JP2021039282A5 - - Google Patents

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Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113296342B (zh) * 2021-05-21 2024-03-12 光感(上海)科技有限公司 一种光学投影系统
JP7614962B2 (ja) * 2021-07-08 2025-01-16 キヤノン株式会社 投影光学系、露光装置、および物品の製造方法

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW594438B (en) 1997-11-07 2004-06-21 Koninkl Philips Electronics Nv Three-mirror system for lithographic projection, and projection apparatus comprising such a mirror system
US7158215B2 (en) 2003-06-30 2007-01-02 Asml Holding N.V. Large field of view protection optical system with aberration correctability for flat panel displays
JP2008089832A (ja) 2006-09-29 2008-04-17 Canon Inc 露光装置
JP5196869B2 (ja) 2007-05-15 2013-05-15 キヤノン株式会社 投影光学系、露光装置及びデバイス製造方法
KR101010605B1 (ko) 2007-10-15 2011-01-24 재단법인 포항산업과학연구원 Ｕ형 벤딩 파이프의 자동 열처리장치
JP5398185B2 (ja) * 2008-07-09 2014-01-29 キヤノン株式会社 投影光学系、露光装置およびデバイス製造方法
JP2010135479A (ja) * 2008-12-03 2010-06-17 Canon Inc 走査型投影露光装置
JP5595001B2 (ja) * 2009-10-06 2014-09-24 キヤノン株式会社 投影光学系、露光装置及びデバイス製造方法
JP6410406B2 (ja) 2012-11-16 2018-10-24 キヤノン株式会社 投影光学系、露光装置および物品の製造方法
DE102014218474A1 (de) * 2014-09-15 2016-03-17 Carl Zeiss Smt Gmbh Projektionsobjektiv, Projektionsbelichtungsanlage und Projektionsbelichtungsverfahren für die EUV-Mikrolithographie
JP2016161923A (ja) 2015-03-05 2016-09-05 キヤノン株式会社 露光装置及び物品の製造方法
US10025079B2 (en) * 2015-09-28 2018-07-17 Kenneth Carlisle Johnson Actinic, spot-scanning microscope for EUV mask inspection and metrology
JP6661371B2 (ja) * 2015-12-25 2020-03-11 キヤノン株式会社 評価方法、露光方法、および物品の製造方法
JP6748482B2 (ja) * 2016-05-25 2020-09-02 キヤノン株式会社 露光装置、および、物品の製造方法

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