JP2020521136A5 - - Google Patents
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Claims (13)
- 光学的に透過性である電磁遮蔽組立体(10)であって、
2つの対向する面(S1、S2)を有する剛性の基板(1)であって、前記2つの面の間において、マイクロ波放射(HYF)と呼ばれる、0.1GHzと40GHzの間に含まれる周波数を有する少なくとも1つの電磁放射に対して少なくとも部分的に透過性であり、前記2つの面の間において、0.1μmと15μmの間に含まれる波長を有する光学放射(RO)に対しても少なくとも部分的に透過性である基板と、
基板(1)の面(S1、S2)のうちの少なくとも1つに設けられ、光学放射(RO)に対して少なくとも部分的に透過性である少なくとも1つの電気伝導性2次元構造(2)と、
少なくとも1つの第1の端子(3a)を少なくとも1つの第2の端子(3b)に電気的に接続する、電気的接続装置(3)であって、各第1の端子は伝導性2次元構造(2)に電気的に接続されており、各第2の端子は電気伝導性シェルの少なくとも一部(101)に電気的に接続されることが意図されている、電気的接続装置(3)と
を備え、
電気的接続装置(3)は、各第1の端子(3a)と各第2の端子(3b)との間において有効な電気抵抗について可変値を作り出すように適合されており、電気抵抗値が操作者によって調節可能であるか又はマイクロ波放射(HYF)の強度のレベルに応じて自動的に可変であることのいずれかによって、電気抵抗が、マイクロ波放射の強度の第1のレベルについて第1の値、および、マイクロ波放射の強度の第2のレベルについて第2の値を有し、電気抵抗の前記第1の値が前記電気抵抗の前記第2の値よりも低い一方、マイクロ波放射の強度の前記第1のレベルが前記マイクロ波放射の強度の前記第2のレベルよりも高いことを特徴とする、遮蔽組立体。 - シェルの一部(101)の開口を閉じるのに適し、光学放射(RO)にセンシティブであるセンサ(20)の光学入力(E20)の前に同時に設けられるのに適したポートホール又は窓を形成する、請求項1に記載の遮蔽組立体(10)。
- 第1(3a)と第2(3b)の端子の間の、可変電気抵抗値を有する電気的接続装置(3)が、光学放射(RO)とマイクロ波放射(HYF)に対して部分的に透過性である基板(1)によって支えられている、請求項1に記載の遮蔽組立体(10)。
- 電気的接続装置(3)が、第1(3a)と第2(3b)の端子の間で有効である電気抵抗が、伝導性2次元構造(2)のスクエア当たりの抵抗値の5倍よりも大きい第1の値と、前記伝導性2次元構造のスクエア当たりの抵抗値の5分の1よりも小さい第2の値との間で可変であるように適合された、請求項1に記載の遮蔽組立体(10)。
- 電気的接続装置(3)が、
マイクロ波放射検出器(30)であって、検出器によって受け取られるマイクロ波放射(HYF)の強度を表す検出信号を送達するのに適したマイクロ波放射検出器と、
第1(3a)と第2(3b)の端子の間に接続され、電気抵抗の可変値を作り出すのに適した電子回路(31)と、
マイクロ波放射検出器(30)によって送達される検出信号に応じて、電子回路(31)によって作り出される電気抵抗の値を変えるのに適した制御器(32)と
を備える、請求項1に記載の遮蔽組立体(10)。 - 電子回路(31)が、並列に接続され各々が個々の抵抗値を有する数個の枝(31−1、31−2など)を備え、枝のうちの少なくとも1つが、制御器(32)によって制御されるスイッチ(31−1C、31−2Cなど)を備えて、2次元構造(2)とシェルの一部(101)との間の前記枝によって作り出される電気的結合をアクティブ化する又はディセーブルする、請求項5に記載の遮蔽組立体(10)。
- 電子回路(31)が、0.1GHzと40GHzの間に含まれる少なくとも1つの周波数に対して抵抗性である少なくとも1つのコンポーネント(31a)を備え、前記コンポーネントの抵抗値が、前記周波数において有効であり、前記コンポーネントに印加され、マイクロ波放射検出器(30)によって送達される検出信号に応じて前記制御電圧を変えるように制御器に(32)によって制御される制御電圧に応じて可変である、請求項5に記載の遮蔽組立体(10)。
- 電気的接続装置(3)が、
マイクロ波放射検出器(30)であって、検出器によって受け取られるマイクロ波放射(HYF)の強度を表す検出信号を送達するのに適したマイクロ波放射検出器と、
第1(3a)と第2(3b)の端子の間に電気的に接続された金属−絶縁体転移を伴う感熱性材料の部分(35)であって、前記感熱性材料の部分の温度に応じて電気抵抗の可変値を作り出すのに適した、感熱性材料の部分と、
感熱性材料の部分(35)の温度を変えるように配置された熱調整手段(36)と、
マイクロ波放射検出器(30)によって送達される検出信号に応じて熱調整手段(36)をアクティブ化するのに適した制御器(32’)と
を備える、請求項1に記載の遮蔽組立体(10)。 - 電気的接続装置(3)が、金属−絶縁体転移を伴う材料の部分(38)であって、マイクロ波放射(HYF)の強度にセンシティブであり、前記部分が前記マイクロ波放射を受け取るように露出されたときに、マイクロ波放射の強度の変化に応答して可変電気抵抗値を作り出すことが可能な部分を備える、請求項1に記載の遮蔽組立体(10)。
- マイクロ波放射(HYF)の強度にセンシティブである金属−絶縁体転移を伴う材料の部分(38)が、基板(1)によって支えられている、請求項9に記載の遮蔽組立体(10)。
- マイクロ波放射(HYF)の強度にセンシティブである金属−絶縁体転移を伴う材料の部分(38)が、伝導性2次元構造(2)の少なくとも一部を構成する、請求項9に記載の遮蔽組立体(10)。
- 検出システム(100)であって、
光学放射(RO)にセンシティブである光学センサ(20)と、
光学センサ(20)を囲み、開口を含む、電気伝導性シェルの少なくとも一部(101)と、
請求項1から11のいずれか一項に従う遮蔽組立体(10)であって、シェルの一部(101)の開口を閉じる間、光学センサ(RO)の光学入力(E20)の前に設けられている、遮蔽組立体と
を備え、
遮蔽組立体(10)の電気的接続装置(3)の各第1の端子(3a)は、伝導性2次元構造(2)に電気的に接続されており、前記電気的接続装置の各第2の端子(3b)は、シェルの一部(101)に電気的に接続されている、検出システム。 - マイクロ波放射(HYF)の一部にセンシティブであるマイクロ波放射センサ(40)をさらに備え、
遮蔽組立体(10)が、光学センサ(20)の光学入力(E20)の前に設けられることに加えて、マイクロ波放射センサ(40)の放射入力(E40)の前にも設けられている、請求項12に記載の検出システム(100)。
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