JP2020522132A5 - - Google Patents
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Description
Claims (14)
- 半導体処理チャンバのためのライナー部材であって、
第1の開口部を有する第1の端部と、前記第1の端部の反対側の第2の開口部を有する第2の端部とを備えたノズルであって、前記ノズルの前記第1の開口部は円形の断面を有し、前記ノズルの前記第2の開口部は、前記ノズルの前記第1の開口部よりも広く且つ浅い楕円形の断面を有し、前記ノズルの前記第2の開口部は、前記ノズルの前記第1の開口部の断面積と等しいかまたはそれより大きい断面積を有する、ノズルと、
第1の開口部を有する第1の端部と、前記第1の端部の反対側の第2の開口部を有する第2の端部とを備えたライナーであって、前記ライナーの前記第1の端部は前記ノズルの前記第2の端部に結合されており、前記ノズルの前記第2の開口部は、前記第1の開口部の断面より広い断面を有するが、実質的に高さは同じである、ライナーと、
前記ライナー部材に形成され、前記ノズルの前記第1の端部から前記ライナーの前記第2の端部まで延びるチャネルであって、前記ノズルの前記第1の端部におけるよりも前記ライナーの前記第2の端部においてより広く、前記ノズルの前記第1の端部におけるよりも前記ライナーの前記第2の端部においてより浅いチャネルと、
を備えるライナー部材。 - 前記ライナー部材が石英を含む、請求項1に記載のライナー部材。
- 前記チャネル内に配置された突起部を、さらに備える、請求項1に記載のライナー部材。
- 前記チャネル内に配置された分流器をさらに備え、前記分流器は前記突起部によって前記ライナー部材に固定されており、前記分流器は前記ライナーの高さより低い高さを有する、請求項3に記載のライナー部材。
- 前記分流器が三角形の形状を有する、請求項4に記載のライナー部材。
- ライナーアセンブリであって、
第1の開口部を有する第1の端部と、前記第1の端部の反対側の第2の開口部を有する第2の端部とを備えたコネクタであって、前記コネクタの第2の開口部は、前記コネクタの第1の開口部の断面積と等しいかまたはそれより大きい断面積を有し、前記コネクタの第1の端部はさらに、前記コネクタの前記第1の開口部から半径方向外側に延びる第1のフランジを備え、前記コネクタの第2の端部はさらに、前記コネクタの前記第2の開口部から半径方向外側に延びる第2のフランジを備える、コネクタと、
第1の開口部を有する第1の端部と、前記第1の端部の反対側の第2の開口部を有する第2の端部とを備えたノズルであって、前記ノズルの前記第1の端部は前記コネクタの前記第2の端部に直接結合されており、前記ノズルの前記第1の開口部は円形の断面を有し、前記ノズルの前記第2の開口部は、前記ノズルの前記第1の開口部よりも広く且つ浅い楕円形の断面を有し、前記ノズルの前記第2の開口部は、前記ノズルの前記第1の開口部の断面積と等しいかまたはそれより大きい断面積を有する、ノズルと、
第1の開口部を有する第1の端部と、前記第1の端部の反対側の第2の開口部を有する第2の端部とを備えたライナーであって、前記ライナーの前記第1の端部は前記ノズルの前記第2の端部に直接結合されており、前記ノズルの前記第2の開口部は、前記第1の開口部の断面より広い断面を有するが、実質的に高さは同じである、ライナーと、
前記ライナーアセンブリを通って形成され、前記コネクタの前記第1の端部から前記ライナーの前記第2の端部まで延びる導管であって、前記導管が、流体流路を画定し、前記流体流路は、前記流体流路の主軸に実質的に垂直な第1の方向に広がり、前記流体流路の主軸および前記第1の方向に実質的に垂直な第2の方向に狭くなる、導管と、
を有する、ライナーアセンブリ。 - 前記コネクタの前記第1の開口部および前記第2の開口部が円形である、請求項6に記載のライナーアセンブリ。
- 前記ノズルの前記第1の開口部が、前記コネクタの前記第2の開口部より大きい直径を有する、請求項6に記載のライナーアセンブリ。
- 処理チャンバ、並びに
コネクタによって前記処理チャンバに結合された遠隔プラズマ源、
を備える処理システムであって、
前記処理チャンバは、
基板支持部、
前記基板支持部に結合されたチャンバ本体であって、前記チャンバ本体が、第1の側部および前記第1の側部の反対側の第2の側部を備え、前記チャンバ本体および前記基板支持部が、協働して処理容積部を画定する、チャンバ本体、
前記第2の側部に隣接して前記基板支持部に配置された分散ポンピング構造、および
前記第1の側部に配置されたライナーアセンブリ、
を備え、前記ライナーアセンブリは、
第1の開口部を有する第1の端部と、前記第1の端部の反対側の第2の開口部を有する第2の端部とを備えたノズルであって、前記ノズルの前記第1の開口部は円形の断面を有し、前記ノズルの前記第2の開口部は、前記ノズルの前記第1の開口部よりも広く且つ浅い楕円形の断面を有し、前記ノズルの前記第2の開口部は、前記ノズルの前記第1の開口部の断面積と等しいかまたはそれより大きい断面積を有する、ノズル、および
第1の開口部を有する第1の端部と、前記第1の端部の反対側の第2の開口部を有する第2の端部とを備えたライナーであって、前記ライナーの前記第1の端部は前記ノズルの前記第2の端部に結合されており、前記ノズルの前記第2の開口部は、前記第1の開口部の断面より広い断面を有するが、実質的に高さは同じである、ライナー、
を備え、
前記コネクタは、第1の開口部を有する第1の端部と、前記第1の端部の反対側の第2の開口部を有する第2の端部とを備え、前記コネクタの第2の開口部は、前記コネクタの第1の開口部の断面積と等しいかまたはそれより大きい断面積を有し、前記コネクタの前記第2の端部は、前記ライナーアセンブリの前記ノズルの前記第1の端部に接続されて、前記遠隔プラズマ源から前記処理容積部までの流体流路を形成し、前記流体流路は、前記流体流路の主軸に実質的に垂直な第1の方向に広がり、前記流体流路の主軸および前記第1の方向に実質的に垂直な第2の方向に狭くなる、処理システム。 - 前記分散ポンピング構造が、2つのポンピングポートを備える、請求項9に記載の処理システム。
- 前記2つのポンピングポートが、ガス流路に垂直な線に沿って離間している、請求項10に記載の処理システム。
- 前記2つのポンピングポートが、前記処理チャンバの中心軸に関して対称的に配置されている、請求項11に記載の処理システム。
- 2つのバルブをさらに備え、各バルブが、前記2つのポンピングポートのうちの対応するポンピングポートに接続されている、請求項10に記載の処理システム。
- 分流器が、前記ライナーに配置されており、前記分流器は前記ライナーの高さよりも低い高さを有する、請求項9に記載の処理システム。
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