JP2020524713A - ラタモキセフのカルボキシル基及びヒドロキシル基の保護基を取り除く方法 - Google Patents

ラタモキセフのカルボキシル基及びヒドロキシル基の保護基を取り除く方法 Download PDF

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Abstract

本発明の下式化合物Iは塩酸及び炭素カチオン吸収剤の作用下で保護基を取り除かれることにより、式IIで表されるラタモキセフ酸を得て、Rがヒドロキシル基の保護基であるラタモキセフのカルボキシル基及びヒドロキシル基の保護基を取り除く方法を提供する。塩酸でトリフルオロ酢酸または三塩化アルミニウム、四塩化スズを取り替え、塩酸及びフェノールまたはm−クレゾールを併用して用量が少なく、取り除くことが簡単となる。トリフルオロ酢酸又はアルミニウムイオン、スズイオンが最終の製品に残留して最終製品の品質の不適格を避けられる。残留された少しの塩酸は後処理のプロセスで微量の塩化ナトリウムを生成したが、人体に無害である。塩酸を酸触媒として、反応条件が穏やか、反応速度が速く、コスト及び生産設備に対しての要求が削減される。高効率、環境保護、経済性などの利点があり、工業的な大規模生産に適用する。【化1】【選択図】なし

Description

本発明は、ラタモキセフのカルボキシル基及びヒドロキシル基の保護基を取り除く方法に属する。
現在、ラタモキセフの製造において、最後の工程におけるカルボキシル基の保護基を取り除く方法は、主にトリフルオロ酢酸−アニソール方法、三塩化アルミニウム−アニソール方法及び四塩化スズ−アニソール方法に分ける(文献Synthesis and antibacterial activity of 1−oxacephem derivatives, The journal of antibiotics, VOL.XXXV No.4, 463−482、中国出願 CN201510482613.8、CN201210099356.6などを参照する)。これらの方法は下記の欠点がある:トリフルオロ酢酸の使用量が大きく、トリフルオロ酢酸を蒸留回収する場合に大量の不純物を生成し、過剰なトリフルオロ酢酸がその後のナトリウム塩形成プロセスではトリフルオロ酢酸ナトリウムになってラタモキセフナトリウムに残留し、製品の品質に影響する。トリフルオロ酢酸を取り除くために、炭酸水素ナトリウムと塩になり、酸化後、樹脂で精製してより純粋な製品を得る必要があるが、樹脂で精製する場合、原料濃度がわずか1%以下であるため、その後の濃度増加及び凍結乾燥が困難になり、操作時間が長くなると、新しい不純物を生成する。また、トリフルオロ酢酸は強力な腐食性化学原料であるため、装置を重度に腐食することがあり、装置に対しての要求が高く、リサイクルも困難である。三塩化アルミニウム及び四塩化スズ方法を使用する場合、先ずラタモキセフ酸の三塩化アルミニウムアニソール錯体組成物又は四塩化スズアニソール錯体組成物を製造し、さらに、それを水解してラタモキセフ酸を得る。この方法の水解条件が厳しく、後処理では、有機溶媒で製品を抽出するために水を加える必要があるが、製品は水溶性が高いため、完全に抽出することは困難であり、そして、アルミニウムイオンまたはスズイオンは、水にさらされるとコロイドを形成しやすく、抽出中に層化することは困難であり、複雑な後処理プロセスは不純物を増加させ、最終的には収率が高くない。
また、製品中のアルミニウムまたはスズの残留も避けられない問題がある。
本発明は、前記の欠点を克服するために、ラタモキセフのカルボキシル基及びヒドロキシル基の保護基を取り除く新規な方法を提供することにより、当該方法で便利に及び効率的にラタモキセフの認定製品を得ることを目的とする。
前記の目的を達成するために、本発明は、以下の技術手段を提供する。
塩酸及び炭素カチオン吸収剤の作用下で下式で表される化合物Iが保護基を取り除くことにより式IIで表されるラタモキセフ酸を得る、ラタモキセフのカルボキシル基及びヒドロキシル基の保護基を取り除く方法。
Rはヒドロキシル基の保護基である。
前記のヒドロキシル基の保護基は、ラタモキセフの製造においてこのヒドロキシル基を保護することができる基であってもよい。例えば、テトラヒドロピラニル、P−メトキシベンジル、シリル基または水素原子などが挙げられる。
さらに、使用された塩酸と化合物Iとの間のモル比が0.01:1−1:1であり、さらに0.05:1から0.15:1が好ましい。
さらに、使用されたの炭素カチオン吸収剤はフェノール、m−クレゾールであり、フェノールが好ましい。
さらに、使用された炭素カチオン吸収剤を反応溶剤としてもよく、その使用量は体積として化合物Iの重量使用量の1−20倍であり、即ち、炭素カチオン吸収剤と化合物Iとの使用量の比率は、1−20mL/gであり、4−8mL/gが好ましい。
本発明において、ラタモキセフのカルボキシル基及びヒドロキシル基の保護基を取り除く方法は、反応温度に対して特に限られなく、0℃−50℃の一般的な温度でも反応が行うことができ、好ましい反応温度は25℃−35℃である。
本発明のラタモキセフのカルボキシル基の保護基を取り除く新規な方法では、塩酸でトリフルオロ酢酸または三塩化アルミニウム、四塩化スズを取り替え、塩酸及びフェノールまたはm−クレゾールを併用して用量が少なく、取り除くことが簡単となり、そして、トリフルオロ酢酸又はアルミニウムイオン、スズイオンが水に残留して最終製品の品質を不適格する問題が避けられた。残留された塩酸は後処理の塩形成プロセスで微量の塩化ナトリウムを生成したが、人体に無害である。塩酸を酸触媒として、反応条件が穏やか、反応速度が速く、コスト及び生産設備に対しての要求が削減され、及び高効率、環境保護、経済性などの利点があり、工業的な大規模生産に適用する。
また、実験によると、本発明の方法は、セファロスポリンC2位のカルボキシル基の保護基だけではなく、化合物Iにおける7−位側鎖カルボキシル基の保護基及びヒドロキシル基の保護基を取り除くこともでき、最終製品の側鎖の脱カルボキシル基不純物及び1−メチル−5−メルカプトテトラゾール不純物の含有量が大幅に削減され、製品の純度が大幅に向上した。
従って、本発明のラタモキセフのカルボキシル基の保護基を取り除く新規な方法では、合格的なラタモキセフ製品を便利に効率的に得ることができ、工業的な大規模生産に適用する。
本発明に使用された材料および器具は、すべて市販品である。
実施例1
窒素の下で、化合物I(R1=H原子,10.0g,1.0eq)をフェノール(40mL)に溶解し、25℃−35℃で塩酸(103uL,0.1eq)を滴下し、滴下の終了後1.5時間攪拌反応し、完全に反応するまで原料及び中間反応をLCによりモニターし、反応液を室温まで冷却させ、さらにイソプロピルエーテル(200mL)を滴下し、固体が析出した後、−10℃まで冷却させて3時間攪拌し、濾過し、イソプロピルエーテル(100mL)で固体を洗浄し、さらにそれを乾燥してラタモキセフ酸の粗製品(6.0g)を得て、白い固体であり、収率は93%であり、純度は98.5%であり、その中に7−位側鎖のカルボキシル基が取り除かれたラタモキセフが0.35%であり、5−メルカプト−1−メチルテトラゾールが0.44%である。
実施例2
窒素の下で、化合物I(R1=H原子,10.0g,1.0eq)をm−クレゾール(40mL)に溶解し、40℃−50℃まで昇温させ、塩酸(206uL,0.2eq)を滴下し、滴下の終了後3時間攪拌反応し、完全に反応するまで原料及び中間反応をLCによりモニターした。反応液を室温まで冷却させ、さらにイソプロピルエーテル(150mL)を滴下し、固体が析出した後、−10℃まで冷却させて3時間攪拌し、濾過し、イソプロピルエーテル(150mL)で固体を洗浄し、さらにそれを乾燥してラタモキセフ酸の粗製品(5.8g)を得て、白い固体であり、収率は90%であり、純度は97.7%であり、その中に7−位側鎖のカルボキシル基が取り除かれたラタモキセフが0.73%であり、5−メルカプト−1−メチルテトラゾールが0.41%である。
実施例3
窒素の下で、化合物I(R1=H原子,10.0g,1.0eq)をフェノール(20mL)及びジクロロメタン(10mL)に溶解し、0℃まで冷却させ、塩酸(1.03mL,1.0eq)を滴下し、滴下の終了後0℃を維持して5時間攪拌反応し、完全に反応するまで原料及び中間反応をLCによりモニターした。さらにイソプロピルエーテル(100mL)を滴下し、固体が析出した後、−10℃まで冷却させて3時間攪拌し、濾過し、イソプロピルエーテル(100mL)で固体を洗浄し、さらにそれを乾燥してラタモキセフ酸の粗製品(6.1g)を得て、白い固体であり、収率は94.6%であり、純度は98.1%であり、その中に7−位側鎖のカルボキシル基が取り除かれたラタモキセフが0.29%であり、5−メルカプト−1−メチルテトラゾールが0.55%である。
実施例4
窒素の下で、化合物I(R1=H原子,10.0g,1.0eq)をフェノール(200mL)に溶解し、室温で塩酸(10.3uL,0.01eq)を滴下し、滴下の終了後45℃−50℃まで昇温させ、1.5時間攪拌反応し、完全に反応するまで原料及び中間反応をLCによりモニターした。tert−ブチルメチルエーテル(1L)を滴下し、固体が析出した後、−10℃まで冷却させて3時間攪拌し、濾過し、tert−ブチルメチルエーテル(100mL)で固体を洗浄し、さらにそれを乾燥してラタモキセフ酸の粗製品(5.1g)を得て、白い固体であり、収率は76.4%であり、純度は99.3%であり、その中に7−位側鎖のカルボキシル基が取り除かれたラタモキセフが0.15%であり、5−メルカプト−1−メチルテトラゾールが0.2%である。
実施例5
窒素の下で、化合物I(R1=テトラヒドロピラニル,10.0g,1.0eq)をフェノール(40mL)に溶解し、25℃−35℃まで昇温させ、塩酸(93.6uL,0.1eq)を滴下し、滴下の終了後1.5時間攪拌反応し、完全に反応するまで原料及び中間反応をLCによりモニターした。反応液を室温まで冷却させ、さらにイソプロピルエーテ(200mL)ルを滴下し、固体が析出した後、−10℃まで冷却させて3時間攪拌し、濾過し、イソプロピルエーテル(100mL)で固体を洗浄し、さらにそれを乾燥してラタモキセフ酸の粗製品(5.32g)を得て、白い固体であり、収率は91%であり、純度は97.5%であり、その中に7−位側鎖のカルボキシル基が取り除かれたラタモキセフが0.66%であり、5−メルカプト−1−メチルテトラゾールが0.58%である。
実施例6
窒素の下で、化合物I(R1=テトラヒドロピラニル,10.0g,1.0eq)をm−クレゾール(40mL)に溶解し、35℃−45℃まで昇温させ、塩酸(93.6uL,0.1eq)を滴下し、滴下の終了後2時間攪拌反応し、完全に反応するまで原料及び中間反応をLCによりモニターした。反応液を室温まで冷却させ、tert−ブチルメチルエーテル(200mL)を滴下し、固体が析出した後、−10℃まで冷却させて3時間攪拌し、濾過し、tert−ブチルメチルエーテル(100mL)で固体を洗浄し、さらにそれを乾燥してラタモキセフ酸の粗製品(5.16g)を得て、白い固体であり、収率は88%であり、純度は99.1であり、その中に7−位側鎖のカルボキシル基が取り除かれたラタモキセフが0.24%であり、5−メルカプト−1−メチルテトラゾールが0.17%である。
実施例7
窒素の下で、化合物I(R1=テトラヒドロピラニル,10.0g,1.0eq)をフェノール(20mL)及びジクロロメタン(10mL)に溶解し、0℃まで冷却させ、塩酸(936uL,1.0eq)を滴下し、滴下の終了後0℃を維持して5時間攪拌反応し、完全に反応するまで原料及び中間反応をLCによりモニターした。さらにイソプロピルエーテル(100mL)を滴下し、固体が析出した後、−10℃まで冷却させて3時間攪拌し、濾過し、イソプロピルエーテル(100mL)で固体を洗浄し、さらにそれを乾燥してラタモキセフ酸の粗製品(5.6g)を得て、白い固体であり、収率は95.8%であり、純度は97.2%であり、その中に7−位側鎖のカルボキシル基が取り除かれたラタモキセフが0.52%であり、5−メルカプト−1−メチルテトラゾールが0.69%である。
実施例8
窒素の下で、化合物I(R1=テトラヒドロピラニル,10.0g,1.0eq)をフェノール(10mL)に溶解し、室温で塩酸(9.36uL,0.01eq)を滴下し、滴下の終了後50℃まで昇温させ、1.5時間攪拌反応し、完全に反応するまで原料及び中間反応をLCによりモニターし、さらにイソプロピルエーテル(1L)を滴下し、固体が析出した後、−10℃まで冷却させて3時間攪拌し、濾過し、イソプロピルエーテル(100mL)で固体を洗浄し、さらにそれを乾燥してラタモキセフ酸の粗製品(5.2g)を得て、白い固体であり、収率は89%であり、純度は98.9%であり、その中に7−位側鎖のカルボキシル基が取り除かれたラタモキセフが0.27%であり、5−メルカプト−1−メチルテトラゾールが0.36%である。
実施例9
窒素の下で、化合物I(R1=P−メトキシベンジル,10.0g,1.0eq)をにフェノール(40mL)溶解し、25℃−35℃まで昇温させ、塩酸(90uL,0.1eq)を滴下し、滴下の終了後1.5時間攪拌反応し、完全に反応するまで原料及び中間反応をLCによりモニターし、反応液を室温まで冷却させ、さらにイソプロピルエーテル(200mL)を滴下し、固体が析出した後、−10℃まで冷却させて3時間攪拌し、濾過し、イソプロピルエーテル(100mL)で固体を洗浄し、さらにそれを乾燥してラタモキセフ酸の粗製品(5.3g)を得て、白い固体であり、収率は94.5%であり、純度は98%であり、その中に7−位側鎖のカルボキシル基が取り除かれたラタモキセフが0.36%であり、5−メルカプト−1−メチルテトラゾールが0.23%である。
実施例10
窒素の下で、化合物I(R1=P−メトキシベンジル,10.0g,1.0eq)をm−クレゾール(40mL)に溶解し、35℃−45℃まで昇温させ、塩酸(90uL,0.1eq)を滴下し、滴下の終了後2時間攪拌反応し、完全に反応するまで原料及び中間反応をLCによりモニターし、反応液を室温まで冷却させ、tert−ブチルメチルエーテル(200mL)を滴下し、固体が析出した後、至−10℃まで冷却させて3時間攪拌し、濾過し、tert−ブチルメチルエーテル(100mL)で固体を洗浄し、さらにそれを乾燥してラタモキセフ酸の粗製品(5.05g)を得て、白い固体であり、収率は90%であり、純度は97.7%であり、その中に7−位側鎖のカルボキシル基が取り除かれたラタモキセフが0.55%であり、5−メルカプト−1−メチルテトラゾールが0.71%である。
実施例11
窒素の下で、化合物I(R1=トリメチルシリル,10.0g,1.0eq)をフェノール(10mL)に溶解し、室温で塩酸(9.5uL,0.01eq)を滴下し、滴下の終了後50℃まで昇温させ、1.5時間攪拌反応し、完全に反応するまで原料及び中間反応をLCによりモニターした。さらにイソプロピルエーテル(1L)を滴下し、固体が析出した後、−10℃まで冷却させて3時間攪拌し、濾過し、イソプロピルエーテル(100mL)で固体を洗浄し、さらにそれを乾燥してラタモキセフ酸の粗製品(5.48g)を得て、白い固体であり、収率は92.5%であり、純度は98.3%であり、その中に7−位側鎖のカルボキシル基が取り除かれたラタモキセフが0.24%であり、メルカプト5−メルカプト−1−メチルテトラゾールが0.41%である。

Claims (9)

  1. 下式で表される化合物Iは、塩酸及び炭素カチオン吸収剤の作用下で、保護基を取り除かれることにより式IIで表されるラタモキセフ酸を得て、
    Rがヒドロキシル基の保護基であることを特徴とするラタモキセフのカルボキシル基及びヒドロキシル基の保護基を取り除く方法。
  2. 前記のヒドロキシル基の保護基がテトラヒドロピラニル、P−メトキシベンジル、シリル基または水素原子であることを特徴とする請求項1に記載のラタモキセフのカルボキシル基及びヒドロキシル基の保護基を取り除く方法。
  3. 前記の塩酸と化合物Iとの間の使用量のモル比が0.01:1から1:1であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載のラタモキセフのカルボキシル基及びヒドロキシル基の保護基を取り除く方法。
  4. 前記の塩酸と化合物Iとの間の使用量のモル比が0.05:1から0.15:1であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載のラタモキセフのカルボキシル基及びヒドロキシル基の保護基を取り除く方法。
  5. 前記の炭素カチオン吸収剤はフェノールまたはm−クレゾールであることを特徴とする請求項1または請求項2に記載のラタモキセフのカルボキシル基及びヒドロキシル基の保護基を取り除く方法。
  6. 前記の炭素カチオン吸収剤はフェノールであることを特徴とする請求項1または請求項2に記載のラタモキセフのカルボキシル基及びヒドロキシル基の保護基を取り除く方法。
  7. 使用された炭素カチオン吸収剤を反応溶剤とすることを特徴とする請求項1または請求項2に記載のラタモキセフのカルボキシル基及びヒドロキシル基の保護基を取り除く方法。
  8. 前記の炭素カチオン吸収剤と化合物Iとの使用量の比率は、1から20mL/gであることを特徴とする請求項1または請求項2に記載のラタモキセフのカルボキシル基及びヒドロキシル基の保護基を取り除く方法。
  9. 前記の炭素カチオン吸収剤と化合物Iとの使用量の比率は、4から8mL/gであることを特徴とする請求項1または請求項2に記載のラタモキセフのカルボキシル基及びヒドロキシル基の保護基を取り除く方法。
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