JP4286667B2 - 物体の光学走査のための低コヒーレンス干渉装置 - Google Patents

Description

本発明は、走査方向（即ち、検出光光線の方向；「ｚ方向」）に沿って延出する走査路に沿って、装置から互いに異なる距離に離間して位置する複数の光送り（light-remitting）部位の位置を検出することによって、物体を光学走査する低コヒーレンス干渉装置に関する。以後、これを低コヒーレンス距離走査（“Low Coherence Distance Scan”ＬＣＤＳ）と称する。

そのような装置と、それに対応する方法は、種々の物体を検査するために利用される。それらは、物体の単数又は複数の反射部位への距離を、最高レベルの精度で、測定すること、又は、断面画像を提供することを可能にする。重要な利用分野は、物体表面の自動測定と、物体内部の光学散乱挙動の分析である。後者は、特に、医療分野（組織診断）において重要である。

いくつかの用途においては、物体を一次元的に、即ち、ビームの方向に延出する走査路に沿ってのみ、走査することで十分である。しかし、大半の用途では、追加の側方走査によって、走査平面又は（三次元的に）体積セグメントにおける反射構造に関する情報を得ることが要求される。これには、二次元又は三次元走査が必要であり、これは、最も単純な場合には、干渉計を一次元又は二次元的に側方シフトさせることによって達成することができる。そのような方法は、多次元断面画像の生成を可能にし、それらは一般にＯＣＴ（“Optical Coherence Tomography”光学コヒーレンストモグラフィー）と呼ばれている。

低コヒーレンス（スペクトル的に広帯域の放射）光源を二つの光路、即ち、テスト標本中に貫通する測定光路と、参照光路とに分割することはすべてのＬＣＤＳ方法に共通している。検出器に当たる前に、これら両部分光路は、干渉が起こるように合流する。この目的のために、装置は、干渉装置を備え、これは、前記低コヒーレンス光源に加えて、通常、ビームスプリッタと、参照反射器と、前記検出器とを有する。これらの部材間の光路は、干渉計アームを形成する。前記光源からの光は、光源アームを通って前記ビームスプリッタに至り、そこで分割される。第１部分の光は測定光として前記走査方向において物体に照射されるのに対して、第２部分の光は参照光として反射器アームを介して前記参照反射器に到達する。これら両光部分は、（前記測定光は検査対象物体の光反射部位で、そして前記参照光は前記参照反射器で）反射され、同じ光路（物体アーム、参照アーム）に沿って、前記ビームスプリッタに戻る。ここで、これらの光部分は再び合流し、更に、そこから、検出光として検出アームを介して前記検出器へ伝送される。

走査中、長手方向走査位置は高速に波に従って変化される。通常、これは、前記参照光路と前記測定光路との光路長の関係を変化させることによって達成される。これにより、測定光と参照光の干渉のための条件（即ち、両光路の光路長が、光源のコヒーレンス長以下だけ異なる）が満たされる走査路に沿った位置が変えられる。各時点において、現在の走査位置は、測定光路の光路長が参照光路の光路長に等しい走査路上の位置（前記ビーム分割からビーム接合まで；「コヒーレンス状態」）である。通常、参照ミラーが、参照光の方向に移動し、それによって、前記参照光路の長さが増減する。

下記の公報を含む対応の文献に、複数の公知のＬＣＤＳ装置についての詳細が記載されている。
１）ＷＯ ９５／３３９７１
２）J. M シュミット（J. M Schmitt ）「低コヒーレンス干渉のためのコンパクト・インライン干渉計」（“Compact in-line interferometer for low-coherence reflectometry”）, オプティクス・レターズ（Optics Letters） 1995, 419-421
３）ＷＯ ９７／２７４６８

本発明は、特に、極めて高速の長手方向走査が要求される用途に関係する。１つの重要な例は、製造監視又は品質管理のための多層箔（多重箔）の連続検査である。箔は、測定ヘッドに沿って高速で通過し、ある所望の箔厚（例えば１００μｍ）が所定の限界値内に維持されているか否かを調べるために連続制御を行う必要がある。そのような用途の場合、非常に高い走査速度が必要とされる。たとえば、その検査が参照する表面スポット径が８μｍ、移動速度が１０ｍ／秒、であると仮定すると、測定データは約０．８μ秒毎に記録されなければならない。これは、１．２５ＭＨｚの最低走査速度に対応する。一回の長手方向走査で２５６のスポットを走査すると、これは、４．９ｋＨｚの反復速度となる。このような高い反復速度は、ミラーの移動によっては達成することは出来ない。

ＬＣＤＳ装置によってより高い反復速度を達成するためにこれまでいくつかの提案がされている。
刊行物
４）K. F. ウォン（K. F. Wong）他：「４００−Ｈｚ メカニカル・スキャニング光学遅延線」（“400-Hz mechanical scanning optical delay line”）, オプティクス・レターズ（Optics Letters）1993, 558-560
上記刊行物において光遅延部が記載されており、これは、干渉計の参照アームに組み込むことができる。光路長の変化は、角分散格子と、非常に限られた角度範囲で回動可能なミラーとの組み合わせによって達成される。

極めて高速の走査に適していると報告されているＬＣＤ装置の一部として下記にも類似の装置が記載されている。
５）米国特許６，１１１，６４５
６）G. J. ターニー（G. J. Tearney）他：「格子−ベース相コントロール遅延線を有する高速相−及び群−遅延走査」（High-speed phase- and group-delay scanning with a grating-based phase control delay line”, オプティクス・レターズ（Optics Letters） 1997, 1811-1813,
これらの刊行物において、分散格子をスペクトル移相器と組み合わせて使用する必要がある点で、引例４）に使用されている基本的原理が一般化されている。スペクトル移相器、特に、音響光学変調器（ＡＯＭ）、を非機械的に実現する可能性も記載されている。

これらの提案の欠点は、それがシングルモード光伝送ファイバへの正確な再入射が必要であるため非常に困難なアラインメントを必要とする、光が角分散格子とスペクトル移相器とから構成された前記遅延装置を二回通過することにある。更に、この光路によって大きな強度損失が生じる。

従来技術によって提案されている解決構造に関するその他の試みが、引例５）と６）との冒頭部分に記載されている。
光路長の変化は、圧電ファイバのストレッチングによって達成することができる。しかし、これは、比較的大型の装置を必要とし、十分に高い反復速度を可能にするものではない。更に、エネルギ消費量が高い。
前記参照通路の長手方向に移動可能なミラーを、旋回ガラスキューブによって置き換えることができる（米国特許６，１４４，４５６も参照）。しかし、これによって、光路長の非リニアな変化と、光路長に依存する分散とが生じる。また、この場合も、達成可能な反復速度は高い必要条件を満たすものではない。

このような状況に基づき、本発明が取り組む課題は、許容可能な出費で、極めて高い長手方向走査反復速度を可能にする干渉装置を提供することにある。

この課題は、短コヒーレンス光源と参照反射器と検出器とを備えた短コヒーレンス干渉計で、走査方向に延出する走査路上の複数の光送り（light-remitting）部位の位置を検出することによって、物体を光学走査するための低コヒーレンス干渉装置であって、前記光源から放出された光がビームスプリッタによって二つの光路に分割され、その光の第１部分が測定光として前記物体に照射され、前記走査路上の可変走査位置に位置する光放出（light-remitting）部位で反射され、前記光の第２部分が、参照光として前記参照反射器に照射され、かつ、そこで反射され、前記調節可能走査位置が走査を行うために前記走査路に沿って変えられ、前記測定光と前記参照光とが前記検出器に衝突したときに得られる検出光が、前記各走査位置に対する前記測定光の反射強度に関する情報を含む干渉信号を発生するように、ビームジャンクションにて合体する装置において、前記検出光の光路中の前記ビームジャンクションと前記検出器との間に可変波長選択装置が配設され、それによって、前記検出器が所定の波の波数ｋに対応する波長を有する光を好適に受信し、かつ、前記走査位置を前記走査路に沿って変化させるために波数ｋの異なる波を設定できるように、前記検出光の波長依存選択が行われることを特徴とすることによって達成される。

極めて高速の長手方向走査を達成するための上述した従来の試みと異なり、前記走査位置を設定するための走査装置は、前記参照光と測定光との合流部の下流側で検出光の光路に組み込まれている。本発明によれば、長手方向走査位置の変更は、測定光路と参照光路との長さの関係の変化に基づくのではなく、干渉検出光の波長の波の選択に基づく。この選択は、選択された波長に対応する波数の波の波長選択装置におけるｋ−プロファイルが各走査位置に対応する干渉計のｋ−プロファイルと一致するように前記波長選択装置によって変更される。これを以後、図面を参照して更に詳細に説明する。

本発明において利用される物理的現象は、久しく、「ミューラー縞（Mueller stripes）」として知られている。時に、これは、干渉測定法との関連でも使用された。ＤＥ ４３０９０５６は、複数の光分散部位の距離、即ち、検出ビームの方向におけるそれらの強度分布を、光をスペクトル装置（spectral device）によってスペクトル的に分解し、そのスペクトルを位置感応光検出装置、例えば、光ダイオードセル列、によって検出することにより、測定する可能性について記載している。同文献によれば、この構成によって、フーリエ変換によって、検出されたスペクトルの強度分布を測定することが可能である。この方法は、高速長手方向走査には不向きである。なぜなら、光ダイオードのデータ解釈とフーリエ変換による処理とのために、遥かに多くの時間が必要であるからである。更に、検出器信号は、必要とされる良好な位置解像度に鑑みて極めて弱い。従って、Ｓ／Ｎ（シグナル／ノイズ）比は悪い。

本発明によっていくつかの重要な利点が達成される。
完全な長手方向走査が、非常に高い反復速度（１０−１００ｋＨｚ）で達成可能である。多くの用途、特に、移動する物体の連続検査のためには、各走査部位あたり更に高い走査周波数 （１−１０ＭＨｚ）が可能であることが重要である。
− 装置の測定ヘッドは非常に良好に小型化される。なぜなら、走査装置が検出光路に配置され、これが、光伝送ファイバによってコンパクトな測定ヘッドに組み込むことが可能な干渉計の残りの部分に接続することが可能だからである。
評価は、検出光路の位相に影響される情報に依存せず、従って、極めて強固である。又、ミスアラインメントによって起こる信号のひずみのリスクは、比較的低い。
検出器によって記録される光強度は高い（特に、ＤＥ ４３０９０５６と比較して）。なぜなら、位置選択的検出は必要とされないからである。
測定光路の光分散が参照光路の光分散と異なる場合、これによって、従来の装置では、信号精度の欠如が起こる。本発明においては、そのような分散の違いは前記波長選択装置のｋ−プロファイルをそれに応じて調節することによって相殺することができる。

以下、本発明を、図面に示す実施例に基づいて、更に詳細に説明する。図示され記載される特徴構成は、本発明の好適実施例を構成するために、別々に、又は、組み合わせて使用することができる。

図１に示すＬＣＤＳ装置１は、測定ヘッド２と、走査装置３と、電子装置４とから成る。この図示は一定尺度のものではなく、非常に模式的なものである。本発明の機能にとって必須ではない構造詳細は、図示されていない。

前記測定ヘッド２及び走査装置３は、低コヒーレンス干渉計６の光学部材を含む。光源７の光は、レンズ８を介して前記干渉計６の光源アーム９を形成するシングルモード光伝導ファイバにつながれている。光源アーム９で伝送される主光は、ビームスプリッタとして作用する光カプラ１０によって、測定光１６としてサンプルアーム１２に、そして参照光２２として参照アーム１１に均等に分割され、これら両アーム内でも光伝導ファイバ内部で光伝送が行われる。前記サンプルアーム１２内では、前記測定光１６は、レンズ１４及び１５から構成される対物レンズ１３によって取り出される（coupled out）。レンズ１５は、開口部１７を通して放射された前記測定光１６をテスト標本１８に向けて再度集光する。

前記サンプルアーム１２と参照アーム１１との両方において、反射が、測定物体１８の光送り部位２０と、参照反射器２１とにおいて、それぞれ起こる。反射された測定光１６と、反射された参照光２２とは、光カプラ１０で再結合され、検出光２４として、検出器２５に向けて検出アーム２３で伝送される。

この点までは、前記干渉器６の構造は、実質的に従来のものであるので、更に詳細な説明は不要である。図示した干渉計の代わりに、別の公知の構造も使用可能である。特に、光ファイバカプラ１０を使用する光ファイバ式構造の代わりに、フリービームスプリッタを備えるフリービーム式構造を使用することができる。又、原則的には、一方では光分離用のビームスプリッタとして、そして他方では、光結合部材として、別々の光学部材を使用することも可能である。但し、図示されているように、光分割と結合とに同じ光学部材１０を使用することが好ましい。

前記測定ヘッド２に含まれる前記干渉装置の具体的特徴構成は、前記参照アーム１１とサンプルアーム１２とのいずれも、それによってこれら両アームの長さ（一般的に表現すると、前記測定光路と参照光路との長さ）が、矢印２８によって示されている走査方向において、図１に破線で示されている走査部２７に沿って長手方向走査位置を変更するために互いに変更される手段を有さないことにある。むしろ、長手方向走査を実行するために必要な走査位置の変更は、前記検出光２４の光路中の、光の結合部（前記光カプラ１０による）と検出器２５との間に組み込まれた前記走査装置３によって実現される。

前記走査装置３は、その全体を３０で示し、その重要な構成部材が図２及び３により明白に見ることが出来る、二種類の実施例の可変波長選択装置を含む。図示されている好適構成において、それは、スペクトル分離装置３１を有し、これによって、前記検出光２４は、その波長λに依存して、空間的に分離される。図示されている構成において、前記スペクトル分離装置３１は、反射スペクトル格子３２によって形成されている。但し、スペクトル装置に一般的に使用されている、その他の光学部材（透過格子、プリズム）も選択することが可能である。前記スペクトル格子３２に反射してスペクトル的に分離された光は、二つの対物レンズ３４及び３５から構成される光学作像システム３６によって、空間光選択装置３８上に集光される。前記第１対物レンズ３４は、前記波長選択装置３０の入射瞳３７から出射された光を前記スペクトル分離装置３１上に視準し（collimate）、前記第２対物レンズ３５は、前記スペクトル分離装置３１から出射した光を前記光選択装置３８上に集光する。

前記空間光選択装置３８は、好ましくは、直線であり、図中ｘで示す空間方向に延出する線に沿って交互に配設される光通過領域３９と光遮断領域４０とを有する。いずれの場合においても、これらの交互する光通過領域３９と光遮断領域４０は、検出光２４の光軸Ａに対してそれを横断する方向に延出しなければならず、これによって、その波長に依存して、前記スペクトル分離装置３１によって前記線に沿って空間的に分離される光が、交互する光通過領域と光遮断領域とに当たって、前記波長に対応して、交互する強度で前記検出器２５に向けて伝送される。

これは、図２に示されている透過型装置と、図３に示されている反射型装置との両方によって達成することができる。検出光２４は、前記遮断領域４０と比較して、前記光通過領域３９をより少ない減衰で通過する。例えば、図２及び３において、光通過領域３９の中央部分に当たる波長λ₁を有する光は、実質的に減衰無く検出器２５に到達するのに対して、遮断領域に当たる波長λ₂を有する光は、ほぼ完全に遮断される。光通過領域と光遮断領域との間に当たる波長λ₃を有する光は、部分的に減衰される。図３に基づいて、「光通過領域」と「光遮断領域」という表現の意味が、光が光学部材を通過する透過型装置という意味で限定的に理解されてはならないことが明らかになった。これに対して、所望の交互の程度の減衰を、反射光学部材によっても起こすことも可能である。

図４は、両方の場合の光選択において、即ち、図２の透過型空間光選択装置４２と、図３の反射型空間光選択装置４２との場合において、それぞれ、その部材の透過率Ｔと反射率Ｒとが、好ましくはアナログ的（特に正弦関数的）に位置ｘに依存して変化することを示している。但し、図中破線によって示されているデジタル的選択も可能である。前記波長選択装置３０の所定のｋ−プロファイルに従って選択された光が、選択的に検出器２５に伝送されることが必須（decisive）である。好ましくは、前記ｋ−プロファイルに応じた波長の最小光減衰と「遮断された」波長の最大光減衰の間の差（「選択コントラスト」）を、可能な限り大きなものとすべきである。

図１〜３に示された本発明の実施例によれば、前記波長選択装置３０のｋ−プロファイルに応じた前記可変波長選択は、前記空間光選択装置３８の前記交互する光通過領域３９と光遮断領域４０の距離の変化に組み合わせて、前記波長依存光分離の角分散を不変とすることによって達成される。或いは、（後に図１１に基づいて説明するように）角分散が可変のスペクトル分離装置３１を、不変の空間光選択装置３８と組み合わせて使用することも可能である。原則的には、これら両方の部材を可変とすることも可能である。

例えば、透過型可変空間光選択装置３８として電気作動式ＬＣＤマスクを使用することができる（図１及び２）。この場合、隣接する透過領域の最小距離は、前記マスクの画素距離の二倍によって与えられる。より大きな距離は、この距離の倍数として、ステップ的に調節可能とすることができる。前記画素距離を透過領域間の最短所望距離よりも遥かに小さなものとすることによって、ほぼアナログ状の透過変化を達成することができる。

この点に関して、図３に示す、ＤＭＤ（デジタルミラー装置）を可変光選択装置として使用可能なタイプの反射型装置が特に有利である。そのようなマイクロミラーアレイは、特に投影システム用に、極めて小さな画素距離を備えて製造されている。

以下、本発明に利用されている原理について、図５及び６に基づいて説明する。

図５は、経路Δｚに沿って、原点（ゼロ点）において同相となるように振動する二つの波４５及び４６の重ね合わせを示す。経路Δｚの最後において、これら波は再び同相になり、互いに建設的に干渉し合う。この図から、これら二つの波は、それらの波長がΔｚの整数の部分である時、即ち、λ＝Δｚ／ｎが当てはまる、図示の条件下で建設的に干渉し合うことが直接的に導かれる。

単純化のために、ここでは二つの波のみが考慮された。実際には、多くの隣接する波の干渉が起こる。波数ｋと波長λとの間の相関関係（ｋ＝２π／λ）を考慮することによって、経路Δｚに沿ってその波数が
（１）Δｋ＝２π／Δｚ
だけ異なる波は、建設的に干渉するという一般的規則が導かれる。

そのような干渉は、干渉計の検出アームでも起こる。前記経路Δｚの長さがそこから測定される前記原点ゼロ点は、前記測定光路と参照光路との光路長が同じである点によって決まる。以下、それを「光路長の一致点」と称する。本発明において、この一致点は二つの意味で重要である。
ａ）一方において、それは、先に詳述したコヒーレンス条件が満たされる点を示す。一般的なＬＣＤＳ装置において、これは、長手走査のベースを表す。
ｂ）同時に、それは、測定光と参照光とが（光分散の差が無いと仮定して）全波長において同相である位置を示す。従って、一致点は、本発明による長手走査のゼロ点である。実際の走査位置は、一致点から距離Δｚに位置する。

図６は、干渉路長Δｚ＝１００μｍに対して、中心波長λ_O＝８００ｎｍ、スペクトル帯域幅Δλ_FWHM＝５０ｎｍを有する光源の場合における、そのような重ね合わせ（最大値に対して正規化された波長依存強度）から生じる干渉スペクトルを示す。

そのようなスペクトルは、反射計を、図１のＬＣＤＳ装置の測定光において、干渉計の一致点から距離Δｚの位置に配置し、そして、前記空間光選択装置３８の位置において、線５５に沿うｘ方向での強度変化、即ち、波長に対する強度の依存度を（位置感応型又は変位可能な検出器によって）分析することによって実験的に観察することができる。ｋ空間における干渉計のｋプロファイルは、選択された値のΔｚに対して、λ空間におけるこのスペクトルに対応する。

上記等式（１）から、ｋプロファイルの最大値とΔｚの距離の直接関係を数学的に導くことができる。その結果、ｋ−空間において、干渉計のｋプロファイルの最大干渉のポイントは、測定光路と参照光路との間の光学的な分散の差を考慮する必要が無い限り、等距離になる。従って、長手走査位置を、前記一致点から距離Δｚに設定することは、前記可変波長選択装置３０を、それらの距離Δｋが、等式１によって計算される、波数ｋの同一距離の波に設定することによって可能である。λとｋとの間の相関関係は非リニア（むしろ逆数）なので、λ空間における対応スペクトルは厳密には等距離ではない。但し、比較的狭い帯域のスペクトルを考慮する場合は、図６に示されているように、選択されたλ値の波も、ほぼ一定である。

繰返し述べたように、上述した検討は、光分散を考慮する必要がない、即ち、測定光路の波長の屈折率の依存性が参照光路と同じである、という前提に基づくものである。一般的に使用されるＬＣＤＳ装置においては、走査信号の空間解像度は、分散差によって悪影響を受ける。したがって、通常は、光伝導手段の適切な選択によって、両方の光路の光分散の可能な限りの類似性を達成するために、大きな努力がなされる。但し、本発明においては、前記長手波選択装置３０によって選択される等距離の波から離れる波数ｋの波として、前記分散差が相殺されるようなものを選択することによって、単純な方法で、測定光１６の光路と参照光２２の光路との間の分散差を相殺することが可能である。換言すると、前記波長選択装置のｋプロファイルを、分散を考慮して等距離ではない干渉計のｋプロファイルに適合させる。実験的に、これは、反射計を、前記走査路２７上の複数の異なる走査位置に位置させ、例えば、前述したように、干渉計の検出光路におけるその結果得られるスペクトルを測定することによって比較的簡単な方法で実現することができる。この方法により、前記Δｚ範囲内の各走査位置について、干渉計のｋプロファイルが得られる。同じｋプロファイルが前記波長選択装置３０によっても選択され、これらは、所望の長手走査を達成するべく変化される。

前記波長選択装置３０を通過後、選択された光２４は、検出器２５の感光面に当たる。該検出器２５は、位置選択的ではない。即ち、それは、それが受け取る光強度の全部を電気信号に変換し、これが、前記電子装置４に送られ、そこで、それが評価される。図１〜３に示す好適実施例によれば、前記検出器２５の前方には、集光部材４９として作用する集光レンズ４８が配設されている。従って、比較的小さな検出器面で、前記波長選択装置３０を通過する光の全部を捕らえることができる。

前記電子装置４内において、検出器２５によって捕捉された光の強度が、前記波長選択装置３０のｋプロファイルの設定に基づいて、評価装置５０によって記録される。各ｋプロファイルに対して、前記走査位置の対応する値Δｚが割り当てられている。前記測定信号の強度は、ベースラインの減算後（即ち、ベースライン信号と前記強度との差）、選択された各走査位置における反射の強度に対応する。

走査は、前記測定光路の光波長（前記一致点まで測定）と前記参照光路の光波長との関係を変えることに基づくものではないが、このことは、参照光路中の参照反射器２１の位置が構造的に固定されなければならないということを意味するものではない。反対に、装置のアラインメントの目的のために、この位置を調節可能とすることは有利でありうる。但し、走査処理中において、参照光路の長さは一定に維持される。

図７及び８は、機械的に変更可能な光選択装置３８の二種類の実施例を示す。これら両方に共通した特徴は、それぞれ、回動ディスク５４，５６上において、光通過及び光遮断領域３９，４０が、ディスク表面に沿って延出する線５５に沿って測定されるそれらのストライプ距離がディスクの回転中に変化するストライプとして設けられていることにある。これらの光通過及び光遮断領域は、例えば、金属コーティングされた板ガラスのフォトリソグラフィーによって、任意の所望形状に形成することができる。

図７に示されているディスク５４の場合、その光通過領域３９，４０は、直線状で平行である。波長選択に関して有効である線５５（即ち、それに対してスペクトル分離装置のスペクトルが投影される線）は、前記領域３９，４０の有効距離がディスク５４が回転する時に変化するように延出している。

図８及び８ａに示されている実施例において、前記光通過領域及び光遮断領域３９，４０は、前記スペクトルがそれに対して投影される線５５に対するそれらの距離が、回転中に各セグメント５７において減少するように、互いに向けて長さＩの部分に渡る境界ストライプ５６において収束している。セグメント５７の通過中、完全な走査が行われ、それによって、非常に高い走査速度が達成される。例えば、毎秒１００回の回転で１００のセグメント５７（複製構造を有する）の場合、１０ｋＨｚの反復速度を達成することができる。領域３９，４９の線構造の湾曲は自由に選択可能であるので、光選択を測定光路と参照光路との分散差に対して適合させることが可能である。

図２および３に関して、前記空間光選択装置３８に対して、電子手段によって、その表面の異なる部分における透過又は反射を選択的に設定することを可能にする光学部材（ＬＣＤ，ＤＭＤ）を利用することが可能であることを既に説明した。この一般的原理の別の例が図９に示されている。この場合、前記スペクトル分離装置３１から発生する検出光２４は、ＡＯＭ（Acousto-Optical Modulator：音響−光学変調器）の表面上に集光される。このＡＯＭ内において、連続的な音波が発生する。それによって結晶（例えば、ＴｅＯ₂から成る）中に発生する振動によって、一次回折に対応する角度での空間光選択が起こる。検出器２５と集光レンズ４８は、ＡＯＭ５９に入射する光の光軸に対してこの回折角度に配設されている。前に説明した実施例と異なり、ＡＯＭ５９によって形成される空間光選択装置３８の光通過及び光遮断領域３９，４０は、その表面上で静止せず、ｘ方向において連続的に移動する。但し、本発明の作用は、この事実によって悪影響を受けない。

図１０は、走査装置３０において必要な光撮像機能が、必ずしも追加の構造部材によって提供される必要がない、ということを示す。例えば、スペクトル分離装置３１として弓状の空間格子６０を利用することができる。それは、スペクトル分離のみならず、前記入射瞳３７から空間光選択装置３８に入る光の必要な視準も提供する。

既に述べたように、図１１は、前記可変波長選択装置３０の別実施例を示している。ここでは、広がりが可変のスペクトル分離装置３１が、不変の空間光選択装置３８と組み合わせて使用されている。この場合、入射瞳３７から来て対物レンズ３４によって視準される検出光２４は、ＡＯＢＤ（Acousto-Optic Beam Deflector：音響−光学ビーム偏向器）によってスペクトル分離される。前記ＡＯＢＤは、与えられた電気周波数に依存する格子距離を有する可変スペクトル格子を形成する。前記第２対物レンズ３５によって、その結果得られるスペクトル成分は、不変の空間光選択装置３８上に集光される。

図１２は、スペクトル分離装置と空間選択装置との組み合わせに基づくものではない点において、前述した実施例と基本的に異なる可変波長選択装置３０を示している。ここでは、検出光ガイド２３から来る検出光２４は、電界強度に依存する屈折率を有する部分反射端面を備えた光ガイド６４へと導かれる。この光伝導体６４は、当該光伝導体６４内の前記電界強度を変化させるべくそこに可変電圧Ｖを加えることが可能な二つの電極６５，６６に囲まれている。ファブリ−ペロー効果に基づいて、電界強度の変化によって引き起こされる前記光伝導体６４の屈折率の変化により、光路が変化し、これによって、干渉による光波の選択が起こる。

本発明によるＬＣＤＳ装置の略図 可変波長選択装置の第１実施例の一部の略図 可変波長選択装置の第２実施例の一部の略図 空間光選択装置によるアナログ及びデジタル的選択を説明するための線図 二つの異なる波長の重ね合わせを示すグラフ 測定光が所定の走査位置に位置する光送り部位によって反射される場合の干渉計のｋ−プロファイルのグラフ 機械式可変空間光選択装置の第１実施例の略図 機械式可変空間光選択装置の第２実施例の略図 図８の拡大した切り欠き部分を示す図 波長選択装置の第３実施例の一部の略図 波長選択装置の第４実施例の一部の略図 波長選択装置の第５実施例の一部の略図 波長選択装置の第６実施例の一部の略図

Claims (11)

1. 走査方向（２８）に延出する走査路（２７）に沿って位置する光送り部位（２０）の位置を検出することによって、物体（１８）を光学走査するための低コヒーレンス干渉装置であって、
   低コヒーレンス光源（７）と、参照反射器（２１）と検出器（２５）とを有する低コヒーレンス干渉計（６）を有し、
   − 前記光源（７）から放出された光（７）がビームスプリッタ（１０）によって二つの光路（１１，１２）に分割され、その光の第１部分が測定光（１６）として前記物体に照射され、前記走査路（２７）上の可変走査位置に位置する光放出（light-remitting）部位で反射され、前記光の第２部分が、参照光（２２）として前記参照反射器（２１）に照射され、かつ、そこで反射され、
   − 走査を実行するために、前記調節可能走査位置は、前記走査路（２７）に沿って変化する、そして
   − 前記測定光（１６）と前記参照光と（２２）が前記検出器に衝突したときに得られる検出光（２４）が、各走査位置に対する前記測定光の反射強度に関する情報を含む干渉信号を発生するように、ビームジャンクション（１０）において合体するように構成された装置において、
   前記検出光の光路中の前記ビームジャンクション（１０）と前記検出器（２５）との間に、可変波長選択装置（３０）が配設され、それによって、前記検出器（２５）が異なる波数kを有する複数の前記検出光から成る波を受信し、かつ、前記走査位置を前記走査路（２７）に沿って変化させるために異なる前記波を設定できるように、前記検出光（２４）の波長依存選択が行われる低コヒーレンス干渉装置。
2. 前記光源（７）のスペクトル範囲において、前記測定光（１６）と前記参照光（２２）との光路の光分散が実質的に同じであり、前記波を構成する複数の前記検出光の波数ｋの値が、等間隔に設定されている請求項１に記載の低コヒーレンス干渉装置。
3. 前記光源（７）のスペクトル範囲において、前記測定光（１６）と前記参照光（２２）との光路の光分散が実質的に異なり、その分散差が補償されるように、前記波を構成する複数の前記検出光の波数ｋの値が、等間隔からずれて設定されている請求項１に記載の低コヒーレンス干渉装置。
4. 前記可変波長選択装置（３０）が、
   それによって、該検出光（２４）の波長に基づいて、前記検出光（２４）が、空間的に分離されるスペクトル分離装置（３１）を有し、
   線に沿って交互に、複数の低光減衰の光通過領域（３９）と複数の高光減衰の光遮断領域（４０）とを備え、前記検出光（２４）が前記光遮断領域（４０）よりも低い減衰で前記光通過領域（３９）を通過する空間光選択装置（３８）を有し、そして、
   それによって、前記スペクトル分離装置（３１）から照射された光が前記空間光選択装置（３８）上に集光される光学作像システム（３４，３５）を有し、
   ここで、前記スペクトル分離装置（３１）による前記検出光 （２４）の波長依存分離の広がりと、前記空間光選択装置（３８）にある前記通過領域（３９）と前記遮断領域（４０）との距離とは、異なる前記波を設定するために互いに対して可変である請求項１〜３の何れか一項記載の低コヒーレンス干渉装置。
5. 前記スペクトル分離装置（３１）による前記波長依存光分離の角分散は不変であり、前記空間光選択装置（３８）にある前記交互の光通過及び遮断領域（３９，４０）の距離は可変である請求項４記載の低コヒーレンス干渉装置。
6. 前記スペクトル分離装置（３１）が、光格子（３２）を有する請求項４又は５記載の低コヒーレンス干渉装置。
7. 前記光学作像システム（３６）の少なくとも１つの光学部材（６０）が、同時に、前記スペクトル分離装置（３１）の構成要素である請求項４〜６の何れか一項記載の低コヒーレンス干渉装置。
8. 前記空間光選択装置（３８）が反射光学部材（４３）を有し、この反射光学部材（４３）に前記検出光（２４）が照射され、この反射光学部材（４３）が前記光通過領域（３９）と前記遮断領域（４９）とにおいて異なる反射を選択的に提供する請求項４〜７の何れか一項記載の低コヒーレンス干渉装置。
9. 前記空間光選択装置（３８）が、ディスク表面上に延出する線（５５）に沿って測定されるその距離がディスク（５４，５５）の回転中に変化するように延出するストライプとして形成された光通過及び光遮断領域（３９，４０）を備える回転可能ディスク（５４，５５）を有する請求項４〜８の何れか一項記載の低コヒーレンス干渉装置。
10. 前記空間光選択装置（３８）が、電子手段によって、その異なる空間領域において選択的に調節可能な反射率又は透過率を有する光学部材（４２，４３，５９）を有する請求項４〜９の何れか一項記載の低コヒーレンス干渉装置。
11. 集光光学装置（４９）が、前記検出光（２４）を前記検出器（２５）上に集光するべく、前記検出光（２４）の光路中の、前記空間光選択装置（３８）と前記検出器（２５）との間に配置されている請求項４〜１０の何れか一項記載の低コヒーレンス干渉装置。

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