JP2020519943A - ホログラフィック露光用のフォトポリマー層と高耐性コーティング層を含むホログラフィック媒体 - Google Patents
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Abstract
Description
−フォトポリマー層(B)の感光性は、スペクトルまたは線量に関して影響を受けてはならない。
n≧1およびn≦4、
R41は、非置換の直鎖、分岐、環式または複素環式または他のヘテロ原子で置換されていてもよい有機ラジカルであり、
R42は水素、直鎖、分岐、環式または複素環式非置換またはヘテロ原子置換有機ラジカルに置換されていてよく、好ましくはR42は水素またはメチルであり、および/またはR41は直鎖、分岐、環式または複素環式非置換またはヘテロ原子置換有機ラジカルに置換されていてよい有機ラジカルである]、
式(Ia)の化合物
R1は、発生ごとに独立して放射線硬化性基であり、
Xは、出現ごとに独立して、R1とC=Oの間の単結合、または直鎖、分岐または環状の任意のヘテロ原子含有および/または任意の官能基置換炭化水素ラジカルである]、
式(II)の化合物
R1およびXは、式(Ia)〜(Ic)で定義されているとおりであり、
R11は、直鎖または分岐鎖の、ヘテロ原子置換されていてもよい脂肪族、芳香族または芳香脂肪族基であり、
R12は、出現ごとに独立して、メチル、エチル、プロピル、n−ブチル、tert−ブチル、塩素、臭素、ヨウ素、メチルチオ、フェニルおよび/またはフェニルチオから選択される4個までの置換基であり、
R13は、出現ごとに独立して、メチル、エチル、プロピル、n−ブチル、tert−ブチル、塩素、臭素、ヨウ素、メチルチオ、フェニルおよび/またはフェニルチオから選択される最大5個の置換基である]、
式(III)の化合物
R1は式(Ia)〜(Ic)で定義されているとおりであり、
R21は酸素または硫黄、
R22はカルボキサミド(−C(O)N−)またはカルボン酸エステル(−C(O)O−)またはスルホンアミド(−SO2N−)基であり、
R23は、2〜10個の炭素原子を含む飽和または不飽和、または直鎖または分岐の、置換されていてもよいラジカル、または5個までの(−CH2−CH2−O−)−または(−C(CH3)H−CH2−O−)−基を含むポリエーテルまたは最大5個の窒素原子を含むポリアミンであり、
ii)式(III)の化合物は、炭素原子1、2、3、4、5、6、7、8の少なくとも1つのさらなる位置において式(V)のラジカルで置換されており、
式(V)の化合物の炭素原子は、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、シアノ基、ニトロ基または置換されていてもよいアルキル、アルケニル、アルキニル、アラルキル、アリールまたはヘテロアリール基または置換されていてもよいアルコキシまたはアルキルチオ基、または任意に置換されているカルバモイル基に置換され、また式(III)のラジカル、またはトリフルオロメチル基もしくはトリフルオロメトキシ基または式(VI)のRacrylラジカルに架橋結合していてもよく、
R1’は式(IV)のR1と同じ定義を持ち、
R21’は酸素または硫黄で、
R22’はカルボキサミド(−C(O)N−)またはカルボン酸エステル(−C(O)O−)またはスルホンアミド(−SO2N−)基であり、
R23’は、飽和または不飽和、または2〜10個の炭素原子を含む直鎖または分岐の置換されていてもよいラジカル、または5個までの(−CH2−CH2−O−)−または(−C(CH3)H−CH2−O−)−基を含むポリエーテル、または最大5個の窒素原子を含むポリアミンである]
である]であり、
iii)式(III)の化合物の残りの炭素原子は、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、シアノ基、ニトロ基または置換されていてもよいアルキル、アルケニル、アルキニル、アラルキル、アリールまたはヘテロアリール基または置換されていてもよいアルコキシまたはアルキルチオ基またはトリフルオロメチル基またはトリフルオロメトキシ基で置換される]および
式(VII)の化合物
R31、R32、R33は、それぞれ互いに独立して、OH、ハロゲンまたは有機ラジカルであり、ラジカルの少なくとも1つは、放射線硬化性基を含む有機ラジカルである]
からなる群から選択される化合物である。
n≧1およびn≦4、
R41は、非置換の直鎖、分岐、環式または複素環式または他のヘテロ原子で置換されていてもよい有機ラジカルであり、
R42は水素、直鎖、分岐、環式または複素環式非置換またはヘテロ原子置換有機ラジカルに置換されていてよく、好ましくはR42は水素またはメチルであり、および/またはR41は直鎖、分岐、環式または複素環式非置換またはヘテロ原子置換有機ラジカルに置換されていてよい有機ラジカルである]、
式(Ia)の化合物
R1は、発生ごとに独立して放射線硬化性基であり、
Xは、出現ごとに独立して、R1とC=Oの間の単結合、または直鎖、分岐または環状の任意のヘテロ原子含有および/または任意の官能基置換炭化水素ラジカルである]、
式(II)の化合物
R1およびXは、式(Ia)〜(Ic)で定義されているとおりであり、
R11は、直鎖または分岐鎖の、ヘテロ原子置換されていてもよい脂肪族、芳香族または芳香脂肪族基であり、
R12は、出現ごとに独立して、メチル、エチル、プロピル、n−ブチル、tert−ブチル、塩素、臭素、ヨウ素、メチルチオ、フェニルおよび/またはフェニルチオから選択される4個までの置換基であり、
R13は、出現ごとに独立して、メチル、エチル、プロピル、n−ブチル、tert−ブチル、塩素、臭素、ヨウ素、メチルチオ、フェニルおよび/またはフェニルチオから選択される最大5個の置換基である]、
式(III)の化合物
であって
R1は式(Ia)〜(Ic)で定義されているとおりであり、
R21は酸素または硫黄、
R22はカルボキサミド(−C(O)N−)またはカルボン酸エステル(−C(O)O−)またはスルホンアミド(−SO2N−)基であり、
R23は、2〜10個の炭素原子を含む飽和または不飽和、または直鎖または分岐の置換されていてもよいラジカル、または5個までの(−CH2−CH2−O−)−または(−C(CH3)H−CH2−O−)−基を含むポリエーテルまたは最大5個の窒素原子を含むポリアミンである]であり、
ii)式(III)の化合物は、炭素原子1、2、3、4、5、6、7、8の少なくとも1つのさらなる位置において、式(V)のラジカルで置換されており、
式(V)の化合物の炭素原子は、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、シアノ基、ニトロ基または置換されていてもよいアルキル、アルケニル、アルキニル、アラルキル、アリールまたはヘテロアリール基または置換されていてもよいアルコキシまたはアルキルチオ基、または任意に置換されているカルバモイル基に置換され、また式(III)のラジカル、またはトリフルオロメチル基もしくはトリフルオロメトキシ基または式(VI)のRacrylラジカルに架橋結合していてもよく、
R1’は式(IV)のR1と同じ定義を持ち、
R21’は酸素または硫黄で、
R22’はカルボキサミド(−C(O)N−)またはカルボン酸エステル(−C(O)O−)またはスルホンアミド(−SO2N−)基であり、
R23’は、飽和または不飽和、または2〜10個の炭素原子を含む直鎖または分岐の、置換されていてもよいラジカル、または5個までの(−CH2−CH2−O−)−または(−C(CH3)H−CH2−O−)−基を含むポリエーテル、または最大5個の窒素原子を含むポリアミンである]
である]であり、
iii)式(III)の化合物の残りの炭素原子は、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、シアノ基、ニトロ基または置換されていてもよいアルキル、アルケニル、アルキニル、アラルキル、アリールまたはヘテロアリール基または置換されていてもよいアルコキシまたはアルキルチオ基またはトリフルオロメチル基またはトリフルオロメトキシ基で置換される]および、
式(VII)の化合物
R31、R32、R33は、それぞれ互いに独立して、OH、ハロゲンまたは有機ラジカルであり、ラジカルの少なくとも1つは、放射線硬化性基を含む有機ラジカルである]
からなる群から選択され、
より好ましくは、少なくとも1つの反応性希釈剤および少なくとも1つの書き込みモノマーは、式(Ia)、(Ib)、(Ic)、(II)、(III)、(VII)の化合物および/またはそれらの混合物からなる群から選択され、さらにより好ましくは、式(Ia)の化合物および/またはそれらの混合物から選択され、さらにより好ましくは式(Ia)の化合物から選択される化合物である。
a)
I)基材層A、
II)マトリックスポリマー、書き込みポリマー、光開始剤、任意に少なくとも1つの非光重合性成分および任意に触媒、フリーラジカル安定剤、溶媒、添加剤および他の助剤および/または添加物質を含むフォトポリマー層B、
III)−20℃〜190℃のガラス転移温度を有する少なくとも1つの熱可塑性樹脂、少なくとも1つの反応性希釈剤、少なくとも1つの光開始剤および任意に少なくとも1つの添加剤を含む保護層C、
IV)基材層D
を含み、基材層A、フォトポリマー層B、保護層Cおよび基材層Dの層はこの順番で互いに直接上に配置され、保護層Cのすべての反応性希釈剤はフォトポリマー層Bの少なくとも1つの書き込みモノマーと同一である、層複合体A−B−C−Dを含むホログラフィック媒体を提供するステップ、
b)ホログラムをフォトポリマー層Bに光刻印して、層複合体A−B*−C−Dであって、B*は照射されたフォトポリマー層Bである層複合体を形成するステップ、
c)ステップ(b)の層複合体A−B*−C−Dを化学線、好ましくは紫外線照射に晒して、層複合体A−B’−C’−Dを形成するステップであって、B’は漂白され、完全に重合され、もはや感光性のない、固定したホログラムを含むフォトポリマー層Bであり、C’は、硬化保護層Cである、層複合体を形成するくステップ、および所望により
d)ステップ(c)から得た層複合体A−B’−C’−Dの基材層Dを剥離して、層複合体A−B’−C’を形成するステップ
を含む方法を提供する。
n≧1およびn≦4、
R41は、非置換の直鎖、分岐、環式または複素環式または他のヘテロ原子で置換されていてもよい有機ラジカルであり、
R42は水素、直鎖、分岐、環式または複素環式非置換またはヘテロ原子置換有機ラジカルに置換されていてよく、好ましくはR42は水素またはメチルであり、および/またはR41は直鎖、分岐、環式または複素環式非置換またはヘテロ原子置換有機ラジカルに置換されていてよい有機ラジカルである]、
式(Ia)の化合物
R1は、発生ごとに独立して放射線硬化性基であり、
Xは、出現ごとに独立して、R1とC=Oの間の単結合、または直鎖、分岐または環状の任意のヘテロ原子含有および/または任意の官能基置換炭化水素ラジカルである]、
式(II)の化合物
R1およびXは、式(Ia)〜(Ic)で定義されているとおりであり、
R11は、直鎖または分岐鎖の、ヘテロ原子置換されていてもよい脂肪族、芳香族または芳香脂肪族基であり、
R12は、出現ごとに独立して、メチル、エチル、プロピル、n−ブチル、tert−ブチル、塩素、臭素、ヨウ素、メチルチオ、フェニルおよび/またはフェニルチオから選択される4個までの置換基であり、
R13は、出現ごとに独立して、メチル、エチル、プロピル、n−ブチル、tert−ブチル、塩素、臭素、ヨウ素、メチルチオ、フェニルおよび/またはフェニルチオから選択される最大5個の置換基である]、
式(III)の化合物であって
R1は式(Ia)〜(Ic)で定義されているとおりであり、
R21は酸素または硫黄、
R22はカルボキサミド(−C(O)N−)またはカルボン酸エステル(−C(O)O−)またはスルホンアミド(−SO2N−)基であり、
R23は、2〜10個の炭素原子を含む飽和または不飽和、または直鎖または分岐の、置換されていてもよいラジカル、または5個までの(−CH2−CH2−O−)−または(−C(CH3)H−CH2−O−)−基を含むポリエーテルまたは最大5個の窒素原子を含むポリアミンであり、 ii)式(III)の化合物は、炭素原子1、2、3、4、5、6、7、8の少なくとも1つのさらなる位置において、式(V)のラジカルで置換されており、
式(V)の化合物の炭素原子は、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、シアノ基、ニトロ基または置換されていてもよいアルキル、アルケニル、アルキニル、アラルキル、アリールまたはヘテロアリール基または置換されていてもよいアルコキシまたはアルキルチオ基、または任意に置換されているカルバモイル基に置換され、また式(III)のラジカル、またはトリフルオロメチル基もしくはトリフルオロメトキシ基または式(VI)のRacrylラジカルに架橋結合していてもよく、
R1’は式(IV)のR1と同じ定義を持ち、
R21’は酸素または硫黄で、
R22’はカルボキサミド(−C(O)N−)またはカルボン酸エステル(−C(O)O−)またはスルホンアミド(−SO2N−)基であり、
R23’は、飽和または不飽和、または2〜10個の炭素原子を含む直鎖または分岐の、置換されていてもよいラジカル、または5個までの(−CH2−CH2−O−)−または(−C(CH3)H−CH2−O−)−基を含むポリエーテル、または最大5個の窒素原子を含むポリアミンである]
である]であり、
iii)式(III)の化合物の残りの炭素原子は、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、シアノ基、ニトロ基または置換されていてもよいアルキル、アルケニル、アルキニル、アラルキル、アリールまたはヘテロアリール基または置換されていてもよいアルコキシまたはアルキルチオ基またはトリフルオロメチル基またはトリフルオロメトキシ基で置換される]および
式(VII)の化合物
R31、R32、R33は、それぞれ互いに独立して、OH、ハロゲンまたは有機ラジカルであり、ラジカルの少なくとも1つは、放射線硬化性基を含む有機ラジカルである]
からなる群から選択され、
より好ましくは、少なくとも1つの反応性希釈剤および少なくとも1つの書き込みモノマーは式(Ia)、(Ib)、(Ic)、(II)、(III)、(VII)の化合物および/またはそれらの混合物からなる群から選択され、さらにより好ましくは、式(Ia)の化合物および/またはそれらの混合物から選択され、さらにより好ましくは式(Ia)の化合物から選択される化合物である。
mは≧1であり、mは≦8であり、R51、R52およびR53は、互いに独立して、水素または直鎖、分岐、環式または複素環式、非置換またはヘテロ原子で置換されていてもよい有機ラジカルであり、さらにより好ましくは基R51、R52およびR53の少なくとも1つは少なくとも1つのフッ素原子で置換されており、特に好ましくはR51は少なくとも1つのフッ素原子を有する有機基である。]
TRed=(100%−Tpeak(A−B’−C’)%) (1)
は、ホログラムの反射の力(目に見える「強度」または「質」)の尺度として機能する。
この差ΔTが<20%、特に好ましくは<15%、特に好ましくは<10%であることが好ましい。
Δλ=λpeak−λw (3)
本発明の層構成A−B’−C’における銘刻されるホログラムのΔλが+/−10nmであることが好ましく、より好ましくは+/−5nm、特に好ましくは+/−3nmである。
基材層Aは、好ましくは、熱可塑性基材層/基材フィルムまたは別のキャリア、例えばガラス、プラスチック、金属または木材である。熱可塑性基材層Aの材料または材料複合材料は、ポリカーボネート(PC)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、アモルファスポリエステル、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリプロピレン、酢酸セルロース、水和セルロース、硝酸セルロース、シクロオレフィンポリマー、ポリスチレン、水素化ポリスチレン、ポリエポキシド、ポリスルホン、熱可塑性ポリウレタン(TPU)、三酢酸セルロース(CTA)、ポリアミド(PA)、ポリメチルメタクリレート(PMMA)、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルブチラールまたはポリジシクロペンタジエンまたはそれらの混合物に基づいている。それらは、特に好ましくは、PC、PET、PA、PMMAおよびCTAに基づいている。材料複合材は、フィルムラミネートまたは共押出し品である。好ましい材料複合体は、スキームA/B、A/B/AまたはA/B/Cの1つに従って構築された二重および三重フィルムである。特に好ましいのは、PC/PMMA、PC/PA、PC/PET、PET/PC/PETおよびPC/TPUである。基材層Aが400〜800nmのスペクトル領域で透明である場合が好ましい。
フォトポリマー層Bは、マトリックスポリマー、書き込みモノマーおよび光開始剤、任意に少なくとも1つの非光重合性成分および任意に触媒、フリーラジカル安定剤、溶媒、添加剤および他の助剤および/または添加物質を含む。使用可能なマトリックスポリマーはアモルファス熱可塑性プラスチックであり、例えばポリアクリレート、ポリメチルメタクリレートまたはメチルメタクリレート、メタクリル酸または他のアルキルアクリレートおよびアルキルメタクリレート、およびまたアクリル酸、例えばポリブチルアクリレート、およびまたポリ酢酸ビニルおよびポリビニルブチレート、それらの部分加水分解誘導体、例えばポリビニルアルコールのコポリマー、ならびにエチレンおよび/またはさらなる(メタ)アクリレート、ゼラチン、セルロースエステルおよびセルロースエーテル、例えばメチルセルロース、セルロースアセトブチレート、シリコーン、例えばポリジメチルシリコーン、ポリウレタン、ポリブタジエンおよびポリイソプレン、ならびにポリエチレンオキシドとのコポリマー、エポキシ樹脂、特に脂肪族エポキシ樹脂、ポリアミド、ポリカーボネート、および米国特許第4994347号明細書およびその中に引用されているシステムを含む。
n≧1およびn≦4、
R41は、非置換の直鎖、分岐、環式または複素環式または他のヘテロ原子で置換されていてもよい有機ラジカルであり、
R42は水素、直鎖、分岐、環式または複素環式非置換またはヘテロ原子置換有機ラジカルに置換されていてよく、好ましくはR42は水素またはメチルであり、および/またはR41は直鎖、分岐、環式または複素環式非置換またはヘテロ原子置換有機ラジカルに置換されていてよい有機ラジカルである]、
式(Ia)の化合物
R1は、発生ごとに独立して放射線硬化性基であり、
Xは、出現ごとに独立して、R1とC=Oの間の単結合、または直鎖、分岐または環状の任意のヘテロ原子含有および/または任意の官能基置換炭化水素ラジカルである]、
式(II)の化合物
R1およびXは、式(Ia)〜(Ic)で定義されているとおりであり、
R11は、直鎖または分岐鎖の、ヘテロ原子置換されていてもよい脂肪族、芳香族または芳香脂肪族基であり、
R12は、出現ごとに独立して、メチル、エチル、プロピル、n−ブチル、tert−ブチル、塩素、臭素、ヨウ素、メチルチオ、フェニルおよび/またはフェニルチオから選択される4個までの置換基であり、
R13は、出現ごとに独立して、メチル、エチル、プロピル、n−ブチル、tert−ブチル、塩素、臭素、ヨウ素、メチルチオ、フェニルおよび/またはフェニルチオから選択される最大5個の置換基である]、
式(III)の化合物であって、
R1は式(Ia)〜(Ic)で定義されているとおりであり、
R21は酸素または硫黄、
R22はカルボキサミド(−C(O)N−)またはカルボン酸エステル(−C(O)O−)またはスルホンアミド(−SO2N−)基であり、
R23は、2〜10個の炭素原子を含む飽和または不飽和、または直鎖または分岐の、置換されていてもよいラジカル、または5個までの(−CH2−CH2−O−)−または(−C(CH3)H−CH2−O−)−基を含むポリエーテルまたは最大5個の窒素原子を含むポリアミンであり、
ii)式(III)の化合物は、炭素原子1、2、3、4、5、6、7、8の少なくとも1つのさらなる位置において式(V)のラジカルで置換されており、
式(V)の化合物の炭素原子は、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、シアノ基、ニトロ基または置換されていてもよいアルキル、アルケニル、アルキニル、アラルキル、アリールまたはヘテロアリール基または置換されていてもよいアルコキシまたはアルキルチオ基、または任意に置換されているカルバモイル基に置換され、また式(III)のラジカル、またはトリフルオロメチル基もしくはトリフルオロメトキシ基または式(VI)のRacrylラジカルに架橋結合していてもよく、
R1’は式(IV)のR1と同じ定義を持ち、
R21’は酸素または硫黄で、
R22’はカルボキサミド(−C(O)N−)またはカルボン酸エステル(−C(O)O−)またはスルホンアミド(−SO2N−)基であり、
R23’は、飽和または不飽和、または2〜10個の炭素原子を含む直鎖または分岐の置換されていてもよいラジカル、または5個までの(−CH2−CH2−O−)−または(−C(CH3)H−CH2−O−)−基を含むポリエーテル、または最大5個の窒素原子を含むポリアミンである]
である]であり、
iii)式(III)の前記化合物の残りの炭素原子は、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、シアノ基、ニトロ基または置換されていてもよいアルキル、アルケニル、アルキニル、アラルキル、アリールまたはヘテロアリール基または置換されていてもよいアルコキシまたはアルキルチオ基またはトリフルオロメチル基またはトリフルオロメトキシ基で置換される]および
式(VII)の化合物
R31、R32、R33は、それぞれ互いに独立して、OH、ハロゲン、または有機ラジカルであり、ラジカルの少なくとも1つは、放射線硬化性基を含む有機ラジカルである]
からなる群から選択される化合物である。
n≧1およびn≦4、
R41は、非置換の直鎖、分岐、環式または複素環式または他のヘテロ原子で置換されていてもよい有機ラジカルであり、および/またはR42は水素、直鎖、分岐、環式または複素環式非置換またはヘテロ原子置換有機ラジカルに置換されていてよい有機ラジカルである。特に好ましいのは、R42が水素またはメチルであり、および/またはR41が非置換の直鎖、分岐、環式または複素環式またはヘテロ原子置換有機ラジカルとされていてもよいときである。]
化学線で硬化する前に、潜在的保護層Cは、−20℃〜190℃のガラス転移温度を有する少なくとも1つの熱可塑性樹脂、少なくとも1つの反応性希釈剤、少なくとも1つの光開始剤、および任意選択に少なくとも1つの添加剤を含む。潜在的保護層Cが、それぞれの場合保護層Cの総重量に基づいて、0.01重量%〜10重量%の量、より好ましくは0.1重量%〜5重量%の量のUV吸収剤をさらに含むことが好ましい。
n≧1およびn≦4、
R41は、非置換の直鎖、分岐、環式または複素環式または他のヘテロ原子で置換されていてもよい有機ラジカルであり、
R42は水素、直鎖、分岐、環式または複素環式非置換またはヘテロ原子置換有機ラジカルに置換されていてよく、好ましくはR42は水素またはメチルであり、および/またはR41は直鎖、分岐、環式または複素環式非置換またはヘテロ原子置換有機ラジカルに置換されていてよい有機ラジカルである]、
式(Ia)の化合物
R1は、発生ごとに独立して放射線硬化性基であり、
Xは、出現ごとに独立して、R1とC=Oの間の単結合、または直鎖、分岐または環状の任意のヘテロ原子含有および/または任意の官能基置換炭化水素ラジカルである]、
式(II)の化合物
R1およびXは、式(Ia)〜(Ic)で定義されているとおりであり、
R11は、直鎖または分岐鎖の、ヘテロ原子置換されていてもよい脂肪族、芳香族または芳香脂肪族基であり、
R12は、出現ごとに独立して、メチル、エチル、プロピル、n−ブチル、tert−ブチル、塩素、臭素、ヨウ素、メチルチオ、フェニルおよび/またはフェニルチオから選択される4個までの置換基であり、
R13は、出現ごとに独立して、メチル、エチル、プロピル、n−ブチル、tert−ブチル、塩素、臭素、ヨウ素、メチルチオ、フェニルおよび/またはフェニルチオから選択される最大5個の置換基である]、
式(III)の化合物であって
R1は式(Ia)〜(Ic)で定義されているとおりであり、
R21は酸素または硫黄、
R22はカルボキサミド(−C(O)N−)またはカルボン酸エステル(−C(O)O−)またはスルホンアミド(−SO2N−)基であり、
R23は、2〜10個の炭素原子を含む飽和または不飽和、または直鎖または分岐の置換されていてもよいラジカル、または5個までの(−CH2−CH2−O−)−または(−C(CH3)H−CH2−O−)−基を含むポリエーテルまたは最大5個の窒素原子を含むポリアミン、および
ii)式(III)の化合物は、式(V)のラジカルで置換された少なくとも1つのさらなる炭素原子1、2、3、4、5、6、7、8である、
式(V)の化合物の炭素原子は、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、シアノ基、ニトロ基または置換されていてもよいアルキル、アルケニル、アルキニル、アラルキル、アリールまたはヘテロアリール基または置換されていてもよいアルコキシまたはアルキルチオ基、または任意に置換されているカルバモイル基に置換され、また式(III)のラジカル、またはトリフルオロメチル基もしくはトリフルオロメトキシ基または式(VI)のRacrylラジカルに架橋結合していてもよい、
R1’は式(IV)のR1と同じ定義を持ち、
R21’は酸素または硫黄で、
R22’はカルボキサミド(−C(O)N−)またはカルボン酸エステル(−C(O)O−)またはスルホンアミド(−SO2N−)基であり、
R23’は、飽和または不飽和、または2〜10個の炭素原子を含む直鎖または分岐の置換されていてもよいラジカル、または5個までの(−CH2−CH2−O−)−または(−C(CH3)H−CH2−O−基を含むポリエーテル、または最大5個の窒素原子を含むポリアミンである、
iii)式(III)の化合物の残りの炭素原子は、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、シアノ基、ニトロ基または置換されていてもよいアルキル、アルケニル、アルキニル、アラルキル、アリールまたはヘテロアリール基または置換されていてもよいアルコキシまたはアルキルチオ基またはトリフルオロメチル基またはトリフルオロメトキシ基で置換される、
式(VII)の化合物と
R31、R32、R33は、それぞれ互いに独立して、OH、ハロゲンまたは有機ラジカルであり、ラジカルの少なくとも1つは、放射線硬化性基を含む有機ラジカルであり、より好ましくは、少なくとも1つの反応性希釈剤は、式(Ia)、(Ib)、(Ic)、(II)、(III)、(VII)の化合物および/またはそれらの混合物であり、さらにより好ましくは、式(Ia)の化合物および/またはそれらの混合物であり、さらにより好ましくは式(Ia)の化合物である
からなる群から選択される化合物である。
R1は、出現ごとに独立して、放射線硬化性基であり、
Xは、出現ごとに独立して、R1とC=Oの間の単結合、またはヘテロ原子含有にされていてもよい炭化水素ラジカルおよび/または官能基置換されていてもよい炭化水素ラジカル、および/またはそれらの混合物である。
R1およびXは式(Ia)〜(Ic)で定義されたとおりであり、
R11は、直鎖または分岐鎖の、ヘテロ原子置換されていてもよい脂肪族、芳香族または芳香脂肪族基であり、
R12は、出現ごとに独立して、メチル、エチル、プロピル、n−ブチル、tert−ブチル、塩素、臭素、ヨウ素、メチルチオ、フェニルおよび/またはフェニルチオから選択される4個までの置換基であり、
R13は、出現ごとに独立して、メチル、エチル、プロピル、n−ブチル、tert−ブチル、塩素、臭素、ヨウ素、メチルチオ、フェニルおよび/またはフェニルチオから選択される最大5個の置換基である。
R1は式(Ia)〜(Ic)で定義されているとおりであり、
R21は酸素または硫黄、
R22はカルボキサミド(−C(O)N−)またはカルボン酸エステル(−C(O)O−)またはスルホンアミド(−SO2N−)基であり、
R23は、2〜10個の炭素原子を含む飽和または不飽和、または直鎖または分岐の、置換されていてもよいラジカル、または5個までの(−CH2−CH2−O−)−または(−C(CH3)H−CH2−O−)−基を含むポリエーテルまたは最大5個の窒素原子を含むポリアミンであり、
ii)式(III)の化合物は、炭素原子1、2、3、4、5、6、7、8の少なくとも1つのさらなる位置において、式(V)のラジカルで置換されており、
式(V)の化合物の炭素原子は、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、シアノ基、ニトロ基または置換されていてもよいアルキル、アルケニル、アルキニル、アラルキル、アリールまたはヘテロアリール基または置換されていてもよいアルコキシまたはアルキルチオ基、または任意に置換されているカルバモイル基に置換され、また式(III)のラジカル、またはトリフルオロメチル基もしくはトリフルオロメトキシ基または式(VI)のRacrylラジカルに架橋結合していてもよく、
R1’は式(IV)のR1と同じ定義を持ち、
R21’は酸素または硫黄で、
R22’はカルボキサミド(−C(O)N−)またはカルボン酸エステル(−C(O)O−)またはスルホンアミド(−SO2N−)基であり、
R23’は、飽和または不飽和、または2〜10個の炭素原子を含む直鎖または分岐の、置換されていてもよいラジカル、または5個までの(−CH2−CH2−O−)−または(−C(CH3)H−CH2−O−)−基を含むポリエーテル、または最大5個の窒素原子を含むポリアミンである]
である]であり、
iii)式(III)の化合物の残りの炭素原子は、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、シアノ基、ニトロ基または置換されていてもよいアルキル、アルケニル、アルキニル、アラルキル、アリールまたはヘテロアリール基または置換されていてもよいアルコキシまたはアルキルチオ基またはトリフルオロメチル基またはトリフルオロメトキシ基で置換される。
R31、R32、R33は、それぞれ互いに独立して、OH、ハロゲン、または有機ラジカルであり、ラジカルの少なくとも1つは、放射線硬化性基を含む有機ラジカルである。
I)Mw≧100000g/molのポリビニルブチラールまたはMw≧100000g/molのアモルファスポリメチルメタクリレートからなる群から選択される少なくとも1つの熱可塑性樹脂、
II)式(Ia)の化合物
式中、式(Ia)から(Ic)において、
R1は、出現ごとに独立して放射線硬化性基であり、
Xは、出現ごとに独立して、R1とC=Oの間の単結合、または任意のヘテロ原子含有および/または任意の官能基置換炭化水素ラジカルの直鎖、分岐または環状である、反応性希釈剤、および
III)少なくとも1つの光開始剤
を含む。
I)Mw≧100000g/molのポリビニルブチラールまたはMw≧100000g/molのアモルファスポリメチルメタクリレートからなる群から選択される少なくとも1つの熱可塑性樹脂、
II)式(Ia)の化合物
式中、
R1は、出現ごとに独立して放射線硬化性基であり、
Xは、出現ごとに独立して、R1とC=Oの間の単結合、または任意のヘテロ原子含有および/または任意の官能基置換炭化水素ラジカルの直鎖、分岐または環状である、反応性希釈剤、および
III)少なくとも1つの光開始剤
を含む。
基材層Dは、好ましくは熱可塑性基材層/基材フィルムである。熱可塑性基材層Dの材料または材料複合材料は、ポリカーボネート(PC)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、アモルファスポリエステル、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリプロピレン、酢酸セルロース、水和セルロース、硝酸セルロース、シクロオレフィンポリマー、ポリスチレン、水素化ポリスチレン、ポリエポキシド、ポリスルホン、熱可塑性ポリウレタン(TPU)、三酢酸セルロース(CTA)、ポリアミド(PA)、ポリメチルメタクリレート(PMMA)、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルブチラールまたはポリジシクロペンタジエンまたはそれらの混合物に基づいている。それらは、特に好ましくは、PC、PET、PA、PMMAおよびCTAに基づいている。材料複合材は、フィルムラミネートまたは共押出し品である。好ましい材料複合体は、スキームA/B、A/B/AまたはA/B/Cの1つに従って構築された二重および三重フィルムである。特に好ましいのは、PC/PMMA、PC/PA、PC/PET、PET/PC/PETおよびPC/TPUである。基材層Dが400〜800nmのスペクトル領域で透明であるときが好ましい。
本発明は、以下の図面および実施例を介して以下により詳細に説明されるものとする。
固形分:報告された固形分は、DIN EN ISO 3251に従って判定した。
いずれの場合も、CAS番号がわかっている場合は角括弧で報告している。
Fomrez(登録商標)UL 28 ウレタン化触媒、Momentive Performance Chemicals、米国、コネチカット州ウィルトンの市販の製品。
物理的に乾燥する樹脂
Mowital B75H−樹脂1 ドイツ、ハッタースハイムのKuraray Europe GmbHからのMwが240000の線状熱可塑性アモルファスポリビニルブチラール。
RD1 トリス(p−イソシアナトフェニル)チオホスフェート(Desmodur(登録商標)RFE、酢酸エチル中27%、Covestro DeutschlandAG、Leverkusen、ドイツの製品)とヒドロキシエチルアクリレートの反応から得られる三官能性ウレタンアクリレート。
Esacure One−開始剤1 [163702−01−0]、Lamberti S.p.A.、Albizzate、Italyから得たオリゴ[2−ヒドロキシ−2−メチル−1−((4−(1−メチルビニル)フェニル)プロパノン]。
BYK 333 ドイツ、ヴェーゼルのBYK Chemie GmbHのシリコーン含有表面添加剤。
酢酸ブチル(BA) ドイツ、ミュールハイム・アン・デア・ルールのBrenntag GmbHから得た酢酸ブチル。
7.90gの上記ポリオール成分を融かして7.65gの各ウレタンアクリレート2、2.57gの上記ウレタンアクリレート1、5.10gの上記フッ素化ウレタン、0.91gのCGI 909、0.232gの染料1、0.230gのBYK 310、0.128gのFomrez UL 28および3.789gの酢酸エチルと混ぜて、透明な溶液を得た。次に、1.50gのDesmodur(登録商標)N3900を加え、混合物を再度混ぜた。
表1に報告されている配合物は、報告されている有機溶媒に100℃で溶解し、室温に冷却した物理乾燥樹脂を反応性希釈剤と混合することにより生成された。次に、光開始剤と流動制御剤を暗闇の中で加えた。
ホログラムの銘刻に適した層構成A−B−C−Dを有する感光性フィルムの製造は、層複合体A−Bの層側Bを層複合体C−Dの側Cに最初に積層することを含む。これは、ラミネーターのゴムローラーの間で2つのフィルムを一緒に押すことにより、光のない状態で行われる。ローラーの温度TLamは、30℃、60℃、または90℃に事前設定されている。このようにして得られたラミネートは、光から保護して保管しなければならない。
層構成A−B−C−Dの評価用のテストホログラムは、次のように作成された:層構成A−B−C−Dのフォトポリマーフィルム、および層構成A−Bの比較フォトポリマーフィルムは、暗闇で所望のサイズにカットされ、ラバーローラーが寸法50mm×70mm(厚さ3mm)のガラス板に積層される。テストホログラムは、532nmのレーザー放射を使用してデニシュク反射ホログラムを生成するテスト装置を使用して生成された。テスト装置は、レーザー光源、光ビームガイドシステム、およびガラスクーポンのホルダーからなる。ガラスクーポンのホルダーは、ビーム軸に対して13°の角度で取り付けられている。レーザー光源は、特定の光ビーム経路によって約5cmに拡大された放射を生成し、ミラーと光学的に接触したガラスクーポンに導かれる。ホログラフ化されたオブジェクトは、サイズが約2cm×2cmのミラーであったため、ミラーの波面はホログラムの再構成時に再構成された。すべての例は、緑色の532nmレーザー(Newport Corp.、Irvine、カリフォルニア州、米国、カタログ番号EXLSR−532−50−CDRH)で照射された。シャッターを使用して、定められた方法で記録フィルムに2秒間照射した。これにより、層Bにホログラムを含むフィルム複合体A−B*−C−Dが得られる(例外−ホログラムが形成されていない非本発明例N02)。
ISO 2409:2013−02(E)に準拠したホログラフィックフィルムA−B’の層B’上の保護層C’の接着の定量分析(クロスカットテスト):
クロスカット(ISO 2409:2013−02(E)に準拠)付きの粘着テーププルオフ(採用した粘着テープ:3M Scotch 898)を実行した。能力値は、完全接着(ISO能力値:0)から不十分(ISO 2409:2013−02(E)による)接着(ISO能力値:5)まで様々である。
コーティングの耐溶剤性は、通常、技術的品質のN−エチル−2−ピロリドン(NEP)、メチルエチルケトン(MEK)、1−ブタノール、および酢酸エチル(EA)でテストされた。溶剤を綿棒でコーティングに塗布し、カバーすることで蒸発から保護した。特に明記しない限り、約23℃で60分の接触時間観察された。接触時間が経過したら、綿棒を取り除き、柔らかい布で試験面をきれいに拭き取る。これに続いて、すぐに、指の爪で軽く引っかいた後、目視検査を行う。
次に、ホログラムを生成するための本発明のプロセスによって生成されたフィルム複合体A−B’−C’の層B’のホログラムを分光法による品質分析にかけた。
ΔT 層構成A−B’−C’と層構成A−B’比較時のホログラムの透過ピークの最大深度の計算差:
ΔT=(100%−Tpeak(A−B’−C’)%)−(100%−Tpeak(A−B’)%) (2)
λpeak ナノメートル(nm)単位のホログラムの透過最小値のスペクトル位置。
λpeak−λw (3)
層構成A−B’の基準点としての非本発明サンプルV1について、透過率は91%であり、FWHMは25nmであり、透過率の最小値は527nmである。
Claims (16)
- マトリックスポリマー、書き込みモノマー、光開始剤、任意に少なくとも1つの非光重合性成分および任意に触媒、フリーラジカル安定剤、溶媒、添加剤および他の助剤および/または添加物質を含むフォトポリマー層Bと、−20℃〜190℃のガラス転移温度を有する少なくとも1つの熱可塑性樹脂、少なくとも1つの反応性希釈剤、少なくとも1つの光開始剤、および任意に少なくとも1つの添加剤を含む少なくとも1つの硬化性保護層Cとを含む層構成を含むホログラフィック媒体であって、前記保護層Cが前記エリアフォトポリマー層Bに少なくとも部分的に接合されており、前記保護層Cのすべての反応性希釈剤が、前記フォトポリマー層Bの少なくとも1つの書き込みモノマーと同一であることを特徴とする、ホログラフィック媒体。
- 前記フォトポリマー層Bが基材層A上に配置され、前記フォトポリマー層Bが片側において前記基材層Aに少なくとも部分的に接合され、前記フォトポリマー層Bが反対側において前記保護層Cに少なくとも部分的に接合されていることを特徴とする、請求項1に記載のホログラフィック媒体。
- 前記保護層Cが基材層D上に配置され、前記保護層Cが片側において前記基材層Dに少なくとも部分的に接合され、前記保護層Cが反対側において前記フォトポリマー層Bに少なくとも部分的に接合されていることを特徴とする、請求項1または2に記載のホログラフィック媒体。
- 前記層構成は、少なくとも部分的に互いに接合された少なくとも4つの層からなり、前記層は、基材層A、フォトポリマー層B、保護層C、および基材層Dの順番で互いに直接上に配置されることを特徴とする、請求項1から3のいずれかに記載のホログラフィック媒体。
- フォトポリマー層Bの上に、少なくとも1つの硬化性保護層Cが適用され、前記フォトポリマー層がマトリックスポリマー、書き込みモノマー、光開始剤、任意に少なくとも1つの非光重合性成分および任意に触媒、フリーラジカル安定剤、溶媒、添加剤および他の助剤および/または添加物質を含み、前記少なくとも1つの硬化性保護層Cが、−20℃〜190℃のガラス転移温度を有する少なくとも1つの熱可塑性樹脂、少なくとも1つの反応性希釈剤、少なくとも1つの光開始剤、および任意に少なくとも1つの添加剤を含み、前記保護層Cのすべての反応性希釈剤が、前記フォトポリマー層Bの少なくとも1つの書き込みモノマーと同一であることを特徴とする、請求項1〜4のいずれかに記載のホログラフィック媒体の製造方法。
- 第一段階で前記フォトポリマー層Bを基材層Aの上に適用して層複合体A−Bを提供し、第二段階で前記保護層Cを基材層Dの上に適用して層複合体C−Dを提供し、第三段階で前記層複合体A−Bを前記層複合体C−Dに面的に接合させ、層複合体A−B−C−Dを得て、前記層複合体A−Bは好ましくは積層により前記層複合体C−Dに接合されることを特徴とする、請求項5に記載の方法。
- ホログラムの作成方法であって、
a)
I)基材層A、
II)マトリックスポリマー、書き込みポリマー、光開始剤、任意に少なくとも1つの非光重合性成分および任意に触媒、フリーラジカル安定剤、溶媒、添加剤および他の助剤および/または添加物質を含むフォトポリマー層B、
III)−20℃〜190℃のガラス転移温度を有する少なくとも1つの熱可塑性樹脂、少なくとも1つの反応性希釈剤、少なくとも1つの光開始剤および任意に少なくとも1つの添加剤を含む保護層C、
IV)基材層D
を含み、基材層A、フォトポリマー層B、保護層Cおよび基材層Dの順番で前記層は互いに直接上に配置され、前記保護層Cのすべての反応性希釈剤は前記フォトポリマー層Bの少なくとも1つの書き込みモノマーと同一である、層複合体A−B−C−Dを含むホログラフィック媒体を提供するステップ、
b)ホログラムを前記フォトポリマー層Bに光刻印して、層複合体A−B*−C−Dであって、B*は照射されたフォトポリマー層Bである層複合体を形成するステップ、
c)ステップ(b)の前記層複合体A−B*−C−Dを化学線、好ましくは紫外線照射に晒して、層複合体A−B’−C’−Dを形成するステップであって、B’は前記漂白され、完全に重合され、もはや感光性のない、固定したホログラムを含むフォトポリマー層Bであり、C’は、前記硬化保護層Cである層複合体を形成す‘るステップ、および所望により
d)ステップ(c)から得た前記層複合体A−B’−C’−Dの前記基材層Dを剥離して、層複合体A−B’−C’を形成するステップ
を含む方法。 - 前記少なくとも1つの反応性希釈剤および前記少なくとも1つの書き込みモノマーが、式(VIII)の化合物
[式(VIII)において
n≧1およびn≦4、
R41は、非置換の直鎖、分岐、環式または複素環式または他のヘテロ原子で置換されていてもよい有機ラジカルであり、
R42は水素、直鎖、分岐、環式または複素環式非置換またはヘテロ原子置換有機ラジカルに置換されていてよく、好ましくはR42は水素またはメチルであり、および/またはR41は直鎖、分岐、環式または複素環式非置換またはヘテロ原子置換有機ラジカルに置換されていてよい有機ラジカルである]、
式(Ia)の化合物
式(Ib)の化合物
式(Ic)の化合物
[式(Ia)から(Ic)において、
R1は、発生ごとに独立して放射線硬化性基であり、
Xは、出現ごとに独立して、R1とC=Oの間の単結合、または直鎖、分岐または環状の任意のヘテロ原子含有および/または任意の官能基置換炭化水素ラジカルである]、
式(II)の化合物
[式(II)において
R1およびXは、式(Ia)〜(Ic)で定義されているとおりであり、
R11は、直鎖または分岐鎖の、ヘテロ原子置換されていてもよい脂肪族、芳香族または芳香脂肪族基であり、
R12は、出現ごとに独立して、メチル、エチル、プロピル、n−ブチル、tert−ブチル、塩素、臭素、ヨウ素、メチルチオ、フェニルおよび/またはフェニルチオから選択される4個までの置換基であり、
R13は、出現ごとに独立して、メチル、エチル、プロピル、n−ブチル、tert−ブチル、塩素、臭素、ヨウ素、メチルチオ、フェニルおよび/またはフェニルチオから選択される最大5個の置換基である]、
式(III)の化合物
i)炭素原子1、2、3、4、5、6、7、8の少なくとも1つが式(IV)のRacryl基で置換されており、
[式(IV)において、
R1は式(Ia)〜(Ic)で定義されているとおりであり、
R21は酸素または硫黄、
R22はカルボキサミド(−C(O)N−)またはカルボン酸エステル(−C(O)O−)またはスルホンアミド(−SO2N−)基であり、
R23は、2〜10個の炭素原子を含む飽和または不飽和、または直鎖または分岐の、置換されていてもよいラジカル、または5個までの(−CH2−CH2−O−)−または(−C(CH3)H−CH2−O−)−基を含むポリエーテルまたは最大5個の窒素原子を含むポリアミンであり、
ii)式(III)の前記化合物は、炭素原子1、2、3、4、5、6、7、8の少なくとも1つのさらなる位置において、式(V)のラジカルで置換されており、
[式(V)において、
式(V)の前記化合物の前記炭素原子は、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、シアノ基、ニトロ基または置換されていてもよいアルキル、アルケニル、アルキニル、アラルキル、アリールまたはヘテロアリール基または置換されていてもよいアルコキシまたはアルキルチオ基、または任意に置換されているカルバモイル基に置換され、また式(III)のラジカル、またはトリフルオロメチル基もしくはトリフルオロメトキシ基または式(VI)のRacrylラジカルに架橋結合していてもよく、
[式(VI)において、
R1’は式(IV)のR1と同じ定義を持ち、
R21’は酸素または硫黄で、
R22’はカルボキサミド(−C(O)N−)またはカルボン酸エステル(−C(O)O−)またはスルホンアミド(−SO2N−)基であり、
R23’は、飽和または不飽和、または2〜10個の炭素原子を含む直鎖または分岐の、置換されていてもよいラジカル、または5個までの(−CH2−CH2−O−)−または(−C(CH3)H−CH2−O−)−基を含むポリエーテル、または最大5個の窒素原子を含むポリアミンである]
である]であり、
iii)式(III)の前記化合物の残りの炭素原子は、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、シアノ基、ニトロ基または置換されていてもよいアルキル、アルケニル、アルキニル、アラルキル、アリールまたはヘテロアリール基または置換されていてもよいアルコキシまたはアルキルチオ基またはトリフルオロメチル基またはトリフルオロメトキシ基で置換される]および
式(VII)の化合物
[式(VII)において
R31、R32、R33は、それぞれ互いに独立して、OH、ハロゲンまたは有機ラジカルであり、前記ラジカルの少なくとも1つは、放射線硬化性基を含む有機ラジカルである]
からなる群から選択され、
より好ましくは、式(Ia)、(Ib)、(Ic)、(II)、(III)、(VII)の化合物および/またはそれらの混合物からなる群から選択され、さらにより好ましくは、式(Ia)の化合物および/またはそれらの混合物から選択され、さらにより好ましくは式(Ia)の化合物から選択される化合物であることを特徴とする、請求項1〜4のいずれかに記載のホログラフィック媒体または請求項5〜7のいずれかに記載の方法。 - 前記保護層Cの前記熱可塑性樹脂は、アモルファスポリエステル、アモルファスポリカーボネート、アモルファスポリスルホン、アモルファスポリビニルアセタール、アモルファスポリアクリレート、アモルファスポリスチレン、アモルファスポリスチレンメチルメタクリレートコポリマー、スチレンアクリロニトリルコポリマー、アクリロニトリルコポリマー、アモルファスアクリロニトリルブタジエンコポリマーおよび/またはその混合物であり、好ましくはアモルファスポリアクリレート、アモルファスポリビニルアセタールおよび/またはその混合物、より好ましくはMwが100,000g/molを超えるアモルファスポリビニルブチラール、Mwが100,000g/molを超えるアモルファスポリメチルメタクリレート、および/またはその混合物であることを特徴とする、請求項1〜4または8のいずれかに記載のホログラフィック媒体または請求項5〜8のいずれかに記載の方法。
- 前記フォトポリマー層Bが可塑剤としてウレタンをさらに含有し、前記ウレタンは少なくとも1つのフッ素原子で特に置換されてよく、より好ましくは前記ウレタンは一般式(IX)を有し、
式中、mは≧1であり、mは≦8であり、R51、R52およびR53は、互いに独立して、水素または直鎖、分岐、環式または複素環式、非置換またはヘテロ原子で置換されていてもよい有機ラジカルであり、さらにより好ましくは基R51、R52およびR53の少なくとも1つは少なくとも1つのフッ素原子で置換されており、特に好ましくはR51は少なくとも1つのフッ素原子を有する有機基である
ことを特徴とする、請求項1〜4または8または9のいずれかに記載のホログラフィック媒体、または請求項5〜9のいずれかに記載の方法。 - 前記未硬化および硬化状態の前記保護層Cが350〜800nmの範囲の波長を有する電磁放射線に対して光学的に透明かつ透過であり、好ましくは、前記保護層Cは、前記フォトポリマー層Bの少なくとも1つの表面を完全に覆うことを特徴とする、請求項1〜4、8、9、または10のいずれかに記載のホログラフィック媒体、または請求項5〜10のいずれかに記載の方法。
- 前記フォトポリマー層Bの前記マトリックスポリマーが架橋、好ましくは三次元架橋されていることを特徴とする、請求項1〜4、8〜10または11のいずれかに記載のホログラフィック媒体、または請求項5〜11のいずれかに記載の方法。
- 請求項7〜12のいずれかに記載の方法により得られる層構成A−B’−C’を含む密封ホログラフィック媒体。
- 好ましくは、前記光学ディスプレイが、自動立体および/またはホログラフィックディスプレイ、投影スクリーン、プライバシーフィルターおよび双方向マルチユーザースクリーンのための切り替え可能な制限放射特性を有するディスプレイ、仮想ディスプレイ、ヘッドアップディスプレイ、ヘッドマウントディスプレイ、照明シンボル、警告ランプ、信号ランプ、投光照明/ヘッドライト、およびディスプレイパネルからなる群から選択される、請求項13に記載の密封ホログラフィック媒体を含む光学ディスプレイ。
- 請求項13に記載の密封ホログラフィック媒体を含むセキュリティ文書。
- ホログラムを製造するための、特にインラインホログラム、軸外ホログラム、全開口転写ホログラム、白色光透過ホログラム、デニシュクホログラム、軸外反射ホログラム、エッジ照明ホログラム、およびホログラフィックステレオグラムを製造するための請求項1〜4、8〜11または12のいずれかに記載のホログラフィック媒体の使用。
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