JP2021026010A - 表面検査のための撮像システム - Google Patents
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- 238000003384 imaging method Methods 0.000 title claims abstract description 34
- 238000007689 inspection Methods 0.000 title description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 25
- 230000010287 polarization Effects 0.000 claims abstract description 15
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 65
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 claims description 17
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 15
- 239000006059 cover glass Substances 0.000 description 9
- 230000008859 change Effects 0.000 description 6
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 230000001427 coherent effect Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 230000003760 hair shine Effects 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 238000011002 quantification Methods 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 2
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 2
- 238000012800 visualization Methods 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 1
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
- 238000010801 machine learning Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000007480 spreading Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/8806—Specially adapted optical and illumination features
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J1/00—Photometry, e.g. photographic exposure meter
- G01J1/02—Details
- G01J1/04—Optical or mechanical part supplementary adjustable parts
- G01J1/0407—Optical elements not provided otherwise, e.g. manifolds, windows, holograms, gratings
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- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J3/00—Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
- G01J3/12—Generating the spectrum; Monochromators
- G01J3/14—Generating the spectrum; Monochromators using refracting elements, e.g. prisms
- G01J3/16—Generating the spectrum; Monochromators using refracting elements, e.g. prisms with autocollimation
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- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/8851—Scan or image signal processing specially adapted therefor, e.g. for scan signal adjustment, for detecting different kinds of defects, for compensating for structures, markings, edges
-
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- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/50—Optics for phase object visualisation
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- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06T—IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
- G06T7/00—Image analysis
- G06T7/0002—Inspection of images, e.g. flaw detection
- G06T7/0004—Industrial image inspection
-
- G—PHYSICS
- G09—EDUCATION; CRYPTOGRAPHY; DISPLAY; ADVERTISING; SEALS
- G09G—ARRANGEMENTS OR CIRCUITS FOR CONTROL OF INDICATING DEVICES USING STATIC MEANS TO PRESENT VARIABLE INFORMATION
- G09G3/00—Control arrangements or circuits, of interest only in connection with visual indicators other than cathode-ray tubes
- G09G3/006—Electronic inspection or testing of displays and display drivers, e.g. of LED or LCD displays
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/8806—Specially adapted optical and illumination features
- G01N2021/8812—Diffuse illumination, e.g. "sky"
- G01N2021/8816—Diffuse illumination, e.g. "sky" by using multiple sources, e.g. LEDs
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- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/8806—Specially adapted optical and illumination features
- G01N2021/8848—Polarisation of light
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- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/8851—Scan or image signal processing specially adapted therefor, e.g. for scan signal adjustment, for detecting different kinds of defects, for compensating for structures, markings, edges
- G01N2021/8887—Scan or image signal processing specially adapted therefor, e.g. for scan signal adjustment, for detecting different kinds of defects, for compensating for structures, markings, edges based on image processing techniques
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- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/95—Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
- G01N2021/9513—Liquid crystal panels
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- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06T—IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
- G06T2207/00—Indexing scheme for image analysis or image enhancement
- G06T2207/30—Subject of image; Context of image processing
- G06T2207/30108—Industrial image inspection
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- G09—EDUCATION; CRYPTOGRAPHY; DISPLAY; ADVERTISING; SEALS
- G09G—ARRANGEMENTS OR CIRCUITS FOR CONTROL OF INDICATING DEVICES USING STATIC MEANS TO PRESENT VARIABLE INFORMATION
- G09G2320/00—Control of display operating conditions
- G09G2320/02—Improving the quality of display appearance
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- General Physics & Mathematics (AREA)
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- Immunology (AREA)
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
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- Quality & Reliability (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Signal Processing (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
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Abstract
Description
Claims (20)
- 撮像システムであって、
インコヒーレント光信号を発するインコヒーレント光源と、
前記インコヒーレント光信号を受けるよう位置付けられ、コリメート光信号を発する、コリメーションレンズと、
前記インコヒーレント光源から発せられた前記インコヒーレント光信号に対して、実質的に垂直に位置付けられたセンサレンズ面を画定するセンサレンズを有し、前記コリメート光信号の反射を受けるよう位置付けられた、センサと、
前記インコヒーレント光源と前記センサとの間に機能的に配設された、偏光器と
を備える、撮像システム。 - 評価面の平面を画定する、評価される表面を有し、前記評価面の平面が前記コリメート光信号に対して実質的に垂直になるよう位置付けられた、ディスプレイモジュールをさらに備える、請求項1に記載の撮像システム。
- 前記センサレンズ面は、前記評価面の平面に実質的に平行であり、前記インコヒーレント光信号は、前記評価面の平面に実質的に平行である、請求項2に記載の撮像システム。
- 前記センサレンズ面は、前記評価面の平面に対して実質的に垂直であり、前記インコヒーレント光信号は、前記評価面の平面に対して実質的に垂直である、請求項2に記載の撮像システム。
- 前記評価される表面は実質的に平坦な面であり、それによって前記センサによって感知された画像は、前記評価される表面の非平坦性のコントラスト表示を含む、請求項2に記載の撮像システム。
- 前記評価される表面は湾曲した面であり、前記湾曲した面に対応した曲率を有する円筒形レンズをさらに備え、それによって前記センサによって感知された画像は、前記評価される表面の曲率における不完全性のコントラスト表示を含む、請求項2に記載の撮像システム。
- 前記センサレンズはアパーチャを備える、請求項1に記載の撮像システム。
- 前記インコヒーレント光信号を、第1の光信号及び第2の光信号に分割するよう位置付けられたビームスプリッタをさらに備え、前記第1の光信号は、前記第2の光信号に対して角度が付けられている、請求項1に記載の撮像システム。
- 前記偏光器は、
前記インコヒーレント光源と前記ビームスプリッタとの間に配設された、第1の直線偏光器であって、前記ビームスプリッタは非偏光ビームスプリッタを備える、第1の直線偏光器と、
前記センサと前記ビームスプリッタとの間に配設された、第2の直線偏光器と
を備える、請求項8に記載の撮像システム。 - 前記ビームスプリッタ及び前記偏光器は、偏光ビームスプリッタとして組み合わされる、請求項8に記載の撮像システム。
- 前記偏光ビームスプリッタと前記センサとの間に配設された、収集レンズをさらに備える、請求項10に記載の撮像システム。
- 前記センサレンズは、アパーチャ及びナイフエッジのうちの一方を備える、請求項11に記載の撮像システム。
- 前記インコヒーレント光信号は、発光ダイオードによって発せられる、請求項1に記載の撮像システム。
- 評価される表面における不完全性を評価するための方法であって、
インコヒーレント光信号を発するステップと、
前記インコヒーレント光信号をビームスプリッタに通過させ、第1の光信号及び第2の光信号を作り出すステップであって、前記第1の光信号は前記第2の光信号に対して角度が付けられている、ステップと、
前記インコヒーレント光信号の少なくとも一部をコリメーションレンズに通過させ、コリメート光信号を作り出すステップと、
前記コリメート光信号を前記評価される表面に反射させ、反射光信号を作り出すステップであって、前記評価される表面は、前記コリメート光信号に対して実質的に垂直である評価面の平面を画定する、ステップと、
センサにおける反射光信号を感知し、感知画像を作り出すステップと
を含む方法。 - 前記感知画像におけるコントラストを評価し、前記評価される表面の表面不均等性の存在及び規模を判定するステップをさらに含む、請求項14に記載の方法。
- 前記評価される面は湾曲した面であり、前記方法は、
前記コリメート光信号を円筒形レンズに通過させ、変更された前記コリメート光信号を作り出すステップをさらに含み、
反射させるステップは、変更された前記コリメート光信号を、湾曲した前記評価される表面に反射させるステップを含み、
コントラストを評価するステップは、湾曲した前記評価される表面の曲率における不完全性の存在及び範囲を判定するステップを含む、請求項15に記載の方法。 - 前記評価される表面は実質的に平坦な面であり、
コントラストを評価するステップは、前記実質的に平坦な面における、非平坦性の存在及び範囲を判定するステップを含む、請求項15に記載の方法。 - 前記インコヒーレント光信号、前記インコヒーレント光信号の一部、及び前記コリメート光信号、のうちの少なくとも1つを偏光させるステップをさらに含む、請求項14に記載の方法。
- 前記反射光信号を感知するステップは、
前記反射光信号をアパーチャの1つに通過させるステップと、
前記反射光信号を、ナイフエッジを越えて通すステップと
のうちの一方を含む、請求項14に記載の方法。 - 前記コリメーションレンズを、前記インコヒーレント光信号の少なくとも一部に対して実質的に垂直に位置付けるステップと、
前記評価される表面を、前記コリメーションレンズに実質的に平行に位置付けるステップと
をさらに含む、請求項14に記載の方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2022112493A JP2022153463A (ja) | 2019-08-07 | 2022-07-13 | 表面検査のための撮像システム |
JP2024044612A JP2024069627A (ja) | 2019-08-07 | 2024-03-21 | 表面検査のための撮像システム |
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US201962883924P | 2019-08-07 | 2019-08-07 | |
US62/883,924 | 2019-08-07 | ||
US16/941,672 | 2020-07-29 | ||
US16/941,672 US20210042909A1 (en) | 2019-08-07 | 2020-07-29 | Imaging system for surface inspection |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2022112493A Division JP2022153463A (ja) | 2019-08-07 | 2022-07-13 | 表面検査のための撮像システム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2021026010A true JP2021026010A (ja) | 2021-02-22 |
JP7107995B2 JP7107995B2 (ja) | 2022-07-27 |
Family
ID=74498384
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020132135A Active JP7107995B2 (ja) | 2019-08-07 | 2020-08-04 | 表面検査のための撮像システム |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20210042909A1 (ja) |
JP (1) | JP7107995B2 (ja) |
KR (1) | KR20210018141A (ja) |
TW (1) | TWI818186B (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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- 2020-08-04 JP JP2020132135A patent/JP7107995B2/ja active Active
- 2020-08-05 TW TW109126444A patent/TWI818186B/zh active
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KR20220044694A (ko) | 2022-04-11 |
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TWI818186B (zh) | 2023-10-11 |
JP7107995B2 (ja) | 2022-07-27 |
KR20210018141A (ko) | 2021-02-17 |
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Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
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A977 | Report on retrieval |
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A601 | Written request for extension of time |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
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