JP2020530666A5 - - Google Patents

Claims (10)

1. 装置であって、
   前面および背面を有するレーザ発光エピタキシャル構造であって、レーザ発光エピタキシャル構造が背面発光であり、単一メサ構造内に複数のレーザ領域を備え、各レーザ領域がアパーチャを有し、レーザビームがアパーチャを通して制御可能に放射される、レーザ発光エピタキシャル構造と、
   レーザ発光エピタキシャル構造の背面上に置かれるマイクロレンズアレイであって、マイクロレンズアレイの各マイクロレンズがレーザ発光エピタキシャル構造のレーザ領域に位置合わせされる、マイクロレンズアレイと、
   アパーチャから放射される複数のレーザビームを非コヒーレントに結合するように位置付けされる非コヒーレントなビームコンバイナと
   を備える、装置。
2. 複数のレーザ領域の各々が、レーザ発光エピタキシャル構造の背面まで延在するレーザキャビティを備える、請求項１に記載の装置。
3. レーザキャビティの各々が、レーザビーム放射のための光学軸を有し、光学軸がレーザ発光エピタキシャル構造の背面に対して垂直である、請求項２に記載の装置。
4. マイクロレンズが反射コーティングで覆われて、放射されたレーザビームからのレーザ光をレーザキャビティを通して反射する、請求項２または３に記載の装置。
5. 反射されたレーザ光がレーザキャビティの中心に集中されるように、マイクロレンズがスムーズな曲率半径を有する、請求項４に記載の装置。
6. マイクロレンズアレイがフォトリソグラフィックマイクロレンズアレイまたは複数のグラフェンレンズ構造を備える、請求項１から５のいずれか一項に記載の装置。
7. 非コヒーレントなビームコンバイナが、重複する集束点を有する二次元（２Ｄ）の非コヒーレントなビームコンバイナまたは複数の重複する集束点を有する三次元（３Ｄ）の非コヒーレントなビームコンバイナを備える、請求項１から６のいずれか一項に記載の装置。
8. レーザ領域に電流を提供するように構成される電気導波管をさらに備え、
   各レーザ領域が、単一メサ構造内で、単一メサ構造の他のレーザ領域に対し、電気的に絶縁される、請求項１から７のいずれか一項に記載の装置。
9. 複数のレーザ発光エピタキシャル構造と、レーザグリッドアレイとして構成される複数のマイクロレンズアレイとをさらに備える、請求項１から８のいずれか一項に記載の装置。
10. 方法であって、
    前面および背面を有するレーザ発光エピタキシャル構造に電流を選択的に印加することにより複数のレーザビームを発生させることであって、レーザ発光エピタキシャル構造が背面発光であり、単一メサ構造内に複数のレーザ領域を備え、各レーザ領域がアパーチャを有し、レーザビームがアパーチャを通して放射される、ことと、
    レーザ発光エピタキシャル構造の背面上に置かれるマイクロレンズアレイに、発生されたレーザビームを仕向けることであって、マイクロレンズアレイの各マイクロレンズがレーザ発光エピタキシャル構造のレーザ領域に位置合わせされる、ことと、
    アパーチャから放射されるレーザビームを非コヒーレントに結合することと
    を含む、方法。