JP2020172009A - Dressing tool - Google Patents

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Abstract

To provide a dressing tool that can appropriately determine whether or not a dressing board is abraded to a thickness in which the board can no longer be used.SOLUTION: A dressing tool, which dresses a plurality of grinding stones arranged annularly at one surface side pf a grinding wheel, comprises a dressing part for dressing the grinding stones and a support part for supporting a rear side of the dressing part. At the rear side of the dressing part is formed a recessed part not reaching a surface positioned at the opposite side of the rear side of the dressing part and having a depth corresponding to a thickness in which the dressing part can no longer be used.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、研削ホイールの砥石をドレッシングするために使用されるドレッシング工具に関する。 The present invention relates to a dressing tool used to dress a grinding wheel grindstone.

表面側に複数のデバイスが形成されているウェーハを各デバイスに対応するチップに分割する場合の加工方法として、例えば、ウェーハの裏面側を研削した後、ウェーハを切削ブレードで切削して分割する方法がある。 As a processing method for dividing a wafer in which a plurality of devices are formed on the front surface side into chips corresponding to each device, for example, a method of grinding the back surface side of the wafer and then cutting the wafer with a cutting blade to divide the wafer. There is.

ウェーハの研削は、例えば、研削用の砥石(研削砥石)を備える研削ホイールを装着した研削装置で行われる。研削装置の保持テーブルでウェーハを保持して、回転させた研削ホイールをウェーハの被加工面に押し付けることでウェーハは研削される(例えば、特許文献1参照)。 Grinding of a wafer is performed, for example, by a grinding device equipped with a grinding wheel equipped with a grinding wheel (grinding wheel) for grinding. The wafer is ground by holding the wafer on the holding table of the grinding device and pressing the rotated grinding wheel against the surface to be processed of the wafer (see, for example, Patent Document 1).

上述の研削砥石は、例えば、ビトリファイドやレジノイド等の結合材に、ダイヤモンドやcBN(cubic boron nitride)等の砥粒を混合し、焼結することで形成される。この研削砥石でウェーハを研削すると、研削砥石の表面(即ち、研削面)から突出した多数の砥粒がそれぞれ切れ刃として作用し、ウェーハの被加工面は削り取られる。 The above-mentioned grinding wheel is formed by, for example, mixing abrasive grains such as diamond and cBN (cubic boron nitride) with a binder such as vitrify and resinoid and sintering the grinding wheel. When a wafer is ground with this grinding wheel, a large number of abrasive grains protruding from the surface (that is, the grinding surface) of the grinding wheel act as cutting edges, and the work surface of the wafer is scraped off.

研削の進行と共に研削砥石も摩耗し、ウェーハの被加工面と接触する研削砥石の表面には新たな砥粒が次々に現れる。この作用(自生発刃作用などと呼ばれる)によって、砥粒の目こぼれ、目詰まり、目つぶれ等による研削性能の低下を抑制し、良好な切削加工が実現される。 As the grinding progresses, the grinding wheel also wears, and new abrasive grains appear one after another on the surface of the grinding wheel that comes into contact with the work surface of the wafer. By this action (called a self-generated blade action or the like), deterioration of grinding performance due to spillage, clogging, clogging, etc. of abrasive grains is suppressed, and good cutting work is realized.

ところで、未使用の研削砥石は、研削砥石の表面から砥粒が適切に突出しておらず、また、研削砥石の研削面の高さにもばらつきがある。そこで、ウェーハの研削前に、研削砥石をドレッシングボード(ドレッサーボードとも呼ばれる)で目立て処理することにより、砥粒を覆っている結合材を部分的に除去して研削砥石の表面から砥粒を適切に突出させるドレッシング工程を行う(例えば、特許文献2参照)。 By the way, in the unused grinding wheel, the abrasive grains do not properly protrude from the surface of the grinding wheel, and the height of the grinding surface of the grinding wheel also varies. Therefore, before grinding the wafer, the grinding wheel is sharpened with a dressing board (also called a dresser board) to partially remove the binder covering the abrasive grains and appropriately remove the abrasive grains from the surface of the grinding wheel. A dressing step is performed (see, for example, Patent Document 2).

ドレッシングボードは、例えば、1mmから5mm程度の厚さで形成されており、その裏面側には樹脂製の支持プレートが接着剤等を介して固定されている。このドレッシングボードは、研削砥石の目立て処理と共に摩耗し、所定の厚さまで薄くなると交換される。例えば、ドレッシングボードの交換時期は、ドレッシングボードの厚さを目視することで判断される。 The dressing board is formed, for example, with a thickness of about 1 mm to 5 mm, and a resin support plate is fixed to the back surface side thereof via an adhesive or the like. This dressing board wears with the sharpening process of the grinding wheel and is replaced when it becomes thin to a predetermined thickness. For example, the time to replace the dressing board is determined by visually observing the thickness of the dressing board.

特開2000−288881号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2000-288881 特開2009−142906号公報JP-A-2009-142906

しかしながら、上述した目視等の方法では、必ずしもドレッシングボードの交換時期を適切に判断することができない。仮に、使用限界の厚さまで摩耗したドレッシングボードを交換せずに使用して研削砥石が支持プレートを研削した場合、研削砥石が損傷する恐れがある。 However, it is not always possible to properly determine when to replace the dressing board by the above-mentioned visual method or the like. If the grinding wheel grinds the support plate using the dressing board worn to the thickness limit of use without replacing it, the grinding wheel may be damaged.

本発明は係る問題点に鑑みてなされたものであり、ドレッシングボードが使用限界の厚さまで摩耗したか否かを適切に判断できるドレッシング工具を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a dressing tool capable of appropriately determining whether or not a dressing board has been worn to a thickness limit of use.

本発明の一態様によれば、研削ホイールの一面側に環状に配列された複数の研削砥石をドレッシングするドレッシング工具であって、該研削砥石をドレッシングするドレッシング部と、該ドレッシング部の裏面側を支持する支持部と、を備え、該ドレッシング部の該裏面側には、該ドレッシング部の該裏面とは反対側に位置する表面に達せず、且つ、該ドレッシング部の使用限界の厚さに対応する深さの凹部が設けられている、ドレッシング工具が提供される。 According to one aspect of the present invention, a dressing tool for dressing a plurality of grinding wheels arranged in an annular shape on one surface side of a grinding wheel, the dressing portion for dressing the grinding wheels and the back surface side of the dressing portion. A support portion for supporting is provided, and the back surface side of the dressing portion does not reach the surface surface of the dressing portion opposite to the back surface, and corresponds to the thickness of the use limit of the dressing portion. A dressing tool is provided that is provided with a recess of a depth to be provided.

好ましくは、該ドレッシング部の該凹部は、該ドレッシング部を該裏面側から見た場合に直線状に設けられている。また、好ましくは、該ドレッシング部の該凹部は、該ドレッシング部を該裏面側から見た場合に該ドレッシング部の中心よりも外周側に設けられている。 Preferably, the recess of the dressing portion is provided linearly when the dressing portion is viewed from the back surface side. Further, preferably, the recess of the dressing portion is provided on the outer peripheral side of the center of the dressing portion when the dressing portion is viewed from the back surface side.

また、好ましくは、該ドレッシング部の該凹部は、該ドレッシング部を該裏面側から見た場合に環状に設けられている。また、好ましくは、該ドレッシング部の該凹部は、第1の深さを有する第1の凹部と、該第1の深さよりも深い第2の深さを有する第2の凹部とを含む。また、好ましくは、該凹部の深さ方向で、該第1の凹部と該第2の凹部とは重なっている。 Further, preferably, the recess of the dressing portion is provided in an annular shape when the dressing portion is viewed from the back surface side. Further, preferably, the recess of the dressing portion includes a first recess having a first depth and a second recess having a second depth deeper than the first depth. Further, preferably, the first recess and the second recess overlap in the depth direction of the recess.

本発明の一態様に係るドレッシング工具は、研削砥石をドレッシングするドレッシング部と、ドレッシング部の裏面側を支持する支持部と、を備える。ドレッシング部の裏面側には、ドレッシング部の表面に達せず、且つ、ドレッシング部の使用限界の厚さに対応する深さの凹部が設けられている。 The dressing tool according to one aspect of the present invention includes a dressing portion for dressing the grinding wheel and a support portion for supporting the back surface side of the dressing portion. On the back surface side of the dressing portion, a recess is provided that does not reach the surface of the dressing portion and has a depth corresponding to the thickness of the use limit of the dressing portion.

ドレッシングボードが研削砥石の目立て処理と共に摩耗し、所定の厚さまで薄くなると、ドレッシング部の表面側には凹部が表れるので、目視であってもドレッシング部が使用限界の厚さまで摩耗したと判断できる。それゆえ、ドレッシング工具が使用限界に達したタイミングを適切に判断できる。 When the dressing board is worn along with the sharpening treatment of the grinding wheel and becomes thin to a predetermined thickness, a recess appears on the surface side of the dressing portion, so that it can be visually determined that the dressing portion has been worn to the thickness limit of use. Therefore, the timing when the dressing tool reaches the usage limit can be appropriately determined.

図1(A)は第1実施形態に係るドレッシング工具の斜視図であり、図1(B)は第1実施形態に係るドレッシング工具のA−A断面図である。FIG. 1A is a perspective view of the dressing tool according to the first embodiment, and FIG. 1B is a sectional view taken along the line AA of the dressing tool according to the first embodiment. ドレッシング工具の使用状態を示す側面図である。It is a side view which shows the use state of a dressing tool. 使用限界に達したドレッシング工具のA−A断面図である。It is a cross-sectional view of AA of the dressing tool which reached the use limit. 図4(A)は第2実施形態に係るドレッシング工具の斜視図であり、図4(B)は第2実施形態に係るドレッシング工具のB−B断面図である。FIG. 4A is a perspective view of the dressing tool according to the second embodiment, and FIG. 4B is a sectional view taken along line BB of the dressing tool according to the second embodiment. 図5(A)は第3実施形態に係るドレッシング工具の斜視図であり、図5(B)は第3実施形態に係るドレッシング工具のC−C断面図である。FIG. 5A is a perspective view of the dressing tool according to the third embodiment, and FIG. 5B is a sectional view taken along line CC of the dressing tool according to the third embodiment. 図6(A)は第4実施形態に係るドレッシング工具の斜視図であり、図6(B)は第4実施形態に係るドレッシング工具のD−D断面図である。FIG. 6A is a perspective view of the dressing tool according to the fourth embodiment, and FIG. 6B is a cross-sectional view taken along the line DD of the dressing tool according to the fourth embodiment. 図7(A)は第1実施形態の第1変形例に係るドレッシング工具のA−A断面図であり、図7(B)は第2実施形態の第1変形例に係るドレッシング工具のB−B断面図であり、図7(C)は第3実施形態の第1変形例に係るドレッシング工具のC−C断面図であり、図7(D)は第4実施形態の第1変形例に係るドレッシング工具のD−D断面図である。FIG. 7A is a sectional view taken along the line AA of the dressing tool according to the first modification of the first embodiment, and FIG. 7B is a sectional view taken along line B-A of the dressing tool according to the first modification of the second embodiment. B cross-sectional view, FIG. 7 (C) is a CC cross-sectional view of the dressing tool according to the first modification of the third embodiment, and FIG. 7 (D) is a first modification of the fourth embodiment. It is a DD sectional view of the dressing tool. 図8(A)は第1実施形態の第2変形例に係るドレッシング工具のA−A断面図であり、図8(B)は第2実施形態の第2変形例に係るドレッシング工具のB−B断面図であり、図8(C)は第3実施形態の第2変形例に係るドレッシング工具のC−C断面図であり、図8(D)は第4実施形態の第2変形例に係るドレッシング工具のD−D断面図である。FIG. 8A is a sectional view taken along the line AA of the dressing tool according to the second modification of the first embodiment, and FIG. 8B is a cross-sectional view taken along the line B-A of the dressing tool according to the second modification of the second embodiment. B cross-sectional view, FIG. 8C is a CC cross-sectional view of the dressing tool according to the second modification of the third embodiment, and FIG. 8D is a second modification of the fourth embodiment. It is a DD sectional view of the dressing tool.

以下、添付図面を参照して、本発明の実施の形態について説明する。図1(A)は、第1実施形態に係るドレッシング工具2の斜視図であり、図1(B)は、第1実施形態に係るドレッシング工具2のA−A断面図である。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. FIG. 1A is a perspective view of the dressing tool 2 according to the first embodiment, and FIG. 1B is a sectional view taken along the line AA of the dressing tool 2 according to the first embodiment.

図1(A)に示す様に、第1実施形態に係るドレッシング工具2は、平坦な円盤状に形成されたドレッシングボード(ドレッシング部)4を有する。なお、ドレッシングボード4の形状は、円盤状に限定されない。ドレッシングボード4の形状は、矩形の板状であってもよい。 As shown in FIG. 1A, the dressing tool 2 according to the first embodiment has a dressing board (dressing portion) 4 formed in a flat disk shape. The shape of the dressing board 4 is not limited to the disk shape. The shape of the dressing board 4 may be a rectangular plate.

ドレッシングボード4の裏面4bには、ドレッシングボード4を支持する支持プレート(支持部)6の表面6aが接着されている。支持プレート6は、ドレッシングボード4の全体を支持できる様に、ドレッシングボード4より大きな径の円盤状に形成されている。支持プレート6は、例えば、樹脂で形成されている。 The front surface 6a of the support plate (support portion) 6 that supports the dressing board 4 is adhered to the back surface 4b of the dressing board 4. The support plate 6 is formed in a disk shape having a diameter larger than that of the dressing board 4 so that the entire dressing board 4 can be supported. The support plate 6 is made of, for example, a resin.

ドレッシングボード4は、例えば、ビトリファイド、レジノイド等の結合材にホワイトアランダム(WA)、グリーンカーボン(GC)等の砥粒が混合された混合材料を用いて形成される。ただし、ドレッシングボード4を構成する結合材及び砥粒は、研削砥石26の構成等に応じて変更される。 The dressing board 4 is formed by using, for example, a mixed material in which abrasive grains such as white random (WA) and green carbon (GC) are mixed with a binder such as vitrify and resinoid. However, the binder and abrasive grains constituting the dressing board 4 are changed according to the configuration of the grinding wheel 26 and the like.

ドレッシングボード4は、例えば、3mmから5mmの厚さを有する。ドレッシングボード4の裏面4b側には凹部8が設けられている。凹部8は、概略円柱状の空間から成る穴であり、図1(B)のA−A断面に示す様に、ドレッシングボード4の裏面4b側の略中央部に設けられている。 The dressing board 4 has a thickness of, for example, 3 mm to 5 mm. A recess 8 is provided on the back surface 4b side of the dressing board 4. The recess 8 is a hole formed of a substantially columnar space, and is provided at a substantially central portion on the back surface 4b side of the dressing board 4 as shown in the AA cross section of FIG. 1 (B).

なお、図1(B)のA−A断面は、ドレッシングボード4の円形の表面4a(即ち、裏面4bとは反対側に位置する面)の中心を通り表面4aに垂直な平面で、ドレッシングボード4及び支持プレート6を切断した切断面である。 The AA cross section of FIG. 1B is a plane that passes through the center of the circular surface 4a of the dressing board 4 (that is, the surface located on the opposite side of the back surface 4b) and is perpendicular to the surface 4a. It is a cut surface which cut 4 and the support plate 6.

凹部8は、裏面4bから表面4aまで達しない所定の深さまで形成されている。凹部8の深さは、ドレッシングボード4が使用限界の厚さまで摩耗すると、ドレッシングボード4の表面4a側に凹部8が表れる様に(即ち、ドレッシングボード4の使用限界の厚さに対応する様に)調整されている。 The recess 8 is formed to a predetermined depth that does not reach the front surface 4a from the back surface 4b. The depth of the recess 8 is such that when the dressing board 4 is worn to the thickness of the limit of use, the recess 8 appears on the surface 4a side of the dressing board 4 (that is, corresponding to the thickness of the limit of use of the dressing board 4). ) It has been adjusted.

例えば、ドレッシングボード4の使用限界の厚さが400μmと設定されている場合に、凹部8の深さは、裏面4bから400μmの深さに調整される。但し、ドレッシングボード4の使用限界の厚さと、凹部8の深さとは、400μmに限定されず、種々の値に定めることができる。 For example, when the thickness of the dressing board 4 is set to 400 μm, the depth of the recess 8 is adjusted to a depth of 400 μm from the back surface 4b. However, the thickness of the dressing board 4's use limit and the depth of the recess 8 are not limited to 400 μm, and can be set to various values.

ドレッシングボード4が研削砥石26の目立て処理と共に摩耗し、所定の厚さまで薄くなると、ドレッシングボード4の表面には凹部8が現れる。それゆえ、作業者は、目視であってもドレッシングボード4が使用限界の厚さまで摩耗したか否かを判断できるので、ドレッシング工具2が使用限界に達したタイミングを適切に判断できる。 When the dressing board 4 is worn together with the sharpening treatment of the grinding wheel 26 and becomes thin to a predetermined thickness, a recess 8 appears on the surface of the dressing board 4. Therefore, since the operator can visually determine whether or not the dressing board 4 has been worn to the thickness of the use limit, the timing at which the dressing tool 2 reaches the use limit can be appropriately determined.

上述したドレッシングボード4は、従来のドレッシングボードの製造方法に類似する製造方法で製造できる。例えば、まず、上述した混合材料を成形し、平坦な円盤状の成形体を形成する。但し、成形時に、成形体の円形の一面の中央部には、凹部8に対応する穴を形成する。その後、成形体を焼結させることで、凹部8を有するドレッシングボード4を製造できる。 The dressing board 4 described above can be manufactured by a manufacturing method similar to the conventional dressing board manufacturing method. For example, first, the above-mentioned mixed material is molded to form a flat disk-shaped molded product. However, at the time of molding, a hole corresponding to the recess 8 is formed in the central portion of one circular surface of the molded body. After that, the dressing board 4 having the recess 8 can be manufactured by sintering the molded body.

なお、成形体に凹部8に対応する穴を形成せずに、焼結体に凹部8に対応する穴を形成してもよい。例えば、混合材料を平坦な円盤状に成形した後、成形体を焼結する。その後、円盤状の焼結体を切削して凹部8を形成する。これにより、凹部8を有するドレッシングボード4を製造できる。 It should be noted that the hole corresponding to the recess 8 may be formed in the sintered body without forming the hole corresponding to the recess 8 in the molded body. For example, after molding the mixed material into a flat disk shape, the molded body is sintered. After that, the disk-shaped sintered body is cut to form the recess 8. As a result, the dressing board 4 having the recess 8 can be manufactured.

次に、第1実施形態のドレッシング工具2を使用する研削砥石26のドレッシング工程について説明する。図2は、ドレッシング工具2の使用状態を示す側面図である。図2に示す様に、ドレッシング工程で使用される研削装置12は、スピンドル14を回転可能に支持する円筒状のスピンドルハウジング16を備える。 Next, the dressing process of the grinding wheel 26 using the dressing tool 2 of the first embodiment will be described. FIG. 2 is a side view showing a usage state of the dressing tool 2. As shown in FIG. 2, the grinding apparatus 12 used in the dressing step includes a cylindrical spindle housing 16 that rotatably supports the spindle 14.

スピンドルハウジング16は、移動機構(不図示)を介して研削装置12の支持柱(不図示)に取り付けられており、上下方向に移動する。スピンドル14の下端側には、研削ホイール18を装着するホイールマウント20が固定されている。 The spindle housing 16 is attached to a support column (not shown) of the grinding device 12 via a moving mechanism (not shown) and moves in the vertical direction. A wheel mount 20 for mounting the grinding wheel 18 is fixed to the lower end side of the spindle 14.

スピンドル14の上端側にはモータ等を含む回転機構22が連結されている。ホイールマウント20には、研削ホイール18が装着されており、この研削ホイール18は、回転機構22から伝達される回転力で回転する。 A rotation mechanism 22 including a motor and the like is connected to the upper end side of the spindle 14. A grinding wheel 18 is mounted on the wheel mount 20, and the grinding wheel 18 rotates by a rotational force transmitted from the rotating mechanism 22.

研削ホイール18は、アルミニウム、ステンレス等の金属材料で形成された円筒状のホイール基台24を備える。ホイールマウント20とは反対側のホイール基台24の一面は円環状に形成されており、この円環状の一面の周方向沿って複数の研削砥石26が固定されている。つまり、ホイール基台24の一面側には、複数の研削砥石26が環状に配置されている。 The grinding wheel 18 includes a cylindrical wheel base 24 made of a metal material such as aluminum or stainless steel. One surface of the wheel base 24 on the opposite side of the wheel mount 20 is formed in an annular shape, and a plurality of grinding wheels 26 are fixed along the circumferential direction of one surface of the annular shape. That is, a plurality of grinding wheels 26 are arranged in an annular shape on one surface side of the wheel base 24.

ホイールマウント20の下方には、保持テーブル28が設けられている。保持テーブル28は、モータ等の駆動機構(不図示)と連結されており、スピンドル14の軸方向に対して平行な回転軸の周りに回転する。 A holding table 28 is provided below the wheel mount 20. The holding table 28 is connected to a drive mechanism (not shown) such as a motor, and rotates around a rotation axis parallel to the axial direction of the spindle 14.

保持テーブル28の表面28aは、ウェーハ等の被加工物を吸引保持する保持面となっている。保持面には、保持テーブル28の内部に形成された流路(不図示)を通じてエジェクタ等の吸引源(不図示)の負圧が作用し、被加工物を吸引する吸引力が発生する。 The surface 28a of the holding table 28 is a holding surface for sucking and holding an workpiece such as a wafer. A negative pressure of a suction source (not shown) such as an ejector acts on the holding surface through a flow path (not shown) formed inside the holding table 28, and a suction force for sucking the workpiece is generated.

この保持テーブル28に、支持プレート6の裏面6b側を吸着させた状態で、研削ホイール18と保持テーブル28とを回転させ、スピンドルハウジング16を下降させる。ドレッシングボード4の表面4aに研削砥石26を押し付ける様にスピンドルハウジング16の下降量を調節すれば、研削砥石26はドレッシングボード4によりドレッシングされる。 With the back surface 6b side of the support plate 6 attracted to the holding table 28, the grinding wheel 18 and the holding table 28 are rotated to lower the spindle housing 16. If the amount of lowering of the spindle housing 16 is adjusted so as to press the grinding wheel 26 against the surface 4a of the dressing board 4, the grinding wheel 26 is dressed by the dressing board 4.

図3は、使用限界に達したドレッシング工具2のA−A断面図である。上述した研削砥石26のドレッシングによりドレッシングボード4が摩耗すると、ドレッシングボード4は徐々に薄くなる。ドレッシングボード4が使用限界の厚さまで摩耗すると、ドレッシングボード4の表面4a側には凹部8が表れる。 FIG. 3 is a sectional view taken along the line AA of the dressing tool 2 which has reached the usage limit. When the dressing board 4 is worn by the dressing of the grinding wheel 26 described above, the dressing board 4 gradually becomes thinner. When the dressing board 4 is worn to the thickness limit of use, a recess 8 appears on the surface 4a side of the dressing board 4.

以上の様に、第1実施形態のドレッシング工具2には、ドレッシングボード4の使用限界の厚さに対応する深さの凹部8が設けられている。それゆえ、ドレッシングボード4が使用限界の厚さまで摩耗したか否かを、ドレッシングボード4の表面4a側に凹部8が表れたか否かに基づいて判断できる。 As described above, the dressing tool 2 of the first embodiment is provided with a recess 8 having a depth corresponding to the thickness of the use limit of the dressing board 4. Therefore, it can be determined whether or not the dressing board 4 has been worn to the thickness of the use limit based on whether or not the recess 8 appears on the surface 4a side of the dressing board 4.

例えば、表面4a側に凹部8が表れているか否かを識別する場合、ドレッシング工程の終了後に、ドレッシング工具2は、保持テーブル28からカセット(不図示)へ搬送されるので、作業者は、カセットへ搬送された静止状態のドレッシングボード4の表面4a側を観察する。これにより、作業者は、表面4a側に凹部8が表れているか否かを識別できる。 For example, when identifying whether or not the recess 8 appears on the surface 4a side, the dressing tool 2 is conveyed from the holding table 28 to the cassette (not shown) after the dressing step is completed, so that the operator can use the cassette. Observe the surface 4a side of the stationary dressing board 4 transported to. Thereby, the operator can identify whether or not the recess 8 appears on the surface 4a side.

また、作業者は、ドレッシング工具2が保持テーブル28で保持され且つ回転している状態(即ち、ドレッシング工程中)のドレッシングボード4の表面4a側を観察してもよい。このように、回転状態のドレッシングボード4を目視することによっても、表面4a側に凹部8が表れているか否かを識別可能である。 Further, the operator may observe the surface 4a side of the dressing board 4 in a state where the dressing tool 2 is held by the holding table 28 and is rotating (that is, during the dressing process). In this way, it is possible to identify whether or not the recess 8 appears on the surface 4a side by visually observing the dressing board 4 in the rotating state.

なお、表面4a側に凹部8が表れているか否かを識別する主体は、必ずしも作業者に限定されない。例えば、表面4a側を撮像するカメラと、カメラで撮像された画像から表面4a側に凹部8が表れているか否かを判定するCPU等の判定部とを備える判定装置が、表面4a側に凹部8が表れているか否かを自動で識別してもよい。 The main body that identifies whether or not the recess 8 appears on the surface 4a side is not necessarily limited to the operator. For example, a determination device including a camera that images the surface 4a side and a determination unit such as a CPU that determines whether or not a recess 8 appears on the surface 4a side from an image captured by the camera has a recess on the surface 4a side. You may automatically identify whether or not 8 appears.

ところで、凹部8の形状は、種々変更することができる。第1実施形態のドレッシングボード4の凹部8は、概略円柱状の穴であるが、凹部8の形状は、円柱状の穴に限定されない。 By the way, the shape of the recess 8 can be changed in various ways. The recess 8 of the dressing board 4 of the first embodiment is a substantially columnar hole, but the shape of the recess 8 is not limited to the columnar hole.

図4(A)は、第2実施形態に係るドレッシング工具2の斜視図であり、図4(B)は、第2実施形態に係るドレッシング工具2のB−B断面図である。図4(A)及び図4(B)に示す様に、第2実施形態のドレッシングボード4の裏面4b側には、凹部8aが設けられている。凹部8aは、ドレッシングボード4の径方向に長手部を有する直線状の溝である。 FIG. 4A is a perspective view of the dressing tool 2 according to the second embodiment, and FIG. 4B is a sectional view taken along line BB of the dressing tool 2 according to the second embodiment. As shown in FIGS. 4 (A) and 4 (B), a recess 8a is provided on the back surface 4b side of the dressing board 4 of the second embodiment. The recess 8a is a linear groove having a longitudinal portion in the radial direction of the dressing board 4.

より具体的には、凹部8aは、ドレッシングボード4を裏面4b側から見た場合に、円形の裏面4bの中心Оを通る直線状に形成されており、凹部8aの長手方向の長さが円形の裏面4bの直径と略同じとなる様に形成されている。但し、凹部8aは、裏面4bから見た場合に、裏面4bの中心Oを通らない直線状に形成されてもよい。 More specifically, the recess 8a is formed in a straight line passing through the center О of the circular back surface 4b when the dressing board 4 is viewed from the back surface 4b side, and the length of the recess 8a in the longitudinal direction is circular. It is formed so as to be substantially the same as the diameter of the back surface 4b of the above. However, the recess 8a may be formed in a straight line that does not pass through the center O of the back surface 4b when viewed from the back surface 4b.

凹部8aは、裏面4bから表面4aまで至らない所定の深さまで形成されている。凹部8aの深さは、ドレッシングボード4が使用限界の厚さまで摩耗すると、研削砥石26と接触するドレッシングボード4の表面4a側に凹部8aが表れる様に調整されている。 The recess 8a is formed to a predetermined depth that does not reach the front surface 4a from the back surface 4b. The depth of the recess 8a is adjusted so that when the dressing board 4 is worn to the thickness of the usage limit, the recess 8a appears on the surface 4a side of the dressing board 4 that comes into contact with the grinding wheel 26.

それゆえ、第2実施形態でも、作業者等は、ドレッシングボード4の表面4a側に凹部8が表れたか否かに基づいて、ドレッシングボード4が使用限界の厚さまで摩耗したか否かを判断できる。 Therefore, even in the second embodiment, the operator or the like can determine whether or not the dressing board 4 has been worn to the thickness of the use limit based on whether or not the recess 8 appears on the surface 4a side of the dressing board 4. ..

更に、凹部8aは中心Oを通る直線状に形成されているので、ドレッシングボード4が回転している場合に、凹部8aは表面4a側の全体に視認される。これに対して、第1実施形態の様に凹部8の中心位置が中心Oに設けられている場合、ドレッシングボード4が回転すると、凹部8は表面4aにおいて円形の点として視認される。 Further, since the recess 8a is formed in a straight line passing through the center O, the recess 8a is visible on the entire surface 4a side when the dressing board 4 is rotating. On the other hand, when the center position of the recess 8 is provided at the center O as in the first embodiment, when the dressing board 4 rotates, the recess 8 is visually recognized as a circular point on the surface 4a.

この様に、第2実施形態では、ドレッシングボード4が回転している場合に凹部8aが表面4a側に表れると、第1実施形態に比べて広い範囲で凹部8aを観察できるので、凹部8aが表面4a側に表れたか否かを第1実施形態に比べてより容易に識別できる。 As described above, in the second embodiment, when the recess 8a appears on the surface 4a side when the dressing board 4 is rotating, the recess 8a can be observed in a wider range than in the first embodiment, so that the recess 8a is formed. Whether or not it appears on the surface 4a side can be more easily identified as compared with the first embodiment.

図5(A)は、第3実施形態に係るドレッシング工具2の斜視図であり、図5(B)は第3実施形態に係るドレッシング工具2のC−C断面図である。図5(A)及び図5(B)に示す様に、第3実施形態のドレッシングボード4の裏面4b側には凹部8bが設けられている。凹部8bは、ドレッシングボード4を裏面4b側から見た場合に、円形の裏面4bの中心Оよりも外側に設けられた概略円柱状の穴である。 FIG. 5A is a perspective view of the dressing tool 2 according to the third embodiment, and FIG. 5B is a sectional view taken along line CC of the dressing tool 2 according to the third embodiment. As shown in FIGS. 5A and 5B, a recess 8b is provided on the back surface 4b side of the dressing board 4 of the third embodiment. The recess 8b is a substantially columnar hole provided outside the center О of the circular back surface 4b when the dressing board 4 is viewed from the back surface 4b side.

第3実施形態の凹部8bの中心位置は、中心Oから7r/8の距離の位置にある(rは裏面4bの半径である)。なお、裏面4bにおける凹部8bの中心位置は、中心Oからr/2の距離の位置よりも外側にあってよく、中心Oから3r/4の距離の位置にあってもよい。 The center position of the recess 8b of the third embodiment is at a distance of 7r / 8 from the center O (r is the radius of the back surface 4b). The center position of the recess 8b on the back surface 4b may be outside the position at a distance of r / 2 from the center O, and may be at a position at a distance of 3r / 4 from the center O.

凹部8bは、裏面4bから表面4aまで至らない所定の深さまで形成されている。凹部8bの深さも、ドレッシングボード4が使用限界の厚さまで摩耗するとドレッシングボード4の表面4a側に凹部8bが表れる様に調整されている。それゆえ、第3実施形態でも、ドレッシングボード4の表面4a側に凹部8bが表れたか否かに基づいて、ドレッシングボード4が使用限界の厚さまで摩耗したか否かを判断できる。 The recess 8b is formed to a predetermined depth that does not reach the front surface 4a from the back surface 4b. The depth of the recess 8b is also adjusted so that when the dressing board 4 is worn to the thickness of the use limit, the recess 8b appears on the surface 4a side of the dressing board 4. Therefore, also in the third embodiment, it can be determined whether or not the dressing board 4 has been worn to the thickness of the use limit based on whether or not the recess 8b appears on the surface 4a side of the dressing board 4.

更に、凹部8bの中心位置は裏面4bの中心Oよりも外側に設けられているので、ドレッシングボード4が回転している場合に、凹部8bは表面4a側において環状の軌跡として視認される。これに対して、第1実施形態の様に凹部8の中心位置が中心Oに設けられている場合、ドレッシングボード4が回転すると、凹部8は表面4aにおいて円形の点として視認される。 Further, since the center position of the recess 8b is provided outside the center O of the back surface 4b, the recess 8b is visually recognized as an annular locus on the surface 4a side when the dressing board 4 is rotating. On the other hand, when the center position of the recess 8 is provided at the center O as in the first embodiment, when the dressing board 4 rotates, the recess 8 is visually recognized as a circular point on the surface 4a.

この様に、第3実施形態では、ドレッシングボード4が回転している場合に凹部8bが表面4a側に表れると、第1実施形態に比べて広い範囲で凹部8bを観察できるので、凹部8bが表面4a側に表れたか否かを第1実施形態に比べてより容易に識別できる。 As described above, in the third embodiment, when the recess 8b appears on the surface 4a side when the dressing board 4 is rotating, the recess 8b can be observed in a wider range than in the first embodiment, so that the recess 8b is formed. Whether or not it appears on the surface 4a side can be more easily identified as compared with the first embodiment.

図6(A)は、第4実施形態に係るドレッシング工具2の斜視図であり、図6(B)は、第4実施形態に係るドレッシング工具2のD−D断面図である。図6(A)及び図6(B)に示す様に、第4実施形態のドレッシングボード4は、ドレッシングボード4の径よりも小さな径を有する環状の凹部8cを有する。 6 (A) is a perspective view of the dressing tool 2 according to the fourth embodiment, and FIG. 6 (B) is a DD sectional view of the dressing tool 2 according to the fourth embodiment. As shown in FIGS. 6 (A) and 6 (B), the dressing board 4 of the fourth embodiment has an annular recess 8c having a diameter smaller than the diameter of the dressing board 4.

凹部8cは、ドレッシングボード4を裏面4b側から見た場合に、円形の裏面4bの中心Оよりも外周側に設けられた環状の溝である。凹部8cは、裏面4b側から見た場合に円形であるが、必ずしも真円でなくてもよい。なお、凹部8cも、裏面4bから表面4aまで至らない所定の深さまで形成されている。 The recess 8c is an annular groove provided on the outer peripheral side of the circular back surface 4b center О when the dressing board 4 is viewed from the back surface 4b side. The recess 8c is circular when viewed from the back surface 4b side, but it does not necessarily have to be a perfect circle. The recess 8c is also formed to a predetermined depth that does not reach the front surface 4a from the back surface 4b.

凹部8cの深さは、ドレッシングボード4が使用限界の厚さまで摩耗すると、研削砥石26と接触するドレッシングボード4の表面4a側に凹部8cが表れる様に調整されている。それゆえ、第4実施形態でも、ドレッシングボード4の表面4a側に凹部8cが表れるか否かに基づいて、ドレッシングボード4が使用限界の厚さまで摩耗したか否かを判断できる。 The depth of the recess 8c is adjusted so that when the dressing board 4 is worn to the thickness of the use limit, the recess 8c appears on the surface 4a side of the dressing board 4 that comes into contact with the grinding wheel 26. Therefore, also in the fourth embodiment, it can be determined whether or not the dressing board 4 has been worn to the thickness of the use limit based on whether or not the recess 8c appears on the surface 4a side of the dressing board 4.

第4実施形態では、凹部8cが環状に設けられているので、凹部8c上の周方向の任意の領域が部分的に薄化されても、表面4a側に凹部8cが表れたか否かを識別できる。加えて、ドレッシングボード4が回転している場合に、凹部8cが表面4a側に表れると、第1実施形態に比べて広い範囲で凹部8cを観察できるので、第1実施形態の凹部8に比べて凹部8cの視認等が容易になる。 In the fourth embodiment, since the recess 8c is provided in an annular shape, it is possible to identify whether or not the recess 8c appears on the surface 4a side even if an arbitrary region on the recess 8c in the circumferential direction is partially thinned. it can. In addition, when the recess 8c appears on the surface 4a side when the dressing board 4 is rotating, the recess 8c can be observed in a wider range than that of the first embodiment, so that the recess 8c can be observed in a wider range than the recess 8 of the first embodiment. The recess 8c can be easily visually recognized.

ところで、上述の第1実施形態から第4実施形態におけるドレッシングボード4の凹部8、8a、8b及び8cの各々は、独立した1つの凹部で構成されている。但し、ドレッシングボード4の凹部8、8a、8b及び8cの各々は、独立した2つの凹部で構成されてもよい。 By the way, each of the recesses 8, 8a, 8b and 8c of the dressing board 4 in the above-described first to fourth embodiments is composed of one independent recess. However, each of the recesses 8, 8a, 8b and 8c of the dressing board 4 may be composed of two independent recesses.

図7(A)は、第1実施形態の第1変形例に係るドレッシング工具2の断面図である。第1実施形態の第1変形例に係るドレッシングボード4は、裏面4b側の中央部に第1の凹部8−1及び第2の凹部8−2を有する。第1の凹部8−1及び第2の凹部8−2の各々は、独立する様に互いに離れて形成された各々概略円柱状の穴である。 FIG. 7A is a cross-sectional view of the dressing tool 2 according to the first modification of the first embodiment. The dressing board 4 according to the first modification of the first embodiment has a first recess 8-1 and a second recess 8-2 in the central portion on the back surface 4b side. Each of the first recess 8-1 and the second recess 8-2 is a generally cylindrical hole formed so as to be independent of each other.

第1の凹部8−1は、裏面4bから第1の深さd1の位置まで形成されており、第2の凹部8−2は、裏面4bから第1の深さd1の位置よりも深く(即ち、表面4aに近く)且つ裏面4bから表面4aまで至らない第2の深さd2の位置まで形成されている。 The first recess 8-1 is formed from the back surface 4b to the position of the first depth d1, and the second recess 8-2 is deeper than the position of the back surface 4b to the first depth d1 ( That is, it is formed up to a position of a second depth d2 that does not reach the front surface 4a from the back surface 4b) (close to the front surface 4a).

第2の深さd2は第1の深さd1よりも深いので、表面4a側が摩耗すると、第2の凹部8−2は第1の凹部8−1よりも先に表面4a側に表れる。それゆえ、表面4a側へ表れた第2の凹部8−2は、ドレッシングボード4の厚さが使用限界の厚さに近づいていることを示す警告表示として利用できる。 Since the second depth d2 is deeper than the first depth d1, when the surface 4a side is worn, the second recess 8-2 appears on the surface 4a side before the first recess 8-1. Therefore, the second recess 8-2 appearing on the surface 4a side can be used as a warning display indicating that the thickness of the dressing board 4 is approaching the thickness of the use limit.

これに対して、第1の凹部8−1の深さは、ドレッシングボード4が使用限界の厚さまで摩耗すると、研削砥石26と接触するドレッシングボード4の表面4a側に第1の凹部8−1が表れる様に調整されている。つまり、表面4a側へ表れた第1の凹部8−1は、第1実施形態と同様に、ドレッシングボード4が使用限界の厚さまで摩耗したことを示す。 On the other hand, the depth of the first recess 8-1 is such that when the dressing board 4 is worn to the thickness limit of use, the first recess 8-1 is on the surface 4a side of the dressing board 4 that comes into contact with the grinding wheel 26. Is adjusted so that appears. That is, the first recess 8-1 appearing on the surface 4a side indicates that the dressing board 4 has been worn to the thickness of the use limit as in the first embodiment.

この様に、第1実施形態の第1変形例では、使用限界に関する情報を2段階で表示できる。作業者等は、第2の凹部8−2が表面4a側に表れた場合に、ドレッシングボード4の厚さが使用限界の厚さに近づいていると認識でき、第1の凹部8−1が表面4a側に表れた場合に、ドレッシングボード4が使用限界の厚さまで摩耗したと認識できる。 As described above, in the first modification of the first embodiment, the information regarding the usage limit can be displayed in two stages. When the second recess 8-2 appears on the surface 4a side, the operator or the like can recognize that the thickness of the dressing board 4 is approaching the thickness of the use limit, and the first recess 8-1 is formed. When it appears on the surface 4a side, it can be recognized that the dressing board 4 has been worn to the thickness of the use limit.

それゆえ、作業者は、第2の凹部8−2が表面4a側に表れた時点で、予備のドレッシング工具2を準備する等の対応を取ることができる。また、第1の凹部8−1が表面4a側に表れた時点で、ドレッシング工具2を新しいドレッシング工具2に交換することで、研削砥石26の損傷等をより確実に防止できる。 Therefore, the operator can take measures such as preparing a spare dressing tool 2 when the second recess 8-2 appears on the surface 4a side. Further, by replacing the dressing tool 2 with a new dressing tool 2 when the first recess 8-1 appears on the surface 4a side, damage to the grinding wheel 26 and the like can be prevented more reliably.

図7(B)は、第2実施形態の第1変形例に係るドレッシング工具2のB−B断面図である。第2実施形態の第1変形例に係るドレッシングボード4は、第1の凹部8a−1及び第2の凹部8a−2を有する。 FIG. 7B is a sectional view taken along line BB of the dressing tool 2 according to the first modification of the second embodiment. The dressing board 4 according to the first modification of the second embodiment has a first recess 8a-1 and a second recess 8a-2.

第1の凹部8a−1及び第2の凹部8a−2は、ドレッシングボード4を裏面4b側から見た場合に、互いに平行な直線状に形成された凹部であり、それぞれ独立する様に互いに離れて形成されている。 The first recess 8a-1 and the second recess 8a-2 are recesses formed in a straight line parallel to each other when the dressing board 4 is viewed from the back surface 4b side, and are separated from each other so as to be independent of each other. Is formed.

より具体的には、第1の凹部8a−1及び第2の凹部8a−2の各々は、ドレッシングボード4の径方向と平行な方向に長手部を有する直線状の溝である。第1の凹部8a−1は、ドレッシングボード4の裏面4b側の中心Oを通る直線状の溝であり、第2の凹部8a−2(図7(B)にて破線で示す)は、第1の凹部8a−1と平行に配置され、中心Oを通らない直線状の溝である。 More specifically, each of the first recess 8a-1 and the second recess 8a-2 is a linear groove having a longitudinal portion in a direction parallel to the radial direction of the dressing board 4. The first recess 8a-1 is a linear groove passing through the center O on the back surface 4b side of the dressing board 4, and the second recess 8a-2 (shown by a broken line in FIG. 7B) is the first. It is a linear groove that is arranged parallel to the recess 8a-1 of 1 and does not pass through the center O.

第1の凹部8a−1は、裏面4bから第1の深さd1の位置まで形成されており、第2の凹部8a−2は、裏面4bから第1の深さd1の位置よりも深く(即ち、表面4aに近く)且つ裏面4bから表面4aまで至らない第2の深さd2の位置まで形成されている。 The first recess 8a-1 is formed from the back surface 4b to the position of the first depth d1, and the second recess 8a-2 is deeper than the position of the back surface 4b to the first depth d1 ( That is, it is formed up to a position of a second depth d2 that does not reach the front surface 4a from the back surface 4b) (close to the front surface 4a).

第2実施形態の第1変形例でも、作業者等は、第2の凹部8a−2が表面4a側に表れた場合に、ドレッシングボード4の厚さが使用限界の厚さに近づいていると認識でき、第1の凹部8a−1が表面4a側に表れた場合に、ドレッシングボード4が使用限界の厚さまで摩耗したと認識できる。 Even in the first modification of the second embodiment, the operator or the like states that the thickness of the dressing board 4 is approaching the thickness of the usage limit when the second recess 8a-2 appears on the surface 4a side. It can be recognized, and when the first recess 8a-1 appears on the surface 4a side, it can be recognized that the dressing board 4 has been worn to the thickness of the use limit.

図7(C)は、第3実施形態の第1変形例に係るドレッシング工具2の断面図である。第3実施形態の第1変形例に係るドレッシングボード4は、第1の凹部8b−1及び第2の凹部8b−2を有する。第1の凹部8b−1及び第2の凹部8b−2の各々は、ドレッシングボード4の裏面4bの中心Oよりも外周側に各々設けられた概略円柱状の穴である。 FIG. 7C is a cross-sectional view of the dressing tool 2 according to the first modification of the third embodiment. The dressing board 4 according to the first modification of the third embodiment has a first recess 8b-1 and a second recess 8b-2. Each of the first recess 8b-1 and the second recess 8b-2 is a substantially columnar hole provided on the outer peripheral side of the center O of the back surface 4b of the dressing board 4.

第1の凹部8b−1及び第2の凹部8b−2の各々は、ドレッシングボード4を裏面4b側から見た場合に、円形の裏面4bの径方向で異なる位置に設けられている。具体的には、裏面4bにおける第1の凹部8b−1の中心は、中心Oからr/2の距離の位置にある。 Each of the first recess 8b-1 and the second recess 8b-2 is provided at different positions in the radial direction of the circular back surface 4b when the dressing board 4 is viewed from the back surface 4b side. Specifically, the center of the first recess 8b-1 on the back surface 4b is located at a distance of r / 2 from the center O.

これに対して、裏面4bにおける第2の凹部8b−2の中心は、中心Oから7r/8の距離の位置にある。なお、第2の凹部8b−2は、中心Oに対して第1の凹部8−1とは反対側に配置されているが、第2の凹部8b−2の配置は、この例に限定されない。第1の凹部8b−1及び第2の凹部8b−2は、中心Oからの距離が同じでなければ、中心Oから任意の2箇所に配置されてよい。 On the other hand, the center of the second recess 8b-2 on the back surface 4b is located at a distance of 7r / 8 from the center O. The second recess 8b-2 is arranged on the side opposite to the first recess 8-1 with respect to the center O, but the arrangement of the second recess 8b-2 is not limited to this example. .. The first recess 8b-1 and the second recess 8b-2 may be arranged at arbitrary two positions from the center O as long as the distances from the center O are not the same.

第1の凹部8b−1は、裏面4bから第1の深さd1の位置まで形成されている。これに対して、第2の凹部8b−2は、裏面4bから第1の深さd1の位置よりも深く(即ち、表面4aに近く)且つ裏面4bから表面4aまで至らない第2の深さd2の位置まで形成されている。 The first recess 8b-1 is formed from the back surface 4b to the position of the first depth d1. On the other hand, the second recess 8b-2 has a second depth that is deeper than the position of the first depth d1 from the back surface 4b (that is, close to the front surface 4a) and does not reach the front surface 4b to the front surface 4a. It is formed up to the position of d2.

第3実施形態の第1変形例でも、第2の凹部8b−2が表面4a側に表れた場合に、ドレッシングボード4の厚さが使用限界の厚さに近づいていると認識でき、第1の凹部8b−1が表面4a側に表れた場合に、ドレッシングボード4が使用限界の厚さまで摩耗したと認識できる。 Also in the first modification of the third embodiment, when the second recess 8b-2 appears on the surface 4a side, it can be recognized that the thickness of the dressing board 4 is approaching the thickness of the use limit, and the first When the recess 8b-1 of the above appears on the surface 4a side, it can be recognized that the dressing board 4 has been worn to the thickness of the use limit.

図7(D)は、第4実施形態の第1変形例に係るドレッシング工具2の断面図である。第4実施形態の第1変形例に係るドレッシングボード4は、裏面4b側から見た場合に各々環状の第1の凹部8c−1及び第2の凹部8c−2を有する。 FIG. 7D is a cross-sectional view of the dressing tool 2 according to the first modification of the fourth embodiment. The dressing board 4 according to the first modification of the fourth embodiment has an annular first recess 8c-1 and a second recess 8c-2, respectively, when viewed from the back surface 4b side.

第1の凹部8c−1及び第2の凹部8c−2の各々は、ドレッシングボード4を裏面4b側から見た場合に、円形の裏面4bの中心Оよりも外周側に設けられた環状の溝である。第1の凹部8c−1は、ドレッシングボード4の径よりも小さな第1の径を有する。これに対して、第2の凹部8c−2は、第1の凹部8c−1の径よりも大きく且つドレッシングボード4の径よりも小さな第2の径を有する。 Each of the first recess 8c-1 and the second recess 8c-2 is an annular groove provided on the outer peripheral side of the center О of the circular back surface 4b when the dressing board 4 is viewed from the back surface 4b side. Is. The first recess 8c-1 has a first diameter smaller than the diameter of the dressing board 4. On the other hand, the second recess 8c-2 has a second diameter larger than the diameter of the first recess 8c-1 and smaller than the diameter of the dressing board 4.

なお、第1の凹部8c−1は、第2の凹部8c−2よりも内側に設けられているが、第1の凹部8c−1は、第2の凹部8c−2よりも外側に設けられていてもよい。また、第1の凹部8c−1及び第2の凹部8c−2の各々は、裏面4b側から見た場合に必ずしも真円でなくてもよい。 The first recess 8c-1 is provided inside the second recess 8c-2, but the first recess 8c-1 is provided outside the second recess 8c-2. You may be. Further, each of the first recess 8c-1 and the second recess 8c-2 does not necessarily have to be a perfect circle when viewed from the back surface 4b side.

第1の凹部8c−1は、裏面4bから第1の深さd1の位置まで形成されており、第2の凹部8c−2は、裏面4bから第1の深さd1の位置よりも深く(即ち、表面4aに近く)且つ裏面4bから表面4aまで至らない第2の深さd2の位置まで形成されている。 The first recess 8c-1 is formed from the back surface 4b to the position of the first depth d1, and the second recess 8c-2 is deeper than the position of the back surface 4b to the first depth d1 ( That is, it is formed up to a position of a second depth d2 that does not reach the front surface 4a from the back surface 4b) (close to the front surface 4a).

第4実施形態の第1変形例でも、第2の凹部8c−2が表面4a側に表れた場合に、ドレッシングボード4の厚さが使用限界の厚さに近づいていると認識でき、第1の凹部8c−1が表面4a側に表れた場合に、ドレッシングボード4が使用限界の厚さまで摩耗したと認識できる。 Also in the first modification of the fourth embodiment, when the second recess 8c-2 appears on the surface 4a side, it can be recognized that the thickness of the dressing board 4 is approaching the thickness of the use limit, and the first When the recess 8c-1 of the above appears on the surface 4a side, it can be recognized that the dressing board 4 has been worn to the thickness of the use limit.

上述の第1実施形態の第1変形例のドレッシングボード4には、互いに独立した第1の凹部8−1と第2の凹部8−2とが設けられているが、第1の凹部8−1の深さ方向で、上述の第1の凹部8−1と第2の凹部8−2とがつなげられた状態の第3の凹部8−3が設けられてもよい。つまり、第1の凹部8−1の深さ方向で、第1の凹部8−1と第2の凹部8−2とは完全に又は部分的に重なってもよい。 The dressing board 4 of the first modification of the first embodiment described above is provided with the first recess 8-1 and the second recess 8-2 that are independent of each other, but the first recess 8- A third recess 8-3 may be provided in a state in which the above-mentioned first recess 8-1 and the second recess 8-2 are connected in the depth direction of 1. That is, the first recess 8-1 and the second recess 8-2 may completely or partially overlap in the depth direction of the first recess 8-1.

図8(A)は、第1実施形態の第2変形例に係るドレッシング工具2のA−A断面図である。第1実施形態の第2変形例に係るドレッシングボード4は、裏面4b側の中央部に第3の凹部8−3を有する。 FIG. 8A is a sectional view taken along the line AA of the dressing tool 2 according to the second modification of the first embodiment. The dressing board 4 according to the second modification of the first embodiment has a third recess 8-3 in the central portion on the back surface 4b side.

第3の凹部8−3は、上述の第1の凹部8−1及び第2の凹部8−2で構成されている。第1の凹部8−1は、第1の深さd1を有する概略円柱状の穴である。これに対して、第2の凹部8−2は、裏面4b側から見て第1の凹部8−1の略中央に配置され、第2の凹部8−2は、裏面4bから第1の深さd1の位置よりも深い第2の深さd2を有し、第1の凹部8−1よりも小さい径を有する概略円柱状の穴である。 The third recess 8-3 is composed of the first recess 8-1 and the second recess 8-2 described above. The first recess 8-1 is a substantially columnar hole having a first depth d1. On the other hand, the second recess 8-2 is arranged substantially in the center of the first recess 8-1 when viewed from the back surface 4b side, and the second recess 8-2 is the first depth from the back surface 4b. It is a substantially columnar hole having a second depth d2 deeper than the position of the d1 and having a diameter smaller than that of the first recess 8-1.

なお、第2の凹部8−2は、裏面4b側から見て第1の凹部8−1の略中央に必ずしも配置されなくてもよい。第2の凹部8−2は、裏面4b側から見て第1の凹部8−1内にあれば、任意の位置に配置してよい。 The second recess 8-2 does not necessarily have to be arranged substantially in the center of the first recess 8-1 when viewed from the back surface 4b side. The second recess 8-2 may be arranged at an arbitrary position as long as it is inside the first recess 8-1 when viewed from the back surface 4b side.

第1実施形態の第2変形例でも、第2の凹部8−2が表面4a側に表れた場合に、ドレッシングボード4の厚さが使用限界の厚さに近づいていると認識でき、第1の凹部8−1が表面4a側に表れた場合に、ドレッシングボード4が使用限界の厚さまで摩耗したと認識できる。 Also in the second modification of the first embodiment, when the second recess 8-2 appears on the surface 4a side, it can be recognized that the thickness of the dressing board 4 is approaching the thickness of the use limit, and the first When the recess 8-1 of the above appears on the surface 4a side, it can be recognized that the dressing board 4 has been worn to the thickness of the use limit.

図8(B)は、第2実施形態の第2変形例に係るドレッシング工具2のB−B断面図である。第2実施形態の第2変形例に係るドレッシングボード4は、ドレッシングボード4の径方向に長手部を有する直線状の第3の凹部8a−3を有する。第3の凹部8a−3は、裏面4b側の中心Oを通り、ドレッシングボード4の径方向に長手部を有する直線状に形成されている。 FIG. 8B is a sectional view taken along line BB of the dressing tool 2 according to the second modification of the second embodiment. The dressing board 4 according to the second modification of the second embodiment has a linear third recess 8a-3 having a longitudinal portion in the radial direction of the dressing board 4. The third recess 8a-3 passes through the center O on the back surface 4b side and is formed in a straight line having a longitudinal portion in the radial direction of the dressing board 4.

第3の凹部8a−3も、上述の第1の凹部8a−1及び第2の凹部8a−2で構成されている。第1の凹部8a−1は、第1の深さd1を有する直線状の溝である。これに対して、第2の凹部8a−2は、裏面4b側から見て第1の凹部8a−1の略中央に配置され、第1の深さd1よりも深い第2の深さd2を有し、第1の凹部8a−1よりも小さい幅(即ち、第1の凹部8a−1の長手方向に直交する方向の長さ)を有する直線状の溝である。 The third recess 8a-3 is also composed of the first recess 8a-1 and the second recess 8a-2 described above. The first recess 8a-1 is a linear groove having a first depth d1. On the other hand, the second recess 8a-2 is arranged substantially in the center of the first recess 8a-1 when viewed from the back surface 4b side, and has a second depth d2 deeper than the first depth d1. It is a linear groove having a width smaller than that of the first recess 8a-1 (that is, a length in a direction orthogonal to the longitudinal direction of the first recess 8a-1).

第2実施形態の第2変形例でも、第2の凹部8a−2が表面4a側に表れた場合に、ドレッシングボード4の厚さが使用限界の厚さに近づいていると認識でき、第1の凹部8a−1が表面4a側に表れた場合に、ドレッシングボード4が使用限界の厚さまで摩耗したと認識できる。 Also in the second modification of the second embodiment, when the second recess 8a-2 appears on the surface 4a side, it can be recognized that the thickness of the dressing board 4 is approaching the thickness of the use limit, and the first When the recess 8a-1 of the above appears on the surface 4a side, it can be recognized that the dressing board 4 has been worn to the thickness of the use limit.

なお、第2の凹部8a−2は、裏面4b側から見て第1の凹部8a−1の略中央に必ずしも配置されなくてもよい。第2の凹部8a−2は、裏面4b側から見て第1の凹部8a−1内にあれば、任意の位置に配置できる。 The second recess 8a-2 does not necessarily have to be arranged substantially in the center of the first recess 8a-1 when viewed from the back surface 4b side. The second recess 8a-2 can be arranged at an arbitrary position as long as it is inside the first recess 8a-1 when viewed from the back surface 4b side.

図8(C)は、第3実施形態の第2変形例に係るドレッシング工具2のC−C断面図である。第3実施形態の第2変形例に係るドレッシングボード4は、裏面4b側の中心Oよりも外周側に第3の凹部8b−3を有する。第3の凹部8b−3は、上述の第1の凹部8b−1及び第2の凹部8b−2で構成されている。 FIG. 8C is a cross-sectional view taken along the line CC of the dressing tool 2 according to the second modification of the third embodiment. The dressing board 4 according to the second modification of the third embodiment has a third recess 8b-3 on the outer peripheral side of the center O on the back surface 4b side. The third recess 8b-3 is composed of the first recess 8b-1 and the second recess 8b-2 described above.

第1の凹部8b−1は、第1の深さd1を有する概略円柱状の穴である。これに対して、第2の凹部8b−2は、裏面4b側から見て第1の凹部8b−1の略中央に配置され、第1の深さd1よりも深い第2の深さd2と、第1の凹部8b−1よりも小さい径と、を有する概略円柱状の穴である。 The first recess 8b-1 is a substantially columnar hole having a first depth d1. On the other hand, the second recess 8b-2 is arranged substantially in the center of the first recess 8b-1 when viewed from the back surface 4b side, and has a second depth d2 deeper than the first depth d1. , A generally columnar hole having a diameter smaller than that of the first recess 8b-1.

裏面4bにおける第1の凹部8b−1及び第2の凹部8b−2の各々の中心位置は、中心Oの外側の同じ位置に配置されている。本例の第1の凹部8b−1及び第2の凹部8b−2の各々の中心は、中心Oから7r/8の距離の位置に配置にある。 The center positions of the first recess 8b-1 and the second recess 8b-2 on the back surface 4b are arranged at the same positions outside the center O. The centers of the first recesses 8b-1 and the second recesses 8b-2 of this example are located at a distance of 7r / 8 from the center O.

しかし、第1の凹部8b−1及び第2の凹部8b−2の各々の中心位置は、中心Oから7r/8の位置に限定されず、中心Oからr/2の位置や、中心Oから3r/4の位置に配置されてもよい。 However, the center positions of the first recess 8b-1 and the second recess 8b-2 are not limited to the positions 7r / 8 from the center O, and the positions from the center O to r / 2 and from the center O. It may be arranged at the position of 3r / 4.

第3実施形態の第2変形例でも、第2の凹部8b−2が表面4a側に表れた場合に、ドレッシングボード4の厚さが使用限界の厚さに近づいていると認識でき、第1の凹部8b−1が表面4a側に表れた場合に、ドレッシングボード4が使用限界の厚さまで摩耗したと認識できる。 Also in the second modification of the third embodiment, when the second recess 8b-2 appears on the surface 4a side, it can be recognized that the thickness of the dressing board 4 is approaching the thickness of the use limit, and the first When the recess 8b-1 of the above appears on the surface 4a side, it can be recognized that the dressing board 4 has been worn to the thickness of the use limit.

なお、第2の凹部8b−2は、裏面4b側から見て第1の凹部8b−1の略中央に必ずしも配置されなくてもよい。第2の凹部8b−2は、裏面4b側から見て第1の凹部8b−1内にあれば、任意の位置に配置できる。 The second recess 8b-2 does not necessarily have to be arranged substantially in the center of the first recess 8b-1 when viewed from the back surface 4b side. The second recess 8b-2 can be arranged at any position as long as it is inside the first recess 8b-1 when viewed from the back surface 4b side.

図8(D)は、第4実施形態の第2変形例に係るドレッシング工具2のD−D断面図である。第4実施形態の第2変形例に係るドレッシングボード4は、裏面4b側に環状に形成された第3の凹部8c−3を有する。第3の凹部8c−3は、各々環状である上述の第1の凹部8c−1及び第2の凹部8c−2で構成されている。 FIG. 8D is a cross-sectional view taken along the line DD of the dressing tool 2 according to the second modification of the fourth embodiment. The dressing board 4 according to the second modification of the fourth embodiment has a third recess 8c-3 formed in an annular shape on the back surface 4b side. The third recess 8c-3 is composed of the above-mentioned first recess 8c-1 and the second recess 8c-2, which are annular, respectively.

第1の凹部8c−1は、第1の深さd1を有する環状の溝である。これに対して、第2の凹部8c−2は、裏面4b側から見て第1の凹部8c−1と重なる位置に配置され、第1の深さd1よりも深い第2の深さd2と、第1の凹部8c−1の径方向の幅よりも小さい幅と、を有する環状の溝である。 The first recess 8c-1 is an annular groove having a first depth d1. On the other hand, the second recess 8c-2 is arranged at a position overlapping the first recess 8c-1 when viewed from the back surface 4b side, and has a second depth d2 deeper than the first depth d1. , An annular groove having a width smaller than the radial width of the first recess 8c-1.

なお、第2の凹部8c−2の内径と外径との中間位置は、裏面4b側から見て第1の凹部8c−1の内径と外径との中間位置に配置されているが、第2の凹部8c−2の配置はこの例に限定されない。第2の凹部8c−2は、裏面4b側から見て第1の凹部8c−1内にあれば、任意の位置に配置できる。 The intermediate position between the inner diameter and the outer diameter of the second recess 8c-2 is arranged at the intermediate position between the inner diameter and the outer diameter of the first recess 8c-1 when viewed from the back surface 4b side. The arrangement of the recess 8c-2 of 2 is not limited to this example. The second recess 8c-2 can be arranged at any position as long as it is inside the first recess 8c-1 when viewed from the back surface 4b side.

第4実施形態の第2変形例でも、第2の凹部8c−2が表面4a側に表れた場合に、ドレッシングボード4の厚さが使用限界の厚さに近づいていると認識でき、第1の凹部8c−1が表面4a側に表れた場合に、ドレッシングボード4が使用限界の厚さまで摩耗したと認識できる。 Also in the second modification of the fourth embodiment, when the second recess 8c-2 appears on the surface 4a side, it can be recognized that the thickness of the dressing board 4 is approaching the thickness of the use limit, and the first When the recess 8c-1 of the above appears on the surface 4a side, it can be recognized that the dressing board 4 has been worn to the thickness of the use limit.

その他、上記実施の形態に係る構成、方法などは、本発明の目的の範囲を逸脱しない限りにおいて適宜変更して実施できる。例えば、凹部8等の形状は、円柱状、直線状又は環状等に限定されず、格子状、多角形形状としてもよい。 In addition, the configuration, method, and the like according to the above-described embodiment can be appropriately modified and implemented as long as they do not deviate from the scope of the object of the present invention. For example, the shape of the recess 8 or the like is not limited to a columnar shape, a linear shape, an annular shape, or the like, and may be a grid shape or a polygonal shape.

また、支持プレート6の表面6aのうち凹部8等に対応する領域の位置に、作業者等の注意を引くための文字や記号等が記載又は付されてもよい。例えば、支持プレート6の表面6aのうち凹部8等に対応する領域に、「危険」、「中止」、「終了」、「Life End」等の文字を記載することで、凹部8等が表面4a側に現れた場合に、作業者は「危険」等の文字を視認できる。 Further, characters, symbols, etc. for drawing the attention of the operator or the like may be written or attached to the position of the region corresponding to the recess 8 or the like on the surface 6a of the support plate 6. For example, by writing characters such as "danger", "stop", "end", and "Life End" in the area of the surface 6a of the support plate 6 corresponding to the recess 8 and the like, the recess 8 and the like are surfaced 4a. When appearing on the side, the operator can visually recognize characters such as "danger".

また、ドレッシング工具2は、研削砥石26の整形を目的に使用されてもよいし、研削砥石26の目立てを目的に使用されてもよい。研削砥石26の整形の用途には、比較的大きなサイズの砥粒を含むドレッシングボード4を用い、研削砥石26の目立ての用途には、比較的小さなサイズの砥粒を含むドレッシングボード4を用いることができる。 Further, the dressing tool 2 may be used for the purpose of shaping the grinding wheel 26, or may be used for the purpose of sharpening the grinding wheel 26. A dressing board 4 containing relatively large size abrasive grains is used for shaping the grinding wheel 26, and a dressing board 4 containing relatively small size abrasive grains is used for sharpening the grinding wheel 26. Can be done.

2 ドレッシング工具
4 ドレッシングボード
4a 表面
4b 裏面
6 支持プレート
6a 表面
6b 裏面
8,8a,8b,8c 凹部
8−1,8a−1,8b−1,8c−1 第1の凹部
8−2,8a−2,8b−2,8c−2 第2の凹部
8−3,8a−3,8b−3,8c−3 第3の凹部
12 研削装置
14 スピンドル
16 スピンドルハウジング
18 研削ホイール
20 ホイールマウント
22 回転機構
24 ホイール基台
26 研削砥石
28 保持テーブル
28a 表面
d1 第1の深さ
d2 第2の深さ
r 半径
О 中心
2 Dressing tool 4 Dressing board 4a Front surface 4b Back surface 6 Support plate 6a Surface surface 6b Back surface 8, 8a, 8b, 8c Recesses 8-1, 8a-1, 8b-1, 8c-1 First recesses 8-2, 8a- 2,8b-2,8c-2 Second recess 8-3,8a-3,8b-3,8c-3 Third recess 12 Grinding device 14 Spindle 16 Spindle housing 18 Grinding wheel 20 Wheel mount 22 Rotating mechanism 24 Wheel base 26 Grinding wheel 28 Holding table 28a Surface d1 First depth d2 Second depth r Radius О Center

Claims (6)

研削ホイールの一面側に環状に配列された複数の研削砥石をドレッシングするドレッシング工具であって、
該研削砥石をドレッシングするドレッシング部と、
該ドレッシング部の裏面側を支持する支持部と、
を備え、
該ドレッシング部の該裏面側には、該ドレッシング部の該裏面とは反対側に位置する表面に達せず、且つ、該ドレッシング部の使用限界の厚さに対応する深さの凹部が設けられていることを特徴とする、ドレッシング工具。
A dressing tool that dresses multiple grinding wheels arranged in a ring shape on one side of the grinding wheel.
A dressing section for dressing the grinding wheel and
A support portion that supports the back surface side of the dressing portion and
With
The back surface side of the dressing portion is provided with a recess having a depth corresponding to the thickness of the use limit of the dressing portion, which does not reach the surface surface of the dressing portion opposite to the back surface. A dressing tool characterized by being.
該ドレッシング部の該凹部は、該ドレッシング部を該裏面側から見た場合に直線状に設けられていることを特徴とする、請求項1記載のドレッシング工具。 The dressing tool according to claim 1, wherein the recess of the dressing portion is provided in a straight line when the dressing portion is viewed from the back surface side. 該ドレッシング部の該凹部は、該ドレッシング部を該裏面側から見た場合に該ドレッシング部の中心よりも外周側に設けられていることを特徴とする、請求項1記載のドレッシング工具。 The dressing tool according to claim 1, wherein the recess of the dressing portion is provided on the outer peripheral side of the center of the dressing portion when the dressing portion is viewed from the back surface side. 該ドレッシング部の該凹部は、該ドレッシング部を該裏面側から見た場合に環状に設けられていることを特徴とする、請求項1記載のドレッシング工具。 The dressing tool according to claim 1, wherein the recess of the dressing portion is provided in an annular shape when the dressing portion is viewed from the back surface side. 該ドレッシング部の該凹部は、第1の深さを有する第1の凹部と、該第1の深さよりも深い第2の深さを有する第2の凹部とを含むことを特徴とする、請求項1から4のいずれか一項記載のドレッシング工具。 The recess of the dressing portion is characterized by including a first recess having a first depth and a second recess having a second depth deeper than the first depth. The dressing tool according to any one of items 1 to 4. 該凹部の深さ方向で、該第1の凹部と該第2の凹部とは重なっていることを特徴とする、請求項5記載のドレッシング工具。 The dressing tool according to claim 5, wherein the first recess and the second recess overlap each other in the depth direction of the recess.
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Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0261568U (en) * 1988-10-27 1990-05-08
JP3049921U (en) * 1997-12-18 1998-06-30 旭ダイヤモンド工業株式会社 Super abrasive wheel
JPH10217109A (en) * 1997-02-04 1998-08-18 Nippon Steel Corp Work holding device of polishing device
JPH11151662A (en) * 1997-11-18 1999-06-08 Asahi Chem Ind Co Ltd Polishing cloth
JP2003205451A (en) * 2002-01-07 2003-07-22 Hitachi Ltd Polishing pad
JP2003334752A (en) * 2002-05-14 2003-11-25 Sony Corp Polishing device, polishing member thickness detecting method and polishing member thickness detecting device
US20040259487A1 (en) * 2003-06-20 2004-12-23 Bottema Brian E. Chemical mechanical polish (CMP) conditioning-disk holder
JP2014217935A (en) * 2013-05-10 2014-11-20 株式会社ディスコ Dressing tool
JP2015139844A (en) * 2014-01-29 2015-08-03 株式会社ディスコ dressing tool

Family Cites Families (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6090475A (en) * 1996-05-24 2000-07-18 Micron Technology Inc. Polishing pad, methods of manufacturing and use
US6106661A (en) * 1998-05-08 2000-08-22 Advanced Micro Devices, Inc. Polishing pad having a wear level indicator and system using the same
US20030199238A1 (en) * 2000-01-18 2003-10-23 Shigeo Moriyama Polishing apparatus and method for producing semiconductors using the apparatus
US6217426B1 (en) * 1999-04-06 2001-04-17 Applied Materials, Inc. CMP polishing pad
JP4154067B2 (en) 1999-04-06 2008-09-24 株式会社ディスコ Grinding equipment
US6616513B1 (en) * 2000-04-07 2003-09-09 Applied Materials, Inc. Grid relief in CMP polishing pad to accurately measure pad wear, pad profile and pad wear profile
JP2002001647A (en) * 2000-06-19 2002-01-08 Rodel Nitta Co Polishing pad
JP2003117816A (en) * 2001-10-03 2003-04-23 Hitachi Ltd Method and device for dressing polishing pad, and method of polishing work by using the device
WO2006003697A1 (en) * 2004-06-30 2006-01-12 Toho Engineering Kabushiki Kaisha Grinding pad and method of producing the same
WO2006042010A1 (en) * 2004-10-06 2006-04-20 Rajeev Bajaj Method and apparatus for improved chemical mechanical planarization
CN104044057B (en) * 2004-11-01 2017-05-17 株式会社荏原制作所 Polishing device
US20060276111A1 (en) * 2005-06-02 2006-12-07 Applied Materials, Inc. Conditioning element for electrochemical mechanical processing
US8607399B2 (en) * 2006-05-17 2013-12-17 Richard T. Umbrell Quick release connector for a single or dual-sided pad
JP5179158B2 (en) 2007-12-11 2013-04-10 株式会社ディスコ Dresser board
JP5236515B2 (en) * 2009-01-28 2013-07-17 株式会社荏原製作所 Dressing apparatus, chemical mechanical polishing apparatus and method
US20110097977A1 (en) * 2009-08-07 2011-04-28 Abrasive Technology, Inc. Multiple-sided cmp pad conditioning disk
US20130237136A1 (en) * 2010-11-18 2013-09-12 Cabot Microelectronics Corporation Polishing pad comprising transmissive region
JP5919157B2 (en) * 2012-10-01 2016-05-18 株式会社荏原製作所 dresser
CN106853610B (en) * 2015-12-08 2019-11-01 中芯国际集成电路制造(北京)有限公司 Polishing pad and its monitoring method and monitoring system
US11260495B2 (en) * 2018-07-27 2022-03-01 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Ltd. Apparatus and methods for chemical mechanical polishing

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0261568U (en) * 1988-10-27 1990-05-08
JPH10217109A (en) * 1997-02-04 1998-08-18 Nippon Steel Corp Work holding device of polishing device
JPH11151662A (en) * 1997-11-18 1999-06-08 Asahi Chem Ind Co Ltd Polishing cloth
JP3049921U (en) * 1997-12-18 1998-06-30 旭ダイヤモンド工業株式会社 Super abrasive wheel
JP2003205451A (en) * 2002-01-07 2003-07-22 Hitachi Ltd Polishing pad
JP2003334752A (en) * 2002-05-14 2003-11-25 Sony Corp Polishing device, polishing member thickness detecting method and polishing member thickness detecting device
US20040259487A1 (en) * 2003-06-20 2004-12-23 Bottema Brian E. Chemical mechanical polish (CMP) conditioning-disk holder
JP2014217935A (en) * 2013-05-10 2014-11-20 株式会社ディスコ Dressing tool
JP2015139844A (en) * 2014-01-29 2015-08-03 株式会社ディスコ dressing tool

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