JP2020511570A - 可燃性プロファイルを低下させた冷媒 - Google Patents
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Abstract
Description
R−32:ジフルオロメタン(CH2F2);
HCC−40:クロロメタン(CH3Cl);
HCFC−115:クロロペンタフルオロエタン(C2F5Cl);
HCFC−124:クロロテトラフルオロエタン(C2HF4Cl);
HFC−125:ペンタフルオロエタン(C2HF5);
HCFC−133a:1−クロロ−2,2,2−トリフルオロエタン(C2H2F3Cl);
HFC−134a:1,1,1,2−テトラフルオロエタン(C2H2F4);
HFC−134:1,1,2,2−テトラフルオロエタン(C2H2F4);
HCFC−142b:1−クロロ−1,1−ジフルオロエタン(C2H3F2Cl);
HFC−143a:1,1,1−トリフルオロエタン(C2H3F3);
HFC−152a:1,1−ジフルオロエタン(C2H4F2);
HFO−1132:1,2−ジフルオロエチレン(C2H2F2);
HFO−1141:フルオロエチレン(C2H3F);
HFO−1234yf:2,3,3,3−テトラフルオロプロペン(CH2=CF−CF3);
HFC−245cb:1,1,1,2,2−ペンタフルオロプロパン(CF3−CF2−CH3);
HFO−1234zeE:E−1,3,3,3−テトラフルオロプロペン(E−CF3−CH=CHF);
HFO−1234zeZ:Z−1,3,3,3−テトラフルオロプロペン(Z−CF3−CH=CHF);
HFO−1243zf:3,3,3−トリフルオロプロペン(CF3−CH=CH2);
HCFO−1233xf:3,3,3−トリフルオロ−2−クロロプロペン(CF3−CCl=CH2);
HCFO−1233zdE:E−3,3,3−トリフルオロ−1−クロロプロペン(E−CF3−CH=CHCl);
HCFO−1233zdZ:Z−3,3,3−トリフルオロ−1−クロロプロペン(Z−CF3−CH=CHCl);
HFO−1225yeZ:Z−1,1,1,2,3−ペンタフルオロプロペン(Z−CHF=CF−CF3);
HFO−1225yeE:E−1,1,1,2,3−ペンタフルオロプロペン(E−CHF=CF−CF3);
HFO−1225zc:1,1,3,3,3−ペンタフルオロプロペン(CF2=CH−CF3);
HFO−1225yc:1,1,2,3,3−ペンタフルオロプロペン(CF2=CF−CF2);
HCFC−1214:ジクロロテトラフルオロプロペン(C3F4Cl2);
HCFO−1215:クロロペンタフルオロプロペン(C3F5Cl);
HFO−1216:ヘキサフルオロプロペン(C3F6);
HCFO−1223:ジクロロトリフルオロプロペン(C3HF3Cl2);
HCFO−1224:クロロテトラフルオロプロペン(C3HF4Cl);
HCFO−1232:ジクロロジフルオロプロペン(C3H2F2Cl2);
HCFO−1233xc:1,1,3−トリフルオロ−2−クロロプロペン(CH2F−CCl=CF2);
HCFO−1233xe:1,3,3−トリフルオロ−2−クロロプロペン(CHF2−CCl=CHF);
HCFO−1233yb:1,2,3−トリフルオロ−1−クロロプロペン(CH2F−CF=CFCl);
HCFO−1233yc:1,1,2−トリフルオロ−3−クロロプロペン(CH2Cl−CF=CF2);
HCFO−1233yd:2,3,3−トリフルオロ−1−クロロプロペン(CHF2−CF=CHCl);
HCFO−1233ye:1,2,3−トリフルオロ−3−クロロプロペン(CHClF−CF=CHF);
HCFO−1233yf:2,3,3−トリフルオロ−3−クロロプロペン(CClF2−CF=CH2);
HCFO−1233zb:1,3,3−トリフルオロ−1−クロロプロペン(CHF2−CH=CFCl);
HCFO−1233zc:1,1,3−トリフルオロ−3−クロロプロペン(CHClF−CH=CF2);
HCFO−1233ze:1,3,3−トリフルオロ−3−クロロプロペン(CClF2−CH=CHF);
HFO−1234yc:1,1,2,3−テトラフルオロプロペン(CF2=CF−CH2F);
HFO−1234ye:1,2,3,3−テトラフルオロプロペン(CHF=CF−CHF2);
HFO−1234zc:1,1,3,3−テトラフルオロプロペン(CF2=CH−CHF2);
HCFO−1242:クロロジフルオロプロペン(C3H3F2Cl);
HFO−1243yc:1,1,2−トリフルオロプロペン(CH3−CF=CF2);
HFO−1243ye:1,2,3−トリフルオロプロペン(CH2F−CF=CHF);
HFO−1243yf:2,3,3−トリフルオロプロペン(CHF2−CF=CH2);
HFO−1243zc:1,1,3−トリフルオロプロペン(CH2F−CH=CF2);
HFO−1243ze:1,3,3−トリフルオロプロペン(CHF2−CH=CHF);
HCFO−1251:クロロフルオロプロペン(C3H4FCl);
HFO−1252:ジフルオロプロペン(C3H4F2);
HFO−216:ヘキサフルオロプロペン(C3F6Cl2);
HCFO−217:クロロヘプタフルオロプロパン(C3F7Cl);
HFC−218:オクタフルオロプロパン(C3F8);
HCFC−225:ジクロロペンタフルオロプロパン(C3HF5Cl2);
HCFC−226:クロロヘキサフルオロプロパン(C3HF6Cl);
HFC−227:ヘプタフルオロプロパン(C3HF7);
HCFC−234:ジクロロテトラフルオロプロパン(C3H2F4Cl2);
HCFC−235:クロロペンタフルオロプロパン(C3H2F5Cl);
HFC−236:ヘキサフルオロプロパン(C3H2F6);
HCFC−243:ジクロロトリフルオロプロパン(C3H3F3Cl2);
HCFC−244:クロロテトラフルオロプロパン(C3H3F4Cl);
HCFC−244bb:2−クロロ,1,1,1,2−テトラフルオロプロパン(CF3−CFCl−CH3);
HFC−245fa:1,1,1,3,3−ペンタフルオロプロパン(CF3−CH2−CHF2);
HFC−245ea:1,1,2,3,3−ペンタフルオロプロパン(CHF2−CHF−CHF2);
HFC−245eb:1,1,1,2,3−ペンタフルオロプロパン(CF3−CHF−CH2F);
HFC−245ca:1,1,2,2,3−ペンタフルオロプロパン(CHF2−CF2−CH2F);
HCFC−253:クロロトリフルオロプロパン(C3H4F3Cl);
HFC−254:テトラフルオロプロパン(C3H4F4);
HCFC−262:クロロジフルオロプロパン(C3H5F2Cl);
HFC−263:トリフルオロプロパン(C3H5F3);及び
トリフルオロプロピン(CF3−C≡CH)。
局面2:前記添加剤がラジカル掃去用添加剤である、局面1に従う組成物。
局面3:前記添加剤が希釈用添加剤である、局面1の組成物。
局面4:前記添加剤がハロゲン化炭化水素化合物である、局面1の組成物。
局面5:前記添加剤が有機金属化合物、有機リン化合物、ハロゲン化イオウ化合物又はモノ若しくはマルチスルフィド化合物である、局面1又は2のいずれかに従う組成物。
局面6:前記添加剤がリモネンオキシド、α−メチルスチレン、p−メトキシフェノール、4−t−ブチルカテコール又は2,6−ジ−t−ブチルフェノールである、局面1又は2のいずれかに従う組成物。
局面7:少なくとも2種の添加剤を含む、局面1〜6のいずれかに従う組成物。
局面8:少なくとも3種の添加剤を含む、局面1〜7のいずれかに従う組成物。
局面9:少なくとも2種の冷媒を含む、局面1〜8のいずれかに従う組成物。
局面10:少なくとも3種の冷媒を含む、局面1〜9のいずれかに従う組成物。
局面11:前記冷媒が格付2L、格付2又は格付3の冷媒である、局面1〜10のいずれかに従う組成物。
局面12:前記冷媒が格付2Lの冷媒である、局面1〜11のいずれかに従う組成物。
局面13:前記冷媒がR−32、HFO−1234yf、HFO−1234ze及びHFC−143a及びそれらの混合物の内の1種以上を含む、局面1〜11のいずれかに従う組成物。
局面14:1種以上の有機金属化合物及び1種以上の有機リン化合物を含む、局面1〜13のいずれかに従う組成物。
局面15:前記添加剤を約0.00001重量%〜約5重量%の範囲の量で存在させた、局面1〜14のいずれかに従う組成物。
局面16:前記添加剤を約0.00001重量%〜約1重量%の範囲の量で存在させた、局面1〜15のいずれかに従う組成物。
局面17:前記添加剤を約0.01重量%〜約1重量%の範囲の量で存在させた、局面1〜16のいずれかに従う組成物。
局面18:前記添加剤を約0.1重量%〜約0.6重量%の範囲の量で存在させた、局面1〜17のいずれかに従う組成物。
局面19:前記添加剤を約0.6重量%〜約2重量%の範囲の量で存在させた、局面1〜16のいずれかに従う組成物。
局面20:冷媒に添加剤を加えることを含む、冷媒中のラジカルを掃去する方法。
局面21:冷媒組成物における化学的に活性な火災を防止する方法であって、冷媒に添加剤を加えることを含み、前記添加剤がラジカル化学種を掃去する、前記方法。
局面22:冷媒及び添加剤を含む冷媒組成物であって、冷媒の可燃性下限(LFL)より少なくとも10%高い可燃性下限を有する、前記冷媒組成物。
局面23:冷媒のLFLより少なくとも15%高いLFLを有する、局面22に従う組成物。
局面24:冷媒のLFLより少なくとも20%高いLFLを有する、局面22又は23のいずれかに従う組成物。
局面25:冷媒のLFLより少なくとも30%高いLFLを有する、局面22〜24のいずれかに従う組成物。
局面26:冷媒のLFLより少なくとも40%高いLFLを有する、請求項22〜25のいずれかに従う組成物。
局面27:冷媒のLFLより少なくとも20%高いLFLを有する、局面22〜26のいずれかに従う組成物。
局面28:冷媒及び添加剤を含む冷媒組成物であって、該組成物が0.02m/秒未満の燃焼速度を有し、前記冷媒が0.02m/秒超の燃焼速度を有する、前記冷媒組成物。
局面29:該組成物が0.015m/秒未満の燃焼速度を有し、前記冷媒が0.02m/秒超の燃焼速度を有する、局面28に従う組成物。
局面30:該組成物が0.01m/秒未満の燃焼速度を有し、前記冷媒が0.02m/秒超の燃焼速度を有する、局面28又は29のいずれかに従う組成物。
局面31:該組成物が0.005m/秒未満の燃焼速度を有し、前記冷媒が0.02m/秒超の燃焼速度を有する、局面28〜30のいずれかに従う組成物。
Claims (30)
- 冷媒及び可燃性低下用添加剤を含む冷媒組成物。
- 前記添加剤がラジカル掃去用添加剤である、請求項1に記載の組成物。
- 前記添加剤が希釈用添加剤である、請求項1に記載の組成物。
- 前記添加剤がハロゲン化炭化水素化合物である、請求項1に記載の組成物。
- 前記添加剤が有機金属化合物、有機リン化合物、ハロゲン化イオウ化合物又はモノ若しくはマルチスルフィド化合物である、請求項1に記載の組成物。
- 前記添加剤がリモネンオキシド、α−メチルスチレン、p−メトキシフェノール、4−t−ブチルカテコール又は2,6−ジ−t−ブチルフェノールである、請求項1に記載の組成物。
- 少なくとも2種の添加剤を含む、請求項1に記載の組成物。
- 少なくとも3種の添加剤を含む、請求項1に記載の組成物。
- 少なくとも2種の冷媒を含む、請求項1に記載の組成物。
- 少なくとも3種の冷媒を含む、請求項1に記載の組成物。
- 前記冷媒が格付2L、格付2又は格付3の冷媒である、請求項1に記載の組成物。
- 前記冷媒が格付2Lの冷媒である、請求項1に記載の組成物。
- 前記冷媒がR−32、HFO−1234yf、HFO−1234ze及びHFC−143a及びそれらの混合物の内の1種以上を含む、請求項1に記載の組成物。
- 1種以上の有機金属化合物及び1種以上の有機リン化合物を含む、請求項1に記載の組成物。
- 前記添加剤を約0.00001重量%〜約5重量%の範囲の量で存在させた、請求項1に記載の組成物。
- 前記添加剤を約0.00001重量%〜約1重量%の範囲の量で存在させた、請求項1に記載の組成物。
- 前記添加剤を約0.01重量%〜約1重量%の範囲の量で存在させた、請求項1に記載の組成物。
- 前記添加剤を約0.1重量%〜約0.6重量%の範囲の量で存在させた、請求項1に記載の組成物。
- 前記添加剤を約0.6重量%〜約2重量%の範囲の量で存在させた、請求項1に記載の組成物。
- 冷媒に添加剤を加えることを含む、冷媒中のラジカルを掃去する方法。
- 冷媒組成物における化学的に活性な火災を防止する方法であって、冷媒に添加剤を加えることを含み、前記添加剤がラジカル化学種を掃去する、前記方法。
- 冷媒及び添加剤を含む冷媒組成物であって、冷媒の可燃性下限(LFL)より少なくとも10%高い可燃性下限を有する、前記冷媒組成物。
- 冷媒のLFLより少なくとも15%高いLFLを有する、請求項22に記載の組成物。
- 冷媒のLFLより少なくとも20%高いLFLを有する、請求項22に記載の組成物。
- 冷媒のLFLより少なくとも30%高いLFLを有する、請求項22に記載の組成物。
- 冷媒のLFLより少なくとも40%高いLFLを有する、請求項22に記載の組成物。
- 冷媒及び添加剤を含む冷媒組成物であって、該組成物が0.02m/秒未満の燃焼速度を有し、前記冷媒が0.02m/秒超の燃焼速度を有する、前記冷媒組成物。
- 該組成物が0.015m/秒未満の燃焼速度を有し、前記冷媒が0.02m/秒超の燃焼速度を有する、請求項27に記載の組成物。
- 該組成物が0.01m/秒未満の燃焼速度を有し、前記冷媒が0.02m/秒超の燃焼速度を有する、請求項27に記載の組成物。
- 該組成物が0.005m/秒未満の燃焼速度を有し、前記冷媒が0.02m/秒超の燃焼速度を有する、請求項27に記載の組成物。
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