JP2020179508A - インプリント用モールドおよび当該インプリント用モールドの製造方法並びに撮像素子製造方法 - Google Patents
インプリント用モールドおよび当該インプリント用モールドの製造方法並びに撮像素子製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2020179508A JP2020179508A JP2019081734A JP2019081734A JP2020179508A JP 2020179508 A JP2020179508 A JP 2020179508A JP 2019081734 A JP2019081734 A JP 2019081734A JP 2019081734 A JP2019081734 A JP 2019081734A JP 2020179508 A JP2020179508 A JP 2020179508A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- forming
- imprint mold
- pattern
- imprint
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 25
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 title description 3
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 49
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 49
- 238000000465 moulding Methods 0.000 claims abstract description 48
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 20
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 35
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 13
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 7
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 6
- 238000011161 development Methods 0.000 claims description 3
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims description 3
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 abstract description 3
- 239000010408 film Substances 0.000 description 29
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 10
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 8
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 6
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 5
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 3
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical class C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 229930195735 unsaturated hydrocarbon Natural products 0.000 description 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 150000002118 epoxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
- Shaping Of Tube Ends By Bending Or Straightening (AREA)
Abstract
Description
2 非パターン部
2a 凹部
3 遮光膜
6 レジストパターン
9 モールド
10 基板
11 薄膜
31 膜
32 マスク
50 基板
51 撮像素子
52 電極
55 光硬化性樹脂
91 反転パターン
100 インプリント用モールド
Claims (13)
- 複数のレンズを一括で形成するための成型面を有するインプリント用モールドであって、
前記成型面に形成され前記レンズを形成するための複数のパターン部と、
前記成型面に形成され、当該成型面に対して垂直でない表面によって前記パターン部ごとの外縁を形成する非パターン部と、
前記非パターン部の表面を覆い、所定波長の光を透過しない材料からなる遮光膜と、
を具備することを特徴とするインプリント用モールド。 - 前記非パターン部には、前記成型面に垂直でない表面で構成された凹部を有することを特徴とする請求項1記載のインプリント用モールド。
- 前記非パターン部は、前記外縁側に前記成型面と平行な表面を有することを特徴とする請求項1又は2記載のインプリント用モールド。
- 前記非パターン部は、前記成型面に対する傾斜角が80度以下であることを特徴とする請求項1ないし3のいずれかに記載のインプリント用モールド。
- 複数のレンズを一括で形成するための成型面を有するインプリント用モールドの製造方法であって、
前記レンズを形成するための複数のパターン部と、前記成型面に対して垂直でない表面によって前記パターン部ごとの外縁を形成する非パターン部とを基板の表面に形成するパターン形成工程と、
前記非パターン部の表面に、所定波長の光を透過しない遮光膜を形成する遮光膜形成工程と、
を有することを特徴とするインプリント用モールドの製造方法。 - 前記パターン形成工程は、前記非パターン部に、前記成型面に垂直でない表面で構成された凹部を形成するものであることを特徴とする請求項5記載のインプリント用モールドの製造方法。
- 前記パターン形成工程は、前記非パターン部の前記外縁側に前記成型面と平行な表面を形成するものであることを特徴とする請求項5又は6記載のインプリント用モールドの製造方法。
- 前記パターン形成工程は、前記成型面に対する傾斜角が80度以下となるように前記非パターン部の表面を形成するものであることを特徴とする請求項5ないし7のいずれかに記載のインプリント用モールドの製造方法。
- 前記遮光膜形成工程は、スパッタリングで前記遮光膜を形成するものであることを特徴とする請求項5ないし8のいずれかに記載のインプリント用モールドの製造方法。
- 撮像素子と電極が複数形成された基板上に所定波長の光によって硬化する樹脂であって硬化後の樹脂が前記撮像素子の使用帯域光に対して透明である光硬化性樹脂を塗布する塗布工程と、
複数のレンズを一括で形成するための成型面を有するインプリント用モールドであって、前記成型面に形成され前記レンズを形成するための複数のパターン部と、前記成型面に形成され、当該成型面に対して垂直でない表面によって前記パターン部ごとの外縁を形成する非パターン部と、前記非パターン部の表面を覆い、所定波長の光を透過しない材料からなる遮光膜と、を備えるインプリント用モールドを用い、当該インプリント用モールドの前記パターン部を前記撮像素子上に配置すると共に、前記非パターン部を前記電極上に配置する位置合わせ工程と、
前記インプリント用モールドを前記光硬化性樹脂に加圧し、当該インプリント用モールドを介して散乱光を照射して前記光硬化性樹脂を硬化させてレンズを形成するインプリント成形工程と、
現像により未硬化の前記光硬化性樹脂を除去する現像工程と、
を有することを特徴とする撮像素子用レンズ製造方法。 - 前記インプリント用モールドは、前記非パターン部に、前記成型面に垂直でない表面で構成された凹部を有し、
前記位置合わせ工程では、前記凹部を前記電極上に配置するものであることを特徴とする請求項10記載の撮像素子用レンズ製造方法。 - 前記インプリント用モールドは、前記非パターン部の前記外縁側に前記成型面と平行な表面を有することを特徴とする請求項10又は11記載の撮像素子用レンズ製造方法。
- 前記インプリント用モールドは、前記成型面に対する前記非パターン部の傾斜角が80度以下であることを特徴とする請求項10ないし12のいずれかに記載の撮像素子用レンズ製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019081734A JP7267589B2 (ja) | 2019-04-23 | 2019-04-23 | インプリント用モールドおよび当該インプリント用モールドの製造方法並びに撮像素子製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019081734A JP7267589B2 (ja) | 2019-04-23 | 2019-04-23 | インプリント用モールドおよび当該インプリント用モールドの製造方法並びに撮像素子製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2020179508A true JP2020179508A (ja) | 2020-11-05 |
JP7267589B2 JP7267589B2 (ja) | 2023-05-02 |
Family
ID=73022950
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019081734A Active JP7267589B2 (ja) | 2019-04-23 | 2019-04-23 | インプリント用モールドおよび当該インプリント用モールドの製造方法並びに撮像素子製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7267589B2 (ja) |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007103924A (ja) * | 2005-09-06 | 2007-04-19 | Canon Inc | モールド、インプリント装置および構造体の製造方法 |
JP2019014112A (ja) * | 2017-07-05 | 2019-01-31 | ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 | 半導体装置の製造方法、および、金型 |
-
2019
- 2019-04-23 JP JP2019081734A patent/JP7267589B2/ja active Active
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007103924A (ja) * | 2005-09-06 | 2007-04-19 | Canon Inc | モールド、インプリント装置および構造体の製造方法 |
JP2019014112A (ja) * | 2017-07-05 | 2019-01-31 | ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 | 半導体装置の製造方法、および、金型 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP7267589B2 (ja) | 2023-05-02 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US11774851B2 (en) | Methods and apparatus for creating a large area imprint without a seam | |
JP4262271B2 (ja) | インプリント方法、インプリント装置および構造体の製造方法 | |
JP2000194142A (ja) | パタ―ン形成方法及び半導体装置の製造方法 | |
TWI399620B (zh) | 立體光阻微結構的製作方法 | |
KR102089835B1 (ko) | 필름 마스크, 이의 제조방법 및 이를 이용한 패턴 형성 방법 | |
JPH11326603A (ja) | マイクロレンズアレイ及びその製造方法並びに表示装置 | |
JP5182097B2 (ja) | 光導波路モジュールの製造方法 | |
JP2009190300A (ja) | インプリント法 | |
JP2007094168A5 (ja) | ||
JP2011060843A (ja) | 光硬化樹脂の特性試験装置、その試験装置で使用する保持具、特性試験方法 | |
JP2004106320A (ja) | 微細表面構造をもつ物品の製造方法 | |
JP4371777B2 (ja) | 樹脂硬化方法及び樹脂成型品の製造方法 | |
US20080229950A1 (en) | Seamless imprint roller and method of making | |
JPH05228946A (ja) | 光学部品の製造法および光学部品複製用母型 | |
JP2010271465A (ja) | 遮光膜付マイクロレンズアレイの製造方法、製造装置、及び遮光膜付マイクロレンズアレイ | |
JP7267589B2 (ja) | インプリント用モールドおよび当該インプリント用モールドの製造方法並びに撮像素子製造方法 | |
US8946866B2 (en) | Microelectronic substrate having removable edge extension element | |
JP2003142399A (ja) | 半導体デバイス製造におけるパターン転写方法 | |
CN111971590B (zh) | 树脂层叠光学体及其制造方法 | |
CN113573877B (zh) | 晶圆对准特征 | |
US12005658B2 (en) | Yard control features | |
KR20130028180A (ko) | 소프트 마스크 및 롤 금형의 제작 방법 및 이에 이용되는 노광 장치 | |
CN112415861A (zh) | 一种曝光方法及系统 | |
KR101551772B1 (ko) | Scil 공정용 레플리카 스탬프 및 이의 제조방법 | |
CN114829987A (zh) | 超透镜的添加式制造 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20220420 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20230118 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20230124 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20230323 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20230404 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20230413 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7267589 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |