JP2020506546A5 - - Google Patents
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- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims 4
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Description
本発明の1つ以上の実施形態の詳細が、添付図面および下記の説明に記載される。本発明の他の特徴、側面、および利点も、説明、図面、および請求項から明白となるであろう。
本願明細書は、例えば、以下の項目も提供する。
(項目1)
光学層を構成するインプリントリソグラフィ方法であって、前記インプリントリソグラフィ方法は、
液滴の組が基板上に形成された機能的パターンに接触しないような様式で、前記基板の側面の上に液滴の組を堆積させることと、
前記液滴の組を硬化させ、前記基板の側面に関連付けられたスペーサ層を形成することと
を含み、
前記スペーサ層は、前記スペーサ層が、前記基板に隣接し、前記機能的パターンから間隔を置かれた位置で前記液滴の組に及ぶ表面を支持できるように選択された高さを有する、インプリントリソグラフィ方法。
(項目2)
前記液滴の組のうちの各液滴は、約1pL〜約100pLの体積を有する、項目1に記載のインプリントリソグラフィ方法。
(項目3)
ドロップオンデマンドプログラミング方式を生成することをさらに含む、項目1に記載のインプリントリソグラフィ方法。
(項目4)
印刷スクリーンを提供することをさらに含む、項目1に記載のインプリントリソグラフィ方法。
(項目5)
前記基板上に前記機能的パターンをインプリントすることをさらに含む、項目1に記載のインプリントリソグラフィ方法。
(項目6)
前記基板の前記側面の上に前記液滴の組を堆積させることは、前記基板の前記側面の上に重合性物質の液滴体積を分注することを含む、項目1に記載のインプリントリソグラフィ方法。
(項目7)
前記液滴の組は、液滴の第1の組であり、前記インプリントリソグラフィ方法は、
前記基板の側面の上に直接、前記液滴の第1の組のうちの各滴を堆積させることと、
前記基板の側面の上に直接、前記液滴の第1の組を硬化させることと
をさらに含む、項目1に記載のインプリントリソグラフィ方法。
(項目8)
前記液滴の第1の組のうちの各液滴は、約0.5μm〜約20.0μmの硬化高さを有する、項目7に記載のインプリントリソグラフィ方法。
(項目9)
前記液滴の第1の組が硬化させられた後、
前記基板の前記側面の上に液滴の第2の組を堆積させることであって、前記液滴の第2の組のうちの各液滴は、それぞれ、前記液滴の第1の組のうちの液滴の上に直接分注される、ことと、
前記液滴の第1の組の上に直接、前記液滴の第2の組を硬化させ、前記スペーサ層の高さを増加させることと
をさらに含む、項目7に記載のインプリントリソグラフィ方法。
(項目10)
前記液滴の第1の組における液滴の第1の数は、前記スペーサ層が一様な高さを有するように、前記液滴の第2の組における液滴の第2の数に等しい、項目9に記載のインプリントリソグラフィ方法。
(項目11)
前記液滴の第1の組における液滴の第1の数は、前記スペーサ層が可変高さを有するように、前記液滴の第2の組における液滴の第2の数に等しくない、項目9に記載のインプリントリソグラフィ方法。
(項目12)
前記スペーサ層は、楔形状を有する、項目11に記載のインプリントリソグラフィ方法。
(項目13)
前記機能的パターンは、前記基板の前記側面上にインプリントされる、項目1に記載のインプリントリソグラフィ方法。
(項目14)
前記機能的パターンは、前記基板の前記側面の内部領域に沿ってインプリントされ、前記インプリントリソグラフィ方法は、前記基板の前記側面の周辺縁に沿って前記液滴の組を堆積させることをさらに含む、項目13に記載のインプリントリソグラフィ方法。
(項目15)
前記基板の前記側面は、前記基板の第1の側面であり、前記機能的パターンは、前記基板の前記第1の側面の反対側である前記基板の第2の側面上にインプリントされる、項目1に記載のインプリントリソグラフィ方法。
(項目16)
前記基板の第1の側面の全体にわたって前記液滴の組を堆積させることをさらに含む、項目15に記載のインプリントリソグラフィ方法。
(項目17)
前記スペーサ層が前記基板と前記表面との間に間隙を形成するように、前記基板を前記液滴の組において前記基板に隣接する前記表面に取り付けることをさらに含む、項目1に記載のインプリントリソグラフィ方法。
(項目18)
前記間隙は、低屈折率領域を提供する、項目17に記載のインプリントリソグラフィ方法。
(項目19)
前記低屈折率領域は、1の屈折率を有する空気を備えている、項目18に記載のインプリントリソグラフィ方法。
(項目20)
1.3〜1.6の範囲の屈折率を有する重合性材料で前記間隙を充填することをさらに含む、項目17に記載のインプリントリソグラフィ方法。
(項目21)
光学層であって、前記光学層は、
基板と、
前記基板上に形成された機能的パターンと、
前記基板の側面上に配置され、前記機能的パターンから間隔を置かれた硬化させられた液滴の組と
を備え、
前記硬化させられた液滴の組は、前記基板の前記側面に関連付けられたスペーサ層を形成し、前記スペーサ層は、前記スペーサ層が、前記基板に隣接し、前記機能的パターンから間隔を置かれた位置で前記硬化させられた液滴の組に及ぶ表面を支持できるように選択された高さを有する、光学層。
本願明細書は、例えば、以下の項目も提供する。
(項目1)
光学層を構成するインプリントリソグラフィ方法であって、前記インプリントリソグラフィ方法は、
液滴の組が基板上に形成された機能的パターンに接触しないような様式で、前記基板の側面の上に液滴の組を堆積させることと、
前記液滴の組を硬化させ、前記基板の側面に関連付けられたスペーサ層を形成することと
を含み、
前記スペーサ層は、前記スペーサ層が、前記基板に隣接し、前記機能的パターンから間隔を置かれた位置で前記液滴の組に及ぶ表面を支持できるように選択された高さを有する、インプリントリソグラフィ方法。
(項目2)
前記液滴の組のうちの各液滴は、約1pL〜約100pLの体積を有する、項目1に記載のインプリントリソグラフィ方法。
(項目3)
ドロップオンデマンドプログラミング方式を生成することをさらに含む、項目1に記載のインプリントリソグラフィ方法。
(項目4)
印刷スクリーンを提供することをさらに含む、項目1に記載のインプリントリソグラフィ方法。
(項目5)
前記基板上に前記機能的パターンをインプリントすることをさらに含む、項目1に記載のインプリントリソグラフィ方法。
(項目6)
前記基板の前記側面の上に前記液滴の組を堆積させることは、前記基板の前記側面の上に重合性物質の液滴体積を分注することを含む、項目1に記載のインプリントリソグラフィ方法。
(項目7)
前記液滴の組は、液滴の第1の組であり、前記インプリントリソグラフィ方法は、
前記基板の側面の上に直接、前記液滴の第1の組のうちの各滴を堆積させることと、
前記基板の側面の上に直接、前記液滴の第1の組を硬化させることと
をさらに含む、項目1に記載のインプリントリソグラフィ方法。
(項目8)
前記液滴の第1の組のうちの各液滴は、約0.5μm〜約20.0μmの硬化高さを有する、項目7に記載のインプリントリソグラフィ方法。
(項目9)
前記液滴の第1の組が硬化させられた後、
前記基板の前記側面の上に液滴の第2の組を堆積させることであって、前記液滴の第2の組のうちの各液滴は、それぞれ、前記液滴の第1の組のうちの液滴の上に直接分注される、ことと、
前記液滴の第1の組の上に直接、前記液滴の第2の組を硬化させ、前記スペーサ層の高さを増加させることと
をさらに含む、項目7に記載のインプリントリソグラフィ方法。
(項目10)
前記液滴の第1の組における液滴の第1の数は、前記スペーサ層が一様な高さを有するように、前記液滴の第2の組における液滴の第2の数に等しい、項目9に記載のインプリントリソグラフィ方法。
(項目11)
前記液滴の第1の組における液滴の第1の数は、前記スペーサ層が可変高さを有するように、前記液滴の第2の組における液滴の第2の数に等しくない、項目9に記載のインプリントリソグラフィ方法。
(項目12)
前記スペーサ層は、楔形状を有する、項目11に記載のインプリントリソグラフィ方法。
(項目13)
前記機能的パターンは、前記基板の前記側面上にインプリントされる、項目1に記載のインプリントリソグラフィ方法。
(項目14)
前記機能的パターンは、前記基板の前記側面の内部領域に沿ってインプリントされ、前記インプリントリソグラフィ方法は、前記基板の前記側面の周辺縁に沿って前記液滴の組を堆積させることをさらに含む、項目13に記載のインプリントリソグラフィ方法。
(項目15)
前記基板の前記側面は、前記基板の第1の側面であり、前記機能的パターンは、前記基板の前記第1の側面の反対側である前記基板の第2の側面上にインプリントされる、項目1に記載のインプリントリソグラフィ方法。
(項目16)
前記基板の第1の側面の全体にわたって前記液滴の組を堆積させることをさらに含む、項目15に記載のインプリントリソグラフィ方法。
(項目17)
前記スペーサ層が前記基板と前記表面との間に間隙を形成するように、前記基板を前記液滴の組において前記基板に隣接する前記表面に取り付けることをさらに含む、項目1に記載のインプリントリソグラフィ方法。
(項目18)
前記間隙は、低屈折率領域を提供する、項目17に記載のインプリントリソグラフィ方法。
(項目19)
前記低屈折率領域は、1の屈折率を有する空気を備えている、項目18に記載のインプリントリソグラフィ方法。
(項目20)
1.3〜1.6の範囲の屈折率を有する重合性材料で前記間隙を充填することをさらに含む、項目17に記載のインプリントリソグラフィ方法。
(項目21)
光学層であって、前記光学層は、
基板と、
前記基板上に形成された機能的パターンと、
前記基板の側面上に配置され、前記機能的パターンから間隔を置かれた硬化させられた液滴の組と
を備え、
前記硬化させられた液滴の組は、前記基板の前記側面に関連付けられたスペーサ層を形成し、前記スペーサ層は、前記スペーサ層が、前記基板に隣接し、前記機能的パターンから間隔を置かれた位置で前記硬化させられた液滴の組に及ぶ表面を支持できるように選択された高さを有する、光学層。
Claims (36)
- 光学層を構成するインプリントリソグラフィ方法であって、前記インプリントリソグラフィ方法は、
液滴の第1の組が基板上に形成された機能的パターンに接触しないような様式で、前記基板の側面の上に前記液滴の第1の組を堆積させることと、
前記液滴の第1の組を硬化させ、前記基板の前記側面に関連付けられたスペーサ層の第1の部分を形成することと、
前記液滴の第1の組が硬化させられた後、前記基板の前記側面の上に液滴の第2の組を堆積させることであって、それにより、前記液滴の第2の組のうちの各液滴は、それぞれ、前記液滴の第1の組のうちの液滴の上に直接分注される、ことと、
前記液滴の第1の組の上に直接、前記液滴の第2の組を硬化させ、前記スペーサ層の高さを増加させる前記スペーサ層の第2の部分を形成することであって、それにより、前記スペーサ層は、前記基板に隣接し、かつ前記機能的パターンから間隔を置かれた位置で前記液滴の第1および第2の組に及ぶ表面を支持できる、ことと
を含み、
前記液滴の第1の組における液滴の第1の数は、前記スペーサ層の高さが可変であるように、前記液滴の第2の組における液滴の第2の数に等しくない、インプリントリソグラフィ方法。 - 前記液滴の第1および第2の組のうちの各液滴は、約1pL〜約100pLの体積を有する、請求項1に記載のインプリントリソグラフィ方法。
- ドロップオンデマンドプログラミング方式を生成することをさらに含む、請求項1に記載のインプリントリソグラフィ方法。
- 印刷スクリーンを提供することをさらに含む、請求項1に記載のインプリントリソグラフィ方法。
- 前記基板上に前記機能的パターンをインプリントすることをさらに含む、請求項1に記載のインプリントリソグラフィ方法。
- 前記基板の前記側面の上に前記液滴の第1および第2の組を堆積させることは、前記基板の前記側面の上に重合性物質の液滴体積を分注することを含む、請求項1に記載のインプリントリソグラフィ方法。
- 前記基板の前記側面の上に直接、前記液滴の第1の組のうちの各液滴を堆積させることと、
前記基板の前記側面の上に直接、前記液滴の第1の組を硬化させることと
をさらに含む、請求項1に記載のインプリントリソグラフィ方法。 - 前記液滴の第1の組のうちの各液滴は、約0.5μm〜約20.0μmの硬化高さを有する、請求項7に記載のインプリントリソグラフィ方法。
- 前記スペーサ層は、楔形状を有する、請求項1に記載のインプリントリソグラフィ方法。
- 前記機能的パターンは、前記基板の前記側面上にインプリントされる、請求項1に記載のインプリントリソグラフィ方法。
- 前記機能的パターンは、前記基板の前記側面の内部領域に沿ってインプリントされ、前記インプリントリソグラフィ方法は、前記基板の前記側面の周辺縁に沿って前記液滴の第1および第2の組を堆積させることをさらに含む、請求項10に記載のインプリントリソグラフィ方法。
- 前記基板の前記側面は、前記基板の第1の側面であり、前記機能的パターンは、前記基板の前記第1の側面の反対側である前記基板の第2の側面上にインプリントされる、請求項1に記載のインプリントリソグラフィ方法。
- 前記基板の前記第1の側面の全体にわたって前記液滴の第1および第2の組を堆積させることをさらに含む、請求項12に記載のインプリントリソグラフィ方法。
- 前記スペーサ層が前記基板と前記表面との間に間隙を形成するように、前記基板を前記液滴の第2の組において前記基板に隣接する前記表面に取り付けることをさらに含む、請求項1に記載のインプリントリソグラフィ方法。
- 前記間隙は、1の屈折率を有する空気を備える領域を提供する、請求項14に記載のインプリントリソグラフィ方法。
- 1.3〜1.6の範囲の屈折率を有する重合性材料で前記間隙を充填することをさらに含む、請求項14に記載のインプリントリソグラフィ方法。
- 重合性物質は、約0.5cP〜約500.0cPの範囲の粘度を有し、それにより、前記液滴の第1の組の上にそれぞれに堆積させられた前記液滴の第2の組から形成されたスペーサは、楕円体半円である形状を有する、請求項1に記載のインプリントリソグラフィ方法。
- 前記スペーサ層は、三日月形を有する、請求項1に記載のインプリントリソグラフィ方法。
- 光学層であって、前記光学層は、
基板と、
前記基板上に形成された機能的パターンと、
前記基板の側面上に配置され、前記機能的パターンから間隔を置かれたスペーサの組と
を備え、
前記スペーサの組は、前記基板の前記側面に関連付けられたスペーサ層を形成し、前記スペーサ層は、前記スペーサ層が、前記基板に隣接し、かつ前記機能的パターンから間隔を置かれた位置で液滴の硬化させられた組に及ぶ表面を支持できるように選択された高さを有し、
前記スペーサの組は、
硬化させられた液滴の第1の組と、
前記硬化させられた液滴の第1の組の上に堆積させられた硬化させられた液滴の第2の組であって、それにより、前記液滴の第2の組のうちの各液滴は、それぞれ、前記液滴の第1の組のうちの液滴の上に直接支持されている、硬化させられた液滴の第2の組と
を備え、
前記硬化させられた液滴の第1の組における液滴の第1の数は、前記スペーサ層の高さが可変であるように、前記硬化させられた液滴の第2の組における液滴の第2の数に等しくない、光学層。 - 光学層を構成するインプリントリソグラフィ方法であって、前記インプリントリソグラフィ方法は、
液滴の組が、基板に接触するが、前記基板上に形成された機能的パターンに接触しないような様式で、前記基板の側面に沿って前記基板の上に前記液滴の組を堆積させることと、
前記液滴の組を硬化させ、前記基板の前記側面に関連付けられたスペーサ層を形成することであって、前記スペーサ層は、前記スペーサ層が、前記基板に隣接し、かつ前記機能的パターンから間隔を置かれた位置で前記液滴の組に及ぶ表面を支持できるように選択された高さを有し、ことと
を含み、
前記液滴の組は、液滴の第1の組であり、前記インプリントリソグラフィ方法は、
前記基板の前記側面の上に直接、前記液滴の第1の組のうちの各滴を堆積させることと、
前記基板の前記側面の上に直接、前記液滴の第1の組を硬化させることと、
前記基板の前記側面の上に液滴の第2の組を堆積させることであって、それにより、前記液滴の第2の組のうちの各液滴は、それぞれ、前記液滴の第1の組のうちの液滴の上に直接分注される、ことと、
前記液滴の第1の組の上に直接、前記液滴の第2の組を硬化させ、前記スペーサ層の高さを増加させることと
をさらに含み、
前記液滴の第1の組における液滴の第1の数は、前記スペーサ層が可変高さを有するように、前記液滴の第2の組における液滴の第2の数に等しくない、インプリントリソグラフィ方法。 - 前記液滴の組のうちの各液滴は、約1pL〜約100pLの体積を有する、請求項20に記載のインプリントリソグラフィ方法。
- ドロップオンデマンドプログラミング方式を生成することをさらに含む、請求項20に記載のインプリントリソグラフィ方法。
- 印刷スクリーンを提供することをさらに含む、請求項20に記載のインプリントリソグラフィ方法。
- 前記基板上に前記機能的パターンをインプリントすることをさらに含む、請求項20に記載のインプリントリソグラフィ方法。
- 前記基板上に前記液滴の組を堆積させることは、前記基板の前記側面の上に、前記基板上に直接、重合性物質の液滴体積を分注することを含む、請求項20に記載のインプリントリソグラフィ方法。
- 前記液滴の第1の組のうちの各液滴は、約0.5μm〜約20.0μmの硬化高さを有する、請求項20に記載のインプリントリソグラフィ方法。
- 前記スペーサ層は、楔形状を有する、請求項20に記載のインプリントリソグラフィ方法。
- 前記機能的パターンは、前記基板の前記側面上にインプリントされる、請求項20に記載のインプリントリソグラフィ方法。
- 前記機能的パターンは、前記基板の前記側面の内部領域に沿ってインプリントされ、前記インプリントリソグラフィ方法は、前記基板の前記側面の周辺縁に沿って前記液滴の組を堆積させることをさらに含む、請求項28に記載のインプリントリソグラフィ方法。
- 前記基板の前記側面は、前記基板の第1の側面であり、前記機能的パターンは、前記基板の前記第1の側面の反対側である前記基板の第2の側面上にインプリントされる、請求項20に記載のインプリントリソグラフィ方法。
- 前記基板の前記第1の側面の全体にわたって前記液滴の組を堆積させることをさらに含む、請求項30に記載のインプリントリソグラフィ方法。
- 前記スペーサ層が前記基板と前記表面との間に間隙を形成するように、前記基板を前記液滴の組において前記基板に隣接する前記表面に取り付けることをさらに含む、請求項20に記載のインプリントリソグラフィ方法。
- 前記間隙は、約1.0〜約1.2の範囲の屈折率を有する低屈折率領域を提供する、請求項20に記載のインプリントリソグラフィ方法。
- 前記低屈折率領域は、空気を備えている、請求項33に記載のインプリントリソグラフィ方法。
- 前記低屈折率領域は、1の屈折率を有する、請求項33に記載のインプリントリソグラフィ方法。
- 光学層であって、前記光学層は、
基板と、
前記基板上に形成された機能的パターンと、
前記基板の側面に沿って前記基板上に配置された液滴の第1の硬化させられた組であって、それにより、前記液滴の第1の硬化させられた組は、前記基板に接触し、前記機能的パターンから間隔を置かれており、前記液滴の第1の硬化させられた組は、前記基板の前記側面に関連付けられたスペーサ層を形成し、前記スペーサ層は、前記スペーサ層が、前記基板に隣接し、前記機能的パターンから間隔を置かれた位置で前記液滴の第1の硬化させられた組に及ぶ表面を支持できるように選択された高さを有する、液滴の第1の硬化させられた組と、
前記基板の前記側面上の液滴の第2の硬化させられた組であって、それにより、前記液滴の第2の硬化させられた組のうちの各液滴は、前記液滴の第1の硬化させられた組のうちの硬化させられた液滴の上に直接にあり、それによって前記液滴の第1の硬化させられた組に対して前記スペーサ層の高さを増加させる、液滴の第2の硬化させられた組と
を備え、
前記硬化させられた液滴の第1の組における液滴の数は、前記スペーサ層が可変高さを有するように、前記液滴の第2の硬化させられた組における液滴の第2の数に等しくない、光学層。
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