JP2020523622A - ペリクル及びペリクルアセンブリ - Google Patents
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Abstract
Description
[0001] 本願は2017年6月15日に提出された欧州出願第17176205.7号及び2017年9月12日に提出された欧州出願第17190503.7号の優先権を主張するものであり、これらの出願は参照によりその全体が本明細書に組み込まれる。
ペリクルフレームは、光学的圧着、水素結合、金拡散接合又は陽極接合のうち少なくとも1つを用いてペリクルに結合されていてもよい。任意の他の結合方法が用いられてもよく、ここで、特定の結合方法は製造後のペリクル内で所望の予応力を生じる温度で動作することが理解されるであろう。例示に過ぎないが、結合の他の例には、機械的(例えばボルト、ファスナ等)、(焼結中にグリーン状態のセラミック材料の2片が結合されてモノリシック部品に変化する)セラミックグリーン体結合(別の通称を同時焼成結合という)、直接結合、ガラス接合、原子拡散接合、及びレーザアブレーション支援結合がある。
[条項1]
ペリクルが取り付けられる表面を定義するペリクルフレームを備えるペリクルアセンブリであって、
前記ペリクルアセンブリは、前記ペリクルが応力下で展張することを可能にする1つ以上の三次元展張構造物を備える、ペリクルアセンブリ。
[条項2]
前記三次元展張構造物のうち少なくとも1つは前記ペリクルフレーム内に形成され、それによって前記ペリクルに付与される、条項1のペリクルアセンブリ。
[条項3]
前記三次元展張構造物のうち少なくとも1つはバネを形成する、条項1又は2のペリクルアセンブリ。
[条項4]
前記バネは、前記ペリクルフレーム内に形成された少なくとも1つのV字形の構成を備える、条項3のペリクルアセンブリ。
[条項5]
前記少なくとも1つの構造物は、前記ペリクルフレーム内に形成され前記ペリクルの中央部の周りに配置された複数のバネを備える、条項1から4のいずれかのペリクルアセンブリ。
[条項6]
前記少なくとも1つのバネは板バネである、条項2又は条項2に従属するいずれかの条項のペリクルアセンブリ。
[条項7]
前記三次元展張構造物のうち少なくとも1つは、前記ペリクルの中央部に存在している、条項1から6のいずれかのペリクルアセンブリ。
[条項8]
前記フレームは基板を備え、前記ペリクルアセンブリは前記基板と前記ペリクルとの間に少なくとも1つのバネ層を備えており、前記バネ層内に少なくとも1つのバネが形成される、条項7のペリクルアセンブリ。
[条項9]
前記少なくとも1つの三次元展張構造物はヘリンボンパターンを備える、条項1から8のいずれかのペリクルアセンブリ。
[条項10]
前記少なくとも1つの三次元展張構造物は、前記ペリクルの全面の大部分にわたって延びるヘリンボンパターンを備える、条項9のペリクルアセンブリ。
[条項11]
前記少なくとも1つの三次元展張構造物は、前記ペリクルの表面全体にラフネスをもたらす、条項1から10のいずれかのペリクルアセンブリ。
[条項12]
ペリクルが取り付けられる表面を定義するペリクルフレームを備えるペリクルアセンブリであって、
前記表面は、接着剤の広がりを低減するための少なくとも1つの接着剤境界を備える、ペリクルアセンブリ。
[条項13]
前記少なくとも1つの接着剤境界は円形の境界を備える、条項12のペリクルアセンブリ。
[条項14]
前記少なくとも1つの接着剤境界は線境界を備える、条項12又は13のペリクルアセンブリ。
[条項15]
前記線境界は前記フレームの縁に隣接して配置され、前記フレームの前記縁は前記ペリクルの中央部に隣接する、条項14のペリクルアセンブリ。
[条項16]
前記線境界は前記円形の境界と前記ペリクルの中央部との間に配置される、条項13に従属する条項14又は145のペリクルアセンブリ。
[条項17]
前記少なくとも1つの境界は前記フレーム内の溝を備える、条項12から16のいずれか一項のペリクルアセンブリ。
[条項18]
前記ペリクルアセンブリは前記円形の境界と略同心の接着剤を備える、条項12から17のいずれか一項のペリクルアセンブリ。
[条項19]
ペリクルフレームと、
ペリクルと、
前記ペリクルアセンブリをパターニングデバイスと接近及び離隔するように移動させる1つ以上のアクチュエータと
を備えるペリクルアセンブリ。
[条項20]
前記アクチュエータは、前記ペリクルアセンブリを、前記ペリクルとパターニングデバイスとの間に略密封された容積が形成される閉じた構成と、前記ペリクルと前記パターニングデバイスとの間の容積が周囲環境と流体連通する開いた構成との間で遷移させるように構成されている、条項19のペリクルアセンブリ。
[条項21]
前記ペリクルが取り付けられる表面を定義するペリクルフレームを備えるペリクルアセンブリであって、
前記ペリクルフレームは、第1の熱膨張率を有する第1の材料と、第2の熱膨張率を有する第2の材料とを備える、ペリクルアセンブリ。
[条項22]
前記第1の材料はシリコンを備える、条項21のペリクルアセンブリ。
[条項23]
前記第1の材料は複数の孔を備え、前記第2の材料は前記複数の孔の中に位置している、条項21又は22のペリクルアセンブリ。
[条項24]
前記第2の材料は少なくとも部分的に前記第1の材料を囲む、条項21,22又は23のペリクルアセンブリ。
[条項25]
前記第2の材料は金属を備える、条項21から24のいずれか一項のペリクルアセンブリ。
[条項26]
前記ペリクルが取り付けられる表面を定義するペリクルフレームを備えるペリクルアセンブリであって、
前記ペリクルフレームは前記ペリクルに結合される、ペリクルアセンブリ。
[条項27]
前記ペリクルはアニールされたペリクルであり、前記ペリクルフレームはアニールの後に前記ペリクルに結合された、条項26のペリクルフレーム。
[条項28]
前記ペリクルフレームはシリコンの熱膨張率(CTE)よりも低いCTEを有する材料を備える、条項26又は27のペリクルアセンブリ。
[条項29]
前記ペリクルフレームはガラスセラミック材料を備える、条項26,27又は28のペリクルアセンブリ。
[条項30]
前記ペリクルフレームは、およそ摂氏160度未満の温度で動作する結合手順を用いて前記ペリクルに結合されている、条項26から29のいずれかのペリクルアセンブリ。
[条項31]
前記ペリクルフレームは、光学的圧着、水素結合、金拡散接合又は陽極接合のうち少なくとも1つを用いて前記ペリクルに結合されている、条項26から30のいずれかのペリクルアセンブリ。
[条項32]
前記ペリクルフレームは単一片で形成される、条項26乃至31のいずれかのペリクルアセンブリ。
[条項33]
前記ペリクルフレームはガス放出を低減するための不活性コーティングを備える、条項26乃至32のいずれかのペリクルアセンブリ。
[条項34]
前記ペリクルフレームはシリコンを備えない、条項26乃至33のいずれかのペリクルアセンブリ。
[条項35]
前記ペリクルフレームは、アルミニウム、チタン、ベリリウム、窒化アルミニウム、ゼロデュア(登録商標)、酸化シリコン及び炭化シリコンのうち少なくとも1つを備える、条項26から34のいずれか一項のペリクルアセンブリ。
[条項36]
ペリクルが取り付けられる表面を定義するペリクルフレームを備えるペリクルアセンブリであって、
パターニング対象の基板をパターニングするために放射ビームで照射されるとき、前記ペリクルは、1つ以上の皺を備えるとともに、前記放射ビームを部分的に反映し、
前記1つ以上の皺は、前記放射ビームの一部を、パターニング対象の前記基板から遠ざかるように反射するように構成されている、ペリクルアセンブリ。
[条項37]
前記ペリクルは、前記皺が、前記パターニングデバイスの前記表面によって定義される平面に対して、35mradよりも大きい最大角度を成すように構成されている、条項36のペリクルアセンブリ。
[条項38]
前記ペリクルは、前記皺が、前記パターニングデバイスの前記表面によって定義される平面に対して、300mrad未満の最大角度を成すように構成されている。条項36又は37のペリクルアセンブリ。
[条項39]
前記ペリクルは、使用時に入射する放射ビームのおよそ0.4%を反射するように構成されている、条項36,37又は38のペリクルアセンブリ。
[条項40]
前記ペリクルは二珪化モリブデン(MoSi2)を備えており、前記ペリクル内の平均応力は、室温で、100MPaから250MPaの範囲内である、条項1から39のいずれかのペリクルアセンブリ。
[条項41]
前記ペリクルは黒鉛系材料を備えており、前記ペリクル内の平均応力は、室温で、300MPaから450MPaの範囲内である、条項1から40のいずれかのペリクルアセンブリ。
[条項42]
パターニングデバイスから基板上にパターンを投影するように配置されたリソグラフィ装置であって、粒子が前記パターニングデバイスに接触するのを防止するべく前記パターニングデバイスの近傍に配置された条項1から41のいずれかに記載のペリクルアセンブリを備える、リソグラフィ装置。
[条項43]
ペリクルアセンブリを製造する方法であって、
基板上にペリクルを堆積することと、
前記ペリクルがペリクルフレームと前記基板との間にあるように前記ペリクルフレームを前記ペリクルに結合することと、
前記ペリクル及び前記ペリクルフレームを残すように前記基板をエッチングすることと
を備える、方法。
[条項44]
前記ペリクルフレームは摂氏160度を下回る温度で前記ペリクルに結合される、条項43の方法。
[条項45]
前記ペリクルを前記基板上に堆積させた後、前記ペリクルフレームを前記ペリクルに結合する前に、前記ペリクルをアニールすることを更に備える、条項43又は44の方法。
[条項46]
ペリクルが取り付けられる表面を定義するペリクルフレームを備えるペリクルアセンブリであって、
前記ペリクルフレームの上又は中にコンピュータ読み取り可能且つ書き込み可能な追跡デバイスが提供される、ペリクルアセンブリ。
[条項47]
前記コンピュータ読み取り可能且つ書き込み可能な追跡デバイスは、前記ペリクル及び/又は前記ペリクルアセンブリの識別子を記憶するように構成されている、条項46のペリクルアセンブリ。
[条項48]
前記コンピュータ追跡デバイスは、前記ペリクルの使用履歴及び/又はペリクル固有の特性を示す動作データを記憶するように構成されている、条項46又は47のペリクルアセンブリ。
[条項49]
パターニングデバイスから基板上にパターンを投影するように配置されたリソグラフィ装置であって、コンピュータ読み取り可能命令を実行してトランシーバ配置に条項46から48のいずれか一項に記載のペリクルアセンブリの追跡デバイスからの読み出し及び前記追跡デバイスへの書き込みを行わせるように構成されたプロセッサを備えたコントローラを備える、リソグラフィ装置。
[条項50]
前記コンピュータ読み取り可能命令は、前記プロセッサに、前記追跡デバイスから1つ以上の動作データ項目を取得させるとともに前記1つ以上の動作データ項目が閾値を超えるかどうかを判定させるように構成されている、条項49のリソグラフィ装置。
[条項51]
前記コンピュータ読み取り可能命令は、前記プロセッサに、前記1つ以上の動作データ項目が閾値を超えるという判定に応答して、前記リソグラフィ装置に前記ペリクルアセンブリをアンロードさせるように構成されている、条項50のリソグラフィ装置。
[条項52]
前記コンピュータ読み取り可能命令は、前記プロセッサに、前記トランシーバ配置に前記ペリクルアセンブリがアンロードされたことを示すデータを前記追跡デバイスに書き込ませるように構成されている、条項51のリソグラフィ装置。
[条項53]
前記コンピュータ読み取り可能命令は、前記プロセッサに、前記1つ以上の動作データ項目が前記閾値を超えないという判定に応答して、前記トランシーバに前記リソグラフィ装置の使用時に前記追跡デバイスについての動作データを記録させるように構成されている、条項50又は52のリソグラフィ装置。
[条項54]
ペリクルが取り付けられる表面を定義するペリクルフレームと、
前記ペリクルと機械的に連通し前記ペリクルフレームの内縁を越えて内向きに延びる1つ以上の張力層と
を備えるペリクルアセンブリ。
[条項55]
前記1つ以上の張力層のうち少なくとも1つは、前記ペリクルが前記張力層と前記フレームとの間に配置されるように、前記ペリクルの上側に提供される、条項54のペリクルアセンブリ。
[条項56]
前記1つ以上の張力層のうち少なくとも1つは前記ペリクルの下側に提供される、条項54又は55のペリクルアセンブリ。
[条項57]
前記1つ以上の張力層は、前記ペリクルの上側に提供された第1の張力層と前記ペリクルの下側に提供された第2の張力層とを備える、条項54,55又は56のペリクルアセンブリ。
[条項58]
前記1つ以上の張力層のうち少なくとも1つは、前記ペリクルフレームの前記内縁から内向きに延びる第1の部分と、前記ペリクルフレームの前記内縁から外向きに延びる第2の部分とを備えており、前記第2の部分は前記第1の部分よりも長い、条項54から57のいずれか一項のペリクルアセンブリ。
[条項59]
前記1つ以上の張力層のうち少なくとも1つは多層構造を備える、条項54から57のいずれか一項のペリクルアセンブリ。
[条項60]
パターニングデバイスから基板上にパターンを投影するように配置されたリソグラフィ装置であって、粒子が前記パターニングデバイスに接触するのを防止するべく前記パターニングデバイスの近傍に配置された条項54から59のいずれかに記載のペリクルアセンブリを備える、リソグラフィ装置。
[条項61]
条項1から41,46から48又は54から59のいずれか一項に記載のペリクルアセンブリを備えるリソグラフィ装置の動的ガスロック。
Claims (61)
- ペリクルが取り付けられる表面を定義するペリクルフレームを備えるペリクルアセンブリであって、
前記ペリクルアセンブリは、前記ペリクルが応力下で展張することを可能にする1つ以上の三次元展張構造物を備える、ペリクルアセンブリ。 - 前記三次元展張構造物のうち少なくとも1つは前記ペリクルフレーム内に形成され、それによって前記ペリクルに付与される、請求項1のペリクルアセンブリ。
- 前記三次元展張構造物のうち少なくとも1つはバネを形成する、請求項1又は2のペリクルアセンブリ。
- 前記バネは、前記ペリクルフレーム内に形成された少なくとも1つのV字形の構成を備える、請求項3のペリクルアセンブリ。
- 前記少なくとも1つの構造物は、前記ペリクルフレーム内に形成され前記ペリクルの中央部の周りに配置された複数のバネを備える、請求項1から4のいずれかのペリクルアセンブリ。
- 前記少なくとも1つのバネは板バネである、請求項2又は請求項2に従属するいずれかの請求項のペリクルアセンブリ。
- 前記三次元展張構造物のうち少なくとも1つは、前記ペリクルの中央部に存在している、請求項1から6のいずれかのペリクルアセンブリ。
- 前記フレームは基板を備え、前記ペリクルアセンブリは前記基板と前記ペリクルとの間に少なくとも1つのバネ層を備えており、前記バネ層内に少なくとも1つのバネが形成される、請求項7のペリクルアセンブリ。
- 前記少なくとも1つの三次元展張構造物はヘリンボンパターンを備える、請求項1から8のいずれかのペリクルアセンブリ。
- 前記少なくとも1つの三次元展張構造物は、前記ペリクルの全面の大部分にわたって延びるヘリンボンパターンを備える、請求項9のペリクルアセンブリ。
- 前記少なくとも1つの三次元展張構造物は、前記ペリクルの表面全体にラフネスをもたらす、請求項1から10のいずれかのペリクルアセンブリ。
- ペリクルが取り付けられる表面を定義するペリクルフレームを備えるペリクルアセンブリであって、
前記表面は、接着剤の広がりを低減するための少なくとも1つの接着剤境界を備える、ペリクルアセンブリ。 - 前記少なくとも1つの接着剤境界は円形の境界を備える、請求項12のペリクルアセンブリ。
- 前記少なくとも1つの接着剤境界は線境界を備える、請求項12又は13のペリクルアセンブリ。
- 前記線境界は前記フレームの縁に隣接して配置され、前記フレームの前記縁は前記ペリクルの中央部に隣接する、請求項14のペリクルアセンブリ。
- 前記線境界は前記円形の境界と前記ペリクルの中央部との間に配置される、請求項13に従属する請求項14又は145のペリクルアセンブリ。
- 前記少なくとも1つの境界は前記フレーム内の溝を備える、請求項12から16のいずれか一項のペリクルアセンブリ。
- 前記ペリクルアセンブリは前記円形の境界と略同心の接着剤を備える、請求項12から17のいずれか一項のペリクルアセンブリ。
- ペリクルフレームと、
ペリクルと、
前記ペリクルアセンブリをパターニングデバイスと接近及び離隔するように移動させる1つ以上のアクチュエータと
を備えるペリクルアセンブリ。 - 前記アクチュエータは、前記ペリクルアセンブリを、前記ペリクルとパターニングデバイスとの間に略密封された容積が形成される閉じた構成と、前記ペリクルと前記パターニングデバイスとの間の容積が周囲環境と流体連通する開いた構成との間で遷移させるように構成されている、請求項19のペリクルアセンブリ。
- 前記ペリクルが取り付けられる表面を定義するペリクルフレームを備えるペリクルアセンブリであって、
前記ペリクルフレームは、第1の熱膨張率を有する第1の材料と、第2の熱膨張率を有する第2の材料とを備える、ペリクルアセンブリ。 - 前記第1の材料はシリコンを備える、請求項21のペリクルアセンブリ。
- 前記第1の材料は複数の孔を備え、前記第2の材料は前記複数の孔の中に位置している、請求項21又は22のペリクルアセンブリ。
- 前記第2の材料は少なくとも部分的に前記第1の材料を囲む、請求項21,22又は23のペリクルアセンブリ。
- 前記第2の材料は金属を備える、請求項21から24のいずれか一項のペリクルアセンブリ。
- 前記ペリクルが取り付けられる表面を定義するペリクルフレームを備えるペリクルアセンブリであって、
前記ペリクルフレームは前記ペリクルに結合される、ペリクルアセンブリ。 - 前記ペリクルはアニールされたペリクルであり、前記ペリクルフレームはアニールの後に前記ペリクルに結合された、請求項26のペリクルフレーム。
- 前記ペリクルフレームはシリコンの熱膨張率(CTE)よりも低いCTEを有する材料を備える、請求項26又は27のペリクルアセンブリ。
- 前記ペリクルフレームはガラスセラミック材料を備える、請求項26,27又は28のペリクルアセンブリ。
- 前記ペリクルフレームは、およそ摂氏160度未満の温度で動作する結合手順を用いて前記ペリクルに結合されている、請求項26から29のいずれかのペリクルアセンブリ。
- 前記ペリクルフレームは、光学的圧着、水素結合、金拡散接合又は陽極接合のうち少なくとも1つを用いて前記ペリクルに結合されている、請求項26から30のいずれかのペリクルアセンブリ。
- 前記ペリクルフレームは単一片で形成される、請求項26乃至31のいずれかのペリクルアセンブリ。
- 前記ペリクルフレームはガス放出を低減するための不活性コーティングを備える、請求項26乃至32のいずれかのペリクルアセンブリ。
- 前記ペリクルフレームはシリコンを備えない、請求項26乃至33のいずれかのペリクルアセンブリ。
- 前記ペリクルフレームは、アルミニウム、チタン、ベリリウム、窒化アルミニウム、ゼロデュア(登録商標)、酸化シリコン及び炭化シリコンのうち少なくとも1つを備える、請求項26から34のいずれか一項のペリクルアセンブリ。
- ペリクルが取り付けられる表面を定義するペリクルフレームを備えるペリクルアセンブリであって、
パターニング対象の基板をパターニングするために放射ビームで照射されるとき、前記ペリクルは、1つ以上の皺を備えるとともに、前記放射ビームを部分的に反映し、
前記1つ以上の皺は、前記放射ビームの一部を、パターニング対象の前記基板から遠ざかるように反射するように構成されている、ペリクルアセンブリ。 - 前記ペリクルは、前記皺が、前記パターニングデバイスの前記表面によって定義される平面に対して、35mradよりも大きい最大角度を成すように構成されている、請求項36のペリクルアセンブリ。
- 前記ペリクルは、前記皺が、前記パターニングデバイスの前記表面によって定義される平面に対して、300mrad未満の最大角度を成すように構成されている。請求項36又は37のペリクルアセンブリ。
- 前記ペリクルは、使用時に入射する放射ビームのおよそ0.4%を反射するように構成されている、請求項36,37又は38のペリクルアセンブリ。
- 前記ペリクルは二珪化モリブデン(MoSi2)を備えており、前記ペリクル内の平均応力は、室温で、100MPaから250MPaの範囲内である、請求項1から39のいずれかのペリクルアセンブリ。
- 前記ペリクルは黒鉛系材料を備えており、前記ペリクル内の平均応力は、室温で、300MPaから450MPaの範囲内である、請求項1から40のいずれかのペリクルアセンブリ。
- パターニングデバイスから基板上にパターンを投影するように配置されたリソグラフィ装置であって、粒子が前記パターニングデバイスに接触するのを防止するべく前記パターニングデバイスの近傍に配置された請求項1から41のいずれかに記載のペリクルアセンブリを備える、リソグラフィ装置。
- ペリクルアセンブリを製造する方法であって、
基板上にペリクルを堆積することと、
前記ペリクルがペリクルフレームと前記基板との間にあるように前記ペリクルフレームを前記ペリクルに結合することと、
前記ペリクル及び前記ペリクルフレームを残すように前記基板をエッチングすることと
を備える、方法。 - 前記ペリクルフレームは摂氏160度を下回る温度で前記ペリクルに結合される、請求項43の方法。
- 前記ペリクルを前記基板上に堆積させた後、前記ペリクルフレームを前記ペリクルに結合する前に、前記ペリクルをアニールすることを更に備える、請求項43又は44の方法。
- ペリクルが取り付けられる表面を定義するペリクルフレームを備えるペリクルアセンブリであって、
前記ペリクルフレームの上又は中にコンピュータ読み取り可能且つ書き込み可能な追跡デバイスが提供される、ペリクルアセンブリ。 - 前記コンピュータ読み取り可能且つ書き込み可能な追跡デバイスは、前記ペリクル及び/又は前記ペリクルアセンブリの識別子を記憶するように構成されている、請求項46のペリクルアセンブリ。
- 前記コンピュータ追跡デバイスは、前記ペリクルの使用履歴及び/又はペリクル固有の特性を示す動作データを記憶するように構成されている、請求項46又は47のペリクルアセンブリ。
- パターニングデバイスから基板上にパターンを投影するように配置されたリソグラフィ装置であって、コンピュータ読み取り可能命令を実行してトランシーバ配置に請求項46から48のいずれか一項に記載のペリクルアセンブリの追跡デバイスからの読み出し及び前記追跡デバイスへの書き込みを行わせるように構成されたプロセッサを備えたコントローラを備える、リソグラフィ装置。
- 前記コンピュータ読み取り可能命令は、前記プロセッサに、前記追跡デバイスから1つ以上の動作データ項目を取得させるとともに前記1つ以上の動作データ項目が閾値を超えるかどうかを判定させるように構成されている、請求項49のリソグラフィ装置。
- 前記コンピュータ読み取り可能命令は、前記プロセッサに、前記1つ以上の動作データ項目が閾値を超えるという判定に応答して、前記リソグラフィ装置に前記ペリクルアセンブリをアンロードさせるように構成されている、請求項50のリソグラフィ装置。
- 前記コンピュータ読み取り可能命令は、前記プロセッサに、前記トランシーバ配置に前記ペリクルアセンブリがアンロードされたことを示すデータを前記追跡デバイスに書き込ませるように構成されている、請求項51のリソグラフィ装置。
- 前記コンピュータ読み取り可能命令は、前記プロセッサに、前記1つ以上の動作データ項目が前記閾値を超えないという判定に応答して、前記トランシーバに前記リソグラフィ装置の使用時に前記追跡デバイスについての動作データを記録させるように構成されている、請求項50又は52のリソグラフィ装置。
- ペリクルが取り付けられる表面を定義するペリクルフレームと、
前記ペリクルと機械的に連通し前記ペリクルフレームの内縁を越えて内向きに延びる1つ以上の張力層と
を備えるペリクルアセンブリ。 - 前記1つ以上の張力層のうち少なくとも1つは、前記ペリクルが前記張力層と前記フレームとの間に配置されるように、前記ペリクルの上側に提供される、請求項54のペリクルアセンブリ。
- 前記1つ以上の張力層のうち少なくとも1つは前記ペリクルの下側に提供される、請求項54又は55のペリクルアセンブリ。
- 前記1つ以上の張力層は、前記ペリクルの上側に提供された第1の張力層と前記ペリクルの下側に提供された第2の張力層とを備える、請求項54,55又は56のペリクルアセンブリ。
- 前記1つ以上の張力層のうち少なくとも1つは、前記ペリクルフレームの前記内縁から内向きに延びる第1の部分と、前記ペリクルフレームの前記内縁から外向きに延びる第2の部分とを備えており、前記第2の部分は前記第1の部分よりも長い、請求項54から57のいずれか一項のペリクルアセンブリ。
- 前記1つ以上の張力層のうち少なくとも1つは多層構造を備える、請求項54から57のいずれか一項のペリクルアセンブリ。
- パターニングデバイスから基板上にパターンを投影するように配置されたリソグラフィ装置であって、粒子が前記パターニングデバイスに接触するのを防止するべく前記パターニングデバイスの近傍に配置された請求項54から59のいずれかに記載のペリクルアセンブリを備える、リソグラフィ装置。
- 請求項1から41,46から48又は54から59のいずれか一項に記載のペリクルアセンブリを備えるリソグラフィ装置の動的ガスロック。
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