JP2020187333A5 - - Google Patents

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Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7751484B2 (ja) * 2021-12-27 2025-10-08 キヤノン株式会社 露光装置及び物品の製造方法
CN114839843A (zh) * 2022-07-04 2022-08-02 上海传芯半导体有限公司 一种投影式光刻机的光源结构、投影式光刻机及光刻工艺

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2884950B2 (ja) * 1992-10-09 1999-04-19 株式会社ニコン 投影露光装置、露光方法および半導体集積回路の製造方法
JPH1012524A (ja) 1996-06-24 1998-01-16 Mitsubishi Electric Corp 露光装置および露光方法
JP3646757B2 (ja) * 1996-08-22 2005-05-11 株式会社ニコン 投影露光方法及び装置
US7030966B2 (en) 2003-02-11 2006-04-18 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and method for optimizing an illumination source using photolithographic simulations
US6964032B2 (en) * 2003-02-28 2005-11-08 International Business Machines Corporation Pitch-based subresolution assist feature design
JP2008181980A (ja) * 2007-01-23 2008-08-07 Canon Inc 照明装置の光強度分布の調整方法及び評価方法、照明装置、露光装置及びデバイス製造方法
JP2009152251A (ja) * 2007-12-18 2009-07-09 Canon Inc 露光装置、露光方法及びデバイス製造方法
JP5513325B2 (ja) * 2010-09-01 2014-06-04 キヤノン株式会社 決定方法、露光方法及びプログラム
JP6674250B2 (ja) 2015-12-16 2020-04-01 キヤノン株式会社 露光装置、露光方法、および物品の製造方法
JP2018054992A (ja) * 2016-09-30 2018-04-05 キヤノン株式会社 照明光学系、露光装置、及び物品の製造方法

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