JP2020521136A - 光学的に透過性である電磁遮蔽組立体 - Google Patents
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Abstract
Description
‐ 2つの対向する面を有し、その2つ面の間において、0.1GHz(ギガヘルツ)と40GHzの間に含まれる周波数fを有する、マイクロ波放射と呼ばれる少なくとも1つの電磁放射に対して少なくとも部分的に透過性であり、その2つの面の間において、0.1μmと15μmの間に含まれる波長を有する光学放射に対しても少なくとも部分的に透過性である剛性の基板と;
‐ 基板の面のうちの少なくとも1つに設けられ、光学放射に対して少なくとも部分的に透過性である少なくとも1つの電気伝導性2次元構造と;
少なくとも1つの第1の端子を少なくとも1つの第2の端子に電気的に接続する、電気的接続装置であって、各第1の端子が伝導性2次元構造に電気的に接続され、各第2の端子が電気伝導性であるシェルの少なくとも一部に電気的に接続されることが意図されている、装置と
を備える。
‐ 操作者によって、特に、遮蔽組立体が意図されている検出システムに応じて、又は、検出システムに予定されている使用に応じて、実行され得る初期設定。この場合、遮蔽組立体の電気的接続装置の抵抗は、遮蔽組立体の寿命にわたって一定のままであることができる。しかし、電気的接続装置の抵抗の可能な設定は、遮蔽組立体の作成の後、仕様が異なる検出システムについて全く同じ遮蔽組立体を用いることを可能にする;
‐ 又は、検出システムによって受け取られるマイクロ波放射の強度のレベルに応じてリアルタイムで検出システムの使用中に自動的に実行される電気抵抗装置の抵抗の変化
のいずれかの、少なくとも1つにおいて調節されることを可能にする遮蔽組立体を提案する。
‐ マイクロ波放射検出器であって、この検出器によって受け取られるマイクロ波放射の強度を表す検出信号を送達するのに適したマイクロ波放射検出器と;
‐ 第1と第2の端子の間に接続され、電気抵抗の可変値を作り出すのに適した電子回路と;
‐ マイクロ波放射検出器によって送達される検出信号に応じて、電子回路によって作り出される電気抵抗の値を変えるのに適した制御器と
を備えてもよい。
‐ マイクロ波放射検出器であって、この検出器によって受け取られるマイクロ波放射の強度を表す検出信号を送達するのに適したマイクロ波放射検出器と;
‐ 第1と第2の端子との間に電気的に接続された金属−絶縁体転移を伴う感熱性材料の部分であって、この感熱性材料の部分の温度に応じて電気抵抗の可変値を作り出すのに適した感熱性材料の部分と;
‐ 熱感知材料の部分の温度を変えるように配置された熱調整手段と;
マイクロ波放射検出器によって送達される検出信号に応じて熱調整手段をアクティブ化するのに適した制御器と
を備えることができる。
‐ 光学放射にセンシティブである、光学センサと;
‐ 任意選択で、マイクロ波放射の一部にセンシティブであるマイクロ波放射センサと;
‐ 光学センサ、及び適切ならマイクロ波放射センサを囲み、開口を含む、電気伝導性シェルの少なくとも一部と;
‐ 本発明の第1の態様に整合する遮蔽組立体であって、シェルの一部の開口を閉じながら、光学センサの光学入力の前に、及び任意選択で、マイクロ波放射センサの放射入力の前にも設けられた遮蔽組立体と
を備える検出システムを提案する。
‐ 金属の少なくとも1つの薄い層、たとえば、光学放射ROに対して透過性である2つの誘電性層の間に挿入され得る銀(Ag)の層、2つの誘電性層の目的は金属層だけに対する光学放射ROの反射を減少させることである;
‐ 透過性である伝導性酸化物の少なくとも1つの層、やはり透過性である伝導性酸化物の層だけに対する光学放射ROの反射を減少させるために、誘電性を有しかつ放射ROに対し透過性である少なくとも1つの他の層と場合によっては関連付けられ得る、たとえば錫によりドープされたインジウム酸化物(ITO)の層;
‐ 電気伝導性材料の格子、たとえば、伝導性材料の印刷されたリボン又はワイヤからなり、それらを伴う基板1が、格子のリボン又はワイヤの間に電気伝導性材料がまったくない、銅(Cu)又は銀(Ag)の格子。場合によっては、格子の伝導性材料は、基板1上のボンディング材料に重ねられてもよく、また場合によっては、保護材料、特に腐食に対する保護のために、たとえばチタン(Ti)の最上層によって覆われてもよい。一般に、そのような格子のリボン又はワイヤは、光学放射ROに対して不透明であり、光学放射ROに対する透過性は、格子のリボン又はワイヤによる基板1の被覆率の結果として生じ、限られている。たとえば、この被覆率は、10%と50%の間であってもよく、格子におけるリボン又はワイヤのピッチは、1μm(マイクロメートル)と10mm(ミリメートル)の間であってもよく、格子は、正方形パターンを有していてもよい。電気伝導性材料の格子は、これもまた基板1だけに対する光学放射ROの反射を減少させるために、しかしまた金属格子の腐食に対する保護として、放射ROに対して透過性である少なくとも1つの誘電性層と関連付けられてもよい
のうちの一つを有していてもよい。
Claims (13)
- 光学的に透過性である電磁遮蔽組立体(10)であって、
2つの対向する面(S1、S2)を有する剛性の基板(1)であって、前記2つの面の間において、マイクロ波放射(HYF)と呼ばれる、0.1GHzと40GHzの間に含まれる周波数を有する少なくとも1つの電磁放射に対して少なくとも部分的に透過性であり、前記2つの面の間において、0.1μmと15μmの間に含まれる波長を有する光学放射(RO)に対しても少なくとも部分的に透過性である基板と、
基板(1)の面(S1、S2)のうちの少なくとも1つに設けられ、光学放射(RO)に対して少なくとも部分的に透過性である少なくとも1つの電気伝導性2次元構造(2)と、
少なくとも1つの第1の端子(3a)を少なくとも1つの第2の端子(3b)に電気的に接続する、電気的接続装置(3)であって、各第1の端子は伝導性2次元構造(2)に電気的に接続されており、各第2の端子は電気伝導性シェルの少なくとも一部(101)に電気的に接続されることが意図されている、電気的接続装置(3)と
を備え、
電気的接続装置(3)は、各第1の端子(3a)と各第2の端子(3b)との間において有効な電気抵抗について可変値を作り出すように適合されており、電気抵抗値が操作者によって調節可能であるか又はマイクロ波放射(HYF)の強度のレベルに応じて自動的に可変であることのいずれかによって、電気抵抗が、マイクロ波放射の強度の第1のレベルについて第1の値、および、マイクロ波放射の強度の第2のレベルについて第2の値を有し、電気抵抗の前記第1の値が前記電気抵抗の前記第2の値よりも低い一方、マイクロ波放射の強度の前記第1のレベルが前記マイクロ波放射の強度の前記第2のレベルよりも高いことを特徴とする、遮蔽組立体。 - シェルの一部(101)の開口を閉じるのに適し、光学放射(RO)にセンシティブであるセンサ(20)の光学入力(E20)の前に同時に設けられるのに適したポートホール又は窓を形成する、請求項1に記載の遮蔽組立体(10)。
- 第1(3a)と第2(3b)の端子の間の、可変電気抵抗値を有する電気的接続装置(3)が、光学放射(RO)とマイクロ波放射(HYF)に対して部分的に透過性である基板(1)によって支えられている、請求項1又は2に記載の遮蔽組立体(10)。
- 電気的接続装置(3)が、第1(3a)と第2(3b)の端子の間で有効である電気抵抗が、伝導性2次元構造(2)のスクエア当たりの抵抗値の5倍よりも大きい第1の値と、前記伝導性2次元構造のスクエア当たりの抵抗値の5分の1よりも小さい第2の値との間で可変であるように適合された、請求項1から3のいずれか一項に記載の遮蔽組立体(10)。
- 電気的接続装置(3)が、
マイクロ波放射検出器(30)であって、検出器によって受け取られるマイクロ波放射(HYF)の強度を表す検出信号を送達するのに適したマイクロ波放射検出器と、
第1(3a)と第2(3b)の端子の間に接続され、電気抵抗の可変値を作り出すのに適した電子回路(31)と、
マイクロ波放射検出器(30)によって送達される検出信号に応じて、電子回路(31)によって作り出される電気抵抗の値を変えるのに適した制御器(32)と
を備える、請求項1から4のいずれか一項に記載の遮蔽組立体(10)。 - 電子回路(31)が、並列に接続され各々が個々の抵抗値を有する数個の枝(31−1、31−2など)を備え、枝のうちの少なくとも1つが、制御器(32)によって制御されるスイッチ(31−1C、31−2Cなど)を備えて、2次元構造(2)とシェルの一部(101)との間の前記枝によって作り出される電気的結合をアクティブ化する又はディセーブルする、請求項5に記載の遮蔽組立体(10)。
- 電子回路(31)が、0.1GHzと40GHzの間に含まれる少なくとも1つの周波数に対して抵抗性である少なくとも1つのコンポーネント(31a)を備え、前記コンポーネントの抵抗値が、前記周波数において有効であり、前記コンポーネントに印加され、マイクロ波放射検出器(30)によって送達される検出信号に応じて前記制御電圧を変えるように制御器に(32)によって制御される制御電圧に応じて可変である、請求項5に記載の遮蔽組立体(10)。
- 電気的接続装置(3)が、
マイクロ波放射検出器(30)であって、検出器によって受け取られるマイクロ波放射(HYF)の強度を表す検出信号を送達するのに適したマイクロ波放射検出器と、
第1(3a)と第2(3b)の端子の間に電気的に接続された金属−絶縁体転移を伴う感熱性材料の部分(35)であって、前記感熱性材料の部分の温度に応じて電気抵抗の可変値を作り出すのに適した、感熱性材料の部分と、
感熱性材料の部分(35)の温度を変えるように配置された熱調整手段(36)と、
マイクロ波放射検出器(30)によって送達される検出信号に応じて熱調整手段(36)をアクティブ化するのに適した制御器(32’)と
を備える、請求項1から4のいずれか一項に記載の遮蔽組立体(10)。 - 電気的接続装置(3)が、金属−絶縁体転移を伴う材料の部分(38)であって、マイクロ波放射(HYF)の強度にセンシティブであり、前記部分が前記マイクロ波放射を受け取るように露出されたときに、マイクロ波放射の強度の変化に応答して可変電気抵抗値を作り出すことが可能な部分を備える、請求項1から4のいずれか一項に記載の遮蔽組立体(10)。
- マイクロ波放射(HYF)の強度にセンシティブである金属−絶縁体転移を伴う材料の部分(38)が、基板(1)によって支えられている、請求項9に記載の遮蔽組立体(10)。
- マイクロ波放射(HYF)の強度にセンシティブである金属−絶縁体転移を伴う材料の部分(38)が、伝導性2次元構造(2)の少なくとも一部を構成する、請求項9又は10に記載の遮蔽組立体(10)。
- 検出システム(100)であって、
光学放射(RO)にセンシティブである光学センサ(20)と、
光学センサ(20)を囲み、開口を含む、電気伝導性シェルの少なくとも一部(101)と、
請求項1から11のいずれか一項に従う遮蔽組立体(10)であって、シェルの一部(101)の開口を閉じる間、光学センサ(RO)の光学入力(E20)の前に設けられている、遮蔽組立体と
を備え、
遮蔽組立体(10)の電気的接続装置(3)の各第1の端子(3a)は、伝導性2次元構造(2)に電気的に接続されており、前記電気的接続装置の各第2の端子(3b)は、シェルの一部(101)に電気的に接続されている、検出システム。 - マイクロ波放射(HYF)の一部にセンシティブであるマイクロ波放射センサ(40)をさらに備え、
遮蔽組立体(10)が、光学センサ(20)の光学入力(E20)の前に設けられることに加えて、マイクロ波放射センサ(40)の放射入力(E40)の前にも設けられている、請求項12に記載の検出システム(100)。
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