JP2021040127A - Mounting device of electronic components - Google Patents

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Abstract

To provide a mounting device of electronic components which enables efficient mounting of electronic components over the entire mounting area without misalignment.SOLUTION: A mounting device includes: a stage movement mechanism that moves a stage 21 such that a board recognition camera 43f (first recognition unit and second recognition unit) that recognizes a position of a board W supported on the stage 21 can recognize a common mark (dot mark 72); a recognition error correction data calculation unit that calculates recognition error correction data for correcting a recognition error between the first recognition unit and the second recognition unit on the basis of a position of the common mark recognized by the first recognition unit and the second recognition unit; and a correction unit that corrects a positioning position of an electronic component t with respect to a mounting position by a first mounting head or a second mounting head on the basis of the recognition error correction data.SELECTED DRAWING: Figure 6

Description

本発明は、電子部品の実装装置に関する。 The present invention relates to an electronic component mounting device.

従来から、ウエーハレベルパッケージ(Wafer Level Package:WLP)と呼ばれる製造プロセスが知られている。WLPは、インターポーザ基板(中継用基板)を用いずに、ウエーハ状態のままでI/O端子を設けるための再配線層を形成する技術である。WLPは、インターポーザ基板を不要とするため、半導体パッケージの薄型化や製造コストが低減できる。 Conventionally, a manufacturing process called a wafer level package (WLP) has been known. WLP is a technique for forming a rewiring layer for providing an I / O terminal in a wafer state without using an interposer substrate (relay substrate). Since the WLP does not require an interposer substrate, the semiconductor package can be made thinner and the manufacturing cost can be reduced.

WLPでは、ファンイン・ウエーハレベルパッケージ(fan in−WLP:FI−WLP)や、ファンアウト・ウエーハレベルパッケージ(fan out−WLP:FO−WLP))が知られている。FI−WLPは、半導体チップの電極パッドが形成されている面上の領域をはみ出さないように、半導体チップ上に再配線層を形成する。FO−WLPは、半導体チップの領域をはみ出して再配線層を形成する。 In WLP, a fan-in-wafer level package (fan in-WLP: FI-WLP) and a fan-out wafer level package (fan out-WLP: FO-WLP) are known. The FI-WLP forms a rewiring layer on the semiconductor chip so as not to protrude from the region on the surface on which the electrode pad of the semiconductor chip is formed. The FO-WLP extends beyond the region of the semiconductor chip to form a rewiring layer.

FO−WLPは、1つのパッケージ内にRAM、フラッシュメモリ、CPU等の半導体チップやダイオード、コンデンサ等の複数種類の電子部品を搭載したマルチチップパッケージ(Multi Chip Package:MCP)にも適用可能であるために、注目されている。 FO-WLP can also be applied to a multi-chip package (Multi Chip Package: MCP) in which semiconductor chips such as RAM, flash memory, and CPU, and multiple types of electronic components such as diodes and capacitors are mounted in one package. Therefore, it is attracting attention.

FO−WLPの製造プロセスでは、まず、基板上に複数の半導体チップを、間隔をあけた状態で行列状に実装し、その後半導体チップ間の隙間を樹脂で封止して複数の半導体チップを一体化する。これにより、あたかも半導体製造プロセスで形成されるウエーハのように成形された擬似ウエーハを形成する。この擬似ウエーハ上に、I/O端子を設けるための再配線層を形成する。複数の半導体チップを樹脂封止して一体化した後は、基板は剥がされて除去される。 In the FO-WLP manufacturing process, first, a plurality of semiconductor chips are mounted in a matrix on a substrate at intervals, and then the gaps between the semiconductor chips are sealed with a resin to integrate the plurality of semiconductor chips. To become. As a result, a pseudo wafer formed as if it were a wafer formed in a semiconductor manufacturing process is formed. A rewiring layer for providing an I / O terminal is formed on the pseudo wafer. After the plurality of semiconductor chips are resin-sealed and integrated, the substrate is peeled off and removed.

特開2019−29563号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2019-29563

以上のようなWLPにおいては、同一パッケージに搭載する電子部品個々の実装位置のずれが、そのパッケージの電気的特性に相互に影響を及ぼす。このため、それぞれの電子部品の実装に高い位置精度が要求されている。ここで、インターポーザ基板を用いて行なわれる半導体パッケージの製造プロセスでは、インターポーザ基板上の各実装位置に位置認識用のアライメントマークが設けられている。このため、実装位置毎のアライメントマーク(以下、ローカルマークと呼ぶ)を認識して電子部品を実装位置に位置決めし、実装する方式を適用することで、高い位置精度での実装を実現している。このように、基板上の実装位置に電子部品をそれぞれ実装するときに、電子部品を実装する毎に電子部品の実装領域の位置検出を行う方式のことを、ローカル認識方式と呼ぶ。 In the above-mentioned WLP, the deviation of the mounting position of each electronic component mounted in the same package mutually affects the electrical characteristics of the package. Therefore, high position accuracy is required for mounting each electronic component. Here, in the semiconductor package manufacturing process performed using the interposer substrate, alignment marks for position recognition are provided at each mounting position on the interposer substrate. Therefore, by recognizing the alignment mark for each mounting position (hereinafter referred to as the local mark), positioning the electronic component at the mounting position, and applying the mounting method, mounting with high position accuracy is realized. .. In this way, when the electronic components are mounted at the mounting positions on the board, the method of detecting the position of the mounting area of the electronic components each time the electronic components are mounted is called a local recognition method.

ところが、WLPでは、電子部品を実装する基板は、シリコンや金属、ガラス等で形成された単なる板である。このため、基板上の電子部品の実装位置に、回路パターンなどのローカルマークとして使用できる部分は存在しない。また、上記のように、基板は、疑似ウエーハから剥がされて除去される場合もある。このため、基板の実装位置毎にローカルマークを形成する設備および工程を設けるとすると、設備費用、設備の設置スペース、工程数等の増加を招く。さらに、電子部品を実装する毎にローカルマークを認識する動作を行う場合、1つの電子部品の実装に要する時間も増加する。 However, in WLP, the substrate on which the electronic components are mounted is simply a plate made of silicon, metal, glass, or the like. Therefore, there is no portion that can be used as a local mark such as a circuit pattern at the mounting position of the electronic component on the board. Further, as described above, the substrate may be peeled off from the pseudo wafer and removed. For this reason, if equipment and processes for forming a local mark are provided for each mounting position of the substrate, equipment costs, equipment installation space, number of processes, and the like will increase. Further, when the operation of recognizing the local mark is performed every time the electronic component is mounted, the time required for mounting one electronic component also increases.

これに対処するため、WLPでは、基板の外形位置や基板全体の位置を示すアライメントマーク(以下、グローバルマークと呼ぶ)を認識することで、基板の全体位置を認識し、この基板の全体位置を頼りに基板上の実装領域に電子部品を実装する方式を適用している。このように、基板の複数の実装位置に電子部品をそれぞれ実装するときに、1回の基板の位置検出で、その基板上の複数の実装位置に対して電子部品の実装を行なう方式のことを、グローバル認識方式と呼ぶ。 In order to deal with this, WLP recognizes the overall position of the substrate by recognizing the outer position of the substrate and the alignment mark (hereinafter referred to as the global mark) indicating the position of the entire substrate, and recognizes the overall position of this substrate. A method of mounting electronic components in the mounting area on the board is applied. In this way, when mounting electronic components at a plurality of mounting positions on a board, a method of mounting the electronic components at a plurality of mounting positions on the board by detecting the position of the board once is used. , Called the global recognition method.

さらに、近年では、WLPに用いられる基板は大型化している。このような基板への実装にあたっては、生産効率を上げるため、一対の実装部を設け、それぞれの実装部が一つの基板上を二分した部分領域を担当し、電子部品を並行に実装することが行われている。この場合、それぞれの実装部による実装位置は、各部分領域毎に補正することにより、正確な位置決めが可能となる。 Further, in recent years, the size of the substrate used for WLP has increased. When mounting on such a board, in order to improve production efficiency, it is possible to provide a pair of mounting parts, each mounting part is in charge of a partial area divided into two parts on one board, and electronic components are mounted in parallel. It is done. In this case, the mounting position by each mounting portion is corrected for each partial region, so that accurate positioning becomes possible.

しかしながら、一対の実装部による実装位置には、互いにずれが生じることがある。このようなずれは、後の工程で、一つの基板に実装された電子部品に対して一括して加工が施されることを考慮すると、好ましくない。例えば、再配線工程は、感光材の塗布、感光材の露光、現像、エッチング、イオン注入、レジスト剥離等により行われる。このため、電子部品の実装位置にずれがあると、露光の際のマスクの位置がずれてしまうなどの不都合が生じる。つまり、基板上の全ての電子部品は、縦横それぞれの方向において決められた間隔で、正確に配置されている必要がある。 However, the mounting positions of the pair of mounting portions may deviate from each other. Such deviation is not preferable in consideration of the fact that the electronic components mounted on one substrate are collectively processed in a later process. For example, the rewiring step is performed by coating a photosensitive material, exposing the photosensitive material, developing, etching, ion implantation, resist peeling, and the like. Therefore, if the mounting position of the electronic component is deviated, the position of the mask during exposure may be deviated. That is, all the electronic components on the substrate need to be accurately arranged at predetermined intervals in each of the vertical and horizontal directions.

このようなずれを修正するため、一対の実装部によって、基板の部分領域にそれぞれ電子部品を実装した後、その基板を取り出して外部測定器に移し、外部測定器において、一対の実装部で実装された電子部品の位置ずれを測定し、この位置ずれに基づいて補正を行っていた。しかし、外部測定器を用意することはコストがかかり、基板を外部測定器に移動させる手間がかかるために生産効率が良くない。 In order to correct such a deviation, after mounting electronic components in each partial region of the board by a pair of mounting parts, the board is taken out and transferred to an external measuring instrument, and mounted by a pair of mounting parts in the external measuring instrument. The misalignment of the electronic component was measured, and correction was performed based on this misalignment. However, preparing an external measuring instrument is costly, and it takes time and effort to move the substrate to the external measuring instrument, so that the production efficiency is not good.

本発明は、上述のような課題を解決するために提案されたものであり、実装領域の全体に電子部品をずれなく、効率良く実装することができる電子部品の実装装置を提供することにある。 The present invention has been proposed to solve the above-mentioned problems, and an object of the present invention is to provide an electronic component mounting device capable of efficiently mounting electronic components in the entire mounting area without shifting them. ..

上記の目的を達成するために、本発明の電子部品の実装装置は、電子部品の実装位置を複数含む実装領域に、前記電子部品が実装される基板を支持するステージと、前記電子部品を前記実装位置に実装する第1の実装ヘッドと、前記第1の実装ヘッドを移動させる第1の実装ヘッド移動機構と、を有する第1の実装部と、前記電子部品を前記実装位置に実装する第2の実装ヘッドと、前記第2の実装ヘッドを移動させる第2の実装ヘッド移動機構と、を有する第2の実装部と、前記第1の実装ヘッドとともに移動可能に設けられ、前記ステージに支持された前記基板の位置を認識する第1の認識部と、前記第2の実装ヘッドとともに移動可能に設けられ、前記ステージに支持された前記基板の位置を認識する第2の認識部と、前記第1の認識部及び前記第2の認識部が、前記ステージ上の共通のマークを認識可能となるように、前記ステージを移動させるステージ移動機構と、前記第1の認識部及び前記第2の認識部が認識した共通のマークの位置に基づいて、前記第1の認識部と前記第2の認識部との間の認識誤差を補正するための認識誤差補正データを算出する認識誤差補正データ算出部と、前記認識誤差補正データに基づいて、前記第1の実装ヘッド又は前記第2の実装ヘッドによる前記実装位置に対する電子部品の位置決め位置を補正する補正部と、を有する。 In order to achieve the above object, the electronic component mounting device of the present invention has a stage for supporting a substrate on which the electronic component is mounted in a mounting area including a plurality of mounting positions of the electronic component, and the electronic component. A first mounting portion having a first mounting head to be mounted at a mounting position, a first mounting head moving mechanism for moving the first mounting head, and a first mounting portion for mounting the electronic component at the mounting position. A second mounting portion having 2 mounting heads, a second mounting head moving mechanism for moving the second mounting head, and a second mounting portion movably provided together with the first mounting head, and supported on the stage. A first recognition unit that recognizes the position of the board, a second recognition unit that is movably provided together with the second mounting head and recognizes the position of the board supported by the stage, and the above. A stage moving mechanism that moves the stage so that the first recognition unit and the second recognition unit can recognize a common mark on the stage, and the first recognition unit and the second recognition unit. Recognition error correction data calculation for calculating recognition error correction data for correcting a recognition error between the first recognition unit and the second recognition unit based on the position of a common mark recognized by the recognition unit. It has a unit and a correction unit that corrects the positioning position of the electronic component with respect to the mounting position by the first mounting head or the second mounting head based on the recognition error correction data.

本発明によれば、実装領域の全体に電子部品をずれなく、効率良く実装可能な電子部品の実装装置を提供することができる。 According to the present invention, it is possible to provide a mounting device for electronic components that can be efficiently mounted without shifting the electronic components over the entire mounting area.

実施形態により電子部品を実装される基板を示す平面図である。It is a top view which shows the substrate on which an electronic component is mounted according to an embodiment. 実施形態の実装装置を示す平面図である。It is a top view which shows the mounting apparatus of embodiment. 実施形態の実装装置を示す正面図である。It is a front view which shows the mounting apparatus of embodiment. 実施形態の実装装置を示す右側面図である。It is a right side view which shows the mounting apparatus of embodiment. ステージに載置された校正基板とこれを撮像する基板認識カメラを示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the calibration substrate mounted on the stage, and the substrate recognition camera which image | image | image | 第2の認識部によってステージの移動誤差補正データを重複して取得する状態を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the state which the movement error correction data of a stage is acquired by the 2nd recognition part in duplicate. 実施形態の制御装置の構成を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the structure of the control device of embodiment. 基板に実装された電子部品のずれを示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the deviation of the electronic component mounted on the board. キャリブレーションに使用される校正基板を示す平面図である。It is a top view which shows the calibration board used for calibration. 実施形態の実装装置による電子部品の実装工程を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the mounting process of the electronic component by the mounting apparatus of embodiment.

以下、実施形態の電子部品の実装装置について、図面を参照して説明する。図1は電子部品tを実装した基板Wを示す平面図である。図2は実装装置1の外観を示す平面図であり、図3は実装装置1の正面図、図4は右側面図である。図5はステージに載置された校正基板71とこれを撮像する基板認識カメラ43fを示す説明図である。図6は第2の認識部によってステージの移動誤差補正データを重複して取得する状態を示す説明図である。図7は実装装置1の制御装置50を示すブロック図である。図8は、基板Wに実装された電子部品tのずれを示す説明図である。 Hereinafter, the electronic component mounting device of the embodiment will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a plan view showing a substrate W on which an electronic component t is mounted. FIG. 2 is a plan view showing the appearance of the mounting device 1, FIG. 3 is a front view of the mounting device 1, and FIG. 4 is a right side view. FIG. 5 is an explanatory view showing a calibration board 71 mounted on a stage and a board recognition camera 43f that captures an image of the calibration board 71. FIG. 6 is an explanatory diagram showing a state in which the movement error correction data of the stage is acquired in duplicate by the second recognition unit. FIG. 7 is a block diagram showing a control device 50 of the mounting device 1. FIG. 8 is an explanatory diagram showing the deviation of the electronic component t mounted on the substrate W.

[電子部品]
図1に示すように、本実施形態の実装装置1により基板Wに実装される対象は、電子部品tである。電子部品tの一例は、半導体チップである。但し、電子部品tは、1種類の半導体チップに限られるものではなく、複数種類の半導体チップ、さらには半導体チップとダイオードやコンデンサ等であってもよい。本実施形態の実装装置1は、半導体チップ、ダイオード、コンデンサ等を含む複数種類の電子部品tを基板W上に実装してMCPを製造することができる装置である。MCPの構成例としては、複数種類の半導体チップを備えるもの、1種類の半導体チップとダイオードやコンデンサ等を備えるもの、さらに複数種類の半導体チップとダイオードやコンデンサ等とを備えるものが挙げられる。
[Electronic components]
As shown in FIG. 1, the target mounted on the substrate W by the mounting device 1 of the present embodiment is the electronic component t. An example of the electronic component t is a semiconductor chip. However, the electronic component t is not limited to one type of semiconductor chip, and may be a plurality of types of semiconductor chips, a semiconductor chip, a diode, a capacitor, or the like. The mounting device 1 of the present embodiment is a device capable of manufacturing an MCP by mounting a plurality of types of electronic components t including a semiconductor chip, a diode, a capacitor, and the like on a substrate W. Examples of the configuration of the MCP include those provided with a plurality of types of semiconductor chips, those provided with one type of semiconductor chip and a diode, a capacitor, and the like, and those provided with a plurality of types of semiconductor chips and a diode, a capacitor, and the like.

[基板]
図1に示すように、本実施形態の基板Wは、例えばFO−PLP(fan out−Panel Level Package)の製造時に適用される、擬似ウエーハに準じる擬似パネルの形成に用いられる矩形の基板である。基板Wとしては、ガラス基板、有機基板(ガラス・エポキシ(FR−4)基板等)、シリコン基板、ステンレス等の金属基板等を用いることができるが、これらに限定されるものではない。擬似パネルとは、FO−WLPの製造時に適用される擬似ウエーハと同様に、個片化された複数の半導体チップ等の電子部品を平面的に配置し、配置された電子部品間を樹脂封止して1枚の板状に成形した状態のものである。基板Wとしては、上述したFO−PLPプロセスでMCPを製造する際に用いられる基板、すなわち各実装領域に複数の半導体チップやコンデンサ等の電子部品tが実装される基板が好ましい。もちろん、基板Wは、FO−WLPの製造時に適用される擬似ウエーハの形成に用いられる基板であってもよい。
[substrate]
As shown in FIG. 1, the substrate W of the present embodiment is a rectangular substrate used for forming a pseudo panel according to a pseudo wafer, which is applied at the time of manufacturing, for example, FO-PLP (fan out-panel level package). .. As the substrate W, a glass substrate, an organic substrate (glass / epoxy (FR-4) substrate or the like), a silicon substrate, a metal substrate such as stainless steel, or the like can be used, but the substrate W is not limited thereto. The pseudo panel is similar to the pseudo wafer applied at the time of manufacturing the FO-WLP, in which electronic components such as a plurality of individualized semiconductor chips are arranged in a plane, and the arranged electronic components are sealed with a resin. It is in a state of being molded into a single plate. As the substrate W, a substrate used when manufacturing MCP by the above-mentioned FO-PLP process, that is, a substrate on which electronic components t such as a plurality of semiconductor chips and capacitors are mounted in each mounting region is preferable. Of course, the substrate W may be a substrate used for forming a pseudo wafer applied at the time of manufacturing the FO-WLP.

本実施形態の基板Wの一方の面は、複数の電子部品tが実装される実装面wsである。この実装面wsには、実装領域MAが設定される。実装領域MAは、個々の電子部品tの実装位置ap(図1中、点線円で示す)を複数含んでいる。また、実装領域MAは、第1の領域MA1、第2の領域MA2を含む(いずれも、図1中、一点鎖線で示す領域)。したがって、第1の領域MA1及び第2の領域MA2は、それぞれが実装領域MAの一部である。 One surface of the substrate W of this embodiment is a mounting surface ws on which a plurality of electronic components t are mounted. A mounting area MA is set on this mounting surface ws. The mounting area MA includes a plurality of mounting positions ap (indicated by dotted circles in FIG. 1) of individual electronic components t. Further, the mounting region MA includes the first region MA1 and the second region MA2 (both are regions shown by the alternate long and short dash line in FIG. 1). Therefore, the first region MA1 and the second region MA2 are each a part of the mounting region MA.

本実施形態の第1の領域MA1及び第2の領域MA2は、実装領域MAを2等分することにより、隣り合う領域である。実装領域MA、第1の領域MA1及び第2の領域MA2は矩形であり、図1に示す例では、第1の領域MA1及び第2の領域MA2はそれぞれ図の左右が短く上下が長い長方形の領域である。個々の電子部品tは、第1の領域MA1及び第2の領域MA2内に複数の行と複数の列のマトリクス状に設定された実装位置apに実装される。本実施形態の第1の領域MA1及び第2の領域MA2において、実装位置apが並んだ行方向は短辺に沿う方向であり、列方向が長辺に沿う方向である。第1の領域MA1、第2の領域MA2は、互いの長辺部分で隣り合っている。 The first region MA1 and the second region MA2 of the present embodiment are adjacent regions by dividing the mounting region MA into two equal parts. The mounting area MA, the first area MA1 and the second area MA2 are rectangular. In the example shown in FIG. 1, the first area MA1 and the second area MA2 are rectangular with short left and right sides and long top and bottom sides, respectively. The area. The individual electronic components t are mounted at mounting positions ap set in a matrix of a plurality of rows and a plurality of columns in the first region MA1 and the second region MA2. In the first region MA1 and the second region MA2 of the present embodiment, the row direction in which the mounting positions ap are arranged is the direction along the short side, and the column direction is the direction along the long side. The first region MA1 and the second region MA2 are adjacent to each other on their long sides.

なお、実装領域MA、実装位置ap、第1の領域MA1、第2の領域MA2は、基板Wの実装面ws上に仮想的に設定されるものであり、実装領域MA、実装位置ap、第1の領域MA1、第2の領域MA2を示すマーク等が、実装面ws上に形成されているわけではない。実装面wsは、基板Wの全体の位置を示すグローバル認識用のアライメントマークを備えていてもよいが、個々の実装位置apを示すローカル認識用のマーク等は備えていない。以下の説明では、マークは、ドットマーク、アライメントマーク、回路パターン、電子部品tの外形など、位置を認識するための基準となる対象を広く含む。 The mounting area MA, the mounting position ap, the first area MA1, and the second area MA2 are virtually set on the mounting surface ws of the substrate W, and the mounting area MA, the mounting position ap, and the second area MA2. Marks and the like indicating the region MA1 of 1 and the region MA2 of the second region are not formed on the mounting surface ws. The mounting surface ws may be provided with an alignment mark for global recognition indicating the overall position of the substrate W, but is not provided with a mark for local recognition indicating the individual mounting position ap. In the following description, the mark broadly includes a reference target for recognizing a position, such as a dot mark, an alignment mark, a circuit pattern, and an outer shape of an electronic component t.

[実装装置]
(概要)
本実施形態の実装装置1の構成を、図2〜図7を参照して説明する。実装装置1は、電子部品tを基板Wに実装する装置である。以下の説明では、実装装置1上で基板Wの電子部品tの実装面wsと平行な面において、第1の領域MA1、第2の領域MA2が並んだ方向をX方向とし、これに直交する方向をY方向とする。また、実装面wsに直交する方向を、Z方向とする。本実施形態においては、実装面wsにおける第1の領域MA1、第2の領域MA2が左右に並ぶ一辺側を正面とし、正面から見てX方向を左右方向、Y方向を前後方向、Z方向を上下方向とする。
[Mounting device]
(Overview)
The configuration of the mounting device 1 of the present embodiment will be described with reference to FIGS. 2 to 7. The mounting device 1 is a device for mounting the electronic component t on the substrate W. In the following description, the direction in which the first region MA1 and the second region MA2 are arranged on the mounting surface ws of the electronic component t of the substrate W on the mounting device 1 is defined as the X direction, and is orthogonal to the X direction. The direction is the Y direction. Further, the direction orthogonal to the mounting surface ws is defined as the Z direction. In the present embodiment, the front is the side on which the first region MA1 and the second region MA2 are arranged side by side on the mounting surface ws, the X direction is the left-right direction, the Y direction is the front-rear direction, and the Z direction is the front. Vertical direction.

実装装置1は、図2に示すように、部品供給部10、ステージ部20、移載部30、実装部40、制御装置50を有する。部品供給部10は、電子部品tを供給する装置である。ステージ部20は、基板Wが載置されるステージ21を備える装置である。移載部30は、部品供給部10から電子部品tを取り出す装置である。実装部40は、移載部30が取り出した電子部品tを受取ってステージ21に載置された基板Wに実装する装置である。部品供給部10、ステージ部20、移載部30、実装部40は、設置面に設置された基台であるベース部1a上に設けられている。制御装置50は、部品供給部10、ステージ部20、移載部30、実装部40の動作を制御する装置である。以下、各部の詳細を説明する。 As shown in FIG. 2, the mounting device 1 includes a component supply unit 10, a stage unit 20, a transfer unit 30, a mounting unit 40, and a control device 50. The component supply unit 10 is a device that supplies the electronic component t. The stage unit 20 is a device including a stage 21 on which the substrate W is placed. The transfer unit 30 is a device for taking out the electronic component t from the component supply unit 10. The mounting unit 40 is a device that receives the electronic component t taken out by the transfer unit 30 and mounts it on the substrate W mounted on the stage 21. The component supply unit 10, the stage unit 20, the transfer unit 30, and the mounting unit 40 are provided on the base unit 1a, which is a base installed on the installation surface. The control device 50 is a device that controls the operations of the component supply unit 10, the stage unit 20, the transfer unit 30, and the mounting unit 40. The details of each part will be described below.

(部品供給部)
部品供給部10は、ベース部1a上の前部であって、正面から見てX方向の中央に配置されている。部品供給部10は、ウエーハリング11、リングホルダ12、不図示の突き上げ機構を備えている。ウエーハリング11は、電子部品tを保持するウエーハシートSを保持する部材である。電子部品tは、半導体ウエーハTが個片化された半導体チップである。
(Parts supply department)
The component supply unit 10 is a front portion on the base portion 1a and is arranged at the center in the X direction when viewed from the front. The component supply unit 10 includes a wafer ring 11, a ring holder 12, and a push-up mechanism (not shown). The wafer ring 11 is a member that holds the wafer sheet S that holds the electronic component t. The electronic component t is a semiconductor chip in which the semiconductor wafer T is fragmented.

リングホルダ12は、ウエーハリング11が着脱自在に設けられている。また、リングホルダ12は、不図示のXY移動機構により、ウエーハリング11をXY方向に移動可能に設けられている。突き上げ機構は、移載部30によって電子部品tを取り出すときに、電子部品tをウエーハリング11に保持されたウエーハシートSの下側から突き上げる機構である。突き上げ機構は、移載部30による電子部品tの取り出しポジションに固定的に設けられている。 A wafer ring 11 is detachably provided on the ring holder 12. Further, the ring holder 12 is provided so that the wafer ring 11 can be moved in the XY direction by an XY moving mechanism (not shown). The push-up mechanism is a mechanism for pushing up the electronic component t from the lower side of the wafer sheet S held by the wafer ring 11 when the electronic component t is taken out by the transfer unit 30. The push-up mechanism is fixedly provided at the take-out position of the electronic component t by the transfer portion 30.

なお、部品供給部10は、図示はしないが、交換装置を備えている。交換装置は、ウエーハリング11が収納された収納部から、電子部品tが保持された新たなウエーハリング11をリングホルダ12に供給し、電子部品tの取り出しが完了したウエーハリング11を収納部に収納する。 Although not shown, the parts supply unit 10 includes a replacement device. The switching device supplies a new wafer ring 11 in which the electronic component t is held to the ring holder 12 from the storage unit in which the wafer ring 11 is stored, and the wafer ring 11 in which the removal of the electronic component t is completed is supplied to the storage unit. Store.

(ステージ部)
ステージ部20は、正面から見て、ベース部1a上の部品供給部10の後方に、ベース部10aのX方向の中央に配置されている。ステージ部20は、ステージ21、ステージ移動機構22を有する。ステージ21は、基板Wを支持する台である。本実施形態のステージ21は、基板Wの実装面wsと反対側の面が載置される。ステージ移動機構22は、ステージ21をXY方向に移動させる機構である。なお、図示はしないが、ステージ移動機構22は、水平回転方向のθ移動機構を有している。また、ステージ移動機構22は、リニアエンコーダを有している。リニアエンコーダのスケールには、熱対策として熱膨張係数が小さいガラス製スケールを用いることが好ましい。
(Stage part)
The stage portion 20 is arranged at the center of the base portion 10a in the X direction behind the component supply portion 10 on the base portion 1a when viewed from the front. The stage unit 20 has a stage 21 and a stage moving mechanism 22. The stage 21 is a table that supports the substrate W. On the stage 21 of the present embodiment, a surface opposite to the mounting surface ws of the substrate W is placed. The stage moving mechanism 22 is a mechanism for moving the stage 21 in the XY directions. Although not shown, the stage moving mechanism 22 has a θ moving mechanism in the horizontal rotation direction. Further, the stage moving mechanism 22 has a linear encoder. As a scale of the linear encoder, it is preferable to use a glass scale having a small coefficient of thermal expansion as a measure against heat.

ステージ21が移動するための座標系のY方向における移動範囲内であって、X方向に沿う一直線上には、後述する実装ヘッド43(第1の実装ヘッド43A、第2の実装ヘッド43B)が、電子部品tを実装するために位置決めされる実装ラインBLが設定されている(図1参照)。この実装ラインBLは、ステージ21のY方向中心とすることができる。ステージ移動機構22は、ステージ21上に載置された基板Wの実装位置apの各行が、実装ラインBLに順に位置付けられるように、ステージ21を移動させるように制御される。 The mounting heads 43 (first mounting head 43A, second mounting head 43B) described later are on a straight line along the X direction within the moving range of the coordinate system for the stage 21 to move in the Y direction. , A mounting line BL positioned to mount the electronic component t is set (see FIG. 1). This mounting line BL can be centered in the Y direction of the stage 21. The stage moving mechanism 22 is controlled to move the stage 21 so that each line of the mounting position ap of the substrate W mounted on the stage 21 is sequentially positioned on the mounting line BL.

ステージ移動機構22は、ステージ21に載置される最も大きな基板Wを、X方向においては基板WのX方向の寸法の2分の1より若干大きい(1/2X+α)範囲で移動させることができる移動ストロークを有している。また、ステージ移動機構22は、Y方向においては基板WのY方向の寸法より若干大きい(Y+α)範囲で移動させることができる移動ストロークを有する。ステージ21は、不図示の吸引吸着機構によって、載置された基板Wを吸着保持することが可能なように構成されている。なお、X方向の移動範囲における+αによって、ステージ21は、ステージ21のX方向の中央部分が重複するように移動できるようになっている。この重複の移動は、ステージ21の一方の半分(正面から見て左半分)と他方の半分(正面から見て右半分)が互いに重複してもよいし、いずれか一方のみが重複できるストロークを有するようにストロークの中心がオフセットされていてもよい。このステージ21のX方向の移動範囲における+αの大きさ(重複の量)については後述する。 The stage moving mechanism 22 can move the largest substrate W mounted on the stage 21 in a range slightly larger (1 / 2X + α) than half of the dimension of the substrate W in the X direction in the X direction. Has a moving stroke. Further, the stage moving mechanism 22 has a moving stroke that can be moved in a range slightly larger (Y + α) than the dimension of the substrate W in the Y direction in the Y direction. The stage 21 is configured to be able to suck and hold the mounted substrate W by a suction and suction mechanism (not shown). By + α in the movement range in the X direction, the stage 21 can move so that the central portion of the stage 21 in the X direction overlaps. In this overlapping movement, one half of the stage 21 (left half when viewed from the front) and the other half (right half when viewed from the front) may overlap each other, or a stroke in which only one of them can overlap. The center of the stroke may be offset to have. The magnitude (amount of overlap) of + α in the moving range of the stage 21 in the X direction will be described later.

(移載部)
移載部30は、移載装置30A、30B、中間ステージ31、ウエーハリング保持装置32を有する。移載装置30A、30Bは、ベース部1a上の前部に、部品供給部10を挟んで、X方向に並べて配置されている。移載装置30A、30Bは、左右が反転していることを除いて、同一の構成を有している。以下、左側の移載装置30Aの構成を説明し、右側の移載装置30Bの構成の説明は省略する。
(Transfer section)
The transfer unit 30 includes transfer devices 30A and 30B, an intermediate stage 31, and a wafer ring holding device 32. The transfer devices 30A and 30B are arranged side by side in the X direction on the front portion on the base portion 1a with the component supply portion 10 interposed therebetween. The transfer devices 30A and 30B have the same configuration except that the left and right sides are reversed. Hereinafter, the configuration of the transfer device 30A on the left side will be described, and the description of the configuration of the transfer device 30B on the right side will be omitted.

図2〜図4に示すように、移載装置30Aは、Y方向移動装置33、移載ヘッド37、ウエーハ認識カメラ38を有する。Y方向移動装置33は、Y方向移動ブロック34をY方向に移動自在に支持する装置である。Y方向移動装置33は、ベース部1aの前部左側に、Y方向に沿ってベース部1aの前端部から中央付近にかけて延設されている。Y方向移動ブロック34の上端側の背面には、支持体35が設けられている。支持体35は矩形板状であり、Y方向移動ブロック34から、X方向に沿う右方向に延設されている。この支持体35の背面側には、X方向移動体36が設けられている。X方向移動体36は、不図示のX方向移動装置によってX方向に沿って移動可能に支持されている。 As shown in FIGS. 2 to 4, the transfer device 30A includes a Y-direction moving device 33, a transfer head 37, and a wafer recognition camera 38. The Y-direction moving device 33 is a device that movably supports the Y-direction moving block 34 in the Y direction. The Y-direction moving device 33 extends from the front end portion of the base portion 1a to the vicinity of the center along the Y direction on the left side of the front portion of the base portion 1a. A support 35 is provided on the back surface of the Y-direction moving block 34 on the upper end side. The support 35 has a rectangular plate shape, and extends from the Y-direction moving block 34 in the right direction along the X direction. An X-direction moving body 36 is provided on the back surface side of the support 35. The X-direction moving body 36 is movably supported along the X-direction by an X-direction moving device (not shown).

移載ヘッド37は、X方向移動体36の部品供給部10側の端部に支持されている。移載ヘッド37は、吸着ノズル(移載ノズル)37a、37b、Z方向移動装置37c、37d、反転機構37e、37fを有する。吸着ノズル(移載ノズル)37a、37bは、図示しない空気圧回路に接続され、負圧により電子部品tを保持可能に設けられている。2つの吸着ノズル(移載ノズル)37a、37bは、X方向に並んでいる。 The transfer head 37 is supported by an end portion of the X-direction moving body 36 on the component supply portion 10 side. The transfer head 37 has suction nozzles (transfer nozzles) 37a and 37b, Z-direction moving devices 37c and 37d, and reversing mechanisms 37e and 37f. The suction nozzles (transfer nozzles) 37a and 37b are connected to a pneumatic circuit (not shown) and are provided so as to be able to hold the electronic component t by negative pressure. The two suction nozzles (transfer nozzles) 37a and 37b are arranged in the X direction.

Z方向移動装置37c、37dは、吸着ノズル37a、37bを個別にZ方向に移動させる装置である。反転機構37e、37fは、吸着ノズル37a、37bを個別に上下に反転させる装置である。これにより、吸着ノズル37a、37bは、電子部品tを吸着保持する吸着面が下を向いた状態と吸着面が上を向いた状態とに選択的に姿勢を切換えることができる。なお、吸着ノズル37aは反転機構37eに組付けられており、反転機構37eはZ方向移動装置37cに組付けられている。また、吸着ノズル37bは反転機構37fに組付けられており、反転機構37fはZ方向移動装置37dに組付けられている。つまり、移載ヘッド37は、上下反転できる吸着ノズルを2つ有する。 The Z-direction moving devices 37c and 37d are devices that individually move the suction nozzles 37a and 37b in the Z-direction. The reversing mechanism 37e and 37f are devices for individually reversing the suction nozzles 37a and 37b up and down. As a result, the suction nozzles 37a and 37b can selectively switch the postures of the suction nozzles 37a and 37b between a state in which the suction surface for sucking and holding the electronic component t faces downward and a state in which the suction surface faces upward. The suction nozzle 37a is assembled to the reversing mechanism 37e, and the reversing mechanism 37e is assembled to the Z-direction moving device 37c. Further, the suction nozzle 37b is assembled to the reversing mechanism 37f, and the reversing mechanism 37f is assembled to the Z direction moving device 37d. That is, the transfer head 37 has two suction nozzles that can be turned upside down.

ウエーハ認識カメラ38は、部品供給部10のウエーハリング11に保持されたウエーハシートSに向かい、ウエーハシートS上の電子部品tの位置を認識する装置である。ウエーハ認識カメラ38は、X方向移動体36の部品供給部10側の端部に、移載ヘッド37が支持された面とは反対側の面に設けられている。なお、実装装置1を正面から見て左側の移載装置30Aの移載ヘッド37が第1の移載ヘッドであり、右側の移載装置30Bの移載ヘッド37が第2の移載ヘッドである。 The wafer recognition camera 38 is a device that faces the wafer sheet S held by the wafer ring 11 of the component supply unit 10 and recognizes the position of the electronic component t on the wafer sheet S. The wafer recognition camera 38 is provided at the end of the X-direction moving body 36 on the component supply portion 10 side, on a surface opposite to the surface on which the transfer head 37 is supported. The transfer head 37 of the transfer device 30A on the left side when the mounting device 1 is viewed from the front is the first transfer head, and the transfer head 37 of the transfer device 30B on the right side is the second transfer head. is there.

中間ステージ31は、左右の移載ヘッド37の吸着ノズル37a、37bによって取り出された電子部品tを、一時的に載置する装置である。中間ステージ31は、ベース部1a上の部品供給部10とステージ部20との間に設けられている。中間ステージ31は、載置部31a〜31dを備えている。載置部31a〜31dは、移載装置30Aにおける移載ヘッド37の2つの吸着ノズル37a、37b、移載装置30Bにおける移載ヘッド37の2つの吸着ノズル37a、37bにそれぞれ対応している。 The intermediate stage 31 is a device for temporarily mounting the electronic components t taken out by the suction nozzles 37a and 37b of the left and right transfer heads 37. The intermediate stage 31 is provided between the component supply unit 10 and the stage unit 20 on the base unit 1a. The intermediate stage 31 includes mounting portions 31a to 31d. The mounting portions 31a to 31d correspond to the two suction nozzles 37a and 37b of the transfer head 37 in the transfer device 30A and the two suction nozzles 37a and 37b of the transfer head 37 in the transfer device 30B, respectively.

ウエーハリング保持装置32は、部品供給部10のリングホルダ12にウエーハリング11を供給および収納する装置である。図2に示すように、ウエーハリング保持装置32は、移載装置30Aの支持体35における部品供給部10側の端部の、X方向移動体36が設けられた面とは反対側の面、つまり前面に設けられている。ウエーハリング保持装置32は、支持アーム32a、チャック部32bを有する。支持アーム32aは、エアーシリンダ等の不図示のX方向移動装置によって、X方向に進退自在に設けられている。チャック部32bは、ウエーハリング11を把持する部材であり、支持アーム32aにおける図示右方向の先端に設けられている。また、ウエーハリング保持装置32は、支持体35が設けられるY方向移動装置33によってY方向へ移動できる。このようなウエーハリング保持装置32は、前述の交換装置の一部として機能する。すなわち、ウエーハリング11をチャック部32bで把持し、支持アーム32aとY方向移動装置33によって、不図示の収納部とリングホルダ12とにウエーハリング11を供給および収納する。 The wafer ring holding device 32 is a device that supplies and stores the wafer ring 11 in the ring holder 12 of the component supply unit 10. As shown in FIG. 2, the wafer ring holding device 32 is a surface of the end portion of the support 35 of the transfer device 30A on the component supply portion 10 side, which is opposite to the surface on which the X-direction moving body 36 is provided. That is, it is provided on the front surface. The wafer ring holding device 32 has a support arm 32a and a chuck portion 32b. The support arm 32a is provided so as to be able to move forward and backward in the X direction by an X-direction moving device (not shown) such as an air cylinder. The chuck portion 32b is a member that grips the wafer ring 11, and is provided at the tip of the support arm 32a in the right direction in the drawing. Further, the wafer ring holding device 32 can be moved in the Y direction by the Y direction moving device 33 provided with the support 35. Such a wafer ring holding device 32 functions as a part of the above-mentioned switching device. That is, the wafer ring 11 is gripped by the chuck portion 32b, and the wafer ring 11 is supplied and stored in the storage portion and the ring holder 12 (not shown) by the support arm 32a and the Y-direction moving device 33.

このような移載部30は、部品供給部10から電子部品tを順次取り出し、実装部40に向けて移載する。移載部30は、電子部品tをフェイスアップ実装、つまり、電子部品tの電極面を上にして基板Wに実装するときには、部品供給部10から取り出した電子部品tを中間ステージ31を介して実装部40に受け渡す。また、移載部30は、電子部品tをフェイスダウン実装、つまり電子部品tの電極面を下にして基板に実装するときには、部品供給部10から取り出した電子部品tを吸着ノズル37a、37bを上下反転させて電子部品tを表裏反転させた状態で実装部40に受け渡す。 Such a transfer unit 30 sequentially takes out the electronic component t from the component supply unit 10 and transfers it toward the mounting unit 40. When the electronic component t is face-up mounted, that is, when the electronic component t is mounted on the substrate W with the electrode surface of the electronic component t facing up, the transfer unit 30 mounts the electronic component t taken out from the component supply unit 10 via the intermediate stage 31. It is handed over to the mounting unit 40. Further, when the electronic component t is face-down mounted, that is, when the electronic component t is mounted on the substrate with the electrode surface of the electronic component t facing down, the transfer unit 30 mounts the electronic component t taken out from the component supply unit 10 on the suction nozzles 37a and 37b. The electronic component t is turned upside down and delivered to the mounting unit 40 in a state of being turned upside down.

(実装部)
実装部40は、第1の実装部40A、第2の実装部40Bを有する。第1の実装部40A、第2の実装部40Bは、左右が反転していることを除いて、同一構成を有する。第1の実装部40A、第2の実装部40Bは、ベース部1a上の後方に、ステージ部20を挟むように、X方向に並べて配置されている。以下、左側の第1の実装部40Aの構成のみを説明し、右側の第2の実装部40Bの構成の説明は省略する。
(Mounting part)
The mounting unit 40 has a first mounting unit 40A and a second mounting unit 40B. The first mounting portion 40A and the second mounting portion 40B have the same configuration except that the left and right sides are reversed. The first mounting portion 40A and the second mounting portion 40B are arranged side by side in the X direction behind the base portion 1a so as to sandwich the stage portion 20. Hereinafter, only the configuration of the first mounting unit 40A on the left side will be described, and the description of the configuration of the second mounting unit 40B on the right side will be omitted.

第1の実装部40Aは、支持フレーム41、ヘッド支持体42、実装ヘッド43、撮像ユニット44を有する。支持フレーム41は、側面視で門形であり、ベース部1a上のステージ部20の左に、Y方向に沿って設けられている(図4参照)。ヘッド支持体42は、支持フレーム41の右側の側面に、Y方向移動装置41aを介して、Y方向に移動自在に設けられている。ヘッド支持体42は、X方向に沿ってベース部1aの中央付近まで延びている。 The first mounting portion 40A includes a support frame 41, a head support 42, a mounting head 43, and an imaging unit 44. The support frame 41 has a gate shape in a side view, and is provided on the left side of the stage portion 20 on the base portion 1a along the Y direction (see FIG. 4). The head support 42 is provided on the right side surface of the support frame 41 so as to be movable in the Y direction via the Y direction moving device 41a. The head support 42 extends along the X direction to the vicinity of the center of the base portion 1a.

実装ヘッド43は、実装位置apに電子部品を実装する装置である。以下、第1の実装部40Aの実装ヘッド43を第1の実装ヘッド43A、第2の実装部40Bの実装ヘッド43を第2の実装ヘッド43Bとし、両者を区別しない場合には、単に実装ヘッド43とする。実装ヘッド43は、ヘッド支持体42の前面に、X方向移動装置42aを介して、X方向に移動自在に設けられている。実装ヘッド43は、実装ツール43a、43b、Z方向移動装置43c、43d、撮像ユニット44を有する。実装ツール43a、43bは、電子部品tを保持して基板Wに実装する一対のツールである。実装ツール43a、43bは、吸着ノズルであり、図示しない空気圧回路に接続され、負圧により電子部品tを保持可能に設けられている。実装ツール43a、43bは、移載ヘッド37の吸着ノズル37a、37bと同じ配置間隔で設けられている。 The mounting head 43 is a device for mounting electronic components at the mounting position ap. Hereinafter, the mounting head 43 of the first mounting portion 40A is referred to as the first mounting head 43A, and the mounting head 43 of the second mounting portion 40B is referred to as the second mounting head 43B. Let it be 43. The mounting head 43 is provided on the front surface of the head support 42 so as to be movable in the X direction via the X direction moving device 42a. The mounting head 43 includes mounting tools 43a and 43b, Z-direction moving devices 43c and 43d, and an imaging unit 44. The mounting tools 43a and 43b are a pair of tools that hold the electronic component t and mount it on the substrate W. The mounting tools 43a and 43b are suction nozzles, which are connected to a pneumatic circuit (not shown) and are provided so as to be able to hold the electronic component t by negative pressure. The mounting tools 43a and 43b are provided at the same arrangement intervals as the suction nozzles 37a and 37b of the transfer head 37.

実装ツール43a、43bは、電子部品tを吸着保持する部分と反対側の端部に、図示しない窓が設けられている。窓は、透明な部材によって構成されている。なお、この部材は光を透過可能な部材であればよく、透明には限定されない。これにより、実装ツール43a、43bに吸着保持された電子部品tを、窓を介して観察することができる。実装ツール43a、43bは、不図示の回動装置を備えており、吸着保持した電子部品tを、XY平面内で回動させることができる。 The mounting tools 43a and 43b are provided with a window (not shown) at an end opposite to the portion that attracts and holds the electronic component t. The window is made up of transparent members. It should be noted that this member may be any member as long as it can transmit light, and is not limited to being transparent. As a result, the electronic component t attracted and held by the mounting tools 43a and 43b can be observed through the window. The mounting tools 43a and 43b include a rotating device (not shown), and can rotate the suction-held electronic component t in the XY plane.

さらに、実装ツール43a、43bのうち、ベース部1aの中央側、つまり内側に位置する実装ツール43bには、認識部としての基板認識カメラ43fが取り付けられている。基板認識カメラ43fは、実装ヘッド43とともに移動可能に設けられ、基板Wの位置を認識する。より具体的には、基板認識カメラ43fは、ステージ21に載置された基板Wのアライメントマーク(グローバルマーク)を撮像する。この基板認識カメラ43fは、画像を撮像する機能に加えて、撮像した画像を処理してアライメントマーク等の認識対象物の位置を認識する機能を備える。したがって、基板認識カメラ43fは、基板Wの位置を認識するための認識部として機能する。また、基板認識カメラ43fは、後述する校正基板71のドットマーク72を撮像する。さらに、基板認識カメラ43fは、認識した基板Wの位置に基づいて電子部品tが実装される実装位置apを認識することが可能である。以下、第1の実装部40Aの基板認識カメラ43fを第1の認識部とし、第2の実装部40Bの基板認識カメラ43fを第2の認識部とする。両者を区別しない場合には、単に認識部とする。 Further, among the mounting tools 43a and 43b, the board recognition camera 43f as a recognition unit is attached to the mounting tool 43b located on the center side of the base portion 1a, that is, inside. The board recognition camera 43f is provided so as to be movable together with the mounting head 43, and recognizes the position of the board W. More specifically, the substrate recognition camera 43f captures an alignment mark (global mark) of the substrate W mounted on the stage 21. In addition to the function of capturing an image, the substrate recognition camera 43f has a function of processing the captured image to recognize the position of a recognition object such as an alignment mark. Therefore, the substrate recognition camera 43f functions as a recognition unit for recognizing the position of the substrate W. Further, the substrate recognition camera 43f captures the dot mark 72 of the calibration substrate 71, which will be described later. Further, the substrate recognition camera 43f can recognize the mounting position ap on which the electronic component t is mounted based on the recognized position of the substrate W. Hereinafter, the board recognition camera 43f of the first mounting unit 40A will be referred to as the first recognition unit, and the board recognition camera 43f of the second mounting unit 40B will be referred to as the second recognition unit. When the two are not distinguished, it is simply a recognition unit.

Z方向移動装置43c、43dは、2つの実装ツール43a、43bを個別にZ方向に移動させる装置である。Y方向移動装置41a、X方向移動装置42a及びZ方向移動装置43c、43dによって、実装ヘッド移動機構が構成されている。第1の実装部40Aの第1の実装ヘッド43Aを移動させる機構を第1の実装ヘッド移動機構とし、第2の実装部40Bの第2の実装ヘッド43Bを移動させる機構を第2の実装ヘッド移動機構とし、両者を区別しない場合には、単に実装ヘッド移動機構とする。 The Z-direction moving devices 43c and 43d are devices that individually move the two mounting tools 43a and 43b in the Z-direction. The mounting head moving mechanism is composed of the Y-direction moving device 41a, the X-direction moving device 42a, and the Z-direction moving devices 43c and 43d. The mechanism for moving the first mounting head 43A of the first mounting portion 40A is the first mounting head moving mechanism, and the mechanism for moving the second mounting head 43B of the second mounting portion 40B is the second mounting head. If it is a moving mechanism and the two are not distinguished, it is simply a mounting head moving mechanism.

撮像ユニット44は、実装ツール43a、43bに保持された電子部品tを撮像するためのユニットである。撮像ユニット44は、中間ステージ31の4つの載置部31a〜31dの上方に、4つの載置部31a〜31dに対応して4つのチップ認識カメラ44a〜44dを有する。 The image pickup unit 44 is a unit for taking an image of the electronic component t held by the mounting tools 43a and 43b. The image pickup unit 44 has four chip recognition cameras 44a to 44d corresponding to the four mounting portions 31a to 31d above the four mounting portions 31a to 31d of the intermediate stage 31.

チップ認識カメラ44a〜44dは、載置部31a〜31dに載置された電子部品tを撮像できると共に、チップ認識カメラ44a〜44dの下方に移動した実装ツール43a、43bに保持された電子部品tを、実装ツール43a、43bの窓を介して撮像できる。
また、チップ認識カメラ44a〜44dは、撮像した画像を処理して、電子部品t等の撮像対象物の位置を認識する機能を有する。
The chip recognition cameras 44a to 44d can image the electronic components t mounted on the mounting portions 31a to 31d, and the electronic components t held by the mounting tools 43a and 43b moved below the chip recognition cameras 44a to 44d. Can be imaged through the windows of the mounting tools 43a and 43b.
Further, the chip recognition cameras 44a to 44d have a function of processing the captured image and recognizing the position of the image pickup target such as the electronic component t.

チップ認識カメラ44a〜44dは、一対のXY移動装置44e、44fによって、2つ一組でXY方向に移動可能に支持されている。組となる二つのチップ認識カメラ(44aと44bおよび44cと44d)は、実装ツール43a、43bおよび吸着ノズル37a、37bと同じ配置間隔で設けられている。一対のXY移動装置44e、44fは、カメラ支持フレーム44gに支持されている。カメラ支持フレーム44gは、正面から見て門形をなし、ベース部1a上の部品供給部10と、ステージ部20との間に、X方向に延設されている。カメラ支持フレーム44gは、実装部40における左右の支持フレーム41の上面の前側端部に、左右の支持フレーム41に架け渡して設けられている。チップ認識カメラ44a〜44dは、カメラ支持フレーム44gの梁の部分の下側に支持されている。 The chip recognition cameras 44a to 44d are supported by a pair of XY moving devices 44e and 44f so as to be movable in the XY direction in pairs. The two chip recognition cameras (44a and 44b and 44c and 44d) to be paired are provided at the same arrangement intervals as the mounting tools 43a and 43b and the suction nozzles 37a and 37b. The pair of XY moving devices 44e and 44f are supported by the camera support frame 44g. The camera support frame 44g has a portal shape when viewed from the front, and extends in the X direction between the component supply portion 10 on the base portion 1a and the stage portion 20. The camera support frame 44g is provided at the front end of the upper surface of the left and right support frames 41 in the mounting portion 40 so as to span the left and right support frames 41. The chip recognition cameras 44a to 44d are supported under the beam portion of the camera support frame 44g.

このような実装部40は、移載部30によって部品供給部10から取り出された電子部品tを受け取り、受け取った電子部品tをステージ21に載置された基板W上に実装する。本実施形態においては、第1の実装ヘッド43Aの実装ツール43a、43bが、第1の領域MA1に電子部品tを実装し、第2の実装ヘッド43Bの実装ツール43a、43bが、第2の領域MA2に電子部品tを実装する。第1の実装ヘッド43Aによる電子部品tの実装と第2の実装ヘッド43Bによる電子部品tの実装とは、並行的に行われる。 Such a mounting unit 40 receives the electronic component t taken out from the component supply unit 10 by the transfer unit 30, and mounts the received electronic component t on the substrate W mounted on the stage 21. In the present embodiment, the mounting tools 43a and 43b of the first mounting head 43A mount the electronic component t in the first region MA1, and the mounting tools 43a and 43b of the second mounting head 43B are the second. The electronic component t is mounted in the region MA2. The mounting of the electronic component t by the first mounting head 43A and the mounting of the electronic component t by the second mounting head 43B are performed in parallel.

図2に示すように、ステージ21がベース部1a上のX方向中央に位置し、ステージ21の中央に基板Wが支持された状態において、実装時における第1の実装ヘッド43Aは、ステージ21に対して一方の側(図中、左側)に配置され、第2の実装ヘッド43Bは、ステージ21に対して他方の側(図中、右側)に配置されている。この第1の実装ヘッド43Aと第2の実装ヘッド43Bの移動可能な範囲は、ベース部1aのX方向の中央位置を境に2分されている。これにより、第1の実装ヘッド43Aとその基板認識カメラ43fは、ベース部1aの中央位置を越えて第2の実装ヘッド43Bの移動領域に移動することができず、第2の実装ヘッド43Bとその基板認識カメラ43fは、ベース部1aの中央位置を越えて第1の実装ヘッド43Aの移動領域に移動することができないようになっている。なお、図5に、ステージ21と基板認識カメラ43fを示す。図5では、後述する校正基板71がステージ21に載置されている様子を示している。ステージ21は、そのX方向の移動ストロークの中央に位置付けられている。また、図5は、第1の実装ヘッド43Aと第2の実装ヘッド43Bが、各移動範囲の左端に位置している様子を示している。したがって、図5では各基板認識カメラ43fが各移動範囲の左端に位置するように描かれている。このような第1の実装ヘッド43A、第2の実装ヘッド43Bの移動範囲は、本実施形態では、物理的な機構により制限されている。但し、移動範囲は、プログラムの制御により制限されていてもよい。 As shown in FIG. 2, in a state where the stage 21 is located at the center of the base portion 1a in the X direction and the substrate W is supported at the center of the stage 21, the first mounting head 43A at the time of mounting is mounted on the stage 21. On the other hand, the second mounting head 43B is arranged on one side (left side in the drawing), and the second mounting head 43B is arranged on the other side (right side in the drawing) with respect to the stage 21. The movable range of the first mounting head 43A and the second mounting head 43B is divided into two with the central position of the base portion 1a in the X direction as a boundary. As a result, the first mounting head 43A and its board recognition camera 43f cannot move beyond the central position of the base portion 1a to the moving region of the second mounting head 43B, and the second mounting head 43B and the second mounting head 43B cannot move. The substrate recognition camera 43f cannot move beyond the central position of the base portion 1a to the moving region of the first mounting head 43A. Note that FIG. 5 shows the stage 21 and the substrate recognition camera 43f. FIG. 5 shows how the calibration board 71, which will be described later, is mounted on the stage 21. The stage 21 is positioned at the center of the movement stroke in the X direction. Further, FIG. 5 shows how the first mounting head 43A and the second mounting head 43B are located at the left end of each movement range. Therefore, in FIG. 5, each substrate recognition camera 43f is drawn so as to be located at the left end of each movement range. In this embodiment, the range of movement of the first mounting head 43A and the second mounting head 43B is limited by a physical mechanism. However, the range of movement may be limited by the control of the program.

上記のように、第1の認識部、第2の認識部の移動範囲は、ベース部1a上を2分する領域で制限されている。したがって、一方の認識部を移動させても、他方の認識部の領域に存在するマークを認識することはできない。そのため、認識部の移動だけでは同じマーク(共通のマーク)を認識することができない。しかし、本実施形態では、ステージ移動機構22は、第1の認識部及び第2の認識部が、共通のマークを認識可能となるように、ステージ21を移動させることができる。つまり、上記のように、ステージ21は、ステージ21のX方向の中央部分が重複するように移動できるようになっている。ステージ21が移動することにより、例えば、共通のマークとして、校正基板71の第1の認識部の移動範囲に対応する第1の領域MA1におけるドットマーク72を、第2の認識部である第2の実装部40Bの基板認識カメラ43fが撮像することができる位置まで移動させることができる。つまり、同じドットマーク72(共通のマーク)を第1の実装部40Aの基板認識カメラ43fと第2の実装部40Bの基板認識カメラ43fとが撮像することができる。前述のように、ステージ移動機構22は、ステージ21に載置される最も大きな基板Wを、X方向においては基板WのX方向の寸法の2分の1より若干大きい(1/2X+α)範囲で移動させることができる移動ストロークを有している。そして、この+αの大きさは、校正基板71における第1の領域MA1(図1参照)のドットマーク72の列(Y方向に沿う列)のうち、共通のマークとして用いるドットマーク72が位置する列数に応じて決定することができる。例えば、第1の領域MA1における第2の領域MA2寄りに位置する2列内に、共通のマークとして用いるドットマーク72がある場合、この2列分を囲む領域のX方向の長さに基づいて+αを決定することができる。(図6参照)このようにして決定された+αの範囲によって、ステージ移動機構22は、第1の認識部及び第2の認識部が、共通のマークを認識可能となるように、ステージ21を移動させることができる。 As described above, the moving range of the first recognition unit and the second recognition unit is limited by the region that divides the base unit 1a into two. Therefore, even if one recognition unit is moved, the mark existing in the area of the other recognition unit cannot be recognized. Therefore, the same mark (common mark) cannot be recognized only by moving the recognition unit. However, in the present embodiment, the stage moving mechanism 22 can move the stage 21 so that the first recognition unit and the second recognition unit can recognize the common mark. That is, as described above, the stage 21 can be moved so that the central portion of the stage 21 in the X direction overlaps. By moving the stage 21, for example, as a common mark, the dot mark 72 in the first region MA1 corresponding to the movement range of the first recognition unit of the calibration substrate 71 is designated as the second recognition unit, which is the second recognition unit. It can be moved to a position where the board recognition camera 43f of the mounting portion 40B of the above can be imaged. That is, the same dot mark 72 (common mark) can be imaged by the board recognition camera 43f of the first mounting unit 40A and the board recognition camera 43f of the second mounting unit 40B. As described above, the stage moving mechanism 22 sets the largest substrate W mounted on the stage 21 in a range slightly larger (1 / 2X + α) than half of the dimension of the substrate W in the X direction in the X direction. It has a moving stroke that can be moved. The size of this + α is such that the dot mark 72 used as a common mark is located in the row of dot marks 72 (rows along the Y direction) in the first region MA1 (see FIG. 1) on the calibration substrate 71. It can be determined according to the number of columns. For example, when there is a dot mark 72 used as a common mark in two columns located near the second area MA2 in the first area MA1, it is based on the length of the area surrounding the two columns in the X direction. + Α can be determined. (See FIG. 6) With the range of + α determined in this way, the stage moving mechanism 22 sets the stage 21 so that the first recognition unit and the second recognition unit can recognize the common mark. Can be moved.

より具体的には、図6に点線で示す領域のように、校正基板71における第1の領域MA1の第2の領域MA2寄りのドットマーク72の列(Y方向に沿う列)を、第2の実装部40Bの基板認識カメラ43fが撮像可能となるように、ステージ21が移動する。図6では、図5同様に双方の基板認識カメラ43fがそれぞれの移動領域の左端に位置している。但し、図6では、ステージ21が第2の領域MA2側に移動して、第2の実装部40Bの基板認識カメラ43fが、点線で示す第1の領域MA1内のドットマーク72を撮像できる様子を示している。例えば、図6の点線で囲った領域に示すように、第1の領域MA1のドットマーク72のうち、第2の領域MA2に近い2列内のドットマーク72を撮像可能とする。なお、ステージ移動機構22が移動することにより、第2の領域MA2におけるドットマーク72を、第1の実装部40Aの基板認識カメラ43fが撮像することができるようにしてもよい。この場合、例えば、第2の領域MA2のドットマーク72のうち、第1の領域MA1に近い2列内を撮像可能とすれば良い。なお、2列には限定されず、2列より多くてもよいが、少なくとも1列を撮像できればよい。 More specifically, as shown by the dotted line in FIG. 6, the row of dot marks 72 (row along the Y direction) near the second region MA2 of the first region MA1 on the calibration substrate 71 is the second row. The stage 21 moves so that the board recognition camera 43f of the mounting portion 40B of the above can take an image. In FIG. 6, both substrate recognition cameras 43f are located at the left end of each moving region as in FIG. However, in FIG. 6, the stage 21 moves to the second region MA2 side, and the substrate recognition camera 43f of the second mounting portion 40B can image the dot mark 72 in the first region MA1 shown by the dotted line. Is shown. For example, as shown in the area surrounded by the dotted line in FIG. 6, among the dot marks 72 in the first area MA1, the dot marks 72 in the two rows close to the second area MA2 can be imaged. The movement of the stage moving mechanism 22 may allow the substrate recognition camera 43f of the first mounting unit 40A to image the dot mark 72 in the second region MA2. In this case, for example, among the dot marks 72 of the second region MA2, it is sufficient to enable imaging in two rows close to the first region MA1. The number of rows is not limited to two, and the number may be more than two, but at least one row may be imaged.

(制御装置)
制御装置50の構成を、図7のブロック図を参照して説明する。制御装置50は、記憶部56に記憶された制御情報に基づいて、部品供給部10、ステージ部20、移載部30、実装部40の動作を制御する装置である。制御装置50は、例えば、専用の電子回路若しくは所定のプログラムで動作するコンピュータ等によって構成できる。つまり、部品供給部10、ステージ部20、移載部30、実装部40の制御に関して、その制御内容がプログラムされており、PLCやCPUなどの処理装置により実行される。
(Control device)
The configuration of the control device 50 will be described with reference to the block diagram of FIG. The control device 50 is a device that controls the operations of the component supply unit 10, the stage unit 20, the transfer unit 30, and the mounting unit 40 based on the control information stored in the storage unit 56. The control device 50 can be configured by, for example, a dedicated electronic circuit, a computer operating with a predetermined program, or the like. That is, the control contents of the control of the component supply unit 10, the stage unit 20, the transfer unit 30, and the mounting unit 40 are programmed and executed by a processing device such as a PLC or a CPU.

制御装置50は、機構制御部51、画像処理部52、移動誤差補正データ算出部53、認識誤差補正データ算出部54、補正部55、記憶部56、入出力制御部57を有する。機構制御部51は、部品供給部10、ステージ部20、移載部30、実装部40の動作を制御する。画像処理部52は、ウエーハ認識カメラ38、基板認識カメラ43f、チップ認識カメラ44a〜44dからの画像データを、ディスプレイの表示に適した形式に変換する。 The control device 50 includes a mechanism control unit 51, an image processing unit 52, a movement error correction data calculation unit 53, a recognition error correction data calculation unit 54, a correction unit 55, a storage unit 56, and an input / output control unit 57. The mechanism control unit 51 controls the operations of the component supply unit 10, the stage unit 20, the transfer unit 30, and the mounting unit 40. The image processing unit 52 converts the image data from the wafer recognition camera 38, the substrate recognition camera 43f, and the chip recognition cameras 44a to 44d into a format suitable for display.

移動誤差補正データ算出部53は、ステージ21の移動により生じる移動誤差を補正するための移動誤差補正データを算出する。移動誤差は、ステージ21の移動をガイドするガイドレールの精度、金属フレームへの組み付け精度等に起因して生じる誤差である。 The movement error correction data calculation unit 53 calculates the movement error correction data for correcting the movement error caused by the movement of the stage 21. The movement error is an error caused by the accuracy of the guide rail that guides the movement of the stage 21, the accuracy of assembling to the metal frame, and the like.

認識誤差補正データ算出部54は、第1の認識部及び第2の認識部が認識した共通のマークの位置に基づいて、第1の認識部と第2の認識部との間の認識誤差を補正するための認識誤差補正データを算出する。このような認識誤差が生じるのは、第1の実装部40Aの第1の認識部の座標系と第2の実装部40Bの認識部の座標系とにずれがあるためである。 The recognition error correction data calculation unit 54 determines the recognition error between the first recognition unit and the second recognition unit based on the positions of the common marks recognized by the first recognition unit and the second recognition unit. Calculate the recognition error correction data for correction. Such a recognition error occurs because there is a discrepancy between the coordinate system of the first recognition unit of the first mounting unit 40A and the coordinate system of the recognition unit of the second mounting unit 40B.

このようなずれがあると、例えば、図8(A)に示す第1の領域MA1に実装された電子部品tの位置と、図8(B)に示す第2の領域MA2に実装された電子部品tの位置に、図8(C)に示すように、ずれdが発生する。図8(C)では、Y方向のずれdのみを示しているが、X方向のずれも発生する。このような認識誤差を補正するデータが、認識誤差補正データである。 If there is such a deviation, for example, the position of the electronic component t mounted in the first region MA1 shown in FIG. 8 (A) and the electron mounted in the second region MA2 shown in FIG. 8 (B). As shown in FIG. 8C, a deviation d occurs at the position of the component t. In FIG. 8C, only the deviation d in the Y direction is shown, but the deviation in the X direction also occurs. The data for correcting such a recognition error is the recognition error correction data.

また、上記のように、第1の認識部又は第2の認識部に共通のマークを認識させるために、ステージ21が移動する。この場合にも、ステージ21の移動誤差が発生することがある。本実施形態の移動誤差補正データ算出部53は、共通のマークの認識のためのステージ21の第1の領域MA1と第2の領域MA2にまたがって重複した移動における移動誤差を補正する移動誤差補正データも算出する。 Further, as described above, the stage 21 moves in order for the first recognition unit or the second recognition unit to recognize the common mark. In this case as well, a movement error of the stage 21 may occur. The movement error correction data calculation unit 53 of the present embodiment corrects the movement error in the overlapping movement across the first region MA1 and the second region MA2 of the stage 21 for recognizing a common mark. Data is also calculated.

移動誤差補正データの算出は、ドットマーク72を有する校正基板71や、電子部品tを実装済の基板W(製品用であっても試験用であってもよい)を用いて行うことができる。具体的には、校正基板71をステージ21上にセットする。左右の基板認識カメラ43fを所定位置で停止させた状態で、移動誤差補正データを取得したい範囲内でステージ21(校正基板71)をドットマーク72の配置でピッチ移動させる。そして、当該範囲内において、基板認識カメラ43fの撮像により認識される各ドットマーク72の位置と基準位置(例えば、撮像視野の中心)との位置ずれを求め、これらに基づいて、移動誤差補正データを算出する。校正基板71のドットマーク72に代えて、基板Wに実装済の電子部品tを用いる場合も同様である。 The movement error correction data can be calculated using the calibration substrate 71 having the dot mark 72 and the substrate W on which the electronic component t is mounted (whether it is for a product or for a test). Specifically, the calibration board 71 is set on the stage 21. With the left and right board recognition cameras 43f stopped at predetermined positions, the stage 21 (calibration board 71) is pitch-moved in the arrangement of the dot marks 72 within the range in which movement error correction data is desired to be acquired. Then, within the range, the positional deviation between the position of each dot mark 72 recognized by the imaging of the substrate recognition camera 43f and the reference position (for example, the center of the imaging field of view) is obtained, and based on these, the movement error correction data is obtained. Is calculated. The same applies to the case where the electronic component t already mounted on the substrate W is used instead of the dot mark 72 of the calibration substrate 71.

さらに、移動誤差補正データには、ステージ21の移動誤差のみならず、基板認識カメラ43f、実装ヘッド43A、43Bの移動誤差を含めてもよい。つまり、移動誤差補正データ算出部53が、移動誤差補正データを算出する際に、ステージ21のみならず、実装ヘッド43A、43Bについても、移動誤差補正データを取得し、移動の際の移動誤差を補正するようにしてもよい。実装ヘッド43A、43Bの移動誤差補正データは、ステージ21の移動誤差補正データと同様に、ドットマーク72を有する校正基板71や、電子部品tを実装済の基板Wを用いて取得することができる。なお、基板認識カメラ43fは、実装ヘッド43に搭載されているので、基板認識カメラ43fの移動誤差補正データも実装ヘッド43の移動誤差補正データと同じと見なせる。 Further, the movement error correction data may include not only the movement error of the stage 21 but also the movement error of the substrate recognition camera 43f, the mounting heads 43A, and 43B. That is, when the movement error correction data calculation unit 53 calculates the movement error correction data, it acquires the movement error correction data not only for the stage 21 but also for the mounting heads 43A and 43B, and obtains the movement error during movement. It may be corrected. The movement error correction data of the mounting heads 43A and 43B can be acquired by using the calibration board 71 having the dot mark 72 and the board W on which the electronic component t is mounted, similarly to the movement error correction data of the stage 21. .. Since the board recognition camera 43f is mounted on the mounting head 43, the movement error correction data of the board recognition camera 43f can be regarded as the same as the movement error correction data of the mounting head 43.

具体的には、上記のように、校正基板71をステージ21上にセットする。ステージ21を原点位置で固定(停止)させた状態とし、移動誤差補正データを取得したい範囲内で実装ヘッド43A、43B(基板認識カメラ43f)をドットマーク72の配置でピッチ移動させる。そして、当該範囲内において、基板認識カメラ43fの撮像により認識される各ドットマーク72の位置と、基準位置(例えば、撮像視野の中心)との位置ずれを求め、これらに基づいて、移動誤差補正データを算出する。これにより、より一層正確な実装が可能となる。校正基板71のドットマーク72に代えて、基板Wに実装済の電子部品tを用いる場合も同様にできる。 Specifically, as described above, the calibration board 71 is set on the stage 21. The stage 21 is fixed (stopped) at the origin position, and the mounting heads 43A and 43B (board recognition camera 43f) are pitch-moved in the arrangement of the dot marks 72 within the range in which the movement error correction data is desired to be acquired. Then, within the range, the positional deviation between the position of each dot mark 72 recognized by the imaging of the substrate recognition camera 43f and the reference position (for example, the center of the imaging field of view) is obtained, and the movement error correction is performed based on these. Calculate the data. This enables even more accurate mounting. The same can be applied when the electronic component t already mounted on the substrate W is used instead of the dot mark 72 of the calibration substrate 71.

補正部55は、移動位置誤差データ、認識誤差補正データに基づいて、実装ヘッド43による実装位置apに対する電子部品tの位置決め位置を補正する。つまり、補正部55は、移動位置誤差データ、認識誤差補正データに基づいて、第1の実装部40A、第2の実装部40Bによって、電子部品tを実装位置apに位置付けるための第1の実装ヘッド43A、第2の実装ヘッド43Bの座標上の移動量を補正する。これは、座標上の位置決めの目標となる目標位置を補正することを意味する。 The correction unit 55 corrects the positioning position of the electronic component t with respect to the mounting position ap by the mounting head 43 based on the moving position error data and the recognition error correction data. That is, the correction unit 55 is the first mounting unit for positioning the electronic component t at the mounting position ap by the first mounting unit 40A and the second mounting unit 40B based on the moving position error data and the recognition error correction data. The amount of movement on the coordinates of the head 43A and the second mounting head 43B is corrected. This means correcting the target position, which is the target of positioning on the coordinates.

記憶部56は、実装装置1の制御に必要な各種の情報を記憶する。記憶部56が記憶する情報には、基板Wに対して電子部品tを実装するための各部の動作プログラムの他、移動位置誤差データ、認識誤差補正データ、各実装位置apの座標、実装領域MAの座標、位置決め位置の座標、ウエーハ認識カメラ38、基板認識カメラ43f、チップ認識カメラ44a〜44dからの画像データ、認識されたマークの位置座標等も含まれる。 The storage unit 56 stores various types of information necessary for controlling the mounting device 1. The information stored in the storage unit 56 includes the operation program of each unit for mounting the electronic component t on the substrate W, the movement position error data, the recognition error correction data, the coordinates of each mounting position ap, and the mounting area MA. Coordinates, positioning position coordinates, image data from the wafer recognition camera 38, the substrate recognition camera 43f, the chip recognition cameras 44a to 44d, the position coordinates of the recognized mark, and the like are also included.

さらに、制御装置50には、入力装置61、出力装置62が接続されている。入力装置61は、オペレータが、制御装置50を介して実装装置1を操作するためのタッチパネル、ジョイスティック、スイッチ、キーボード、マウス等の入力手段である。 Further, an input device 61 and an output device 62 are connected to the control device 50. The input device 61 is an input means such as a touch panel, a joystick, a switch, a keyboard, and a mouse for the operator to operate the mounting device 1 via the control device 50.

出力装置62は、装置の状態を確認するための情報を、オペレータが認識可能な状態とするディスプレイ、ランプ、メータ、スピーカ、ブザー等の出力手段である。例えば、ウエーハ認識カメラ38、基板認識カメラ43f、チップ認識カメラ44a〜44dにより撮像された画像は、ディスプレイに表示され、オペレータが確認できる。 The output device 62 is an output means such as a display, a lamp, a meter, a speaker, and a buzzer that makes information for confirming the state of the device in a state that can be recognized by the operator. For example, the images captured by the wafer recognition camera 38, the substrate recognition camera 43f, and the chip recognition cameras 44a to 44d are displayed on the display and can be confirmed by the operator.

[実装装置の動作]
次に、実装装置1の動作について、上記の図1〜図8に加えて、図9及び図10を参照して説明する。
[Operation of mounting device]
Next, the operation of the mounting device 1 will be described with reference to FIGS. 9 and 10 in addition to FIGS. 1 to 8 above.

[概要]
基板Wの各実装領域に電子部品t等の電子部品を実装するにあたって、グローバル認識方式のみを適用する場合、ローカルマークによる個々の実装位置apの位置認識は行われない。このため、各実装位置apに対する電子部品tの位置決め精度は、基板Wのグローバルマーク等の認識精度とステージ21のステージ移動機構22の機械加工精度等に頼ることになる。
[Overview]
When only the global recognition method is applied when mounting an electronic component such as an electronic component t in each mounting area of the substrate W, the position recognition of each mounting position a by the local mark is not performed. Therefore, the positioning accuracy of the electronic component t with respect to each mounting position a depends on the recognition accuracy of the global mark of the substrate W and the machining accuracy of the stage moving mechanism 22 of the stage 21.

しかしながら、ステージ21の移動をガイドするガイドレール等を、所望の範囲にわたって±数μm以下の精度で仕上げることは、金属加工上実質的に不可能である。しかも、所望の長さを有するガイドレールを金属フレーム等に±数μm以下の直進性とうねりで組み付けることは、尚更不可能である。そこで、移動誤差補正データ算出部53が、ステージ21の移動位置誤差を測定し、ステージ21の移動誤差を補正する移動誤差補正データを算出し、これを記憶部56に記憶する。 However, it is practically impossible in metal processing to finish a guide rail or the like that guides the movement of the stage 21 with an accuracy of ± several μm or less over a desired range. Moreover, it is even more impossible to assemble a guide rail having a desired length to a metal frame or the like with straightness and swell of ± several μm or less. Therefore, the movement error correction data calculation unit 53 measures the movement position error of the stage 21, calculates the movement error correction data for correcting the movement error of the stage 21, and stores this in the storage unit 56.

また、本実施形態では、第1の認識部と第2の認識部によって、共通のマークの座標を認識し、両者が認識した座標の差分を求めて認識誤差を測定し、認識誤差を補正する認識誤差補正データを算出し、これを記憶部56が記憶する。さらに、本実施形態では、第1の認識部又は第2の認識部が、共通のマークを認識するために、ステージ21が移動する。このステージ21の移動における移動誤差を補正する移動誤差補正データも、記憶部56が記憶する。 Further, in the present embodiment, the first recognition unit and the second recognition unit recognize the coordinates of the common mark, obtain the difference between the coordinates recognized by both, measure the recognition error, and correct the recognition error. The recognition error correction data is calculated, and the storage unit 56 stores the data. Further, in the present embodiment, the stage 21 is moved so that the first recognition unit or the second recognition unit recognizes the common mark. The storage unit 56 also stores the movement error correction data for correcting the movement error in the movement of the stage 21.

[キャリブレーション]
以上のような、移動誤差補正データの算出と記憶、認識誤差補正データの算出と記憶を、キャリブレーションと呼ぶ。まず、電子部品tの実装の前に行うキャリブレーションの動作を説明する。このキャリブレーションには、図5、図6、図9に示すように、校正基板71を使用する。校正基板71は、例えばガラス製の基板に位置認識用のドットマーク72が、数mm間隔のマトリクス(行列)状に設けられたものである(一部のドットマーク72の図示は省略している)。校正基板71の大きさは、限定されるものではないが、実装装置1が適用できる最大の大きさの基板Wと同程度の大きさを有し、ドットマーク72が設けられた範囲は、基板W上の実装領域MAを含む範囲と同じ大きさとするのが好ましい。なお、ドットマーク72は、ステージ21の移動誤差を把握するためのマークであり、実装位置apに対応しているわけではない。実装位置apの配置は、主に電子部品tの大きさに基づいているが、ドットマーク72は、要求精度が確保できる最大の間隔で配置することが好ましい。ドットマーク72の間隔が短いほど、移動誤差を精度よく把握できる一方、所定の距離の間で認識する回数が多くなるので、認識に要する時間が長くなる。また、ドットマーク72は、金属薄膜等で形成されており、エッチングや、スパッタリング等の成膜技術を用いて形成することができる。このような校正基板71をステージ21上にセットする。校正基板71のセット方法は特に限定されないが、例えば、ステージ21のX方向の移動のみで、X方向に沿う同一列状のステージ21の可動範囲にある全てのドットマーク72が基板認識カメラ43fの撮像視野Vの中心を通るように、ステージ21上での校正基板71の位置を調整する。
[Calibration]
The calculation and storage of the movement error correction data and the calculation and storage of the recognition error correction data as described above are called calibration. First, the operation of calibration performed before mounting the electronic component t will be described. For this calibration, the calibration board 71 is used as shown in FIGS. 5, 6 and 9. In the calibration substrate 71, for example, dot marks 72 for position recognition are provided on a glass substrate in a matrix (matrix) at intervals of several mm (some dot marks 72 are not shown). ). The size of the calibration board 71 is not limited, but has the same size as the board W having the maximum size to which the mounting device 1 can be applied, and the range in which the dot mark 72 is provided is the board. It is preferable that the size is the same as the range including the mounting area MA on W. The dot mark 72 is a mark for grasping the movement error of the stage 21, and does not correspond to the mounting position ap. The arrangement of the mounting positions ap is mainly based on the size of the electronic component t, but it is preferable that the dot marks 72 are arranged at the maximum interval that can ensure the required accuracy. The shorter the interval between the dot marks 72, the more accurately the movement error can be grasped, but the more times the dot marks 72 are recognized within a predetermined distance, so that the time required for recognition becomes longer. Further, the dot mark 72 is formed of a metal thin film or the like, and can be formed by using a film forming technique such as etching or sputtering. Such a calibration board 71 is set on the stage 21. The method of setting the calibration board 71 is not particularly limited. For example, only by moving the stage 21 in the X direction, all the dot marks 72 in the movable range of the stage 21 in the same row along the X direction are the board recognition camera 43f. The position of the calibration substrate 71 on the stage 21 is adjusted so as to pass through the center of the imaging field of view V.

(移動誤差補正データの算出)
次に、上記した方法でステージ21上にセットされた校正基板71の各ドットマーク72の位置を、第1の認識部、第2の認識部が認識し、移動誤差補正データ算出部53が、ステージ21の移動誤差補正データを算出する。つまり、第1の認識部の基板認識カメラ43f、第2の認識部の基板認識カメラ43fが、ドットマーク72の位置を認識する。そして、移動誤差補正データ算出部53が、ドットマーク72の移動誤差およびそれに基づく移動誤差補正データを算出する。この時、ドットマーク72を実装位置apと見なし、ドットマーク72が設けられた範囲を実装領域MAと仮定する。実装領域MAを2分し、前述の、第1の領域MA1、第2の領域MA2を仮定する。以後、校正基板71においても単に実装領域MA、第1の領域MA1、第2の領域MA2という。
(Calculation of movement error correction data)
Next, the first recognition unit and the second recognition unit recognize the positions of the dot marks 72 of the calibration board 71 set on the stage 21 by the above method, and the movement error correction data calculation unit 53 determines. The movement error correction data of the stage 21 is calculated. That is, the board recognition camera 43f of the first recognition unit and the board recognition camera 43f of the second recognition unit recognize the position of the dot mark 72. Then, the movement error correction data calculation unit 53 calculates the movement error of the dot mark 72 and the movement error correction data based on the movement error. At this time, the dot mark 72 is regarded as the mounting position ap, and the range in which the dot mark 72 is provided is assumed to be the mounting area MA. The mounting area MA is divided into two, and the above-mentioned first area MA1 and second area MA2 are assumed. Hereinafter, the calibration board 71 is also simply referred to as a mounting region MA, a first region MA1, and a second region MA2.

ドットマーク72の認識は、第1の認識部の基板認識カメラ43f、第2の認識部の基板認識カメラ43fを、それぞれ所定の位置で停止させた状態で校正基板71を移動させることによって行う。校正基板71上のドットマーク72の撮像は、例えば、図9に示すように、校正基板71の後部(ベース部1aの後部側に位置する側)左端に位置するドットマーク72からX方向右側に向けてドットマーク72の配置間隔であるピッチ単位で移動を開始し、前部(ベース部1aの前部側に位置する側)に向けて順次折返しながら行う。 The dot mark 72 is recognized by moving the calibration board 71 with the board recognition camera 43f of the first recognition unit and the board recognition camera 43f of the second recognition unit stopped at predetermined positions. As shown in FIG. 9, the image of the dot mark 72 on the calibration board 71 is taken from the dot mark 72 located at the left end of the rear part (the side located on the rear side of the base portion 1a) of the calibration board 71 to the right side in the X direction, for example. The movement is started in pitch units, which is the arrangement interval of the dot marks 72, and is sequentially folded back toward the front portion (the side located on the front portion side of the base portion 1a).

この際、校正基板71上のドットマーク72のうち、第1の領域MA1に設けられたドットマーク72を、第1の認識部の基板認識カメラ43fが撮像する。また、校正基板71上のドットマーク72のうち、第2の領域MA2に設けられたドットマーク72を、第2の認識部の基板認識カメラ43fが撮像する。 At this time, among the dot marks 72 on the calibration board 71, the dot marks 72 provided in the first region MA1 are imaged by the board recognition camera 43f of the first recognition unit. Further, among the dot marks 72 on the calibration board 71, the dot marks 72 provided in the second region MA2 are imaged by the board recognition camera 43f of the second recognition unit.

具体的には、例えば、図9に示すように、ステージ21をステージ移動機構22のXY方向の移動ストロークの中央に位置(この位置を原点位置と称する。)させた状態で、第1の認識部の基板認識カメラ43fを校正基板71上で第1の領域MA1に対応して位置するドットマーク群の中央71Aに位置付ける。また、第2の認識部の基板認識カメラ43fを、校正基板71上で第2の領域MA2に対応して位置するドットマーク群の中央71Bに位置付ける。つまり、校正基板71の実装領域MA中心をステージ21の原点位置に位置付けた状態で、校正基板71の第1の領域MA1及び第2の領域MA2のそれぞれの中央位置にそれぞれの基板認識カメラ43fを位置付ける。したがって、二つの基板認識カメラ43fは、Y方向に同じ位置で、X方向に第1の領域MA1と第2の領域MA2の間隔(ピッチ)相当の間隔で位置付けられることになる。この状態から、双方の基板認識カメラ43fのXY位置を停止させたままで、オペレータがディスプレイを見ながらステージ移動機構22を操作して、第1の領域MA1に対応するドットマーク群の左上のドットマーク72が、第1の認識部の基板認識カメラ43fの撮像視野Vの中心に位置するように、校正基板71を移動させる。これによって、第1の領域MA1に対応するドットマーク群の左上のドットマーク72が、第1の認識部の基板認識カメラ43fの撮像視野V内に位置することとなる。この時、第2の領域MA2に対応するドットマーク群の左上のドットマーク72が、第2の認識部の基板認識カメラ43fの撮像視野V内に位置する関係になっている。第1の領域MA1、第2の領域MA2に対応するそれぞれのドットマーク群において、左上のドットマーク72が1番目のドットマーク72となる。 Specifically, for example, as shown in FIG. 9, the first recognition is performed with the stage 21 positioned at the center of the moving stroke of the stage moving mechanism 22 in the XY direction (this position is referred to as the origin position). The substrate recognition camera 43f of the unit is positioned on the calibration substrate 71 at the center 71A of the dot mark group located corresponding to the first region MA1. Further, the substrate recognition camera 43f of the second recognition unit is positioned at the center 71B of the dot mark group located on the calibration substrate 71 corresponding to the second region MA2. That is, with the mounting area MA center of the calibration board 71 positioned at the origin position of the stage 21, the board recognition cameras 43f are placed at the center positions of the first area MA1 and the second area MA2 of the calibration board 71. Position. Therefore, the two substrate recognition cameras 43f are positioned at the same position in the Y direction and at an interval corresponding to the interval (pitch) between the first region MA1 and the second region MA2 in the X direction. From this state, with the XY positions of both board recognition cameras 43f stopped, the operator operates the stage moving mechanism 22 while looking at the display, and the dot mark on the upper left of the dot mark group corresponding to the first region MA1. The calibration board 71 is moved so that the 72 is located at the center of the imaging field of view V of the board recognition camera 43f of the first recognition unit. As a result, the dot mark 72 on the upper left of the dot mark group corresponding to the first region MA1 is located within the imaging field of view V of the substrate recognition camera 43f of the first recognition unit. At this time, the dot mark 72 on the upper left of the dot mark group corresponding to the second region MA2 is located in the imaging field of view V of the substrate recognition camera 43f of the second recognition unit. In each dot mark group corresponding to the first region MA1 and the second region MA2, the upper left dot mark 72 becomes the first dot mark 72.

1番目のドットマーク72を基板認識カメラ43fの撮像視野Vの中心となるように位置付けたら、双方の基板認識カメラ43fによるドットマーク72の検出動作が開始される。ここから先は、制御装置50による自動制御で行なわれる。検出動作は、オペレータがタッチパネルに表示される検出動作の開始ボタンを押す(タッチする)ことで開始される。ドットマーク72の検出動作が開始されると、まず1番目のドットマーク72が撮像される。撮像された1番目のドットマーク72の画像は、公知の画像認識技術を用いて処理され、基板認識カメラ43fの撮像視野Vの中心に対するドットマーク72の位置ずれが検出される。検出された位置ずれは、ステージ21の移動位置(XY座標)と対になる情報として記憶部56に記憶される。このように、ドットマーク72の位置認識には、画像による認識、位置の把握、位置ずれの検出が含まれる。 When the first dot mark 72 is positioned so as to be the center of the imaging field of view V of the substrate recognition camera 43f, the detection operation of the dot mark 72 by both substrate recognition cameras 43f is started. From this point onward, automatic control is performed by the control device 50. The detection operation is started by the operator pressing (touching) the start button of the detection operation displayed on the touch panel. When the detection operation of the dot mark 72 is started, the first dot mark 72 is first imaged. The image of the first dot mark 72 captured is processed by using a known image recognition technique, and the displacement of the dot mark 72 with respect to the center of the imaging field of view V of the substrate recognition camera 43f is detected. The detected positional deviation is stored in the storage unit 56 as information paired with the moving position (XY coordinates) of the stage 21. As described above, the position recognition of the dot mark 72 includes recognition by an image, grasping of the position, and detection of misalignment.

1番目のドットマーク72の位置認識が完了したら、前述した移動順序にしたがって、次(2番目)のドットマーク72をカメラの視野内に位置付けるべくステージ21が移動する。図9の例では、2番目のドットマーク72は1番目のドットマーク72の右隣に位置しているので、ステージ21をX方向左側へ1ピッチ移動させる。 When the position recognition of the first dot mark 72 is completed, the stage 21 moves to position the next (second) dot mark 72 in the field of view of the camera according to the movement order described above. In the example of FIG. 9, since the second dot mark 72 is located to the right of the first dot mark 72, the stage 21 is moved one pitch to the left in the X direction.

ステージ21の移動は、ステージ21のXY移動機構(ステージ移動機構22)に設けられたリニアエンコーダの読み取り値に基づいて行われる。ステージ21の移動が完了したら、1番目のドットマーク72と同様にして、2番目のドットマーク72の位置ずれが検出され、このときのステージ21のXY座標と対となる情報として記憶部56に記憶される。このような動作を双方の基板認識カメラ43fによってそれぞれの対象とする領域のドットマーク72に対して行い、校正基板71上の全てのドットマーク72それぞれの位置に対応するドットマーク72の移動誤差補正データを算出し、記憶部56が記憶する。上述の校正基板71上の全てのドットマーク72の移動誤差補正データが算出されたら、ステージ移動機構22で校正基板71をステージ21のX方向ストロークにおける+αの分移動させ、この+αの領域に存在するドットマーク72を、第2の認識部の基板認識カメラ43fによって認識させ、+αの領域の移動誤差補正データをさらに算出し記憶する。これにより、ステージ21の移動が重複できる部分については、ステージ21の移動が拡張した分も移動誤差補正データが取得される。 The movement of the stage 21 is performed based on the reading value of the linear encoder provided in the XY movement mechanism (stage movement mechanism 22) of the stage 21. When the movement of the stage 21 is completed, the misalignment of the second dot mark 72 is detected in the same manner as the first dot mark 72, and the storage unit 56 stores the information as a pair with the XY coordinates of the stage 21 at this time. It will be remembered. Such an operation is performed on the dot marks 72 in each target area by both board recognition cameras 43f, and the movement error correction of the dot marks 72 corresponding to the respective positions of all the dot marks 72 on the calibration board 71 is performed. The data is calculated and stored in the storage unit 56. After the movement error correction data of all the dot marks 72 on the calibration board 71 is calculated, the stage movement mechanism 22 moves the calibration board 71 by + α in the X-direction stroke of the stage 21 and exists in this + α region. The dot mark 72 to be used is recognized by the substrate recognition camera 43f of the second recognition unit, and the movement error correction data in the + α region is further calculated and stored. As a result, for the portion where the movement of the stage 21 can overlap, the movement error correction data is acquired as much as the movement of the stage 21 is expanded.

(認識誤差補正データの算出)
さらに、認識誤差補正データ算出部54が、認識誤差補正データを算出することにより取得する。この認識誤差補正データは、第1の認識部と第2の認識部により、共通のマークを認識して、両者の座標の差分を求めることにより算出する。
(Calculation of recognition error correction data)
Further, the recognition error correction data calculation unit 54 acquires the recognition error correction data by calculating the recognition error correction data. This recognition error correction data is calculated by recognizing a common mark by the first recognition unit and the second recognition unit and obtaining the difference between the coordinates of the two.

例えば、図9に点線で示したように、第1の領域MA1のドットマーク72のうち、第2の領域MA2に近い2列内に位置する少なくとも1つのドットマーク72を共通のマークとする。本実施形態では、2列内に位置する選択された一つのドットマーク72を共通のマークとしている。 For example, as shown by the dotted line in FIG. 9, among the dot marks 72 of the first region MA1, at least one dot mark 72 located in two rows close to the second region MA2 is used as a common mark. In the present embodiment, one selected dot mark 72 located in the two rows is used as a common mark.

より具体的には、図9に示すように、第1の認識部の基板認識カメラ43fをドットマーク群の中央71Aに位置付け、また、第2の認識部の基板認識カメラ43fをドットマーク群の中央71Bに位置付けたままで、ステージ移動機構22によってステージ21を移動させ、第1の領域MA1のドットマーク72のうち、共通のマークとして用いられるドットマーク72を、第2の認識部の基板認識カメラ43fの視野中心に位置付けるように移動させることによって認識する。つまり、第2の認識部の基板認識カメラ43fによって認識するドットマーク72の領域を拡張し、図6に示すのと同様に、既に第1の認識部の基板認識カメラ43fによって認識されたドットマーク72を重複して認識する。そして、共通のドットマーク72に対して、第1の認識部が認識した座標(X,Y)と、第2の認識部が認識した座標(X,Y)との差分を求め、この誤差を補正する認識誤差補正データを算出する。本実施形態では、求めた差分を認識誤差補正データとしている。 More specifically, as shown in FIG. 9, the substrate recognition camera 43f of the first recognition unit is positioned at the center 71A of the dot mark group, and the substrate recognition camera 43f of the second recognition unit is located of the dot mark group. The stage 21 is moved by the stage moving mechanism 22 while being positioned at the center 71B, and the dot mark 72 used as a common mark among the dot marks 72 in the first area MA1 is used as the substrate recognition camera of the second recognition unit. It is recognized by moving it so as to be positioned at the center of the field of view of 43f. That is, the area of the dot mark 72 recognized by the board recognition camera 43f of the second recognition unit is expanded, and the dot mark already recognized by the board recognition camera 43f of the first recognition unit is as shown in FIG. 72 is recognized in duplicate. Then, for the common dot mark 72, the difference between the coordinates (X 1 , Y 1 ) recognized by the first recognition unit and the coordinates (X 2 , Y 2 ) recognized by the second recognition unit is obtained. , Calculate the recognition error correction data that corrects this error. In the present embodiment, the obtained difference is used as recognition error correction data.

このように重複したドットマーク72を認識するためにステージ21を移動させるときには、先に求めた移動誤差補正データを参照してステージ21の移動位置の補正が行われる。このように、第2の認識部が認識した座標(X,Y)は、認識誤差補正データ、移動誤差補正データとともに、記憶部56が記憶する。 When the stage 21 is moved in order to recognize the overlapping dot marks 72 in this way, the movement position of the stage 21 is corrected with reference to the previously obtained movement error correction data. In this way, the coordinates (X 2 , Y 2 ) recognized by the second recognition unit are stored in the storage unit 56 together with the recognition error correction data and the movement error correction data.

上述した移動誤差補正データと認識誤差補正データの算出は、基本的には実装装置1を稼働させるときに実施し、その測定結果に基づいてステージ21の移動を制御すればよい。ただし、ステージ21には、電子部品tの実装を補助するヒータ等が組み込まれる場合がある。このような場合、装置各部の温度が上昇して熱膨張により機械精度が低下するおそれがある。また、実装装置1による電子部品tの実装工程の進行に伴って、実装ヘッド43を移動させる移動装置のモータ等の発熱によっても、装置各部の機械精度が低下することもある。このような温度上昇による移動誤差を考慮する場合、装置稼働時の1回のみに限らず、定期的に実施してもよい。 The calculation of the movement error correction data and the recognition error correction data described above is basically performed when the mounting device 1 is operated, and the movement of the stage 21 may be controlled based on the measurement result. However, the stage 21 may incorporate a heater or the like that assists in mounting the electronic component t. In such a case, the temperature of each part of the apparatus may rise and the mechanical accuracy may decrease due to thermal expansion. Further, as the mounting process of the electronic component t by the mounting device 1 progresses, the mechanical accuracy of each part of the device may decrease due to the heat generated by the motor or the like of the moving device that moves the mounting head 43. When considering the movement error due to such a temperature rise, the movement error may be performed not only once when the device is in operation but also periodically.

また、電子部品tの実装後、実装された基板W上の電子部品tのうち少なくとも1つの電子部品tを共通のマークとして用いるようにしてもよい。このように共通の実装済み電子部品tを、第1の認識部及び第2の認識部にて認識することにより、上記と同様に認識誤差補正データの取得を行ってもよい。つまり、第1の認識部、第2の認識部が認識する共通のマークには、ドットマーク72のみならず、電子部品tも含まれる。なお、電子部品tの位置認識は、実装された電子部品tの上面にアライメントマークや回路パターン等の判別可能なマークが存在する場合にはそのマークを頼りに行なうことが可能であり、そのようなマークが存在しない場合には電子部品tの外形(これもマークの一種に含まれる)を頼りに行なうことが可能である。また、実装済みの電子部品tを共通のマークとして用いる場合には、第1の実装部40Aと第2の実装部40Bとの間に、個体差に起因する実装ずれが生じる可能性があるが、このようなずれについても補正することができる。 Further, after mounting the electronic component t, at least one of the electronic components t on the mounted substrate W may be used as a common mark. By recognizing the common mounted electronic component t by the first recognition unit and the second recognition unit in this way, the recognition error correction data may be acquired in the same manner as described above. That is, the common mark recognized by the first recognition unit and the second recognition unit includes not only the dot mark 72 but also the electronic component t. If there is a distinguishable mark such as an alignment mark or a circuit pattern on the upper surface of the mounted electronic component t, the position recognition of the electronic component t can be performed by relying on the mark. When there is no such mark, it is possible to rely on the outer shape of the electronic component t (which is also included in a kind of mark). Further, when the mounted electronic component t is used as a common mark, there is a possibility that a mounting deviation may occur between the first mounting portion 40A and the second mounting portion 40B due to individual differences. , Such a deviation can also be corrected.

[実装位置の補正]
機構制御部51は、ステージ21に載置された基板W上に仮想的に設定された実装位置apがX方向に沿う実装位置apの行毎に順次実装ラインBL上に位置するようにステージ移動機構22を制御する。このとき、補正部55が、ステージ21の移動位置を補正する補正処理を説明する。
[Correction of mounting position]
The mechanism control unit 51 moves the stage so that the mounting position ap virtually set on the board W mounted on the stage 21 is sequentially located on the mounting line BL for each row of the mounting position ap along the X direction. The mechanism 22 is controlled. At this time, the correction unit 55 will explain the correction process for correcting the moving position of the stage 21.

補正部55は、ステージ21の移動誤差補正データを参照し、今回電子部品tが実装される実装位置apの行を実装ラインBL上に位置付けるときのステージ21の移動位置を補正する。なお、第2の領域MA2に実装する際に、ステージ21の移動誤差補正データ、認識誤差補正データを参照し、今回電子部品tが実装される実装位置apの行を実装ラインBL上に位置付けるときのステージ21の移動位置を補正してもよい。 The correction unit 55 refers to the movement error correction data of the stage 21 and corrects the movement position of the stage 21 when the line of the mounting position ap on which the electronic component t is mounted this time is positioned on the mounting line BL. When mounting in the second region MA2, when the movement error correction data and the recognition error correction data of the stage 21 are referred to and the line of the mounting position ap on which the electronic component t is mounted this time is positioned on the mounting line BL. The moving position of the stage 21 may be corrected.

[電子部品の実装]
上記したキャリブレーションの後に行う電子部品tの基板Wへの実装を、図10のフローチャートを参照して説明する。なお、図10は、ウエーハリング11が搬入されてから、ウエーハリング11の電子部品tを実装し終えるまでの工程を示す。
[Mounting of electronic components]
The mounting of the electronic component t on the substrate W after the above calibration will be described with reference to the flowchart of FIG. Note that FIG. 10 shows a process from the delivery of the wafer ring 11 to the completion of mounting the electronic component t of the wafer ring 11.

(1)ウエーハリングの搬入(ステップS101)
まず、図2に示すように、不図示の収納部からリングホルダ12に電子部品tが保持された新たなウエーハリング11を搬入し、ウエーハリング11をリングホルダ12上に固定する。リングホルダ12上に位置付けられたウエーハリング11は、部品供給部10が備える不図示のエキスパンド機構によってウエーハシートSが引き伸ばされた状態で保持される。
(1) Carrying in wafer ring (step S101)
First, as shown in FIG. 2, a new wafer ring 11 in which the electronic component t is held in the ring holder 12 is carried in from a storage portion (not shown), and the wafer ring 11 is fixed on the ring holder 12. The wafer ring 11 positioned on the ring holder 12 is held in a stretched state by the expanding mechanism (not shown) provided in the component supply unit 10.

(2)基板のセット(ステップS102)
(基板の供給)
不図示の搬送ロボットによって保持された基板Wが、ステージ21に供給される。不図示の搬送ロボットは、基板Wを載置して保持する搬送アームを備えており、基板Wを実装装置1の左側から第1の実装部40Aの支持フレーム41の門の下の空間を通してステージ21上に搬入する。基板Wをステージ21上に供給した後、搬送アームは実装装置1上から退避する。基板Wの供給工程は、ウエーハリング11の搬入と並行して行なってもよいし、個別に行なってもよい。
(2) Board setting (step S102)
(Supply of board)
The substrate W held by the transfer robot (not shown) is supplied to the stage 21. The transfer robot (not shown) includes a transfer arm on which the board W is placed and held, and the board W is placed on the stage from the left side of the mounting device 1 through the space under the gate of the support frame 41 of the first mounting portion 40A. Carry it on 21. After supplying the substrate W onto the stage 21, the transport arm retracts from the mounting device 1. The process of supplying the substrate W may be performed in parallel with the loading of the wafer ring 11, or may be performed individually.

(基板の位置ずれ補正)
ステージ21上に載置された基板Wのグローバルマークを検出し、基板Wの位置を認識する。例えば、基板Wの4隅のうち、3つの角部に設けられたグローバルマークの位置を、基板認識カメラ43fを用いて撮像して検出する。そして、検出した3つのグローバルマークの位置に基づいて基板WのXY方向の位置ずれとθ方向(水平回転方向)の位置ずれを求め、この位置ずれを補正する補正データに基づいて、ステージ21のステージ移動機構22によって、位置ずれを補正する。なおここで、記憶部56には、グローバルマークと各実装位置apとの相対的な位置関係が記憶されており、制御装置50は、グローバルマークの位置に基づいて基板W上の実装位置apを把握できるようになっている。ところで、一方の基板認識カメラ43fは他方の領域へ侵入できない。ステージ21もX方向は基板の半分+αしか移動できない。したがって、基板のX方向両端のグローバルマークは、それぞれの領域の基板認識カメラ43fで認識することになる。なお、上記のようにステージ21に載置された基板Wの位置ずれを補正する際、グローバルマークの検出位置は、上記の移動誤差補正データ、認識誤差補正データに基づいて補正される。このように、基板Wの位置ずれを補正しつつ、最初に実装される実装位置apの行を、ステージ21のY方向ストロークの中心位置(原点位置)に設定した実装ラインBL上に位置付ける。このとき、基板WのX方向は、その中心位置がステージ21のX方向ストロークの中心位置(原点位置)に位置付けられる。
(Correction of board misalignment)
The global mark of the substrate W placed on the stage 21 is detected, and the position of the substrate W is recognized. For example, the positions of the global marks provided at the three corners of the four corners of the substrate W are captured and detected by using the substrate recognition camera 43f. Then, the positional deviation of the substrate W in the XY direction and the positional deviation in the θ direction (horizontal rotation direction) are obtained based on the detected positions of the three global marks, and the stage 21 is based on the correction data for correcting the positional deviation. The stage movement mechanism 22 corrects the misalignment. Here, the storage unit 56 stores the relative positional relationship between the global mark and each mounting position a, and the control device 50 stores the mounting position a on the substrate W based on the position of the global mark. You can grasp it. By the way, one substrate recognition camera 43f cannot enter the other region. The stage 21 can also move only half of the substrate + α in the X direction. Therefore, the global marks at both ends of the substrate in the X direction are recognized by the substrate recognition camera 43f in each region. When correcting the misalignment of the substrate W mounted on the stage 21 as described above, the detection position of the global mark is corrected based on the above-mentioned movement error correction data and recognition error correction data. In this way, while correcting the misalignment of the substrate W, the line of the mounting position ap to be mounted first is positioned on the mounting line BL set at the center position (origin position) of the Y-direction stroke of the stage 21. At this time, the center position of the substrate W in the X direction is positioned at the center position (origin position) of the stroke in the X direction of the stage 21.

(3)電子部品の移載(ステップS103)
(電子部品の取り出し)
リングホルダ12にウエーハリング11が保持されると、ウエーハリング11上で最初に取り出される電子部品tが取り出しポジションに位置付けられる。電子部品tが取り出される度に、記憶部56に予め記憶された順序にしたがって、リングホルダ12がウエーハリング11をピッチ移動させ、順次、電子部品tが取り出しポジションに位置付けられる。
(3) Transfer of electronic components (step S103)
(Removal of electronic parts)
When the wafer ring 11 is held by the ring holder 12, the electronic component t that is first taken out on the wafer ring 11 is positioned at the take-out position. Each time the electronic component t is taken out, the ring holder 12 moves the wafer ring 11 by pitch according to the order stored in advance in the storage unit 56, and the electronic component t is sequentially positioned at the take-out position.

取り出しポジションに位置付けられた電子部品tの直上に、移載装置30Aの移載ヘッド37の吸着ノズル37a、37bがそれぞれ移動する。Z方向移動装置37c、37dが吸着ノズル37a、37bをそれぞれ下降させ、吸着ノズル37a、37bの吸着面を電子部品tの上面(電極形成面)にそれぞれ当接させる。吸着ノズル37a、37bが電子部品tに当接したら、吸着ノズル37a、37bが電子部品tをそれぞれ吸着保持する。このような、吸着ノズル37a、37bの電子部品tの吸着保持は、順次位置づけられる電子部品tに対して、それぞれ順次行われる。また、このような電子部品tの取り出しは、移載装置30Aと移載装置30Bとで交互に行われる。 The suction nozzles 37a and 37b of the transfer head 37 of the transfer device 30A move directly above the electronic component t positioned at the take-out position, respectively. The Z-direction moving devices 37c and 37d lower the suction nozzles 37a and 37b, respectively, and bring the suction surfaces of the suction nozzles 37a and 37b into contact with the upper surface (electrode forming surface) of the electronic component t, respectively. When the suction nozzles 37a and 37b come into contact with the electronic component t, the suction nozzles 37a and 37b suck and hold the electronic component t, respectively. Such suction and holding of the electronic components t of the suction nozzles 37a and 37b are sequentially performed for the electronic components t that are sequentially positioned. Further, such taking out of the electronic component t is alternately performed by the transfer device 30A and the transfer device 30B.

移載ヘッド37の吸着ノズル37a、37bが、中間ステージ31の載置部31a、31b上に位置付けられる。この状態で、吸着ノズル37a、37bが下降され、載置部31a、31b上に、吸着ノズル37a、37bに保持されていた電子部品tが載置される。 The suction nozzles 37a and 37b of the transfer head 37 are positioned on the mounting portions 31a and 31b of the intermediate stage 31. In this state, the suction nozzles 37a and 37b are lowered, and the electronic component t held by the suction nozzles 37a and 37b is placed on the mounting portions 31a and 31b.

(電子部品の受け渡し)
中間ステージ31の載置部31a、31b上に電子部品tが載置されると、第1の実装部40Aの第1の実装ヘッド43Aが中間ステージ31に向けて移動して、実装ツール43a、43bを載置部31a、31bの上方位置に位置付けて、下降させて電子部品tを吸着保持した後、実装ツール43a、43bを上昇させる。これによって、2つの電子部品tを同時に実装ツール43a、43bが受け取る。ここで、電子部品tの受け渡しと並行して、移載装置30Bによって、移載装置30Aと同様に、電子部品tの取り出しと中間ステージ31の移載が行われる。
(Delivery of electronic parts)
When the electronic component t is mounted on the mounting portions 31a and 31b of the intermediate stage 31, the first mounting head 43A of the first mounting portion 40A moves toward the intermediate stage 31, and the mounting tool 43a, The 43b is positioned above the mounting portions 31a and 31b, lowered to attract and hold the electronic component t, and then the mounting tools 43a and 43b are raised. As a result, the mounting tools 43a and 43b receive the two electronic components t at the same time. Here, in parallel with the delivery of the electronic component t, the transfer device 30B takes out the electronic component t and transfers the intermediate stage 31 in the same manner as the transfer device 30A.

(4)電子部品の実装(ステップS104、S105)
(電子部品の位置検出および移動)
実装ツール43a、43bが電子部品tを受け取ると、載置部31a、31bの上方に配置された撮像ユニット44のチップ認識カメラ44a、44bによって、実装ツール43a、43bに吸着保持された電子部品tが撮像される。この撮像は、実装ツール43a、43bの透視可能な部材を透過して行われる。チップ認識カメラ44a、44bの撮像画像に基づいて、実装ツール43a、43bに吸着保持された電子部品tの位置が検出される。
(4) Mounting of electronic components (steps S104, S105)
(Position detection and movement of electronic components)
When the mounting tools 43a and 43b receive the electronic component t, the electronic component t attracted and held by the mounting tools 43a and 43b by the chip recognition cameras 44a and 44b of the imaging unit 44 arranged above the mounting portions 31a and 31b. Is imaged. This imaging is performed through the transparent members of the mounting tools 43a and 43b. Based on the captured images of the chip recognition cameras 44a and 44b, the positions of the electronic components t attracted and held by the mounting tools 43a and 43b are detected.

なお、電子部品tの位置検出は、載置部31a、31b上で行うようにしてもよい。この場合には、チップ認識カメラ44a、44bによって電子部品tの撮像を行なった後、実装ツール43a、43bが電子部品tを吸着保持することとなる。チップ認識カメラ44a、44bによる電子部品tの撮像が完了すると、実装ツール43a、43bはX方向に沿った実装ラインBL上に位置付けられた基板Wの実装領域MAにおける実装位置apの行の上に向けて移動する。 The position of the electronic component t may be detected on the mounting portions 31a and 31b. In this case, after the chip recognition cameras 44a and 44b take an image of the electronic component t, the mounting tools 43a and 43b suck and hold the electronic component t. When the imaging of the electronic component t by the chip recognition cameras 44a and 44b is completed, the mounting tools 43a and 43b are placed on the row of the mounting position ap in the mounting area MA of the substrate W positioned on the mounting line BL along the X direction. Move towards.

(電子部品の実装)
第1の実装部40Aの第1の実装ヘッド43は、実装ツール43a、43bのうち、まず、実装ツール43aに保持された電子部品tを実装する実装位置ap上に、実装ツール43aに保持された電子部品tを位置付けるべく移動する。この場合、左の実装ツール43aに保持されている電子部品tは、基板Wに最初に実装される電子部品tであるから、実装ラインBL上に位置付けられた実装位置apの行のうち、最も左側に位置する実装位置ap上に実装ツール43aを移動させ、下降して電子部品tを基板Wに接触させたのち上昇して、実装ツール43aから離脱させることにより、基板Wに対して電子部品tが実装される。
(Mounting of electronic components)
Among the mounting tools 43a and 43b, the first mounting head 43 of the first mounting portion 40A is first held by the mounting tool 43a on the mounting position ap on which the electronic component t held by the mounting tool 43a is mounted. Move to position the electronic component t. In this case, since the electronic component t held by the left mounting tool 43a is the electronic component t that is first mounted on the substrate W, it is the most among the rows of the mounting position ap positioned on the mounting line BL. By moving the mounting tool 43a onto the mounting position ap located on the left side, descending to bring the electronic component t into contact with the substrate W, and then ascending and detaching from the mounting tool 43a, the electronic component with respect to the substrate W t is implemented.

実装は、基板Wに対して電子部品tを接合することにより行われる。この接合は、基板Wの表面、または電子部品tの下面に予め貼付されている粘着シートやダイアタッチフィルム(Die Attach Film:DAF)等の粘着力を利用して行う。電子部品tの接合は、ステージ21にヒータを設けておき、加熱された基板Wに対して電子部品tを加圧して実施してもよい。 The mounting is performed by joining the electronic component t to the substrate W. This bonding is performed by utilizing the adhesive force of an adhesive sheet or a die attach film (Die Attach Film: DAF) previously attached to the surface of the substrate W or the lower surface of the electronic component t. The electronic component t may be joined by providing a heater on the stage 21 and pressurizing the electronic component t against the heated substrate W.

実装ツール43aによる実装が完了したら、次に実装する実装位置ap上に、実装ツール43bに保持された電子部品tを位置付けるべく、第1の実装ヘッド43Aが移動する。実装ツール43bに保持された電子部品tが実装位置ap上に位置付けられると、上述した実装ツール43aと同様の動作によって、実装位置apに対して電子部品tが実装される。実装ツール43a、43bによる電子部品tの実装が完了した第1の実装ヘッド43Aは、中間ステージ31に向けて移動する。 When the mounting by the mounting tool 43a is completed, the first mounting head 43A moves to position the electronic component t held by the mounting tool 43b on the mounting position ap to be mounted next. When the electronic component t held by the mounting tool 43b is positioned on the mounting position ap, the electronic component t is mounted on the mounting position ap by the same operation as the mounting tool 43a described above. The first mounting head 43A, which has completed mounting of the electronic component t by the mounting tools 43a and 43b, moves toward the intermediate stage 31.

ここで、第1の実装部40Aによる電子部品tの実装工程と並行して、移載装置30Aによる、電子部品tの移載が行われているため、第1の実装ヘッド43Aが中間ステージ31の載置部31a、31b上に移動したときには、次に実装される電子部品tが載置部31a、31bに載置された状態となっている。従って、中間ステージ31上に移動した第1の実装ヘッド43Aは、直ちに載置部31a、31b上から電子部品tを受け取り、再び上記の実装を実行する。以後、この動作を、第1の領域MA1の実装位置apに対して電子部品tの実装が完了するまで繰り返し行う。 Here, since the electronic component t is transferred by the transfer device 30A in parallel with the mounting process of the electronic component t by the first mounting unit 40A, the first mounting head 43A is the intermediate stage 31. When the electronic component t to be mounted next is moved onto the mounting portions 31a and 31b, the electronic component t to be mounted next is in a state of being mounted on the mounting portions 31a and 31b. Therefore, the first mounting head 43A that has moved onto the intermediate stage 31 immediately receives the electronic component t from the mounting portions 31a and 31b, and executes the above mounting again. After that, this operation is repeated until the mounting of the electronic component t with respect to the mounting position ap of the first region MA1 is completed.

第1の実装ヘッド43Aの実装ツール43a、43bによる電子部品tの実装が行われている最中であっても、移載装置30Bによって中間ステージ31の載置部31c、31dに対する電子部品tの移載が完了した段階で、第2の実装部40Bの第2の実装ヘッド43Bによる電子部品tの実装が開始される。この動作は、第1の実装部40Aの例で説明した上述の工程と同様である。第2の実装部40Bによって、第2の領域MA2の実装位置apに対して電子部品tの実装が完了するまで繰り返し行われる。 Even while the electronic components t are being mounted by the mounting tools 43a and 43b of the first mounting head 43A, the transfer device 30B allows the electronic components t to be mounted on the mounting portions 31c and 31d of the intermediate stage 31. When the transfer is completed, the mounting of the electronic component t by the second mounting head 43B of the second mounting unit 40B is started. This operation is the same as the above-described step described in the example of the first mounting unit 40A. The second mounting unit 40B repeats the process until the mounting of the electronic component t with respect to the mounting position ap of the second region MA2 is completed.

第1の実装部40Aと第2の実装部40Bとは、基板W上の領域を左右(X方向)に2等分して、それぞれの領域を分担して電子部品tの実装を行う。そのため、第1の実装部40Aの第1の実装ヘッド43Aと第2の実装部40Bの第2の実装ヘッド43Bとは、上述した工程を交互に行うのみならず、並行的に行うこともできる。実装ラインBL上の1行の(MA1、MA2横幅すべて)実装が終わったら、ステージ21を移動させて行替えし、次に実装を行う実装位置apの行を実装ラインBL上に位置付け、実装を繰り返す。以上のような実装の動作を、基板W上の全ての実装位置apに対して電子部品tの実装が完了するまで繰り返し行う(ステップS105のNO)。 The first mounting portion 40A and the second mounting portion 40B divide the region on the substrate W into two equal parts in the left-right (X direction), and share the respective regions to mount the electronic component t. Therefore, the first mounting head 43A of the first mounting portion 40A and the second mounting head 43B of the second mounting portion 40B can not only perform the above-mentioned steps alternately but also in parallel. .. After mounting one line on the mounting line BL (all widths of MA1 and MA2), move the stage 21 to change lines, and position the line at the mounting position ap for mounting next on the mounting line BL to mount. repeat. The above mounting operation is repeated until the mounting of the electronic component t is completed for all the mounting positions ap on the substrate W (NO in step S105).

(5)基板の交換(搬出、搬入)(ステップS105、S106)
基板W上の全ての実装位置apに対して電子部品tの実装が完了したら(ステップS105のYES)、移載部30および実装部40が一旦停止され、電子部品tの実装が完了した基板Wのステージ21からの搬出と、新たな基板Wのステージ21上への搬入が行われる(ステップS106)。ステージ21からの基板Wの搬出は、上述の不図示の搬送ロボットとは同じあるいは異なる搬送ロボットによって行われる。
(5) Substrate replacement (unloading, loading) (steps S105 and S106)
When the mounting of the electronic component t is completed for all the mounting positions ap on the substrate W (YES in step S105), the transfer section 30 and the mounting section 40 are temporarily stopped, and the board W on which the mounting of the electronic component t is completed is completed. Is carried out from the stage 21 and a new substrate W is carried on the stage 21 (step S106). The substrate W is carried out from the stage 21 by a transfer robot that is the same as or different from the transfer robot (not shown) described above.

(6)ウエーハリングの交換(ステップS107、S108)
上述したように基板Wに対する電子部品tの実装を繰り返し行うことで、ウエーハリング11上の電子部品tが無くなった場合(ステップS107のYES)、ウエーハリング11が新たなウエーハリング11と交換される(ステップS108)。
(6) Wafer ring replacement (steps S107, S108)
By repeatedly mounting the electronic component t on the substrate W as described above, when the electronic component t on the wafer ring 11 disappears (YES in step S107), the wafer ring 11 is replaced with a new wafer ring 11. (Step S108).

[作用効果]
(1)本実施形態の電子部品tの実装装置1は、電子部品tの実装位置apを複数含む実装領域MAに、電子部品tが実装される基板Wを支持するステージ21と、電子部品tを実装位置apに実装する第1の実装ヘッド43Aと、第1の実装ヘッド43Aを移動させる第1の実装ヘッド移動機構と、を有する第1の実装部40Aと、電子部品tを実装位置apに実装する第2の実装ヘッド43Bと、第2の実装ヘッド43Bを移動させる第2の実装ヘッド移動機構と、を有する第2の実装部40Bと、第1の実装ヘッド43Aとともに移動可能に設けられ、ステージ21に支持された基板Wの位置を認識する第1の認識部と、第2の実装ヘッド43Bとともに移動可能に設けられ、ステージ21に支持された基板Wの位置を認識する第2の認識部と、を有する。
[Action effect]
(1) The mounting device 1 for the electronic component t of the present embodiment has a stage 21 for supporting the substrate W on which the electronic component t is mounted in a mounting region MA including a plurality of mounting positions ap for the electronic component t, and the electronic component t. A first mounting portion 40A having a first mounting head 43A for mounting the first mounting head 43A and a first mounting head moving mechanism for moving the first mounting head 43A, and an electronic component t mounted at the mounting position ap. A second mounting portion 40B having a second mounting head 43B to be mounted on the mounting head and a second mounting head moving mechanism for moving the second mounting head 43B, and a second mounting portion 40B having the first mounting head 43A are movably provided. A second recognition unit that recognizes the position of the board W supported by the stage 21 and a second recognition unit that is movably provided together with the second mounting head 43B and recognizes the position of the board W supported by the stage 21. Has a recognition unit and.

さらに、実装装置1は、第1の認識部及び前記第2の認識部が、ステージ21上の共通のマークを認識可能となるように、ステージ21を移動させるステージ移動機構22と、第1の認識部及び第2の認識部が認識した共通のマークの位置に基づいて、第1の認識部と第2の認識部との間の認識誤差を補正するための認識誤差補正データを算出する認識誤差補正データ算出部54と、認識誤差補正データに基づいて、第1の実装ヘッド43A又は第2の実装ヘッド43Bによる実装位置apに対する電子部品tの位置決め位置を補正する補正部55と、を有する。 Further, the mounting device 1 has a stage moving mechanism 22 for moving the stage 21 and a first one so that the first recognition unit and the second recognition unit can recognize a common mark on the stage 21. Recognition that calculates recognition error correction data for correcting the recognition error between the first recognition unit and the second recognition unit based on the position of the common mark recognized by the recognition unit and the second recognition unit. It has an error correction data calculation unit 54 and a correction unit 55 that corrects the positioning position of the electronic component t with respect to the mounting position ap by the first mounting head 43A or the second mounting head 43B based on the recognition error correction data. ..

このように、共通のマークを第1の認識部及び第2の認識部が認識することにより求められた認識誤差補正データに基づいて、実装位置apに対する電子部品tの位置決め位置を補正する。このため、第1の実装部40Aによる実装位置apと第2の実装部40Bによる実装位置apのずれが解消され、基板Wの全体に電子部品tをずれなく正確に実装することができる。また、基板Wを外部測定器に移して位置ずれを測定して補正するという手間がかからないため、正確な実装を効率良く行うことができる。 In this way, the positioning position of the electronic component t with respect to the mounting position ap is corrected based on the recognition error correction data obtained by recognizing the common mark by the first recognition unit and the second recognition unit. Therefore, the deviation between the mounting position ap by the first mounting unit 40A and the mounting position ap by the second mounting unit 40B is eliminated, and the electronic component t can be accurately mounted on the entire substrate W without deviation. Further, since it is not necessary to move the substrate W to an external measuring instrument to measure and correct the positional deviation, accurate mounting can be performed efficiently.

これにより、基板W上の全ての電子部品tが、縦横それぞれの方向において決められた間隔で、正確に配置されるので、パッケージ製造工程において、露光の際のマスクの位置がずれてしまうなどの不都合が防止される。 As a result, all the electronic components t on the substrate W are accurately arranged at predetermined intervals in each of the vertical and horizontal directions, so that the position of the mask during exposure may shift in the package manufacturing process. Inconvenience is prevented.

(2)第1の実装ヘッド43Aは、実装領域MAを2分した一方の領域である第1の領域MA1の実装位置apに電子部品tを実装し、第2の実装ヘッド43Bは、実装領域MAを2分した他方の領域である第2の領域MA2の実装位置apに電子部品tを実装する。 (2) The first mounting head 43A mounts the electronic component t at the mounting position ap of the first region MA1, which is one region obtained by dividing the mounting region MA into two, and the second mounting head 43B is the mounting region. The electronic component t is mounted at the mounting position ap of the second region MA2, which is the other region obtained by dividing the MA into two.

共通の実装領域MAを2分した第1の領域MA1、第2の領域MA2に、それぞれ別の第1の実装ヘッド43A、第2の実装ヘッド43Bによって実装する場合に、実装位置apのずれが生じ易いが、本実施形態では、このようなずれを補正することができる。このため、例えば、大型の基板Wの広い実装領域MAに実装する場合であっても、複数の実装部によって電子部品tを効率良く、かつ、電子部品tをずれなく正確に実装できる。 When the common mounting area MA is divided into two parts, the first area MA1 and the second area MA2 are mounted by different first mounting heads 43A and second mounting heads 43B, the mounting position ap shifts. Although it is likely to occur, in the present embodiment, such a deviation can be corrected. Therefore, for example, even when mounting on a wide mounting area MA of a large substrate W, the electronic component t can be efficiently mounted by the plurality of mounting portions, and the electronic component t can be mounted accurately without deviation.

(3)第1の実装ヘッド43Aは、ステージ21に対して一方の側に配置され、第2の実装ヘッド43Bは、ステージ21に対して他方の側に配置され、第1の実装ヘッド43Aと第2の実装ヘッド43Bは、それぞれが移動可能な範囲を、一方の側と他方の側とで2分して設けられ、基板Wは、ステージ21に、第1の領域MA1が一方の側に位置し、第2の領域MA2が他方の側に位置するように支持される。 (3) The first mounting head 43A is arranged on one side with respect to the stage 21, and the second mounting head 43B is arranged on the other side with respect to the stage 21. The second mounting head 43B is provided with a movable range divided into two on one side and the other side, and the substrate W is on the stage 21 and the first region MA1 is on one side. Positioned and supported such that the second region MA2 is located on the other side.

このように、第1の実装ヘッド43Aとともに移動する第1の認識部、第2の実装ヘッド43Bとともに移動する第2の認識部の移動範囲が限定されていても、ステージ21が移動することによって、第1の認識部及び第2の認識部のいずれか一方が認識可能な範囲を拡張して、共通のマークを認識させることができる。 As described above, even if the movement range of the first recognition unit that moves with the first mounting head 43A and the second recognition unit that moves with the second mounting head 43B is limited, the movement of the stage 21 causes the stage 21 to move. , The range that can be recognized by either the first recognition unit or the second recognition unit can be extended so that the common mark can be recognized.

第1の実装ヘッド43A、第2の実装ヘッド43Bの可動範囲を拡張することは、装置の大型化を招くが、本実施形態では、ステージ21側を移動させるので、大型化を抑えることができる。なお、本実施形態では、ステージ移動機構22は、ステージ21に載置される最も大きな基板Wを重複して移動、例えば、X方向において基板WのX方向の寸法の2分の1より若干大きい(1/2X+α)範囲で移動させることができる移動ストロークを有している。このため、実装装置1のフットプリントを抑えつつ、重複部分を持たせ、その分で2つの認識部の認識誤差を補正するので、実装精度を高めることができる。 Expanding the movable range of the first mounting head 43A and the second mounting head 43B leads to an increase in the size of the device, but in the present embodiment, the stage 21 side is moved, so that the increase in size can be suppressed. .. In the present embodiment, the stage moving mechanism 22 moves the largest substrate W mounted on the stage 21 in an overlapping manner, for example, slightly larger than half of the dimension of the substrate W in the X direction in the X direction. It has a movement stroke that can be moved in the range (1 / 2X + α). Therefore, while suppressing the footprint of the mounting device 1, the overlapping portion is provided, and the recognition error of the two recognition units is corrected by that amount, so that the mounting accuracy can be improved.

(4)ステージ21の移動により生じる移動誤差を補正する移動誤差補正データを算出する移動誤差補正データ算出部53を有し、補正部55は、認識誤差補正データと、移動誤差補正データとに基づいて、実装位置apに対する電子部品tの位置決め位置を補正する。 (4) The movement error correction data calculation unit 53 for calculating the movement error correction data for correcting the movement error caused by the movement of the stage 21 is provided, and the correction unit 55 is based on the recognition error correction data and the movement error correction data. Therefore, the positioning position of the electronic component t with respect to the mounting position ap is corrected.

このため、共通のマークを認識するために、ステージ21の移動により生じる誤差も含めて実装位置apに対する電子部品tの位置決め位置を補正するので、より正確な実装が可能となる。 Therefore, in order to recognize the common mark, the positioning position of the electronic component t with respect to the mounting position ap is corrected including the error caused by the movement of the stage 21, so that more accurate mounting is possible.

[他の実施形態]
本発明の実施形態及び各部の変形例を説明したが、この実施形態や各部の変形例は、一例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。上述したこれら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明に含まれる。
[Other Embodiments]
Although the embodiment of the present invention and the modification of each part have been described, the embodiment and the modification of each part are presented as an example, and the scope of the invention is not intended to be limited. These novel embodiments described above can be implemented in various other embodiments, and various omissions, replacements, and changes can be made without departing from the gist of the invention. These embodiments and modifications thereof are included in the scope and gist of the invention, and are also included in the invention described in the claims.

上述した実施形態において、ステージ21の移動誤差を補正する移動誤差補正データは、ステージ21の移動可能な範囲の全域で取得してもよいし、少なくとも基板W上の各実装領域を実装位置に位置付けるときにステージ21が移動する範囲内で取得するようにすればよい。さらに、移動誤差補正データは、ステージ21の移動誤差の実測値そのものを用いてもよいし、移動位置誤差を打ち消す補正値等、実測値を加工したものであってもよい。要はステージ21の移動位置誤差を補正するためのデータであればよい。また、認識誤差補正データも、第1の認識部及び第2の認識部の認識誤差の実測値そのものを用いてもよいし、認識誤差を打ち消す補正値等、実測値を加工したものであってもよい。 In the above-described embodiment, the movement error correction data for correcting the movement error of the stage 21 may be acquired in the entire movable range of the stage 21, or at least each mounting area on the substrate W is positioned at the mounting position. Occasionally, it may be acquired within the range in which the stage 21 moves. Further, as the movement error correction data, the actual measurement value of the movement error of the stage 21 itself may be used, or the actual measurement value such as a correction value for canceling the movement position error may be processed. In short, the data may be any data for correcting the movement position error of the stage 21. Further, as the recognition error correction data, the actual measurement value itself of the recognition error of the first recognition unit and the second recognition unit may be used, or the actual measurement value such as the correction value for canceling the recognition error is processed. May be good.

補正部55が、移動位置誤差データ、認識誤差補正データに基づいて、実装位置apに対する電子部品tの位置決め位置を補正することは、実装位置apの座標を補正することにより、補正された位置を位置決め位置とすることも含む。また、共通のマークを認識させるためにステージ21を移動させるときに移動誤差を補正するのではなく、認識誤差補正データとして求めた差分に、移動誤差補正データに基づく補正値を加算することにより補正してもよい。 The correction unit 55 corrects the positioning position of the electronic component t with respect to the mounting position ap based on the moving position error data and the recognition error correction data. It also includes the positioning position. Further, instead of correcting the movement error when moving the stage 21 to recognize the common mark, it is corrected by adding a correction value based on the movement error correction data to the difference obtained as the recognition error correction data. You may.

上記の実施形態では、認識誤差補正データを取得するときに用いる共通のマークは、2列の中の1つのドットマーク72としていた。但し、これには限定されず、共通のマークを複数としてもよい。この場合、複数のマークの組の差分の平均値を、認識誤差補正データとしてもよい。 In the above embodiment, the common mark used when acquiring the recognition error correction data is one dot mark 72 in the two columns. However, the present invention is not limited to this, and a plurality of common marks may be used. In this case, the average value of the differences between the sets of a plurality of marks may be used as the recognition error correction data.

共通のマークとしての電子部品tの位置を認識する場合、第1の認識部としての基板認識カメラ43fおよび第2の認識部としての基板認識カメラ43fを、校正基板71上の第1の領域MA1のドットマーク群の中央71Aおよび第2の領域MA2のドットマーク群の中央71B、つまり、実装ポジションにそれぞれ位置付け、上述したドットマーク72による認識誤差補正データの取得と同様に行うようにしても良い。なお、実装ポジションは、実装ラインBL上の予め設定された定位置である。より具体的には、実装ポジションは、例えば原点位置に位置付けられたステージ21上に正規の位置関係で載置された基板Wに対して、図9の符号71A、71Bに示す位置に設定される。 When recognizing the position of the electronic component t as a common mark, the substrate recognition camera 43f as the first recognition unit and the substrate recognition camera 43f as the second recognition unit are used in the first region MA1 on the calibration board 71. It may be positioned at the center 71A of the dot mark group and the center 71B of the dot mark group of the second region MA2, that is, at the mounting position, respectively, and may be performed in the same manner as the acquisition of the recognition error correction data by the dot mark 72 described above. .. The mounting position is a preset fixed position on the mounting line BL. More specifically, the mounting position is set to the positions shown by reference numerals 71A and 71B in FIG. 9 with respect to the substrate W mounted in a normal positional relationship on the stage 21 positioned at the origin position, for example. ..

実装ラインBL上で共通のマークとしてのドットマーク72や電子部品tの位置を認識する場合、第1の認識部と第2の認識部は、ドットマーク群の中央71A、71Bではなく、ドットマーク群の中央71A、71Bよりもステージ21の原点位置寄りの位置に配置するようにしても良い。このようにすることで、第1の認識部と第2の認識部との離間距離を基板WのX方向の寸法の2分の1よりも短くすることができるので、ステージ21のX方向ストロークにおける+αの大きさを極力小さくすることができる。 When recognizing the position of the dot mark 72 or the electronic component t as a common mark on the mounting line BL, the first recognition unit and the second recognition unit are not the center 71A and 71B of the dot mark group, but the dot mark. It may be arranged at a position closer to the origin position of the stage 21 than the centers 71A and 71B of the group. By doing so, the separation distance between the first recognition unit and the second recognition unit can be made shorter than half of the X-direction dimension of the substrate W, so that the X-direction stroke of the stage 21 The magnitude of + α in can be made as small as possible.

上述した実施形態の実装装置1では、基板W上に電子部品tを、電極形成面が上を向く状態で実装するフェイスアップ実装の例を主として説明したが、これに限られるものではなく、基板W上に電子部品tを、電極形成面が下を向く状態で実装するフェイスダウン実装にも適用可能である。 In the mounting device 1 of the above-described embodiment, an example of face-up mounting in which the electronic component t is mounted on the substrate W with the electrode forming surface facing upward has been mainly described, but the present invention is not limited to this, and the substrate is not limited to this. It can also be applied to face-down mounting in which the electronic component t is mounted on W with the electrode forming surface facing downward.

実装装置1でフェイスダウン実装を実施する場合には、移載部30の吸着ノズル37a、37bで取り出した電子部品tを中間ステージ31には載置せず、反転機構37e、37fによって吸着ノズル37a、37bを上下に反転させる。この状態で、中間ステージ31上に吸着ノズル37a、37bを移動させ、吸着ノズル37a、37bから実装部40の実装ツール43a、43bに電子部品tを受け渡す。 When face-down mounting is performed by the mounting device 1, the electronic components t taken out by the suction nozzles 37a and 37b of the transfer unit 30 are not placed on the intermediate stage 31, and the suction nozzles 37a are used by the reversing mechanisms 37e and 37f. , 37b is inverted upside down. In this state, the suction nozzles 37a and 37b are moved onto the intermediate stage 31, and the electronic component t is delivered from the suction nozzles 37a and 37b to the mounting tools 43a and 43b of the mounting unit 40.

また、上述した実施形態では、電子部品tが電極面を上にしてウエーハシートSに保持されている場合であるが、電子部品tが電極面を下にしてウエーハシートSに保持されていてもよい。この場合はフェイスアップ実装とフェイスダウン実装の受け渡し動作は入れ替わる。つまり、実装装置1でフェイスダウン実装を実施する場合には、移載部30の吸着ノズル37a、37bで取り出した電子部品tを中間ステージ31には載置し、フェイスアップ実装を実施する場合には、電子部品tを中間ステージ31には載置せず、反転機構37e、37fによって吸着ノズル37a、37bを上下に反転させる。この状態で、中間ステージ31上に吸着ノズル37a、37bを移動させ、吸着ノズル37a、37bから実装部40の実装ツール43a、43bに電子部品tを受け渡す。 Further, in the above-described embodiment, the electronic component t is held by the wafer sheet S with the electrode surface facing up, but the electronic component t is held by the wafer sheet S with the electrode surface facing down. Good. In this case, the transfer operation of face-up mounting and face-down mounting is switched. That is, when face-down mounting is performed by the mounting device 1, the electronic components t taken out by the suction nozzles 37a and 37b of the transfer unit 30 are placed on the intermediate stage 31 and face-up mounting is performed. Does not place the electronic component t on the intermediate stage 31, but reverses the suction nozzles 37a and 37b up and down by the reversing mechanisms 37e and 37f. In this state, the suction nozzles 37a and 37b are moved onto the intermediate stage 31, and the electronic component t is delivered from the suction nozzles 37a and 37b to the mounting tools 43a and 43b of the mounting unit 40.

上述した実施形態において、実装ヘッド43に2つの実装ツール43a、43bを設けた例を説明したが、これに限られるものではなく、実装ツールの数は、1つであっても、3つ以上であってもよい。これに応じて、中間ステージ31の載置部31a〜31dの数、移載ヘッド37の吸着ノズル37a、37b、Z方向移動装置37c、37dの数、反転機構37e、37fの数も設定される。ただし、実装ツールの数が多くなるとその分だけ近接間隔が広くなることになるから、電子部品tを実装する基板Wの大きさに応じて設定することが好ましい。中間ステージ31や移載ヘッド37を考慮すると、さらに電子部品tの大きさも加味して設定することが好ましい。 In the above-described embodiment, an example in which two mounting tools 43a and 43b are provided on the mounting head 43 has been described, but the present invention is not limited to this, and the number of mounting tools is three or more even if it is one. It may be. Accordingly, the number of mounting portions 31a to 31d of the intermediate stage 31, the number of suction nozzles 37a and 37b of the transfer head 37, the number of Z-direction moving devices 37c and 37d, and the number of reversing mechanisms 37e and 37f are also set. .. However, as the number of mounting tools increases, the proximity interval becomes wider accordingly, so it is preferable to set according to the size of the substrate W on which the electronic component t is mounted. Considering the intermediate stage 31 and the transfer head 37, it is preferable to further consider the size of the electronic component t when setting.

さらに、上述した実施形態において、基板Wはパッケージ部品の製造工程の過程で除去されるもので、実装位置ap毎に位置検出用のマーク(ローカルマーク)が設けられていないとして説明したが、これに限定されるものではない。実施形態の実装装置および実装方法によれば、例えば実装領域毎に位置検出用のマークがあり、パッケージ部品の一部として用いられるような基板に対しても、当然ながらローカルマークに頼ることなく、精度よくかつ効率よく電子部品tを実装することが可能である。 Further, in the above-described embodiment, it has been described that the substrate W is removed in the process of manufacturing the package component, and the position detection mark (local mark) is not provided for each mounting position ap. It is not limited to. According to the mounting device and mounting method of the embodiment, for example, there is a position detection mark for each mounting area, and even for a substrate used as a part of a package component, of course, without relying on the local mark. It is possible to mount the electronic component t accurately and efficiently.

なお、上述した実施形態では、ステージ21は固定して、実装ヘッド43が、2つの領域MA1、第2の領域MA2のそれぞれに実装ラインBL上を移動して実装していた。そして、第2の領域MA2への実装時には、実装ヘッド43の補正で認識誤差を反映させていた。より具体的には、基板WのX方向中心位置をステージ21のX方向中心位置に位置付けた状態で、実装ヘッド43を実装ラインBLに沿って移動させて電子部品tの実装を行ったが、それには限られない。 In the above-described embodiment, the stage 21 is fixed, and the mounting head 43 is mounted by moving on the mounting line BL in each of the two regions MA1 and the second region MA2. Then, at the time of mounting in the second region MA2, the recognition error was reflected by the correction of the mounting head 43. More specifically, with the X-direction center position of the substrate W positioned at the X-direction center position of the stage 21, the mounting head 43 was moved along the mounting line BL to mount the electronic component t. Not limited to that.

例えば、第1の領域MA1への電子部品tの実装が行われる場合と、第2の領域MA2への電子部品tの実装が行われる場合において、ステージ21を移動させてもよい。この場合、ステージ21と、第1の実装ヘッド43A、第2の実装ヘッド43Bが協働して実装する。第2の領域MA2への電子部品tの実装を行う際に、ステージ21の移動によって、移動誤差、認識誤差を補正した位置に、基板Wを位置付ける。なお、上記の態様では、電子部品tの取り出しが一つのポジションで行われるため、第1の領域M1、第2の領域M2への実装は交互になる。つまり、第1の領域MA1への実装、ステージの移動、第2の領域MA2への実装、ステージの移動、第1の領域MA1への実装のように動作する。これにより、上記の態様と同様の効果を奏することができる。 For example, the stage 21 may be moved when the electronic component t is mounted in the first region MA1 and when the electronic component t is mounted in the second region MA2. In this case, the stage 21, the first mounting head 43A, and the second mounting head 43B cooperate to mount. When mounting the electronic component t in the second region MA2, the substrate W is positioned at a position where the movement error and the recognition error are corrected by the movement of the stage 21. In the above aspect, since the electronic component t is taken out at one position, the mounting in the first region M1 and the second region M2 alternates. That is, it operates like mounting in the first area MA1, moving the stage, mounting in the second area MA2, moving the stage, and mounting in the first area MA1. Thereby, the same effect as the above-mentioned aspect can be obtained.

また、第1の実装ヘッド43A、第2の実装ヘッド43Bの実装を行う時の実装ポジションを固定して、それぞれの実装ツール43a、43bが順次実装ポジションに位置付けられるように、ステージ21を移動制御してもよい。この移動制御は記憶部56に記憶された移動誤差補正データ、認識誤差補正データに基づいて補正されるように移動する。この場合、実装時には実装ヘッド43の実装する位置が固定されるので、第1の実装ヘッド43A、第2の実装ヘッド43Bの移動誤差は、電子部品tの受渡から実装ラインまでの移動誤差だけになる。受渡から実装ラインまでの移動誤差は、固定ルートになり、実装ツールの移動誤差は距離が小さいため無視できるので、実装精度を高めることができる。 Further, the mounting positions when mounting the first mounting head 43A and the second mounting head 43B are fixed, and the stage 21 is moved and controlled so that the mounting tools 43a and 43b are sequentially positioned at the mounting positions. You may. This movement control moves so as to be corrected based on the movement error correction data and the recognition error correction data stored in the storage unit 56. In this case, since the mounting position of the mounting head 43 is fixed at the time of mounting, the movement error of the first mounting head 43A and the second mounting head 43B is limited to the movement error from the delivery of the electronic component t to the mounting line. Become. The movement error from the delivery to the mounting line is a fixed route, and the movement error of the mounting tool can be ignored because the distance is small, so that the mounting accuracy can be improved.

また、上記の図10に沿って説明した電子部品tの実装の手順において、基板Wの全実装領域MAへの電子部品tの実装が完了し、ウエーハの電子部品tが無くなる前に基板Wを交換する場合を説明したが、基板Wの全実装領域MAへの電子部品tの実装が完了する前に、ウエーハの電子部品tが先になくなる可能性もある。その場合にはウエーハの電子部品tが無くなると、ウエーハリング11の交換を行った後、電子部品tの実装を継続して行う。つまり、基板の交換(ステップS105、S106)と、ウェハリングの交換(ステップS107、S108)との流れが入れ替わってもよい。 Further, in the procedure for mounting the electronic component t described with reference to FIG. 10, the mounting of the electronic component t on the entire mounting region MA of the substrate W is completed, and the substrate W is mounted before the electronic component t of the wafer is exhausted. Although the case of replacement has been described, there is a possibility that the electronic component t of the wafer will be exhausted before the mounting of the electronic component t on the entire mounting area MA of the substrate W is completed. In that case, when the electronic component t of the wafer is exhausted, the wafer ring 11 is replaced, and then the electronic component t is continuously mounted. That is, the flow of substrate replacement (steps S105 and S106) and wafer ring replacement (steps S107 and S108) may be interchanged.

1 実装装置
1a ベース部
10 部品供給部
11 ウエーハリング
12 リングホルダ
20 ステージ部
21 ステージ
22 ステージ移動機構
30 移載部
30A、30B 移載装置
31 中間ステージ
31a〜31d 載置部
32 ウエーハリング保持装置
32a 支持アーム
32b チャック部
33 Y方向移動装置
34 Y方向移動ブロック
35 支持体
36 X方向移動体
37 移載ヘッド
37a、37b 吸着ノズル
37c、37d Z方向移動装置
37e、37f 反転機構
38 ウエーハ認識カメラ
40 実装部
40A 第1の実装部
40B 第2の実装部
41 支持フレーム
41a Y方向移動装置
42 ヘッド支持体
42a X方向移動装置
43 実装ヘッド
43A 第1の実装ヘッド
43B 第2の実装ヘッド
43a、43b 実装ツール
43c、43d Z方向移動装置
43f 基板認識カメラ
44 撮像ユニット
44a〜44d チップ認識カメラ
44e、44f XY移動装置
44g カメラ支持フレーム
50 制御装置
51 機構制御部
52 画像処理部
53 移動誤差補正データ算出部
54 認識誤差補正データ算出部
55 補正部
56 記憶部
57 入出力制御部
61 入力装置
62 出力装置
71 校正基板
72 ドットマーク
1 Mounting device 1a Base part 10 Parts supply part 11 Waha ring 12 Ring holder 20 Stage part 21 Stage 22 Stage moving mechanism 30 Transfer part 30A, 30B Transfer device 31 Intermediate stage 31a to 31d Mounting part 32 Waha ring holding device 32a Support arm 32b Chuck unit 33 Y direction moving device 34 Y direction moving block 35 Support 36 X direction moving body 37 Transfer head 37a, 37b Suction nozzle 37c, 37d Z direction moving device 37e, 37f Reversing mechanism 38 Waha recognition camera 40 mounting Part 40A First mounting part 40B Second mounting part 41 Support frame 41a Y-direction moving device 42 Head support 42a X-direction moving device 43 Mounting head 43A First mounting head 43B Second mounting head 43a, 43b Mounting tool 43c, 43d Z-direction moving device 43f Board recognition camera 44 Imaging unit 44a to 44d Chip recognition camera 44e, 44f XY moving device 44g Camera support frame 50 Control device 51 Mechanism control unit 52 Image processing unit 53 Movement error correction data calculation unit 54 Recognition Error correction data calculation unit 55 Correction unit 56 Storage unit 57 Input / output control unit 61 Input device 62 Output device 71 Calibration board 72 Dot mark

Claims (4)

電子部品の実装位置を複数含む実装領域に、前記電子部品が実装される基板を支持するステージと、
前記電子部品を前記実装位置に実装する第1の実装ヘッドと、前記第1の実装ヘッドを移動させる第1の実装ヘッド移動機構と、を有する第1の実装部と、
前記電子部品を前記実装位置に実装する第2の実装ヘッドと、前記第2の実装ヘッドを移動させる第2の実装ヘッド移動機構と、を有する第2の実装部と、
前記第1の実装ヘッドとともに移動可能に設けられ、前記ステージに支持された前記基板の位置を認識する第1の認識部と、
前記第2の実装ヘッドとともに移動可能に設けられ、前記ステージに支持された前記基板の位置を認識する第2の認識部と、
前記第1の認識部及び前記第2の認識部が、前記ステージ上の共通のマークを認識可能となるように、前記ステージを移動させるステージ移動機構と、
前記第1の認識部及び前記第2の認識部が認識した共通のマークの位置に基づいて、前記第1の認識部と前記第2の認識部との間の認識誤差を補正するための認識誤差補正データを算出する認識誤差補正データ算出部と、
前記認識誤差補正データに基づいて、前記第1の実装ヘッド又は前記第2の実装ヘッドによる前記実装位置に対する電子部品の位置決め位置を補正する補正部と、
を有することを特徴とする電子部品の実装装置。
A stage that supports a substrate on which the electronic components are mounted and a stage that supports the board on which the electronic components are mounted
A first mounting unit having a first mounting head for mounting the electronic component at the mounting position and a first mounting head moving mechanism for moving the first mounting head.
A second mounting portion having a second mounting head for mounting the electronic component at the mounting position and a second mounting head moving mechanism for moving the second mounting head.
A first recognition unit that is movably provided together with the first mounting head and recognizes the position of the substrate supported by the stage.
A second recognition unit that is movably provided together with the second mounting head and recognizes the position of the substrate supported by the stage.
A stage moving mechanism for moving the stage so that the first recognition unit and the second recognition unit can recognize a common mark on the stage.
Recognition for correcting a recognition error between the first recognition unit and the second recognition unit based on the positions of common marks recognized by the first recognition unit and the second recognition unit. A recognition error correction data calculation unit that calculates error correction data,
Based on the recognition error correction data, a correction unit that corrects the positioning position of the electronic component with respect to the mounting position by the first mounting head or the second mounting head, and a correction unit.
An electronic component mounting device characterized by having.
前記第1の実装ヘッドは、前記実装領域を2分した一方の領域である第1の領域の実装位置に前記電子部品を実装し、
前記第2の実装ヘッドは、前記実装領域を2分した他方の領域である第2の領域の実装位置に、前記電子部品を実装する、
ことを特徴とする請求項1記載の電子部品の実装装置。
The first mounting head mounts the electronic component at a mounting position in the first region, which is one of the mounting regions divided into two.
The second mounting head mounts the electronic component at a mounting position in the second region, which is the other region obtained by dividing the mounting region into two.
The electronic component mounting device according to claim 1.
前記第1の実装ヘッドは、前記ステージに対して一方の側に配置され、
前記第2の実装ヘッドは、前記ステージに対して他方の側に配置され、
前記第1の実装ヘッドと前記第2の実装ヘッドは、それぞれが移動可能な範囲を、前記一方の側と前記他方の側とで2分して設けられ、
前記基板は、前記ステージに、前記第1の領域が前記一方の側に位置し、前記第2の領域が前記他方の側に位置するように支持されることを特徴とする請求項2記載の電子部品の実装装置。
The first mounting head is arranged on one side with respect to the stage.
The second mounting head is located on the other side of the stage.
The first mounting head and the second mounting head are provided with a movable range divided into two by the one side and the other side.
2. The substrate according to claim 2, wherein the substrate is supported on the stage so that the first region is located on one side and the second region is located on the other side. Electronic component mounting device.
前記ステージの移動により生じる移動誤差を補正する移動誤差補正データを算出する移動誤差補正データ算出部を有し、
前記補正部は、前記認識誤差補正データと、前記移動誤差補正データとに基づいて、前記実装位置に対する電子部品の位置決め位置を補正することを特徴とする請求項2又は請求項3のいずれかに記載の電子部品の実装装置。
It has a movement error correction data calculation unit that calculates movement error correction data that corrects the movement error caused by the movement of the stage.
The correction unit according to claim 2 or 3, wherein the correction unit corrects the positioning position of the electronic component with respect to the mounting position based on the recognition error correction data and the movement error correction data. The electronic component mounting device described.
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