JP2020507201A - フォトレジストのフォトルミネッセンスパッドを含む光電子デバイスの製造方法 - Google Patents
フォトレジストのフォトルミネッセンスパッドを含む光電子デバイスの製造方法 Download PDFInfo
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Abstract
Description
―フォトレジストが支持面上に予め堆積されており、フォトルミネッセンス粒子を含む少なくとも1つの前記フォトレジストからフォトリソグラフィによって前記複数のフォトルミネッセンスパッドを形成するステップと、
―横側面上の少なくとも1つの薄層部の堆積によって前記フォトルミネッセンスパッドの横側面を被覆する反射壁を形成するステップと、
を備える。
―第1のフォトレジストが前記支持面上に予め堆積されており、第1のフォトルミネッセンス粒子を含有する前記第1のフォトレジストからフォトリソグラフィによって複数の第1のフォトルミネッセンスパッドを形成するステップと、
―前記第1のフォトルミネッセンスパッド上の薄層をコンフォーマルに堆積することによって前記第1のフォトルミネッセンスパッドの横側面を被覆する第1の反射壁を形成し、次いで、第1のフォトルミネッセンスパッドの上面を解放するために局所的にエッチングするステップと、
―第2のフォトレジストが前記支持面上に予め堆積されており、第2のフォトルミネッセンス粒子が第1のフォトルミネッセンス粒子と異なり、前記第2のフォトルミネッセンス粒子を含有する第2のフォトレジストからフォトリソグラフィによって複数の第2のフォトルミネッセンスパッドを形成するステップと、
を含んでいてもよい。
―第1及び第2のフォトルミネッセンスパッド上の薄層をコンフォーマルに堆積することによって前記第2のフォトルミネッセンスパッドの横側面を被覆する第2の反射壁を形成し、次いで、第1及び第2のフォトルミネッセンスパッドの上面を解放するために局所的にエッチングするステップと、
を含んでいてもよい。
―支持層上に載置された発光ダイオードのマトリックスアレイと、
―それぞれ少なくともいくつかの前記発光ダイオードに対向配置されており、それぞれ第1のフォトルミネッセンス粒子を含む第1のフォトレジストから形成され、前記第1のフォトルミネッセンスパッドが第1の反射壁を形成する堆積された薄層部によって被覆された横側面を有する、複数の第1のフォトルミネッセンスパッドと、
―それぞれ少なくともいくつかの前記発光ダイオードに対向配置されており、それぞれ第1のフォトルミネッセンス粒子と異なる第2のフォトルミネッセンス粒子を含む第2のフォトレジストから形成され、前記第2のフォトルミネッセンスパッドが第2の反射壁を形成する堆積された薄層部によって被覆された横側面を有する、複数の第2のフォトルミネッセンスパッドと、
を含む。
Claims (17)
- 発光ダイオード(4)のマトリックスアレイと、それぞれ少なくとも前記発光ダイオード(4)のいくつかに対向配置されている複数のフォトルミネッセンスパッド(61、62、63・・・)と、を含む光電子デバイス(1)の製造方法であって、
〇フォトレジストが支持面(3;3')上に予め堆積されており、フォトルミネッセンス粒子を含む少なくとも1つの前記フォトレジスト(51、52、53・・・)からフォトリソグラフィによって前記複数のフォトルミネッセンスパッド(61、62、63・・・)を形成するステップと、
〇横側面(81、82、83・・・)上の少なくとも1つの薄層部(91、92、93・・・)の堆積によって前記フォトルミネッセンスパッド(61、62、63・・・)の横側面(81、82、83・・・)を被覆する反射壁(101、102、103・・・)を形成するステップと、
を備える光電子デバイスの製造方法。 - 反射壁(101、102、103・・・)を形成するステップが、フォトルミネッセンスパッド(61、62、63・・・)を被覆するように反射材料から作られた少なくとも1つの薄層(91、92、93・・・)をコンフォーマルに堆積するステップと、次いで、フォトルミネッセンスパッド(61、62、63・・・)の上面(71、72、73・・・)と呼ばれるものを解放するために堆積された薄層(91、92、93・・・)を局所的にエッチングするステップと、を含み、前記上面が前記支持面(3;3')の反対側に位置する、請求項1に記載の光電子デバイスの製造方法。
- 複数のフォトルミネッセンスパッド(61、62)を形成するステップ及び反射壁(101、102)を形成するステップが、
〇第1のフォトレジストが前記支持面(3;3')上に予め堆積されており、第1のフォトルミネッセンス粒子を含有する前記第1のフォトレジスト(51)からフォトリソグラフィによって複数の第1のフォトルミネッセンスパッド(61)を形成するステップと、
〇前記第1のフォトルミネッセンスパッド(61)上の薄層(91)をコンフォーマルに堆積することによって前記第1のフォトルミネッセンスパッド(61)の横側面(81)を被覆する第1の反射壁(101)を形成し、次いで、第1のフォトルミネッセンスパッド(61)の上面(71)を解放するために局所的にエッチングするステップと、
〇第2のフォトレジストが前記支持面(3;3')上に予め堆積されており、第2のフォトルミネッセンス粒子が第1のフォトルミネッセンス粒子と異なり、前記第2のフォトルミネッセンス粒子を含有する第2のフォトレジスト(52)からフォトリソグラフィによって複数の第2のフォトルミネッセンスパッド(62)を形成するステップと、
を含む、請求項2に記載の光電子デバイスの製造方法。 - 複数の第2のフォトルミネッセンスパッド(62)を形成するステップに続いて、
〇第1及び第2のフォトルミネッセンスパッド(61、62)上の薄層(92)をコンフォーマルに堆積することによって前記第2のフォトルミネッセンスパッド(62)の横側面(82)を被覆する第2の反射壁(102)を形成し、次いで、第1及び第2のフォトルミネッセンスパッド(61、62)の上面(71、72)を解放するために局所的にエッチングするステップと、
を含む、請求項3に記載の光電子デバイスの製造方法。 - 各第2のフォトルミネッセンスパッド(62)が少なくとも1つの第1の反射壁(101)と接触する、請求項3又は4に記載の光電子デバイスの製造方法。
- 各第1の反射壁(101)が、10nmから500nmまでの厚みを有する、請求項2〜5のいずれか一項に記載の光電子デバイスの製造方法。
- 複数のフォトルミネッセンスパッド(61、62、63)を形成するステップが、少なくとも第1のフォトルミネッセンス粒子を含有する複数の第1のフォトルミネッセンスパッド(61)を形成するステップと、次いで第1のフォトルミネッセンス粒子と異なる第2のフォトルミネッセンス粒子を含有する複数の第2のフォトルミネッセンスパッド(62)を形成するステップと、を含み、反射壁(101、102、103)を形成するステップが、少なくとも第1及び第2のフォトルミネッセンスパッド(61、62)を形成した後に行われる、請求項1に記載の光電子デバイスの製造方法。
- 反射壁(101、102、103)が電着によって形成される、請求項7に記載の光電子デバイスの製造方法。
- フォトルミネッセンス粒子が、量子ドットであり、平均サイズが50nm以下である、請求項1〜8のいずれか一項に記載の光電子デバイスの製造方法。
- 発光ダイオード(4)が、支持層(25、37)の主面に対して実質的に直交して長手方向に延びた細長い三次元構成要素である、請求項1〜9のいずれか一項に記載の光電子デバイスの製造方法。
- 発光ダイオード(4)がフォトレジストパッド(61、62、63)の内側に配置され、少なくともいくつかのフォトレジストパッド(61、62、63)がフォトルミネッセンス粒子を含むフォトルミネッセンスパッドである、請求項10に記載の光電子デバイスの製造方法。
- フォトルミネッセンスパッド(61、62、63)が、透過面と呼ばれる支持面(3)に載置され、前記支持面が発光ダイオード(4)を被覆するスペーサー層(12)によって形成される、請求項1〜10のいずれか一項に記載の光電子デバイスの製造方法。
- 〇支持層上に載置された発光ダイオード(4)のマトリックスアレイと、
〇それぞれ少なくともいくつかの前記発光ダイオード(4)に対向配置されており、それぞれ第1のフォトルミネッセンス粒子を含む第1のフォトレジスト(51)から形成され、第1のフォトルミネッセンスパッドが第1の反射壁(101)を形成する堆積された薄層部によって被覆された横側面(81)を有する、複数の第1のフォトルミネッセンスパッド(61)と、
〇それぞれ少なくともいくつかの前記発光ダイオード(4)に対向配置されており、それぞれ第1のフォトルミネッセンス粒子と異なる第2のフォトルミネッセンス粒子を含む第2のフォトレジスト(52)から形成され、第2のフォトルミネッセンスパッドが第2の反射壁(102)を形成する堆積された薄層部によって被覆された横側面(82)を有する、複数の第2のフォトルミネッセンスパッド(62)と、
を含む、光電子デバイス(1)。 - それぞれの第2のフォトルミネッセンスパッド(62)が、第1の反射壁(101)と接触する、請求項13に記載の光電子デバイス(1)。
- 発光ダイオード(4)が、支持層(25、37)に対して実質的に直交する長手方向の軸に沿って延びた細長い三次元構成要素である、請求項13又は14に記載の光電子デバイス(1)。
- 発光ダイオード(4)が、フォトレジストパッド(61、62)の内側に配置されている、請求項15に記載の光電子デバイス(1)。
- 発光ダイオード(4)が、メサ構造を有する、請求項14に記載の光電子デバイス(1)。
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