JP2020513113A - リソグラフィ方法及び装置 - Google Patents
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Abstract
Description
[0001] 本願は、2017年4月6日出願の欧州出願第17165195.3号の優先権を主張し、その全体が参照により本明細書に組み込まれる。
放射ビームPB(例えばUV放射)を調節する照明システムILと、
パターニングデバイス(例えばマスク)MAを支持し、アイテムPLに対してパターニングデバイスを正確に位置決めする第1の位置決めデバイスPMに接続された支持構造(例えばマスクテーブル)MTと、
基板(例えばレジストコートウェーハ)Wを保持し、アイテムPLに対して基板を正確に位置決めする第2の位置決めデバイスPWに接続された基板テーブル(例えば基板テーブル)WTと、
パターニングデバイスMAによって放射ビームPBに付与されたパターンを基板Wのターゲット部分C(例えば1つ以上のダイを含む)に投影するように構成された投影システム(例えば屈折投影レンズシステム)PLとを備える。
x(k)=(1−α)・x(k−1)+α・m(k) (4)
によって記述可能であり、上式で、xはフィルタリングされた残差、αはフィルタ利得、及びmは残差である。次いで、フィルタリングされた残差xを高速ダイナミックモデルの出力に追加することによって、補正が計算され得る。
A=1,C=1,K=α (7)
α−βフィルタは特別な速度状態を有し、下記のマトリクスを有する。
Claims (35)
- リソグラフィ装置の動作の間に生じる収差を低減させる方法であって、
収差信号を取得するために前記収差を測定することであって、前記収差信号は第1の成分及び第2の成分を含み、前記収差信号の前記第1の成分は第1の周波数帯域を含み、前記収差信号の前記第2の成分は第2の周波数帯域を含み、前記第1の周波数帯域は前記第2の周波数帯域に含まれる周波数よりも高い周波数を含む、前記収差を測定すること、
補正を計算することであって、前記補正の第1の部分は前記収差信号の前記第1の成分に基づいて計算される、補正を計算すること、及び、
前記補正を前記リソグラフィ装置に適用すること、
を含む、収差を低減させる方法。 - 前記第1の周波数帯域は、前記リソグラフィ装置による基板の少なくとも1つのロットの露光の間の、前記リソグラフィ装置の投影システムの応答を示す、請求項1に記載の方法。
- 前記第2の周波数帯域は、前記リソグラフィ装置による基板の少なくとも1つのロット又は基板の複数のロットの露光に対する、前記リソグラフィ装置の一/前記投影システムの応答を示す、請求項1又は2に記載の方法。
- 前記方法は、前記リソグラフィ装置による基板の少なくとも1つ又は少なくとも2つのロットの露光の間の、及び/又は、前記リソグラフィ装置のキャリブレーションの間の、前記収差を測定することを含む、請求項1から3のいずれかに記載の方法。
- 前記リソグラフィ装置のキャリブレーションは、1つ以上の露光設定に対する前記投影システムの応答を測定するために、前記リソグラフィ装置の前記1つ以上の露光設定について前記収差を測定することを含む、請求項4に記載の方法。
- 前記リソグラフィ装置のキャリブレーションの間の前記収差を測定することは、前記リソグラフィ装置のキャリブレーションのために選択された基板のロットを露光することを含む、請求項4又は5に記載の方法。
- 前記方法は、前記測定された収差を1つ以上の部分又は係数に分解することによって、前記測定された収差から前記収差信号を取得又は決定することを含み、前記収差信号は、前記測定された収差の少なくとも1つの部分又は係数に対応するか、又は関連付けられる、請求項1から6のいずれかに記載の方法。
- 前記第1の周波数帯域は、閾値周波数より上の周波数を含み、前記第2の周波数帯域は、前記閾値周波数より下の周波数を含む、請求項1から7のいずれかに記載の方法。
- 前記閾値周波数は、前記リソグラフィ装置のサンプリング時間に依存して選択される、請求項8に記載の方法。
- 前記補正の前記第1の部分を計算することは、前記収差信号の前記第1の成分及び/又は前記第2の成分を使用してモデルを生成することを含む、請求項1から9のいずれかに記載の方法。
- 前記モデルを生成することは、基板の第1のロット又は基板の所定数のロットが前記リソグラフィ装置によって露光された後に、前記モデルを生成することを含む、請求項10に記載の方法。
- 前記モデルは、前記基板の第1のロット及び/又は前記基板の第1のロットに続く基板の各ロットの露光後に、前記基板の第1のロットについて取得された前記収差信号及び/又は前記基板の第1のロットに続く1つ以上のロットについて取得された前記収差信号を使用して、生成される、請求項11に記載の方法。
- 前記モデルを生成することは、システム識別方法を使用して、既存のモデルを再キャリブレーション又は更新することによって、新規モデルを生成することを含む、請求項10又は11に記載の方法。
- 前記生成されたモデルは、前記リソグラフィ装置による基板の1つ以上のロットの露光の間の、前記リソグラフィ装置の一/前記投影システムの応答を少なくとも部分的に予測するように構成される、請求項10から13のいずれか一項に記載の方法。
- 前記生成されたモデルは、前記リソグラフィ装置によって露光される基板の少なくとも2つのロット間の遷移における、前記投影システムの応答を予測するように構成される、請求項10から14のいずれか一項に記載の方法。
- 前記モデルによって生成される出力は、前記収差信号の前記第1の成分及び/又は前記第1の周波数帯域を含む、請求項10から15のいずれか一項に記載の方法。
- 前記方法は、前記補正の前記第1の部分を計算する前に、前記収差信号に重みを適用するためにフィルタを使用することを含む、請求項1から16のいずれかに記載の方法。
- 前記重みの周波数レンジは、前記補正の前記第1の部分が前記収差信号の前記第1の成分に基づいて計算されるように、及び、前記収差信号の前記第2の成分が前記補正の前記第1の部分の前記計算に対して抑制又は無視されるように、選択される、請求項17に記載の方法。
- 前記方法は、前記生成されたモデルに重みを適用するためにフィルタを使用することを含み、前記重みの周波数レンジは、前記第2の周波数帯域を含む前記生成されたモデルのコンポーネントが、前記補正の前記第1の部分の前記計算に対して抑制又は無視されるように選択される、請求項10から15のいずれか一項に記載の方法。
- 前記重みの一/前記周波数レンジは、前記閾値周波数に等しいか又は上である最小周波数、及び、前記リソグラフィ装置のサンプリング周波数を含む最大周波数を含む、請求項17から19のいずれか一項に記載の方法。
- 前記フィルタは高域フィルタを含む、請求項17から19のいずれか一項に記載の方法。
- 前記補正を計算することは、前記補正の第2の部分を計算することを含み、前記補正の前記第2の部分を計算することは、残差を取得するために前記生成された出力を前記収差信号から減算することを含む、請求項16又はこれに従属するいずれかに記載の方法。
- 前記残差は、前記第1の周波数帯域に含まれる前記周波数よりも低い周波数、又は、前記第1の周波数帯域に含まれる前記周波数よりも低い周波数を含む周波数帯域を有する、請求項22に記載の方法。
- 前記補正の前記第2の部分を計算することは、前記残差にフィルタを適用することを含む、請求項22又は23に記載の方法。
- 前記フィルタは、指数平滑化又はアルファベータフィルタを含む、請求項25に記載の方法。
- 前記残差に前記フィルタを適用することは、前記残差の時間導関数を取得するために前記残差を微分すること、及び、前記残差の前記時間導関数に基づいて、前記リソグラフィ装置によっていまだ露光されていない基板のロットについて、少なくとも収差信号の成分を予測することを含む、請求項24又は25に記載の方法。
- 前記補正を計算することは、前記補正の前記第1の部分を前記補正の前記第2の部分に加算することを含む、請求項22から26のいずれか一項に記載の方法。
- 前記計算された補正を前記リソグラフィ装置に適用することは、前記投影システムのレンズを操作することを含む、請求項1から27のいずれかに記載の方法。
- 前記リソグラフィ装置の前記収差は、前記リソグラフィ装置によって使用される一/前記投影システム及び/又はマスク、あるいはそれらのディストーションによって、誘発される、請求項1から28のいずれかに記載の方法。
- リソグラフィ装置の動作の間に生じる収差を低減させる方法であって、
収差信号を取得するために前記収差を測定することであって、前記収差信号は第1の成分及び第2の成分を含み、前記収差信号の前記第1の成分は第1の周波数を含み、前記収差信号の前記第2の成分は第2の周波数を含み、前記第1の周波数は前記第2の周波数よりも高い、収差を測定すること、
補正を計算することであって、前記補正の第1の部分は前記収差信号の前記第1の成分に基づいて計算される、補正を計算すること、及び、
前記補正を前記リソグラフィ装置に適用すること、
を含む、収差を低減させる方法。 - 請求項1から30のいずれか一項に従った方法をプロセッサに実行させるように構成されたコンピュータ可読命令を含む、コンピュータプログラム。
- 請求項31に従ったコンピュータプログラムを担持するコンピュータ可読媒体。
- リソグラフィ装置の投影システムによって発生する収差を低減させるためのコンピュータ装置であって、
プロセッサ可読命令を記憶するメモリと、
前記メモリに記憶された命令を読取り及び実行するように配置されたプロセッサと、
を備え、
前記プロセッサ可読命令は、請求項1から30のいずれか一項に記載の方法を実行するように前記コンピュータを制御するように配置された命令を含む、
コンピュータ装置。 - パターンをマスクから基板上へと投影するように構成された投影システムを備えるリソグラフィ装置であって、
前記リソグラフィ装置によって使用される前記投影システム及び/又は前記マスクによって発生する収差を測定するように構成されたセンサであって、前記測定された収差から取得される収差信号が第1の成分及び第2の成分を含み、前記収差信号の前記第1の成分は第1の周波数帯域を含み、前記収差信号の前記第2の成分は第2の周波数帯域を含み、前記第1の周波数帯域は前記第2の周波数帯域に含まれる周波数よりも高い周波数を含む、センサと、
前記投影システムに適用されるべき補正を計算するように構成されたプロセッサであって、前記プロセッサは前記収差信号の前記第1の成分に基づいて前記補正の第1の部分を計算するように構成される、プロセッサと、
前記投影システムのレンズを操作することによって前記補正を適用するように構成されたレンズマニピュレータと、
を更に備える、リソグラフィ装置。 - パターンをマスクから基板上へと投影するように構成された投影システムを備えるリソグラフィ装置であって、
前記リソグラフィ装置によって使用される前記投影システム及び/又は前記マスクによって発生する収差を測定するように構成されたセンサであって、前記測定された収差から取得される収差信号が第1の成分及び第2の成分を含み、前記収差信号の前記第1の成分は第1の周波数を含み、前記収差信号の前記第2の成分は第2の周波数を含み、前記第1の周波数は前記第2の周波数よりも高い、センサと、
前記投影システムに適用されるべき補正を計算するように構成されたプロセッサであって、前記プロセッサは前記収差信号の前記第1の成分に基づいて前記補正の第1の部分を計算するように構成される、プロセッサと、
前記投影システムのレンズを操作することによって前記補正を適用するように構成されたレンズマニピュレータと、
を更に備える、リソグラフィ装置。
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