JP2021015158A - 光学デバイス及び光学デバイスの製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】製造工程等における取り扱い性を向上させた光学デバイス及び光学デバイスの製造方法を提供すること。【解決手段】光学デバイス１は、第１方向に延在する複数のＶ溝１１が形成されたＶ溝ガラス基板１０と、複数のＶ溝に配置される複数の光ファイバ２０と、Ｖ溝ガラス基板との間に複数の光ファイバを挟むファイバ押さえガラス板４０と、Ｖ溝ガラス基板における第１方向の端面である第１端面１２に対向して設けられ、光ファイバから出射される光を反射する反射膜６０を備えるガラス基板９０と、反射膜と第１端面との間に介在する、所定の厚みを有する空間形成膜７０と、反射膜と第１端面との間に充填される樹脂８０とを備える。【選択図】図１

Description

本発明は、光学デバイス及び光学デバイスの製造方法に関する。

特許文献１には、光ファイバと、シリコンフォトニクス素子のグレーティングカプラとを光学結合させる光学デバイスが記載されている。特許文献１の光学デバイスでは、光ファイバ端面が斜めに研磨されると共に研磨面に反射膜が設けられている。研磨面の反射膜によって光ファイバの側面方向に光が出射（反射）される。そして、特許文献１の光学デバイスでは、光ファイバの側面方向に出射された光がグレーティングカプラに入射するように、シリコンフォトニクス素子が設けられている。このような構成によれば、反射膜が用いられずに光ファイバの延在方向にシリコンフォトニクス素子が設けられる構成と比較して、光学デバイスを低背化することができる。

特開２０１７−１４２３２５号公報

ここで、上述した特許文献１の光学デバイスは、光ファイバ端面に樹脂を塗布すると共に光ファイバ端面及び樹脂を共に研磨し、研磨面に反射膜を押し付けることにより形成されている。反射膜が押し付けられる研磨面は、光ファイバ（ガラス）及び樹脂が共に研磨された面であるので、ガラス及び樹脂の境界部分において凸凹が生じうる。凸凹の研磨面に反射膜を押し付けた場合には反射膜に傷がつくおそれがあることから、反射膜を設ける工程等については慎重に行う必要がある。

本発明は上記実情に鑑みてなされたものであり、製造工程等における取り扱い性を向上させた光学デバイス及び光学デバイスの製造方法を提供することを目的とする。

本発明の一態様に係る光学デバイスは、第１方向に延在する複数のＶ溝が形成された第１基板と、複数のＶ溝に配置される複数の光ファイバと、第１基板との間に複数の光ファイバを挟む第２基板と、第１基板における第１方向の端面である第１端面に対向して設けられ、光ファイバから出射される光を反射する反射膜を備える反射部材と、反射膜と第１端面との間に介在する、所定の厚みを有する空間形成膜と、反射膜と第１端面との間に充填される接着部材と、を備える。

本発明の一態様に係る光学デバイスの製造方法は、第１基板に形成された、第１方向に延在する複数のＶ溝に複数の光ファイバを配置すると共に、第１基板との間に複数の光ファイバを挟むように第２基板を配置し、第１基板、複数の光ファイバ、及び第２基板を、互いに第１接着部材で接着する工程と、光を反射する反射膜と、前記反射膜に形成された所定の厚みを有する空間形成膜と、を備える反射部材を、第１基板における第１方向の端面である第１端面と反射膜との間に、空間形成膜が介在するように、第２接着部材によって、第１端面に貼り付ける工程と、を備える。

本発明によれば、製造工程等における取り扱い性を向上させた光学デバイス及び光学デバイスの製造方法を提供することができる。

図１は、本実施形態に係る光学デバイスの斜視図である。 図２は、図１の光学デバイスとシリコンフォトニクス素子との光学結合を説明する図である。 図３は、図１の光学デバイスとシリコンフォトニクス素子との光学結合を説明する図である。 図４は、本実施形態に係る光学デバイスの製造工程を説明する図である。 図５は、本実施形態に係る光学デバイスの製造工程を説明する図である。 図６は、空間形成膜の具体的な形成例を示す図である。 図７は、比較例に係る光学デバイスを説明する図である。 図８は、比較例に係る光学デバイスを説明する図である。

［本発明の実施形態の説明］
最初に、本発明の実施形態の内容を列記して説明する。一実施形態に係る光学デバイスは、第１方向に延在する複数のＶ溝が形成された第１基板と、複数のＶ溝に配置される複数の光ファイバと、第１基板との間に複数の光ファイバを挟む第２基板と、第１基板における第１方向の端面である第１端面に対向して設けられ、光ファイバから出射される光を反射する反射膜を備える反射部材と、反射膜と第１端面との間に介在する、所定の厚みを有する空間形成膜と、反射膜と第１端面との間に充填される接着部材と、を備える。

このような光学デバイスでは、反射部材の反射膜と第１基板の第１端面との間に、所定の厚みを有する空間形成膜が介在している。このように、空間形成膜が、反射膜と第１端面との間のスペーサーとして機能することによって、反射膜と第１端面（及び、反射膜と光ファイバの端面）とが直接接触することを防止することができる。このことで、反射部材を設ける際に反射膜と第１端面とが接触して反射膜が傷つくことを考慮する必要がなくなるため、製造工程における取り扱い性を向上させることができる。また、製造工程において反射膜に傷がつくことを防止できることから、反射部材の傷に起因して光の透過率が低下することを回避することができる。

第１端面は、第１方向に直交する面に対して前記第１方向に傾斜していてもよい。このような光学デバイスでは、第１端面に対向して設けられる反射部材の反射膜についても、第１方向に直交する面に対して第１方向に傾斜して設けられることとなる。この場合、反射膜において反射した光は、光ファイバの側面方向に出射される。このような構成においては、シリコンフォトニクス素子のグレーティングカプラが光ファイバの側面方向に設けられることとなるため、シリコンフォトニクス素子のグレーティングカプラが光ファイバの延在方向に設けられる構成と比較して、光学デバイスの低背化（光ファイバの延在方向における小型化）を実現することができる。

一実施形態に係る光学デバイスの製造方法は、第１基板に形成された、第１方向に延在する複数のＶ溝に複数の光ファイバを配置すると共に、第１基板との間に複数の光ファイバを挟むように第２基板を配置し、第１基板、複数の光ファイバ、及び第２基板を、互いに第１接着部材で接着する工程と、光を反射する反射膜と、反射膜に形成された所定の厚みを有する空間形成膜と、を備える反射部材を、第１基板における第１方向の端面である第１端面と反射膜との間に、空間形成膜が介在するように、第２接着部材によって、第１端面に貼り付ける工程と、を備える。

これにより、反射部材の反射膜と第１基板の第１端面との間に、所定の厚みを有する空間形成膜が介在した光学デバイスを製造することができる。このような光学デバイスの製造工程においては、空間形成膜が、反射膜と第１端面との間のスペーサーとして機能することによって、反射膜と第１端面（すなわち、反射膜と光ファイバの端面）とが直接接触することを防止することができる。このことで、反射膜を設ける際に反射膜と第１端面とが接触して反射膜が傷つくことを考慮する必要がなくなるため、製造工程における取り扱い性を向上させることができる。また、製造工程において反射膜に傷がつくことを防止できることから、反射部材の傷に起因して光の透過率が低下することを回避することができる。

反射膜に空間形成膜を形成する工程をさらに備え、空間形成膜を形成する工程では、反射膜と第１端面との間において第２接着部材が流れ出る流出領域が形成されるように、反射膜に空間形成膜を形成してもよい。例えば、接着部材の逃げ道が形成されずに空間形成膜が設けられると、第１端面に反射部材を貼り付ける（押し付ける）工程において、押し付ける力を大きくする必要がある。また、接着部材の逃げ道が形成されない場合には、反射膜と第１端面との間に気泡が残りやすくなってしまう。この点、反射膜と第１端面との間において接着部材が流れ出る流出領域が形成されるように（接着部材の逃げ道が形成されるように）空間形成膜が設けられることにより、上述した押し付ける力を低減することができると共に、上述した気泡が残ることを抑制することができる。

空間形成膜を形成する工程では、反射膜の四隅に空間形成膜を形成してもよい。四隅に空間形成膜が形成されることにより、反射膜と第１端面（すなわち、反射膜と光ファイバの端面）とが直接接触することを効果的に抑制しながら、上述した接着部材の流出領域を大きくすることができる。

［本発明の実施形態の詳細］
本発明の実施形態に係る光学デバイスの具体例を、以下に図面を参照しつつ説明する。なお、本発明はこれらの例示に限定されるものではなく、特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味及び範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。以下の説明では、図面の説明において同一の要素には同一の符号を付し、重複する説明を省略する。

図１は、本実施形態に係る光学デバイス１の斜視図である。光学デバイス１は、光ファイバ２０と、シリコンフォトニクス素子１００のグレーティングカプラ１１０（図３参照）とを光学結合させる光学部品である。図１に示されるように、光学デバイス１は、Ｖ溝ガラス基板１０（第１基板）と、複数の光ファイバ２０と、樹脂３０と、ファイバ押さえガラス板４０（第２基板）と、反射膜６０と、空間形成膜７０と、樹脂８０（接着部材）と、ガラス基板９０（反射部材）と、を備えている。また、光学デバイス１は、シリコンフォトニクス素子１００等の光学素子と光結合するための光結合部２を備える。

Ｖ溝ガラス基板１０は、光ファイバ２０の延在方向（以下、第１方向と記載する場合がある）に延在する複数のＶ溝１１が形成された基板である。複数のＶ溝１１には、光ファイバ２０が配置される。Ｖ溝ガラス基板１０は、第１方向の一端に第１端面１２を有する。第１端面１２は、斜めに研磨されている。詳細には、第１端面１２は、第１方向に直交する面に対して第１方向に傾斜している。斜めに研磨された第１端面１２と第１方向とが作る角度は、シリコンフォトニクス素子１００のグレーティングカプラ１１０への入射角が特定の角度になるように定める。当該角度は、例えば４１°程度とされる。第１端面１２においては、Ｖ溝１１に配置された光ファイバ２０も同様に斜めに研磨されている。

光ファイバ２０は、図３に示されるように、コア２１と該コア２１の周囲を覆うクラッド２２とを含んで構成されたシングルモードファイバである。シングルモードファイバとは、光が単一のモードで伝送されるファイバである。図１に示されるように、光ファイバ２０は、複数のＶ溝１１のそれぞれに配置されており、Ｖ溝１１に沿って第１方向に延在している。複数の光ファイバ２０には、例えば、入力用の光ファイバと出力用の光ファイバとが含まれている。光ファイバ２０は、第１端面１２において斜めに研磨されている。また、光ファイバ２０は、その側面（具体的には、図３の左図において破線で示したクラッド２２の一部）が削られていてもよい。この場合には、図３に示されるように、グレーティングカプラ１１０とコア２１とを近づけることができる。

ファイバ押さえガラス板４０は、Ｖ溝ガラス基板１０との間に複数の光ファイバ２０を挟む基板である。ファイバ押さえガラス板４０は、光ファイバ２０が配置されたＶ溝ガラス基板１０に対して樹脂３０により固定されている。樹脂３０により固定された、Ｖ溝ガラス基板１０と、複数の光ファイバ２０と、ファイバ押さえガラス板４０とによって、ファイバアレイ５０が構成されている。

反射膜６０は、Ｖ溝ガラス基板１０の第１端面１２に対向して設けられ、光ファイバ２０から出射される光を反射する部材である。反射膜６０は、ガラス基板９０に蒸着されており、第１端面１２に対して樹脂８０により貼り付けられている。すなわち、ガラス基板９０は、反射膜６０を備えている。ガラス基板９０は、斜め研磨された光ファイバ２０の先端を欠けから保護する構成としても機能する。反射膜６０の厚みは例えば０．１〜０．５μｍ程度であり、ガラス基板９０の厚みは例えば１００〜１０００μｍ程度である。反射膜６０は、例えば、ＳｉＯ２、ＺｒＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＺｎＳ、ＴｉＯ２、Ｔａ２Ｏ５等により形成された保護層と、Ａｕ、Ａｇ、Ａｌ、ＴｉＯ２、Ｔａ２Ｏ５等により形成された反射層と、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｃｒ等により形成されたバッファ層とが積層された膜である。保護層は反射層を保護する目的で設けられている。バッファ層はガラス基板９０と反射層との間に形成されている。

空間形成膜７０は、反射膜６０と第１端面１２との間に介在する、所定の厚みを有する膜である。空間形成膜７０は、反射膜６０を第１端面１２に貼り付ける際において、反射膜６０と第１端面１２（ファイバアレイ５０）とが直接接触することを回避するスペーサーとして機能する。空間形成膜７０は、例えば蒸着又はスパッタリングによって反射膜６０に形成される（詳細は後述）。空間形成膜７０の材料としては、蒸着又はスパッタリングが可能であり、反射膜と密着性があり、変形しにくく、耐環境性（シリコンフォトニクス素子１００に係る環境である温度８５℃湿度８５％程度の環境への適用性）を有する材料が好ましく、例えばＳｉＯ２、ＺｒＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＺｎＳ、ＴｉＯ２、Ｔａ２Ｏ５等を採用することができる。密着性の観点からは、空間形成膜７０の材料は、反射膜６０の表面（例えば、上記保護層）の材料と同じ材料とされることが好ましい。なお、空間形成膜７０の材料は、上述した全ての条件を備えたものでなくてもよい。空間形成膜７０の厚みは、斜め研磨された第１端面１２における凸凹（詳細は後述）の大きさ（例えば０．１μｍ程度）よりも大きいことが好ましく、例えば０．５〜１０μｍ程度である。

樹脂８０は、反射膜６０と第１端面１２との間に充填される接着部材である。樹脂８０の厚みは、例えば５μｍ以下である。樹脂８０は、例えばエポキシ系、アクリレート系、又はシリコン系の樹脂である。また、樹脂８０としては、光の反射ロスを低減する観点から、屈折率が光ファイバ２０のコア２１と同程度のものが用いられてもよい。

次に、図２及び図３も参照しながら、光学デバイス１とシリコンフォトニクス素子１００との光学結合について説明する。図２は、光学デバイス１上にシリコンフォトニクス素子１００が載置された構成の斜視図である。図３（ａ）は、第１方向に直交する面における光ファイバ２０の断面図、図３（ｂ）は、第１方向に沿った光ファイバ２０の断面図である。

図２に示されるように、シリコンフォトニクス素子１００は、光ファイバ２０の側面方向に出射された光がグレーティングカプラ１１０に入射するように、光学デバイス１上に設けられている。詳細には、シリコンフォトニクス素子１００は、光学デバイス１における光結合部２（図１参照）を覆うように設けられている。図３（ａ）及び図３（ｂ）に示されるように、光ファイバ２０を伝達してきた光は、第１端面１２と共に斜め研磨されたファイバ端面から出射し、ファイバ端面と反射膜６０との間の樹脂８０を透過して、反射膜６０において光ファイバ２０の側面方向に反射される。そして、光は、光ファイバ２０の側面から出て、樹脂１５０（シリコンフォトニクス素子１００を光学デバイス１上に固定する樹脂）を透過してグレーティングカプラ１１０に特定の角度で入射する。

次に、図４〜図６を参照して、光学デバイス１の製造工程（製造方法）を説明する。なお、図４（ｃ）及び図４（ｄ）においては、空間形成膜７０の図示を省略している。図４（ａ）に示されるように、光学デバイス１の製造工程においては、最初に、Ｖ溝ガラス基板１０に形成された、第１方向に延在するＶ溝１１に複数の光ファイバ２０を配置する。次に、Ｖ溝ガラス基板１０との間に複数の光ファイバ２０を挟むようにファイバ押さえガラス板４０を配置する。そして、Ｖ溝ガラス基板１０の凹部１０ｘに未硬化状態の樹脂を滴下する。滴下した未硬化状態の樹脂は、毛細管現象により、Ｖ溝ガラス基板１０とファイバ押さえガラス板４０との間及びＶ溝１１と光ファイバ２０の間に充填される。充填された樹脂は、紫外線、熱又はそれらの組み合わせによって硬化される。硬化された樹脂３０により、Ｖ溝ガラス基板１０、複数の光ファイバ２０、及びファイバ押さえガラス板４０を固定してファイバアレイ５０を組み立てる（樹脂３０で接着する工程）。

つづいて、図４（ｂ）に示されるように、Ｖ溝ガラス基板１０の第１端面１２（第１端面１２における光ファイバ２０の端面を含む）及びファイバ押さえガラス板４０の端面を斜めに研磨する。斜めに研磨された第１端面１２と第１方向とが作る角度θは、シリコンフォトニクス素子１００への入射角が特定の角度になるように定める。角度θは例えば４１°程度とされる。

つづいて、図５（ａ）及び図５（ｂ）に示されるように、光を反射する反射膜６０の表面６１に所定の厚みを有する空間形成膜７０を形成する（空間形成膜を形成する工程）。具体的には、図５（ａ）に示されるように、ガラス基板９０に反射膜６０を形成した後に、反射膜６０上に空間形成膜７０の形状に合わせてマスク２００をかけ、蒸着又はスパッタリングにより空間形成膜７０を形成する（図５（ｂ）参照）。マスク２００は、例えばステンレス鋼等の金属製のメタルマスクを用いることができる。

そして、図４（ｃ）及び図５（ｃ）に示されるように、反射膜６０が形成されたガラス基板９０を斜め研磨面（第１端面１２等）に貼り付ける。すなわち、Ｖ溝ガラス基板１０における第１方向の端面である第１端面１２と表面６１との間に空間形成膜７０が介在するように、樹脂８０によって、第１端面１２に反射膜６０を貼り付ける（貼り付ける工程）。

最後に、図４（ｄ）に示されるように、ファイバ押さえガラス板４０及び光ファイバ２０の側面を削り落とし、光結合部２を形成する。以上が、光学デバイス１の製造工程（製造方法）である。

なお、上述した空間形成膜７０を形成する工程においては、反射膜６０を第１端面１２に貼り付けた際に反射膜６０と第１端面１２との間において樹脂８０が流れ出る流出領域６９が形成されるように、反射膜６０に空間形成膜７０を形成してもよい（図６（ａ）参照）。図６（ａ）に示される例では、例えば反射膜６０が矩形である場合において、四辺のうち対向する一対の辺にのみ空間形成膜７０を形成し、残りの２辺には空間形成膜７０を形成していない。当該残りの２辺は、流出領域６９となる。

さらに、図６（ｂ）に示されるように、空間形成膜７０を形成する工程においては、例えば矩形である反射膜６０の四隅に空間形成膜７０を形成してもよい。この場合には、四隅を除いて各辺に流出領域６９が形成されることとなる。

次に、本実施形態に係る光学デバイス１及び光学デバイス１の製造方法の作用効果について説明する。

まず、比較例に係る光学デバイスについて、図７を参照して説明する。図７に示される光学デバイスは、本実施形態に係る光学デバイス１と基本構成が概ね同一であるが、反射膜６０に空間形成膜７０が形成されていない点で異なっている。ここで、反射膜６０が貼り付けられる端面（第１端面１２等）は、Ｖ溝ガラス基板１０及び光ファイバ２０と樹脂８０とを同時研磨した面であるため、ガラスと樹脂との境界部分において最大０．１μｍ程度の凸凹が生じている。樹脂厚に斑ができることを回避する観点からは、研磨面に対して反射膜６０を強く押し付ける必要があるが、凸凹の研磨面に反射膜６０を押し付けた場合には反射膜６０に傷がつくおそれがある。このため、比較例に係る光学デバイスを製造する工程においては、反射膜６０を設ける作業（反射膜６０を貼り付ける工程）を慎重に行う必要がある。

このような構成に対して、本実施形態に係る光学デバイス１は、第１方向に延在する複数のＶ溝１１が形成されたＶ溝ガラス基板１０と、複数のＶ溝１１に配置される複数の光ファイバ２０と、Ｖ溝ガラス基板１０との間に複数の光ファイバ２０を挟むファイバ押さえガラス板４０と、Ｖ溝ガラス基板１０における第１方向の端面である第１端面１２に対向して設けられ、光ファイバ２０から出射される光を反射する反射膜６０と、反射膜６０と第１端面１２との間に介在する、所定の厚みを有する空間形成膜７０と、反射膜６０と第１端面１２との間に充填される樹脂８０と、を備える。

このような光学デバイス１では、反射膜６０とＶ溝ガラス基板１０の第１端面１２との間に、所定の厚みを有する空間形成膜７０が介在している。このように、空間形成膜７０が、反射膜６０と第１端面１２との間のスペーサーとして機能することによって、反射膜６０と第１端面１２（及び、反射膜６０と光ファイバ２０の端面）とが直接接触することを防止することができる。このことで、反射部材を設ける際に反射膜６０と第１端面１２とが接触して反射膜６０が傷つくことを考慮する必要がなくなるため、製造工程における取り扱い性を向上させることができる。また、製造工程において反射膜６０に傷がつくことを防止できることから、反射膜６０の傷に起因して光の透過率が低下することを回避することができる。

第１端面１２は、図１に示されるように、第１方向に直交する面に対して第１方向に傾斜している（斜め研磨面とされている）。このような光学デバイス１では、第１端面１２に対向して設けられる反射膜６０についても、第１方向に直交する面に対して第１方向に傾斜して設けられることとなる。この場合、図３（ｂ）に示されるように、反射膜６０において反射した光は、光ファイバ２０の側面方向に出射される。このような構成においては、シリコンフォトニクス素子１００のグレーティングカプラ１１０が光ファイバ２０の側面方向に設けられることとなるため、シリコンフォトニクス素子のグレーティングカプラが光ファイバの延在方向に設けられる構成と比較して、光学デバイスの低背化（光ファイバの延在方向における小型化）を実現することができる。すなわち、図８に示される比較例に係る光学デバイス５００は、第１基板５１０及び第２基板５４０に挟まれるように複数の光ファイバ２０が設けられ樹脂５３０で固定されたファイバアレイを有している。このような光学デバイス５００は、本実施形態に係る光学デバイス１とは異なり反射膜等の構成が設けられていないため、光ファイバ２０の延在方向（図中の下方）に光結合部が形成されてシリコンフォトニクス素子が設けられることとなる。このような構成と比較すると、シリコンフォトニクス素子１００のグレーティングカプラ１１０が光ファイバ２０の側面方向に設けられる光学デバイス１は、光学デバイスの低背化（光ファイバの延在方向における小型化）を実現することができる。

また、光学デバイス１の製造方法は、Ｖ溝ガラス基板１０に形成された、第１方向に延在する複数のＶ溝１１に複数の光ファイバ２０を配置すると共に、Ｖ溝ガラス基板１０との間に複数の光ファイバ２０を挟むようにファイバ押さえガラス板４０を配置し、Ｖ溝ガラス基板１０、複数の光ファイバ２０、及びファイバ押さえガラス板４０を、互いに樹脂３０で接着する工程と、光を反射する反射膜６０と、反射膜６０に形成された所定の厚みを有する空間形成膜７０と、を備えるガラス基板９０を、Ｖ溝ガラス基板１０における第１方向の端面である第１端面１２と反射膜６０との間に、空間形成膜７０が介在するように、樹脂８０によって、第１端面１２に貼り付ける工程と、を備える。

このような製造方法によれば、反射膜６０とＶ溝ガラス基板１０の第１端面１２との間に、所定の厚みを有する空間形成膜７０が介在した光学デバイス１を製造することができる。このような光学デバイス１の製造工程においては、空間形成膜７０が、反射膜６０と第１端面１２との間のスペーサーとして機能することによって、反射膜６０と第１端面１２（すなわち、反射膜６０と光ファイバ２０の端面）とが直接接触することを防止することができる。このことで、反射膜６０と第１端面１２とが接触して反射膜６０が傷つくことを考慮する必要がなくなるため、製造工程における取り扱い性を向上させることができる。また、製造工程において反射膜６０に傷がつくことを防止できることから、反射膜６０の傷に起因して光の透過率が低下することを回避することができる。

反射膜６０に空間形成膜７０を形成する工程をさらに備え、空間形成膜７０を形成する工程では、反射膜６０と第１端面１２との間において樹脂８０が流れ出る流出領域６９が形成されるように、反射膜６０に空間形成膜７０を形成してもよい。例えば、樹脂８０の逃げ道が形成されずに空間形成膜７０が設けられると、第１端面１２に反射膜６０を貼り付ける（押し付ける）工程において、押し付ける力を大きくする必要がある。また、樹脂８０の逃げ道が形成されない場合には、反射膜６０と第１端面１２との間に気泡が残りやすくなってしまう。この点、反射膜６０と第１端面１２との間において樹脂８０が流れ出る流出領域６９が形成されるように（樹脂８０の逃げ道が形成されるように）空間形成膜７０が設けられることにより、上述した押し付ける力を低減することができると共に、上述した気泡が残ることを抑制することができる。

空間形成膜７０を形成する工程では、反射膜６０の四隅に空間形成膜７０を形成してもよい。四隅に空間形成膜７０が形成されることにより、反射膜６０と第１端面１２（すなわち、反射膜６０と光ファイバ２０の端面）とが直接接触することを効果的に抑制しながら、上述した樹脂８０の流出領域を大きくすることができる。

以上、本実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されない。

１…光学デバイス、２…光結合部、１０…Ｖ溝ガラス基板（第１基板）、１０ｘ…凹部、１１…Ｖ溝、１２…第１端面、２０…光ファイバ、２１…コア、２２…クラッド、３０…樹脂（第１接着部材）、４０…ファイバ押さえガラス板（第２基板）、５０…ファイバアレイ、６０…反射膜、６１…表面、６９…流出領域、７０…空間形成膜、８０…樹脂（第２接着部材）、９０…ガラス基板（反射部材）、１００…シリコンフォトニクス素子、１１０…グレーティングカプラ、１５０…樹脂、２００…マスク。

Claims (5)

1. 第１方向に延在する複数のＶ溝が形成された第１基板と、
   前記複数のＶ溝に配置される複数の光ファイバと、
   前記第１基板との間に前記複数の光ファイバを挟む第２基板と、
   前記第１基板における前記第１方向の端面である第１端面に対向して設けられ、前記光ファイバから出射される光を反射する反射膜を備える反射部材と、
   前記反射膜と前記第１端面との間に介在する、所定の厚みを有する空間形成膜と、
   前記反射膜と前記第１端面との間に充填される接着部材と、を備える光学デバイス。
2. 前記第１端面は、前記第１方向に直交する面に対して前記第１方向に傾斜している、請求項１に記載の光学デバイス。
3. 第１基板に形成された、第１方向に延在する複数のＶ溝に複数の光ファイバを配置すると共に、前記第１基板との間に前記複数の光ファイバを挟むように第２基板を配置し、前記第１基板、前記複数の光ファイバ、及び前記第２基板を、互いに第１接着部材で接着する工程と、
   光を反射する反射膜と、前記反射膜に形成された所定の厚みを有する空間形成膜と、を備える反射部材を、前記第１基板における前記第１方向の端面である第１端面と前記反射膜との間に、前記空間形成膜が介在するように、第２接着部材によって、前記第１端面に貼り付ける工程と、を備える光学デバイスの製造方法。
4. 前記反射膜に前記空間形成膜を形成する工程をさらに備え、
   前記空間形成膜を形成する工程では、前記反射膜と前記第１端面との間において前記第２接着部材が流れ出る流出領域が形成されるように、前記反射膜に前記空間形成膜を形成する、請求項３に記載の製造方法。
5. 前記空間形成膜を形成する工程では、前記反射膜の四隅に前記空間形成膜を形成する、請求項４に記載の製造方法。

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