JP2020178068A5 - - Google Patents
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Description
例えば、第3化合物部材33は、第1半導体領域12aの一部と接する。例えば、第1絶縁領域41aは、第1半導体領域12aの別の一部と接する。
導電部材54は、第3電極53と電気的に接続される。導電部材54は、第1導電部分54A及び第2導電部分54Bを含む。第2方向(Z軸方向)において、第3部分領域11cと第1導電部分54Aとの間に、第3電極53がある。第2導電部分54Bは、第1導電部分54Aと接続される。第1導電部分54Aから第2導電部分54Bへの方向は、第1方向(X軸方向)に沿う。
第2絶縁部分42bは、Z軸方向において、第2半導体層12の一部(例えば、第2半導体領域12b)と、第5化合物部材35の一部と、の間にある。第2絶縁部分42bにより、第2絶縁部分42bの下部分において、キャリア領域10Eが形成されにくくなる。例えば、電界の集中をより緩和できる。例えば、しきい値電圧を適度に上昇させることができる。例えば、ノーマリオンの動作が得やすくなる。
Claims (1)
- Aly2Ga1-y2N(0<y2≦1、x2<y2)を含む第2化合物部材をさらに備え、
前記第2半導体層は、第4半導体領域をさらに含み、
前記第4半導体領域は、前記第2方向において、前記第2部分領域と前記第2電極との間にあり、
前記第2化合物部材は、複数の第2化合物部分を含み、前記複数の第2化合物部分は、前記第4半導体領域と前記第2電極との間にあり、前記複数の第2化合物部分の1つと、前記複数の第2化合物部分の別の1つと、の間に、前記第2電極の一部がある、請求項1~5のいずれか1つに記載の半導体装置。
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