KR102344271B1 - 광학 표면을 검사하기 위한 장치 - Google Patents

광학 표면을 검사하기 위한 장치 Download PDF

Info

Publication number
KR102344271B1
KR102344271B1 KR1020190114845A KR20190114845A KR102344271B1 KR 102344271 B1 KR102344271 B1 KR 102344271B1 KR 1020190114845 A KR1020190114845 A KR 1020190114845A KR 20190114845 A KR20190114845 A KR 20190114845A KR 102344271 B1 KR102344271 B1 KR 102344271B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
light
optical surface
subject
wavefront
inspection apparatus
Prior art date
Application number
KR1020190114845A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20210033291A (ko
Inventor
오민석
김병오
Original Assignee
주식회사 옵트론텍
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 옵트론텍 filed Critical 주식회사 옵트론텍
Priority to KR1020190114845A priority Critical patent/KR102344271B1/ko
Publication of KR20210033291A publication Critical patent/KR20210033291A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR102344271B1 publication Critical patent/KR102344271B1/ko

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/95—Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
    • G01N21/958—Inspecting transparent materials or objects, e.g. windscreens
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01M—TESTING STATIC OR DYNAMIC BALANCE OF MACHINES OR STRUCTURES; TESTING OF STRUCTURES OR APPARATUS, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • G01M11/00—Testing of optical apparatus; Testing structures by optical methods not otherwise provided for
    • G01M11/02—Testing optical properties
    • G01M11/0242—Testing optical properties by measuring geometrical properties or aberrations
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/8806—Specially adapted optical and illumination features
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/95—Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
    • G01N21/958—Inspecting transparent materials or objects, e.g. windscreens
    • G01N2021/9583—Lenses

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Geometry (AREA)
  • Testing Of Optical Devices Or Fibers (AREA)

Abstract

일 실시예에 따른 광학 표면 검사 장치는, 피사체에 조사하기 위한 탐지광을 방출하는 광원; 광원에서 방출된 탐지광을 평행광으로 집속하여 피사체로 안내하는 광 집속기; 및 피사체에서 반사 또는 그것을 투과한 광을 검출하는 광 센싱부를 포함하고, 광 센싱부는 피사체로부터 입사된 광의 파면을 검출하기 위한 파면 센서를 포함한다.

Description

광학 표면을 검사하기 위한 장치{APPARATUS FOR INSPECTING OPTICAL SURFACE}
본 발명은 광학 표면을 검사하기 위한 장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 짧은 시간에 다수의 광학 표면들의 불량 여부를 검사할 수 있는 광학 표면 검사 장치에 관한 것이다.
광을 굴절, 반사, 또는 투과시키는 광 소자는 그 표면 상태가 광학적 기능에 크게 영향을 준다. 특히, 프리즘과 같은 광학 요소는 광이 입사되는 표면, 광을 반사하는 표면, 또는 광을 투과하는 표면을 가질 수 있으며, 프리즘의 표면이 광학적 기능을 수행하며, 프리즘의 표면 상태에 따라 프리즘의 불량 여부가 주로 판단된다.
현재, 프리즘과 같은 광학 요소의 표면 상태는 예를 들어 피조 간섭계(Fizeau interferometer)를 사용하여 검사되고 있다. 피조 간섭계는 기준 표면과 테스트 표면을 정렬하고, 레이저 광을 조사하여 기준 표면과 테스트 표면의 간섭을 이용하여 테스트 표면의 상태를 측정한다.
그런데 피조 간섭계는 테스트 표면 상태를 측정하는데 시간이 오래 걸리는 단점이 있다. 특히, 시료를 교체할 때마다 레이저, 기준 표면과 테스트 표면의 정렬 작업이 필요하며, 장치의 진동에 대단히 민감하기 때문에, 다수의 광학 부품을 짧은 시간에 검사할 수 없다. 이 때문에, 프리즘과 같이 대량 생산되는 광학 부품의 경우, 샘플을 채취하여 피조 간섭계로 표면 검사를 수행하고, 샘플의 불량 여부에 따라 함께 제작된 다른 광학 부품들의 불량을 판정하고 있다.
그러나 샘플의 불량이 다른 광학 부품들의 불량을 대표할 수 없으므로, 광학 부품들에 대한 전수 조사가 요구되고 있으며, 따라서, 검사에 시간이 많이 소요되는 피조 간섭계를 대체하여 짧은 시간에 대량으로 생산되는 광학 부품들을 전수 조사할 수 있는 새로운 검사 장치가 요구되고 있다.
본 발명이 해결하고자 하는 과제는, 다수의 광학 부품들의 표면 상태를 빠른 시간에 검사할 수 있는 광학 표면 검사 장치를 제공하는 것이다.
일 실시예에 따른 광학 표면 검사 장치는, 피사체에 조사하기 위한 탐지광을 방출하는 광원; 상기 광원에서 방출된 탐지광을 평행광으로 집속하여 피사체로 안내하는 광 집속기; 및 상기 피사체에서 반사 또는 그것을 투과한 광을 검출하는 광 센싱부를 포함하고, 상기 광 센싱부는 상기 피사체로부터 입사된 광의 파면을 검출하기 위한 파면 센서를 포함한다.
상기 파면 센서는 피사체로부터 방출된 광의 파면을 검출할 수 있는 센서이면 특별히 한정되지 않으며, 예를 들어, 샤크-하트만 센서, 4파 측면 전단 간섭계 센서, 또는 곡률 센싱 방법용 센서를 포함할 수 있다.
상기 광학 표면 검사 장치는 상기 광 센싱부에 의해 검출된 광으로부터 상기 광의 파면을 도출하고 도출된 광 파면으로부터 피사체의 광학 표면을 재구성하는 연산부를 더 포함할 수 있다.
일 실시예에 있어서, 상기 광학 표면 검사 장치는 상기 연산부에 의해 재구성된 피사체의 광학 표면의 피크와 밸리의 최대 차이를 이용하여 상기 피사체의 표면의 불량 여부를 판정할 수 있다.
또한, 상기 연산부는 상기 광의 파면으로부터 디포커스항, 구면 수차항, 비점 수차 항, 및 코마 수차 항을 포함하는 제르니케 다항식을 구성할 수 있다.
상기 광학 표면 검사 장치는 상기 연산부에 의해 도출된 제르니케 다항식 중 일부 항을 이용하여 상기 피사체의 불량 여부를 판정할 수 있다.
상기 광학 표면 검사 장치는 상기 광 집속기에 의해 집속된 평행광의 일부를 차단하는 조리개를 더 포함할 수 있다.
일 실시예에 있어서, 상기 피사체는 프리즘일 수 있다. 프리즘은 평탄한 표면을 포함하며, 상기 광학 표면 검사 장치는 상기 프리즘의 평탄한 표면을 검사할 수 있다.
일 실시예에 있어서, 상기 프리즘은 상기 광 집속기에 의해 집속된 평행광이 상기 프리즘의 일면으로 입사되고 상기 일면에서 반사되도록 배치될 수 있다.
다른 실시예에 있어서, 상기 프리즘은 상기 광 집속기에 의해 집속된 평행광이 상기 프리즘의 제1면을 통과하고, 제2면에서 반사되며, 제3면을 통과하여 외부로 방출되도록 배치될 수 있다.
본 발명의 실시예들에 따르면, 파면 센서를 이용한 광 센싱부를 채택함으로써 피사체의 표면 상태의 불량 여부를 신속하게 판정할 수 있으며, 나아가, 파면 센서는 피조 간섭계와 달리 기준 표면을 사용할 필요 없이 피사체의 표면 상태를 직접 검출할 수 있어 정렬에 필요한 시간을 절약할 수 있다. 이에 따라, 대량 생산되는 다수의 피사체를 전수 조사할 수 있는 광학 표면 검사 장치가 제공될 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 광학 표면 검사 장치를 설명하기 위한 개략적인 도면이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 광학 표면 검사 장치의 다른 사용예를 설명하기 위한 개략적인 도면이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 광학 표면 검사 장치의 또 다른 사용예를 설명하기 위한 개략적인 도면이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 광학 표면 검사 장치의 또 다른 사용예를 설명하기 위한 개략적인 도면이다.
이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세히 설명한다. 다음에 소개되는 실시예는 당업자에게 본 발명의 사상이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위해 예로서 제공되는 것이다. 따라서, 본 발명은 이하 설명되는 실시예에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수 있다. 그리고 도면에 있어서, 구성요소의 폭, 길이, 두께 등은 편의를 위하여 과장되어 표현될 수 있다. 명세서 전체에 걸쳐서 동일한 참조번호들은 동일한 구성요소들을 나타낸다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 광학 표면 검사 장치를 설명하기 위한 개략적인 도면이다.
도 1을 참조하면, 본 실시예에 따른 광학 표면 검사 장치는, 피사체(27)의 표면을 검사하기 위한 것으로, 광원(21), 광 집속기(23), 조리개(25), 광 센싱부(29) 및 연산부(31)를 포함할 수 있다.
광원(21)은 피사체(27)에 조사하기 위한 탐지광(L1)을 방출한다. 탐지광(L1)은 특정 파장을 갖는 레이저일 수 있다. 예컨대, 탐지광(L1)은 632.8nm의 파장을 가질 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
광 집속기(23)는 광원(21)에서 방출된 광을 평행광(L2)으로 집속한다. 광 집속기(23)는 도시한 바와 같이 볼록 렌즈일 수 있으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니다. 광 집속기(23)는 광원(21)에서 방출된 광을 평행광(L2)으로 집속할 수 있도록 광원(21)으로부터 정해진 거리만큰 이격된다.
조리개(25)는 광 집속기(23)를 통해 집속된 광 중 피사체(27)에 조사될 광을 제외하고 나머지 광을 차단한다. 즉, 조리개(25)에 의해 피사체(27)에 조사되는 광의 영역이 한정된다.
평행광(L2)은 조리개(25)를 통해 피사체(27)에 입사된다. 피사체(27)는 지그(zig)에 장착될 수 있다. 본 실시예에 있어서, 피사체(27)는 프리즘이다. 프리즘(27)은 평탄한 면을 포함하며, 평행광(L2)은 평탄한 면에서 전반사되고, 전반사된 반사광(L3)이 광 센싱부(29)로 입사된다. 프리즘(27)은 평행광(L2)이 프리즘(27)의 넓은 면으로 입사되도록 지그에 의해 배치될 수 있다.
광 센싱부(29)는 피사체(27)로부터 입사된 광(L3)의 파면을 검출하기 위한 파면 센서(wavefront sensor)를 포함한다. 파면 센서는 일반적으로 행렬-어레이 센서를 포함한다. 행렬-어레이 센서는 예를 들어, CCD, CMOS, sCMOS, 마이크로복사측정 이미지 센서(microbolometric image sensor) 등을 포함한다.
파면 센서는 또한 행렬-어레이 센서의 앞단에 배치된 마이크로 렌즈들의 행렬 어레이를 포함할 수 있으며, 이러한 파면 센서는 샤크-하트만(shark-hartmann) 기술을 이용하는 파면 센서로 잘 알려져 있다. 샤크-하트만 센서는 천체 망원경이나 검안기 등의 분야에서 특정 영역에서 반사되는 광 파면의 왜곡 또는 수차를 측정하기 위해 사용되고 있다. 본 발명은 샤크-하트만 센서를 이용하여 피사체(27)의 광학 표면, 특히, 평탄한 표면의 왜곡을 검출하여 피사체(27)의 불량 여부를 판정한다.
파면 센서로서, 샤크-하트만 센서의 마이크로 렌즈들을 이용하는 대신 그레이팅을 사용하는 4파 측면 전단 간섭계(4 wave lateral shearing interferometry) 센서가 사용될 수 있으며, 또는 마이크로 렌즈들의 어레이나 그레이팅을 사용하지 않고 2개의 이미지를 이용하는 곡률 센싱 방법(curvature sensing method)을 위한 센서가 사용될 수도 있다.
광 센싱부(29)는 피사체(27)로부터 광 센싱부(29)로 입사되는 광을 검출하여 검출된 데이터를 연산부(31)로 전송한다.
연산부(31)는 광 센싱부(29)에서 전송된 광 파면에 대한 데이터를 수집하여 반사광(L3)의 파면을 도출하며, 이 광 파면을 통해 피사체(27)의 광학 표면을 재구성한다. 광학 표면은 3차원 이미지로 재구성될 수 있으며, 각 위치에서의 높이가 결정될 수 있다. 일 실시예에 있어서, 연산부(31)는 재구성된 광학 표면으로부터 피사체(27)의 표면의 피크와 밸리를 추출할 수 있으며, 연산부(31)에 의해 추출된 피크와 밸리 사이의 최대 차이값을 이용하여 피사체(27)의 광학 표면의 불량 여부가 판정될 수 있다.
다른 실시예에 있어서, 연산부(31)는 도출된 광 파면을 이용하여 제르니케 다항식(Zernike polynomials)을 구성할 수 있으며, 제르니케 다항식은 디포커스항, 구면 수차항, 비점 수차 항, 및 코마 수차 항을 포함할 수 있다. 연산부(31)는 제르니케 다항식의 모든 항들을 이용하여 광학 표면의 불량 여부를 판정할 수도 있지만, 이에 한정되는 것은 아니며, 일부 항, 예컨대, 디포커스항이나 비점 수차 항을 이용하여 광학 표면의 불량 여부를 판정할 수도 있다. 디포커스항 및 비점 수차 항은 프리즘(27)의 평면의 특성을 잘 나타내므로, 이들 항들을 주요 판정 수단으로 채택할 수 있다.
본 실시예에 따르면, 파면 센서를 포함하는 광 센싱부(29)를 채택함으로써 피사체(27)의 광학 표면에 직접 광을 조사하여 광학 표면 상태의 불량 여부를 신속하게 판정할 수 있다. 특히, 파면 센서는 피조 간섭계와 달리 기준 표면을 사용할 필요 없이 피사체(27)의 표면 상태를 직접 검출할 수 있어 정렬에 필요한 시간을 절약할 수 있다. 이에 따라, 본 실시예에 따른 광학 표면 검사 장치는 대량 생산되는 다수의 피사체(27)를 전수 조사할 수 있어 피사체(27)의 광학 표면에 대한 신뢰성을 향상시킬 수 있다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 광학 표면 검사 장치의 다른 사용예를 설명하기 위한 개략적인 도면이다.
도 2를 참조하면, 본 실시예에 따른 광학 표면 검사 장치는 도 1을 참조하여 설명한 바와 같으며, 다만, 프리즘(27)의 배치에 차이가 있다.
본 실시예에 있어서, 프리즘(27)은 광 집속기(23)에 의해 집속된 평행광(L2)이 프리즘(27)의 제1면을 통과하고, 제2면에서 반사되며, 제3면을 통과하여 외부로 방출되도록 배치된다. 따라서, 평행광(L2)은 프리즘(27)의 세 개의 면을 거쳐 투과-반사광(L4)으로 방출된다.
광 센싱부(29)는 투과-반사광(L4)을 검출하여 검출된 데이터를 연산부(31)로 전송하며, 연산부(31)는 투과-반사광(L4)의 파면을 도출하고, 이로부터 제1 내지 제3면의 통합된 광학 표면을 재구성한다. 연산부(31)는 재구성된 광학 표면의 피크와 밸리의 최대 차이값 또는 제르니케 다항식을 이용하여 프리즘(27)의 광학 표면의 불량 여부를 판정할 수 있다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 광학 표면 검사 장치의 또 다른 사용예를 설명하기 위한 개략적인 도면이다.
도 3을 참조하면, 본 실시예에 따른 광학 표면 검사 장치는 도 1을 참조하여 설명한 광학 표면 검사 장치와 동일하며, 다만, 피사체(37)가 도 1 또는 도 2의 프리즘(27)과 달리 평행광(L2)을 반사시키는 반사면을 포함하는 반사기이다.
광 센싱부(29)는 반사기(37)의 반사면에서 반사된 반사광(L5)을 검출하며, 연산부(31)는 광 센싱부(29)에서 검출된 반사광(L5)을 이용하여 반사광(L5)의 파면을 도출하고, 이를 이용하여 반사기(37)의 반사면을 재구성한다. 재구성된 반사면의 피크와 밸리의 최대 차이값 또는 제르니케 다항식을 이용하여 반사기(37)의 불량 여부를 판정할 수 있다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 광학 표면 검사 장치의 또 다른 사용예를 설명하기 위한 개략적인 도면이다.
도 4를 참조하면, 본 실시예에 따른 광학 표면 검사 장치는 도 1을 참조하여 설명한 광학 표면 검사 장치와 동일하며, 다만, 피사체(47)가 도 1 또는 도 2의 프리즘(27)과 달리 평행광(L2)을 투과시키는 투과기인 것에 차이가 있다. 투과기(47)는 예컨대 광학 필터일 수 있다.
광 센싱부(29)는 투과기(47)를 통과한 투과광(L6)을 검출하며, 연산부(31)는 광 센싱부(29)에서 검출된 투과광(L6)을 이용하여 투과광(L6)의 파면을 도출하고, 이를 이용하여 투과기(47)의 광학 표면을 재구성할 수 있다. 재구성된 투과기(47)의 광학 표면의 피크와 밸리의 최대 차이값 또는 제르니케 다항식을 이용하여 투과(47)의 불량 여부를 판정할 수 있다.
본 실시예에 따른 광학 표면 검사 장치의 광학 표면 분석 성능을 Zygo사의 피조 간섭계 장치의 성능과 비교해본 결과, 피조 간섭계를 이용하여 측정한 광학 표면의 피크-밸리의 최대 차이값과 본 실시예의 광학 표면 검사 장치를 이용하여 측정한 광학 표면의 피크-밸리의 최대 차이값이 큰 차이를 나타내지 않는 것을 확인하였다.
이상에서 다양한 실시예들에 대해 설명하였지만, 본 발명은 이들 실시예들에 한정되는 것은 아니며, 발명의 범위를 벗어나지 않는 한 다양하게 변형될 수 있다.

Claims (10)

  1. 피사체에 조사하기 위한 탐지광을 방출하는 광원;
    상기 광원에서 방출된 탐지광을 평행광으로 집속하여 피사체로 안내하는 광 집속기;
    상기 피사체에서 반사 또는 그것을 투과한 광을 검출하는 광 센싱부; 및
    상기 광 센싱부에 의해 검출된 광으로부터 상기 광의 파면을 도출하는 연산부를 포함하고,
    상기 광 센싱부는 상기 피사체로부터 입사된 광의 파면을 검출하기 위한 파면 센서를 포함하고,
    상기 광 집속기에 의해 평행광으로 집속된 탐지광은 상기 광 집속기에서 직접 상기 피사체로 입사되고,
    상기 피사체에서 반사 또는 그것을 투과한 광은 직접 상기 광 센싱부로 입사되는 광학 표면 검사 장치.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 파면 센서는 샤크-하트만 센서, 4파 측면 전단 간섭계 센서, 또는 곡률 센싱 방법용 센서를 포함하는 광학 표면 검사 장치.
  3. 청구항 1에 있어서,
    상기 연산부는 도출된 광 파면으로부터 피사체의 광학 표면을 재구성하는 광학 표면 검사 장치.
  4. 청구항 3에 있어서,
    상기 연산부에 의해 재구성된 광학 표면의 피크와 밸리의 최대 차이를 이용하여 상기 피사체의 표면의 불량 여부를 판정하는 광학 표면 검사 장치.
  5. 청구항 3에 있어서,
    상기 연산부는 상기 광의 파면으로부터 디포커스항, 구면 수차항, 비점 수차 항, 및 코마 수차 항을 포함하는 제르니케 다항식을 구성하는 광학 표면 검사 장치.
  6. 청구항 5에 있어서,
    상기 연산부에 의해 도출된 제르니케 다항식 중 일부 항을 이용하여 상기 피사체의 불량 여부를 판정하는 광학 표면 검사 장치.
  7. 청구항 1에 있어서,
    상기 광 집속기에 의해 집속된 평행광의 일부를 차단하는 조리개를 더 포함하는 광학 표면 검사 장치.
  8. 청구항 1에 있어서,
    상기 피사체는 프리즘인 광학 표면 검사 장치.
  9. 청구항 8에 있어서,
    상기 프리즘은 상기 광 집속기에 의해 집속된 평행광이 상기 프리즘의 일면으로 입사되고 상기 일면에서 반사되도록 배치될 수 있는 광학 표면 검사 장치.
  10. 청구항 9에 있어서,
    상기 프리즘은 상기 광 집속기에 의해 집속된 평행광이 상기 프리즘의 제1면을 통과하고, 제2면에서 반사되며, 제3면을 통과하여 외부로 방출되도록 배치될 수 있는 광학 표면 검사 장치.
KR1020190114845A 2019-09-18 2019-09-18 광학 표면을 검사하기 위한 장치 KR102344271B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020190114845A KR102344271B1 (ko) 2019-09-18 2019-09-18 광학 표면을 검사하기 위한 장치

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020190114845A KR102344271B1 (ko) 2019-09-18 2019-09-18 광학 표면을 검사하기 위한 장치

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20210033291A KR20210033291A (ko) 2021-03-26
KR102344271B1 true KR102344271B1 (ko) 2021-12-29

Family

ID=75259347

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020190114845A KR102344271B1 (ko) 2019-09-18 2019-09-18 광학 표면을 검사하기 위한 장치

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR102344271B1 (ko)

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100780185B1 (ko) * 2006-11-07 2007-11-27 삼성전기주식회사 회절광학소자를 이용한 렌즈 파면 측정장치
JP2013148437A (ja) 2012-01-19 2013-08-01 Nikon Corp 合焦検出装置、波面収差測定装置およびレンズの製造方法
JP2019007802A (ja) * 2017-06-22 2019-01-17 株式会社東芝 光学検査装置及び光学検査方法

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09210657A (ja) * 1996-02-05 1997-08-12 Asahi Glass Co Ltd 外壁材の凹凸模様評価方法及びその装置
KR20170028092A (ko) * 2015-09-03 2017-03-13 주식회사 이오테크닉스 물체의 두께 또는 높이 변화를 측정하는 장치 및 방법

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100780185B1 (ko) * 2006-11-07 2007-11-27 삼성전기주식회사 회절광학소자를 이용한 렌즈 파면 측정장치
JP2013148437A (ja) 2012-01-19 2013-08-01 Nikon Corp 合焦検出装置、波面収差測定装置およびレンズの製造方法
JP2019007802A (ja) * 2017-06-22 2019-01-17 株式会社東芝 光学検査装置及び光学検査方法

Also Published As

Publication number Publication date
KR20210033291A (ko) 2021-03-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4286667B2 (ja) 物体の光学走査のための低コヒーレンス干渉装置
US7455407B2 (en) System and method of measuring and mapping three dimensional structures
US7495762B2 (en) High-density channels detecting device
TWI659201B (zh) 識別一光學系統之一焦點之一位置之方法，測試其中之每一者包含一或多個元件之複數個裝置之方法，以及量測包括一或多個元件之一光學系統之特徵之系統
CN110567685A (zh) 一种镜片折射率检测装置及方法
JP2002071513A (ja) 液浸系顕微鏡対物レンズ用干渉計および液浸系顕微鏡対物レンズの評価方法
US20220187161A1 (en) Deflectometry Measurement System
JP4197124B2 (ja) 波面収差の測定方法および測定装置
KR101446061B1 (ko) 투명 기판의 표면 패턴 불량 측정 장치
CN110736721A (zh) 基于衍射光栅的玻璃平板折射率均匀性检测装置及检测方法
US10895517B2 (en) Multi-wavelength wavefront system and method for measuring diffractive lenses
JP2002277348A (ja) 透過率測定方法及び装置
KR102344271B1 (ko) 광학 표면을 검사하기 위한 장치
CN210293627U (zh) 一种镜片多波长折射率检测装置
JP2000241128A (ja) 面間隔測定方法および装置
JP2008026049A (ja) フランジ焦点距離測定装置
CN108692819B (zh) 一种波长调谐哈特曼传感器的波前检测系统
WO2023098349A1 (zh) 一种光学镜片参数测量装置及方法
CN110553820A (zh) 一种镜片多波长折射率检测装置及方法
JP2007093339A (ja) 検査装置
JP7107995B2 (ja) 表面検査のための撮像システム
JP5808194B2 (ja) 形状計測方法、形状計測装置、プログラム及び記録媒体
KR102056908B1 (ko) 공초점 내시 현미경용 대물렌즈의 비접촉식 수직 분해능 측정장치
JP2007093288A (ja) 光計測装置及び光計測方法
CN210293626U (zh) 一种镜片折射率检测装置

Legal Events

Date Code Title Description
E902 Notification of reason for refusal
AMND Amendment
E601 Decision to refuse application
AMND Amendment
X701 Decision to grant (after re-examination)