JP2020506532A - 積層体を形成するための方法および積層体 - Google Patents
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Abstract
Description
− 電気を伝導することができる第1の層を形成するステップと、
− 第1の層上に関心層を形成するステップであって、前記関心層は少なくとも1つの自由体積を含む、ステップと、
− 少なくとも1つの修復要素を形成するステップであって、各修復要素は、関心自由体積と呼ばれる自由体積を少なくとも部分的に充填し、修復要素は、少なくとも1つの絶縁層を含み、第1の層の反対側で、かつ前記少なくとも1つの自由体積の外側に位置する、関心層の上表面を自由にしておく、ステップと、
− 関心層上に、電気を伝導することができる第2の層を形成するステップであって、第2の層は、修復要素および自由表面を覆う、ステップと
を含み、修復要素を形成するステップは、以下のステップ、すなわち、
− 関心層上に、関心自由体積内に少なくとも部分的に延在する緩衝層を形成するステップと、
− 関心自由体積内に位置する緩衝層の少なくとも一部分を充填層で覆うステップであって、前記緩衝層および充填層は、異なる材料から作られている、ステップと
を含む、積層体を製造するための方法である。
− 修復層の自由表面を出現させるように、過剰の充填層を除去するステップと、
− 活性層の自由表面を出現させるように、過剰の緩衝層を除去するステップと
を含む。
− 電気を伝導することができる第1の層と、
− 少なくとも1つの自由体積を含む、関心層と、
− 関心自由体積と呼ばれる自由体積を少なくとも部分的に充填し、絶縁材料で作られた少なくとも1つの層を含み、前記少なくとも1つの自由体積の外側に位置する関心層の上表面を自由にしておく、修復要素と、
− 修復要素および上表面を覆う、電気を伝導することができる第2の層と
を連続して含み、修復要素は、緩衝層と、関心体積内に位置する緩衝層の一部分を少なくとも部分的に覆う充填層とを含み、緩衝層および充填層は異なる材料から作られている、積層体に関する。
− 緩衝層4が関心自由体積30内に少なくとも部分的に延在するように、活性層3上に緩衝層4を形成するステップ111と、
− 関心体積30内に位置する緩衝層4の少なくとも一部分を覆う、いわゆる充填層5を形成するステップ112とを含む。図の実施形態で、充填層は緩衝層4を完全に覆う。
− 緩衝層4の自由表面41を自由体積30の外側に出現させるように、かつ有利には充填層5の残りの部分を残すように、過剰の充填層5を除去するステップ113と、
− 関心層3の自由表面31を出現させ、かつ緩衝層4の残りの部分を残すように、過剰の緩衝層4を除去するステップ114と
を含む。
− 電気を伝導することができる第1の層2と、
− 自由体積30を含む関心層3であって、関心自由体積と呼ばれる、自由体積の少なくとも1つは、修復要素7を用いて少なくとも部分的に充填される、関心層3と、
− 修復要素と任意の自由体積30の外側の関心層の区域とを覆う、電気を伝導することができる第2の層20と
を連続して含む積層体を含む積層体に関する。
Claims (21)
- 積層体(100)を製造するための方法であって、以下のステップ:
− 電気を伝導することができる第1の層(2)を形成するステップ(101)と、
− 前記第1の層(2)上に関心層(3)を形成するステップ(102)であって、前記関心層(3)は少なくとも1つの自由体積を含む、ステップ(102)と、
− 少なくとも1つの修復要素(7)を形成するステップであって、各修復要素は、関心自由体積と呼ばれる自由体積を少なくとも部分的に充填し、前記修復要素(7)は、少なくとも1つの絶縁層を含み、前記第1の層(2)の反対側で、かつ前記少なくとも1つの自由体積の外側に位置する、前記関心層(3)の上表面(31)を自由にしておく、ステップと、
− 前記関心層(3)上に、電気を伝導することができる第2の層(20)を形成するステップ(104)であって、前記第2の層(20)は、前記修復要素(7)および前記自由表面(31)を覆う、ステップ(104)と、
を含み、
前記修復要素(7)を形成する前記ステップは、以下のステップ:
− 前記関心層(3)上に、前記関心自由体積(30)内に少なくとも部分的に延在する緩衝層(4)を形成するステップ(111)と、
− 前記関心体積(30)内に位置する前記緩衝層(4)の少なくとも一部分を充填層(5)で覆うステップ(112)であって、前記緩衝層(4)および前記充填層(5)は、異なる材料から作られている、ステップ(112)と、
を含む、積層体(100)を製造するための方法。 - 前記充填層(5)は、少なくとも1つの関心自由体積(30)に浸透する、請求項1に記載の積層体を製造するための方法。
- 前記緩衝層(4)は、前記関心層(3)と前記充填層(5)との間のいかなる物理的接触も防ぐ、請求項1または2に記載の積層体を製造するための方法。
- 前記関心層(3)の前記自由表面(31)を出現させるように、かつ前記関心自由体積内に前記緩衝層(4)の残部を残すように、過剰の前記緩衝層(4)および過剰の前記充填層(5)を除去するステップ(113、114)をさらに含む、請求項3に記載の積層体を製造するための方法。
- 前記充填層(5)は、少なくとも1つの関心自由体積(30)に浸透し、前記除去ステップは、前記関心自由体積内に前記充填層(5)の残部を残すように実行され、前記残部は、前記緩衝層(4)の前記残部を少なくとも部分的に覆う、請求項4に記載の積層体を製造するための方法。
- 前記緩衝層(4)は、絶縁材料で作られた層である、請求項1〜5のいずれか一項に記載の積層体(100)を製造するための方法。
- 前記緩衝層(4)を形成する前記ステップは、導電材料で作られた層を堆積させるステップと、前記導電材料で作られた層を酸化させる第1のステップと、を含む、請求項1〜5のいずれか一項に記載の積層体を製造するための方法。
- 前記過剰の前記緩衝層(4)および前記充填層(5)を除去する前記ステップの後に、前記緩衝層(4)の前記残部の自由表面を酸化させる第2のステップが続く、請求項7に記載の積層体を製造するための方法。
- 前記充填層(5)は絶縁性である、請求項1〜8のいずれか一項に記載の積層体を製造するための方法。
- 前記充填層(5)は電気を伝導することができる、請求項1〜8のいずれか一項に記載の積層体を製造するための方法。
- 前記積層体の積層方向(z)における、前記緩衝層(4)の厚さと前記自由体積(30)の外側での前記充填層(5)の厚さとの合計は、前記自由体積(30)の外側での前記関心層(3)の公称厚さe以上である、請求項1〜10のいずれか一項に記載の積層体を製造するための方法。
- 前記緩衝層(4)は絶縁性金属酸化物である、請求項1〜11のいずれか一項に記載の積層体を製造するための方法。
- 前記充填層(5)は、SU−8タイプのレジストであるか、またはパリレンで作られている、請求項1〜12のいずれか一項に記載の積層体を製造するための方法。
- 前記緩衝層(4)は真空蒸着される、請求項1〜13のいずれか一項に記載の積層体を製造するための方法。
- 前記緩衝層(4)は、原子層堆積によって堆積される、請求項14に記載の積層体を製造するための方法。
- 前記充填層(5)は、湿式処理によって堆積される、請求項1〜15のいずれか一項に記載の積層体を製造するための方法。
- 前記除去ステップは、以下のステップ:
− 前記修復層(4)の自由表面(41)を出現させるように、前記過剰の前記充填層(5)を除去するステップ(113)と、
− 前記活性層(3)の前記自由表面(31)を出現させるように、前記過剰の前記緩衝層(4)を除去するステップ(114)と、
を含む、請求項2または請求項2に従属する請求項3〜16のいずれか一項に記載の積層体を製造するための方法。 - 前記過剰の前記緩衝層(4)を除去する前記ステップは、前記関心層(3)を攻撃することなく前記緩衝層(4)を除去することを可能にする選択的除去ステップを含む、請求項17に記載の積層体を製造するための方法。
- 前記過剰の前記充填層(5)を除去する前記ステップは、前記緩衝層(4)を除去することなく前記充填層(5)を除去することを可能にする選択的除去ステップを含む、請求項17または18に記載の積層体を製造するための方法。
- 前記自由体積は欠陥である、請求項1〜19のいずれか一項に記載の積層体を製造するための方法。
- 積層体であって、
− 電気を伝導することができる第1の層(2)と、
− 少なくとも1つの自由体積(30)を含む関心層(3)と、
− 関心自由体積(30)と呼ばれる自由体積を少なくとも部分的に充填し、絶縁材料で作られた少なくとも1つの層を含み、前記少なくとも1つの自由体積の外側に位置する前記関心層(3)の上表面(31)を自由にしておく、修復要素(7)と、
− 前記修復要素(7)および前記上表面(31)を覆う、電気を伝導することができる第2の層(20)と、
を連続して含み、前記修復要素(7)は、緩衝層と、前記関心体積(30)内に位置する前記緩衝層の一部分を少なくとも部分的に覆う充填層と、を含み、前記緩衝層および前記充填層は異なる材料から作られている、積層体。
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