JP2020188059A - キャビティ付き配線板の製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
(1)図6(A)に示されるように、コア基板11に、例えば、ドリル加工等によってスルーホール13Aが形成される。なお、コア基板11は、エポキシ樹脂又はBT(ビスマレイミドトリアジン)樹脂とガラスクロスなどの補強材からなる絶縁性基材11Kの表側面であるF面11Fと裏側面であるB面11Bとに、図示しない銅箔がラミネートされてなる。
(1)図13(A)に示されるように、キャビティ30の底面として露出するプレーン層31Aに接着層33が積層されると共に、接着層33上に電子部品80が載置され、熱硬化処理、CZ処理が行われる。
(1)上記実施形態では、キャビティ30の外周部R1を形成する前に、外周部R1の内側部分(凹部55)を形成していたが、キャビティ30の外周部R1を形成した後に、外周部R1の内側部分を形成してもよい。
15 ビルドアップ絶縁層
16 ビルドアップ導体層
30 キャビティ
31A プレーン層
32B 導体回路層
34 保護層
50 円弧部
55 凹部
61 レーザ照射部
62 マスク
80 電子部品
100 電子部品内蔵配線板
Claims (7)
- 導体回路層及びプレーン層を形成する導体層の上に絶縁層を積層することと、
前記絶縁層を貫通して前記プレーン層を底面として露出させるキャビティを形成すること、とを含むキャビティ付き配線板の製造方法であって、
前記キャビティの形成は、前記絶縁層上にレーザを所定のピッチずつずらしながら照射することによって行い、
前記レーザの加工径を、前記キャビティの外周部を形成する際よりも、前記キャビティのうち前記外周部により囲まれた内側部分を形成する際に大きくする。 - 請求項1に記載のキャビティ付き配線板の製造方法であって、
前記キャビティの前記外周部を形成する際の前記ピッチを、前記キャビティの前記内側部分を形成する際の前記ピッチよりも小さくする。 - 請求項1又は2に記載のキャビティ付き配線板の製造方法であって、
前記キャビティを形成するにあたり、前記キャビティの前記内側部分を形成してから、前記キャビティの前記外周部を形成する。 - 請求項1から3のうち何れか1の請求項に記載のキャビティ付き配線板であって、
前記キャビティの前記外周部の形成と、前記キャビティの前記内側部分の形成と、を共通のレーザ照射で行う。 - 請求項1から4のうち何れか1の請求項に記載のキャビティ付き配線板の製造方法であって、
前記キャビティの外周部を形成する際に、前記ピッチを前記加工径の20〜80%とする。 - 請求項1から4のうち何れか1の請求項に記載のキャビティ付き配線板の製造方法であって、
前記キャビティの前記内側部分を形成する際に、前記ピッチを前記加工径の20〜80%とする。 - 請求項1から6のうち何れか1の請求項に記載のキャビティ付き配線板の製造方法であって、
前記キャビティを形成するにあたり、前記レーザの加工径をマスクにより変更する。
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