において得られる効果と同様の効果を、変形回転部３５において得ることができる。

また、エッチング装置３０において、揺動部３４が有する変形回転部３５の形態（図４に示す状態の変形回転部３５を上側（図４のＺ方向側）から見た形態）も、エッチング装置１０の保持部１２が有する保持回転部１３と同様とすることができる。
この場合、保持回転部１３において得られる効果と同様の効果を、変形回転部３５において得ることができる。
例えば、図４に示す状態の変形回転部３５を上側（図４のＸ方向側）から見た形態は、図２（ｂ）に示す保持回転部１３の形態と同様とすることができる。

すなわち、図２（ｂ）に示す保持回転部１３の形態のように、変形回転部３５の形態を、面１３ａと面１３ｂで構成される溝を有する滑車状の形態とすることで、変形回転部３５の面１３ａと面１３ｂが、それぞれ、インプリントモールド用基板１の傾斜面１ｑと傾斜面１ｒと接触するようにできる。
このような形態を有することで、変形回転部３５は、インプリントモールド用基板１の側面１ｃや、表面１ａおよび裏面１ｂに接触しないものとすることができる。

なお、図４に示すエッチング装置３０において、変形回転部３５は、回転中心の延びる方向に対して垂直となる面に、楕円状の形態を有しているが、本実施形態においては、これに限定されない。
変形回転部３５は、回転中心から回転外縁までの距離が該回転外縁の一の位置と他の位置で異なる形態を有するものであればよく、各種の形態とすることができる。

例えば、変形回転部３５は、楕円状の他に、図５（ａ）に示す変形回転部３５Ａのような三角形状の形態や、図５（ｂ）に示す変形回転部３５Ｂのような四角形状の形態のように、各種の多角形状の形態を、回転中心の延びる方向に対して垂直となる面に有するものとすることができる。
このような形態であっても、楕円状の形態と同様に、回転することで、保持部３２が保持する側のインプリントモールド用基板１の側面が延びる方向に沿って、インプリントモールド用基板１を移動させることができる。

また、変形回転部３５は、回転中心の延びる方向から見た場合に、重心の位置とは異なる位置に、回転中心が設けられている形態であってもよい。
例えば、図５（ｃ）に示す変形回転部３５Ｃのように、外形は円形であっても、その回転中心３７Ｃが重心３８Ｃの位置とは異なる位置に設けられている形態であっても良い。
また、図５（ｄ）に示す変形回転部３５Ｄのように、外形が多角形状（図５（ｄ）に示す変形回転部３５Ｄは三角形状）であって、その回転中心３７Ｄが重心３８Ｄの位置とは異なる位置に設けられている形態であっても良い。
このような形態であっても、楕円状の形態と同様に、回転することで、保持部３２が保持する側のインプリントモールド用基板１の側面が延びる方向に沿って、インプリントモールド用基板１を往復移動させることができる。

以上、本発明に係るエッチング装置について、それぞれの実施形態を説明したが、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一の構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなる場合であっても本発明の技術的範囲に包含される。

１ インプリントモールド用基板
１ａ 表面
１ｂ 裏面
１ｃ 側面
１ｑ、１ｒ 傾斜面
１０ エッチング装置
１１ エッチング槽
１２ 保持部
１３ 保持回転部
１３ａ、１３ｂ 面
１３ｃ 回転軸
２０ エッチング装置
２１ エッチング槽
２２ 保持部
２３ 保持回転部
２４ 揺動部
２５ 円形回転部
３０ エッチング装置
３１ エッチング槽
３２ 保持部
３３ 保持回転部
３４ 揺動部
３５、３５Ａ、３５Ｂ、３５Ｃ、３５Ｄ 変形回転部
３６Ａ、３６Ｂ、３６Ｃ、３６Ｄ 回転軸
３７Ａ、３７Ｂ、３７Ｃ、３７Ｄ 回転中心
３８Ａ、３８Ｂ、３８Ｃ、３８Ｄ 重心
１００、１００Ａ、１００Ｂ インプリントモールド
１０１ インプリントモールド用ブランクス
１１１ 基部
１１２ 台座構造
１１３ 凹部
１１４ 転写領域
１１５、１１５Ａ、１１５Ｂ 転写パターン
１１６Ｒ、１１６Ｌ 側面
１１１Ａ インプリントモールド用基板
１１１Ｂ 中間体
１１４Ａ 領域
１２１ エッチングマスク
１４１ 保持具
１４２ 突出部
２０１ 加圧部

Claims (11)

1. 表面、裏面、および４つの側面を有するインプリントモールド用基板をエッチングして台座構造を形成するエッチング装置であって、
   前記インプリントモールド用基板の対向する２つの前記側面の側から前記インプリントモールド用基板を保持する保持部を備え、
   前記インプリントモールド用基板をエッチング液に浸漬させた状態で、
   前記保持部が前記インプリントモールド用基板と接触する位置を変えつつ、
   前記保持部が保持する側の前記インプリントモールド用基板の前記側面が延びる方向に沿って、前記インプリントモールド用基板または前記保持部を移動させる機構を備える、エッチング装置。
2. 前記保持部が、前記インプリントモールド用基板と接触する保持回転部を有し、
   前記保持回転部の回転により、
   前記保持部が前記インプリントモールド用基板と接触する位置を変える、請求項１に記載のエッチング装置。
3. 前記保持回転部が、動力の供給を受けて能動的に回転する、請求項２に記載のエッチング装置。
4. 前記インプリントモールド用基板の前記保持部が保持する側の前記側面とは別の側面の側から、前記インプリントモールド用基板に接触する揺動部を備え、
   前記揺動部が接触する側の前記インプリントモールド用基板の前記側面が延びる方向に沿って、前記揺動部が前記インプリントモールド用基板と接触する位置を変えつつ、
   前記保持部が保持する側の前記インプリントモールド用基板の前記側面が延びる方向に沿って、前記インプリントモールド用基板を移動させる、請求項１または請求項２に記載のエッチング装置。
5. 前記揺動部が、
   前記保持部が保持する側の前記インプリントモールド用基板の前記側面が延びる方向、
   および、
   前記揺動部が接触する側の前記インプリントモールド用基板の前記側面が延びる方向、
   の両方向に沿って移動する機構を備える、請求項４に記載のエッチング装置。
6. 前記揺動部が、前記インプリントモールド用基板と接触する円形回転部を有し、
   前記円形回転部の回転により、
   前記揺動部が前記インプリントモールド用基板と接触する位置を変える、請求項５に記載のエッチング装置。
7. 前記揺動部が、
   前記揺動部が接触する側の前記インプリントモールド用基板の前記側面が延びる方向に沿って移動する機構を備え、
   前記揺動部が、
   回転中心から回転外縁までの距離が該回転外縁の一の位置と他の位置で異なる形態を有する変形回転部を有し、
   前記変形回転部が、
   前記インプリントモールド用基板と接触し、
   前記揺動部が備える機構による移動に伴って、前記変形回転部が回転して、
   前記インプリントモールド用基板と接触する位置を変えつつ、
   前記保持部が保持する側の前記インプリントモールド用基板の前記側面が延びる方向に沿って、前記インプリントモールド用基板を移動させる、請求項４に記載のエッチング装置。
8. 前記変形回転部が、前記回転中心の延びる方向に対して垂直となる面に、楕円状、および、多角形状の形態を有する、請求項７に記載のエッチング装置。
9. 前記変形回転部が、前記回転中心の延びる方向から見た場合に、重心の位置とは異なる位置に、前記回転中心が設けられている、請求項７に記載のエッチング装置。
10. 前記インプリントモールド用基板が、
    前記揺動部が接触する側の前記側面が延びる方向に沿って、前記表面と前記裏面の外縁部に、前記インプリントモールド用基板の厚みが減少する向きの傾斜面を有し、
    前記揺動部が、
    前記傾斜面で前記インプリントモールド用基板と接触する、請求項４乃至請求項９のいずれか一項に記載のエッチング装置。
11. 前記インプリントモールド用基板が、
    前記保持部が保持する側の前記側面が延びる方向に沿って、前記表面と前記裏面の外縁部に、前記インプリントモールド用基板の厚みが減少する向きの傾斜面を有し、
    前記保持部が、
    前記傾斜面で前記インプリントモールド用基板と接触する、請求項１乃至請求項１０のいずれか一項に記載のエッチング装置。

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