JP2020170701A - 有質量粒子ビームの波面を決定するための方法および装置 - Google Patents
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Abstract
Description
本特許出願は、2019年4月1日にドイツ特許商標庁に出願されたドイツ特許出願第DE10 2019 204 575.8号の優先権を主張するものであり、そのすべての内容が、参照により本出願に組み込まれる。
本発明は、有質量粒子ビーム(massive particle beam:有質量粒子線)、たとえば、電子ビーム(electron beam:電子線)の波面を決定するための方法および装置に関する。
ナノテクノロジーの進歩は、構造要素がさらに小さくなったコンポーネントの生産を可能にする。ナノ構造を処理および表示するには、これらの構造の実像を測定データから生成可能となるように、これらの構造を結像する(image)ことができるツールが必要となる。
本発明の例示的な一実施形態によれば、この問題は、本出願の独立請求項の主題によって少なくとも部分的に解決される。例示的な実施形態は、従属請求項に記載される。
以下の詳細な説明には、図面を参照して、本発明の現時点で好ましい例示的な実施形態を記載する。
本発明に係る方法および本発明に係る装置の現時点で好ましい実施形態を以下に説明する。本発明に係る装置は、走査型電子顕微鏡(SEM)の例を用いて説明する。ただし、本発明に係る方法および本発明に係る装置は、電子ビームの形態の有質量粒子ビームに限定されない。むしろ、これらは、粒子の静止質量がゼロと異なる任意の粒子ビームに使用可能である。さらに、これらは、像の記録または広視野顕微鏡法に走査型集束有質量粒子ビームを使用する顕微鏡に使用可能である。以下、有質量粒子ビームおよび粒子ビームは、同義的に使用する。
115 表面
120 基板
130 基準構造
200 装置
202 真空チャンバ
205 粒子放射体
210 走査型電子顕微鏡、走査型粒子顕微鏡
215 カラム
220 ビーム光学ユニット、電子光学ユニット
225 有質量粒子ビーム
230 サンプルステージ、検出器
235 測定点
240 検出器
245 イオン源
250 コンピュータシステム
255 走査ユニット
260 設定ユニット
265 評価ユニット
270 シミュレーションユニット
280 ディスプレイ(モニタ)
300 焦点スタック
310 像
315 焦点ずれ位置
320 像
325 焦点ずれ位置
330 像
340 像
350 像
360 像
370 像
380 像
390 像
410 上部画像
420 静電帯電
430 歪み
440 変位
445 境界線
450 基準像
460 エッジ効果、下部画像
470 エッジ
480 修正基準像
500 ダイアグラム
510 粒子ビーム
520 ビーム軸
530 スポット直径
540 波面
550 波面
560 収差、焦点
600 ダイアグラム
650 補正波面
750 エッジ
850 カーネル(点拡がり関数)
900 像
950 エッジ
1000 像
1150 カーネル(点拡がり関数)
1250 エッジ
1650 エッジ
1750 カーネル(点拡がり関数)
1910 電子ビーム
1920 波面収差
2100 カーネル(点拡がり関数)
2150 エッジ
2350 カーネル(点拡がり関数)
2620 再構成波面
2850 カーネル(点拡がり関数)
2860 エッジ高さ
3120 再構成波面
D スポット直径
I 電子ビームの電流
R 半径
α 開口角
Claims (20)
- 有質量粒子ビーム(225、510、1910)の波面(550)を決定するための方法(3300)であって、
a.異なる記録条件(315、325)の下、前記有質量粒子ビーム(225、510)を用いて、基準構造(130)の2つ以上の像(310〜390)を記録するステップ(3320)と、
b.前記基準構造(130)の修正基準像(480)を用いて、前記2つ以上の記録像(310〜390)の点拡がり関数(1750)を生成するステップ(3330)と、
c.前記波面(550)を決定するために、前記生成された点拡がり関数(1750)および前記異なる記録条件(315、325)に基づいて、前記有質量粒子ビーム(225、510)の位相再構成を実行するステップ(3340)と
を含む、方法(3300)。 - 前記異なる記録条件(315、325)が、前記有質量粒子ビーム(225、510)の線源(205)および/もしくは結像系(220)の異なるパラメータ設定ならびに/または前記像(310〜390)を記録する検出装置(230、240)の異なるパラメータ設定を含む、請求項1に記載の方法(3300)。
- 前記異なる記録条件(315、325)が、前記2つ以上の像(310〜390)を記録する際の前記有質量粒子ビーム(225、510)の異なる焦点設定(315、325)を含む、請求項1または2に記載の方法(3300)。
- 前記基準構造(130)の基準像(450)が、前記有質量粒子ビーム(225、510)を用いた前記基準構造(130)の少なくとも1つの記録を表し、前記基準構造(130)が、前記有質量粒子ビーム(225、510)の焦点に配置された、請求項1〜3のいずれか1項に記載の方法(3300)。
- 前記基準構造(130)の修正基準像(480)が、前記基準構造(130)の前記2つ以上の像(310〜390)を記録する際のアーチファクト(430、440、460)を実質的に補正する、請求項1〜4のいずれか1項に記載の方法(3300)。
- アーチファクト(430、440、460)が、前記有質量粒子ビーム(225、510)による前記基準構造(130)の静電帯電および/または前記有質量粒子ビーム(225、510)を用いて前記基準構造(130)を結像する際の前記2つ以上の記録像(310〜390)における前記基準構造(130)の少なくとも1つのエッジ(470)の少なくとも1つのエッジ効果(460)を原因とする、請求項5に記載の方法(3300)。
- 前記少なくとも1つのアーチファクト(430、440、460)を補正することが、前記基準構造(130)の静電帯電および/または前記2つ以上の記録像(310〜390)における前記少なくとも1つのエッジ効果(460)の影響を決定することを含む、請求項5または6に記載の方法(3300)。
- 前記基準構造(130)の前記静電帯電(420)および/または前記少なくとも1つのエッジ効果(460)の前記影響を決定することが、前記基準構造(130)の前記静電帯電(420)および/または前記少なくとも1つのエッジ効果(460)をシミュレーションすることを含む、請求項7に記載の方法(3300)。
- 前記少なくとも1つのアーチファクト(430、440、460)を補正することが、前記基準構造(130)の前記基準像(450)を修正することを含む、請求項5〜8のいずれか1項に記載の方法(3300)。
- 点拡がり関数(1750)を生成することが、前記基準構造(130)の前記修正基準像(480)を用いて前記2つ以上の記録像(310〜390)を逆畳み込みすることを含む、請求項1〜9のいずれか1項に記載の方法(3300)。
- 前記修正基準像(480)が、非修正基準像(450)に対応する、請求項1〜4のいずれか1項に記載の方法(3300)。
- 前記基準構造(130)を用意することおよび/または前記有質量粒子ビーム(225、510)を用いて前記基準構造(130)を特徴づけることを行うステップをさらに含む、請求項1〜11のいずれか1項に記載の方法(3300)。
- 前記基準構造(130)が、基板(120)上に配置された少なくとも1つの針形状材料配置を含み、前記針形状材料配置および前記基板(120)が、異なる材料組成を有する、請求項1〜12のいずれか1項に記載の方法(3300)。
- 前記基準構造(130)が、少なくとも1つの鋭いエッジ(470)および/または少なくとも1つの規定された側壁角を含む、請求項1〜13のいずれか1項に記載の方法(3300)。
- 修正基準像(480)を生成することが、可能な最良の記録条件の下、前記有質量粒子ビーム(225、510)の異なる運動エネルギーで2つ以上の基準像(450)を記録することと、異なるエネルギーで記録された基準像(450)の組み合わせによって前記修正基準像(480)を置き換えることとを含む、請求項1〜8のいずれか1項に記載の方法(3300)。
- 前記有質量粒子ビーム(225、510)の前記決定された波面(550)を修正して、変更された波面(650)が特定の波面(540)に実質的に対応するようにするステップをさらに含む、請求項1〜15のいずれか1項に記載の方法(3300)。
- 有質量粒子ビーム(225、510)の波面(550)を決定するための装置(200)であって、
a.異なる記録条件(315、325)の下、前記有質量粒子ビーム(225、510、1910)を用いて、基準構造(130)の2つ以上の像(310〜390)を記録する手段(255)と、
b.前記基準構造(130)の修正基準像(480)を用いて、前記2つ以上の記録像(310〜390)に対する点拡がり関数(1750)を生成する手段(265、270)と、
c.前記波面(550)を決定するために、前記生成された点拡がり関数(1750)および前記異なる記録条件(315、325)に基づいて、前記有質量粒子ビーム(225、510、1910)の位相再構成を実行する手段(270)と
を備えた、装置(200)。 - 前記基準構造(130)の基準像(450)を記録する(255)ように具現化される、請求項17に記載の装置(200)。
- 前記有質量粒子ビーム(225、510)の決定された波面(550)を特定の波面(540)に対して適応させる調整選択肢を含む、請求項17または18に記載の装置(200)。
- 命令を含むコンピュータプログラムであって、前記命令は、請求項17〜19に記載の装置(200)のコンピュータシステム(250)が前記コンピュータプログラムを実行した場合に、前記コンピュータシステム(250)に対して、請求項1〜16のいずれか1項に記載の方法ステップを実行するように指示する、コンピュータプログラム。
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Families Citing this family (3)
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JP3984019B2 (ja) * | 2001-10-15 | 2007-09-26 | パイオニア株式会社 | 電子ビーム装置及び電子ビーム調整方法 |
US20190271534A1 (en) * | 2005-01-12 | 2019-09-05 | John Farah | Lensless imaging with reduced aperture |
US10281258B2 (en) * | 2005-01-12 | 2019-05-07 | John Farah | Lensless imaging with reduced aperture |
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JP4903675B2 (ja) * | 2006-12-29 | 2012-03-28 | 株式会社リコー | 収差評価方法、収差補正方法、電子線描画装置、電子顕微鏡、原盤、スタンパ、記録媒体、及び構造物 |
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CN102721477B (zh) * | 2012-06-04 | 2013-10-16 | 中国科学院光电技术研究所 | 一种用于相位差波前传感器的离焦量测量方法 |
CN103714516B (zh) | 2013-12-03 | 2016-05-25 | 西安交通大学 | 一种自适应光学成像中的点扩散函数估计方法 |
EP2887381B1 (en) | 2013-12-18 | 2016-09-21 | Fei Company | Method of investigating the wavefront of a charged-particle beam |
US9953802B2 (en) * | 2014-01-21 | 2018-04-24 | Ramot At Tel-Aviv University Ltd. | Method and device for manipulating particle beam |
DE102014008383B9 (de) * | 2014-06-06 | 2018-03-22 | Carl Zeiss Microscopy Gmbh | Teilchenstrahlsystem und Verfahren zum Betreiben einer Teilchenoptik |
US9875534B2 (en) | 2015-09-04 | 2018-01-23 | Kla-Tencor Corporation | Techniques and systems for model-based critical dimension measurements |
JP6730659B2 (ja) | 2016-02-17 | 2020-07-29 | 日本電気株式会社 | 透過波面測定方法、装置およびシステム |
US20170281102A1 (en) * | 2016-03-31 | 2017-10-05 | Weng-Dah Ken | Non-contact angle measuring apparatus, mission critical inspection apparatus, non-invasive diagnosis/treatment apparatus, method for filtering matter wave from a composite particle beam, non-invasive measuring apparatus, apparatus for generating a virtual space-time lattice, and fine atomic clock |
US10181391B2 (en) | 2016-05-26 | 2019-01-15 | Nanojehm Inc. | Image processing system and method of processing images |
EP3270404A1 (en) * | 2016-07-13 | 2018-01-17 | FEI Company | Method of imaging a specimen using ptychography |
CN106996862A (zh) * | 2017-05-17 | 2017-08-01 | 中国科学院苏州生物医学工程技术研究所 | 一种基于点扩散函数测量的物镜检测装置 |
DE102019204575B3 (de) * | 2019-04-01 | 2020-08-06 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Verfahren, Vorrichtung und Computerprogramm zum Bestimmen einer Wellenfront eines massebehafteten Teilchenstrahls |
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